JP4798798B2

JP4798798B2 - Substrate storage container and manufacturing method thereof

Info

Publication number: JP4798798B2
Application number: JP2007280296A
Authority: JP
Inventors: 勤鈴木
Original assignee: Shin Etsu Polymer Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority date: 2007-10-29
Filing date: 2007-10-29
Publication date: 2011-10-19
Anticipated expiration: 2027-10-29
Also published as: JP2009111057A

Description

本発明は、半導体ウェーハやマスクガラス等の基板を収納する基板収納容器と、その製造方法に関する。 The present invention relates to a substrate storage container for storing a substrate such as a semiconductor wafer or mask glass, and a method for manufacturing the same.

基板を収納し、蓋体により密封される基板収納容器は、基板を工場間で輸送したり、基板に加工や処理を行う工程内で搬送したり、保管したりするために使用されている。こうした基板収納容器は、通常、熱可塑性樹脂から形成されているので、基板に半導体部品が形成されている場合には、静電気により、半導体部品が損傷を受けることがあった。基板収納容器を搬送するときに生じる静電気、基板に帯電した静電気や基板を出し入れするときに発生する静電気が、基板収納容器に蓄積されることになる。 A substrate storage container that stores a substrate and is sealed by a lid is used for transporting the substrate between factories, transporting it in a process of processing or processing the substrate, and storing it. Since such a substrate storage container is usually formed of a thermoplastic resin, when the semiconductor component is formed on the substrate, the semiconductor component may be damaged by static electricity. Static electricity generated when the substrate storage container is transported, static electricity charged on the substrate, and static electricity generated when the substrate is taken in and out are accumulated in the substrate storage container.

こうした静電気を消散させる対策のため、基板収納容器を導電カーボン等の導電性物質が添加された樹脂により形成することが行われていた。しかしこの場合、内部の視認性が悪くなるといった問題や、添加したカーボン等が脱離して、工程内や基板収納容器又は基板を汚染してしまうといった問題があった。
そこで、透明な基材の上に透明帯電防止材料から成る帯電防止層を形成したり（特許文献１参照）、持続的な静電防止性能を有する透明なポリカーボネート樹脂を利用する（特許文献２参照）ことが提案されていた。 In order to dissipate such static electricity, the substrate storage container has been formed of a resin to which a conductive substance such as conductive carbon is added. However, in this case, there is a problem that the internal visibility is deteriorated and a problem that the added carbon or the like is detached and the inside of the process, the substrate storage container or the substrate is contaminated.
Therefore, an antistatic layer made of a transparent antistatic material is formed on a transparent substrate (see Patent Document 1), or a transparent polycarbonate resin having a continuous antistatic performance is used (see Patent Document 2). ) Was proposed.

特開２００４−３１４９９４号公報JP 2004-314994 A 特開２００５−７９１８４号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-79184

こうした表面に透明帯電防止層を備えた基板収納容盟は、使用中に透明帯電防止層が剥れたり、保管中に基板収納容器基材や透明帯電防止層あるいは、透明帯電防止層を形成するための溶剤の残留物から、発生するイオンやアウトガス、特には塩化メチレンガスが基板を汚染する恐れがあり、その対策が必ずしも十分ではなかった。
本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであり、基板収納容器に基板を保管中にイオンや塩化メチレンのような発生ガスによって基板が汚染される恐れがない基板収納容器とその製造方法を提供することを課題とする。 In such a substrate storage association having a transparent antistatic layer on the surface, the transparent antistatic layer peels off during use, or a substrate storage container base, a transparent antistatic layer or a transparent antistatic layer is formed during storage. Therefore, there is a possibility that generated ions and outgas, especially methylene chloride gas may contaminate the substrate from the solvent residue, and the countermeasures are not always sufficient.
The present invention has been made to solve the above-described problem, and a substrate storage container that does not cause a substrate to be contaminated by a generated gas such as ions or methylene chloride while the substrate is stored in the substrate storage container, and the substrate storage container It is an object to provide a manufacturing method.

