JP4811703B2 - 膜濾過システム - Google Patents
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Description
(第一実施形態)
まず、この発明の第一実施形態について説明する。第一実施形態の流体測定装置は、機器への給水ライン,透過水ラインに水処理部を接続した水処理システムに設けられる。
つぎに、第二実施形態について説明する。第二実施形態の流体測定装置は、複数台のボイラを並列に設置した多缶設置ボイラ装置に設けられる煤煙濃度測定装置である。この第二実施形態の流体測定装置は、前記第一実施形態の流体測定装置と基本的構成は同じとなっているが、前記複数のサンプリングラインが、複数の流体流路,すなわち前記各ボイラの煙道とそれぞれ接続されている。そして、測定部では、前記各サンプリングラインのうち、いずれかのサンプリングラインから導入された排ガス中の煤煙濃度を測定するようになっている。
(第一実施例)
まず、この発明の第一実施例について説明する。図1は、この発明を実施する流体測定装置の第一実施例の構成を示す概略的な説明図である。
2a 給水ライン(流体流路)
2b 透過水ライン(流体流路)
5 濃縮水排水ライン(流体流路)
7 第一サンプリングライン(サンプリングライン)
8 第二サンプリングライン(サンプリングライン)
9 第三サンプリングライン(サンプリングライン)
10 測定部
11 第一開閉弁(弁装置)
12 第二開閉弁(弁装置)
13 第三開閉弁(弁装置)
Claims (7)
- 給水中の溶存塩類を除去するためのナノ濾過膜または逆浸透膜を有する濾過膜モジュール;前記濾過膜モジュールの一次側入口ポートに接続された給水ライン;前記濾過膜モジュールの二次側ポートに接続された透過水ライン;前記濾過膜モジュールの一次側出口ポートに接続された濃縮水排水ライン;および前記濃縮水排水ラインと前記給水ラインを接続する循環水ラインを備える膜濾過システムであって、
前記給水ラインと接続された第一サンプリングライン;
前記透過水ラインと接続された第二サンプリングライン;
前記第一および第二サンプリングラインを択一的に開放する弁装置;および
前記第一および第二サンプリングラインと接続され、導入された給水または透過水に対し、測定項目として電気伝導度または水圧を測定する単一の測定部を有する流体測定装置と、
前記弁装置および前記測定部が接続された制御部とを備え、
前記制御部は、前記測定部での測定値に基づいて、前記濾過膜モジュールからの濃縮水の排水量を調節することを特徴とする膜濾過システム。 - 前記流体測定装置は、前記濃縮水排水ラインと接続された第三サンプリングラインをさらに備え、
前記弁装置は、前記第一,第二および第三サンプリングラインを択一的に開放するように構成され、
前記測定部は、前記第一,第二および第三サンプリングラインと接続され、導入された給水,透過水または濃縮水に対し、測定項目として電気伝導度または水圧を測定することを特徴とする請求項1に記載の膜濾過システム。 - 前記測定部は、測定項目が電気伝導度に設定されており、
前記制御部は、給水の測定値に基づいて、給水中の溶存塩類濃度を求め、この濃度が増加したとき、前記濾過膜モジュールからの濃縮水の排水量を増加させることを特徴とする請求項1または2に記載の膜濾過システム。 - 前記測定部は、測定項目が電気伝導度に設定されており、
前記制御部は、透過水の測定値に基づいて、透過水中の溶存塩類の残存量を求め、この量が運転初期の残存量に対して許容値を超えて増加したとき、前記濾過膜モジュールからの濃縮水の排水量を増加させることを特徴とする請求項1または2に記載の膜濾過システム。 - 前記測定部は、測定項目が電気伝導度に設定されており、
前記制御部は、給水および透過水の測定値に基づいて、透過水中の溶存塩類の残存率を求め、この率が運転初期の残存率に対して許容値を超えて増加したとき、前記濾過膜モジュールからの濃縮水の排水量を増加させることを特徴とする請求項1または2に記載の膜濾過システム。 - 前記測定値は、測定項目が水圧に設定されており、
前記制御部は、給水および透過水の水圧に基づいて、前記濾過膜モジュールの圧力差を求め、この差が運転初期の圧力差に対して許容値を超えて増加したとき、前記濾過膜モジュールからの濃縮水の排水量を増加させることを特徴とする請求項1または2に記載の膜濾過システム。 - 前記測定部は、測定項目が水圧に設定されており、
前記制御部は、給水および濃縮水の水圧に基づいて、前記濾過膜モジュールの圧力差を求め、この差が運転初期の圧力差に対して許容値を超えて増加したとき、前記濾過膜モジュールからの濃縮水の排水量を増加させることを特徴とする請求項2に記載の膜濾過システム。
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