JP4807024B2 - ディスプレイ装置用基板ガラス - Google Patents
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Description
珪砂、酸化アルミニウム、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウムおよび珪酸ジルコニウムよりなる調合原料を白金ルツボに充填し、電気炉内で1450〜1600℃、約6時間加熱溶融した。加熱溶融の途中で白金棒によりガラス融液を攪拌してガラスを均質化させた。次に、溶融ガラスを鋳型に流し込み、ガラスブロックとし、600〜700℃に保持した電気炉に移入して該炉内で徐冷した。得られたガラス試料は泡や脈理の無い均質なものであった。
表1中の実施例1〜7は本発明におけるガラスであり、比較例1はソーダライムシリカガラスである。比較例2〜4は従来の高歪点ガラスであり、比較例5〜7は従来の無アルカリガラスである。比較例1のソーダライムシリカガラスおよび比較例2〜4の高歪点ガラスにおいては、密度、ヤング率および破壊靭性が適切の値であるものの、熱膨張係数がいずれも70×10−7/℃以上である。また、比較例5〜7の無アルカリガラスにおいては、密度、歪点が適切の値であるものの、熱膨張係数がいずれも55×10−7/℃以下であり、ヤング率がいずれも75GPa以下である。
Claims (6)
- 実質的に重量%表示で、SiO2が59〜69、Al2O3が0.5〜3、Na2Oが2〜4、K2Oが1.5〜3.5、R2O(ただし、RはNa、K)が3.5〜7.5、Na2O/R2Oが0.37〜0.72、MgOが3〜5.5、CaOが5〜8、SrOが6〜7.5、BaOが4〜14、R’O(ただし、R’はMg、Ca、Sr、Ba)が20〜29、ZrO2が1〜4.5であるディスプレイ装置用基板ガラス。
- 30〜300℃における平均線膨張係数が(55〜70)×10−7/℃であることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置用基板ガラス。
- 歪点が580℃以上であることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
- ヤング率が75〜85GPaであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のディスプレイ装置用基板ガラス。
- 破壊靭性KICが0.6MPa・m1/2以上であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
- 密度が2.9g/cm3未満であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。
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