本発明は、一端に開口部を有し基板を収納する容器本体と開口部を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器であって、前記基板収納容器の表面に、ドーパントを含む酸化重合剤溶液とモノマー溶液とを用いてドーパント存在下にモノマーを重合させた電子共役系ポリマー層が形成されており、前記基板収納容器の表面固有抵抗値が１×１０³〜９×１０⁸Ωの範囲であり、全光線透過率が、４０〜８０％であり、前記基板収納容器を密封し、２３℃×２４時間放置して保管したときに、基板収納容器の内部に発生してくる塩化メチレン量が、３μｇ／ｍ ³ 以下であることを特徴とする。
前記容器本体に純粋を１リットル注ぎ、前後左右に３回づつ揺動させた後、容器本体をオーブンにて５０℃×３時間保持する間に、純水中に抽出される塩酸イオンの量は６００ｎｇ／Ｂｏｘ以下とされる。同様にして、純水中に抽出される硫酸イオンの量も６００ｎｇ／Ｂｏｘ以下とされる。 The present invention is a substrate storage container having a container body having an opening at one end and storing a substrate, and a lid for closing the opening, the surface of the substrate storage container containing an oxidizing polymer solution And a monomer solution are used to form an electron conjugated polymer layer in which a monomer is polymerized in the presence of a dopant, and the surface resistivity of the substrate storage container is in the range of 1 × 10 ^{3 to} 9 × 10 ⁸ Ω. There, the total light transmittance is 40% to 80%, and sealing the substrate storage container, when stored and left 23 ° C. × 24 hours, methylene chloride amount Ru generated Shiteku inside the substrate storage container 3 μg / m ³ or less.
After pouring 1 liter of pure into the container body and rocking it three times back and forth, left and right, while holding the container body in an oven at 50 ° C. for 3 hours, the amount of hydrochloric acid ions extracted into pure water is 600 ng / Box or less. Similarly, the amount of sulfate ions extracted in pure water is 600 ng / Box or less .

本発明の基板収納容器の製造方法としては、一端に開口部を有し基板を収納する容器本体と、開口部を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器の製造方法であって、前記した基板収納容器の製造方法が、前記容器本体と、前記蓋体とを成形する工程、前記容器本体および又は蓋体をドーパントを含む酸化重合剤溶液が供給された処理槽に浸漬する工程、前記処理槽にモノマー溶液を供給する工程、前記処理槽を攪拌しながら、容器本体と蓋体の表面にドーパント存在下にモノマーを重合させて電子共役系ポリマー層を形成する工程、とからなり、前記基板収納容器の表面固有抵抗値が１×１０ ³ 〜９×１０ ⁸ Ωの範囲であり、全光線透過率が、４０〜８０％であり、前記基板収納容器を密封し、２３℃×２４時間放置して保管したときに、基板収納容器の内部に発生してくる塩化メチレン量が、３μｇ／ｍ ³ 以下となるように形成されることを特徴とする。 The method for manufacturing a substrate storage container of the present invention is a method for manufacturing a substrate storage container having a container body having an opening at one end and storing a substrate, and a lid for closing the opening. A method of manufacturing a storage container includes a step of forming the container body and the lid, a step of immersing the container body and / or the lid in a treatment tank supplied with an oxidizing polymer solution containing a dopant, and the treatment tank. A step of supplying a monomer solution to the substrate , and a step of polymerizing a monomer in the presence of a dopant on the surface of the container main body and the lid while stirring the treatment tank to form an electron conjugated polymer layer. The surface resistivity of the container is in the range of 1 × 10 ^{3 to} 9 × 10 ⁸ Ω, the total light transmittance is 40 to 80%, and the substrate storage container is sealed and left at 23 ° C. for 24 hours. Board storage when Methylene chloride amount inside coming occurred container, characterized in that it is formed such that the 3 [mu] g / m ³ or less.

本発明は、基板収納容器に電子共役系ポリマーによる透明導電層を設けているので、静電気を効果的に消散させて、静電気によるほこりの付着や、静電気による衝撃から基板を保護することができる。また、基板収納容器を使用中に発生してくる塩化メチレンガスの発生を防止しているので、基板表面の変質要因を除去できる。 In the present invention, since the substrate storage container is provided with the transparent conductive layer made of the electron conjugated polymer, it is possible to effectively dissipate static electricity and protect the substrate from adhesion of dust due to static electricity and impact due to static electricity. Further, since the generation of methylene chloride gas generated during use of the substrate storage container is prevented, the alteration factor of the substrate surface can be removed.

本発明が対象とする基板収納容器は、内部を視認可能なものとするために、（少なくとも蓋体は）透明樹脂から形成することが好ましい。基板収納容器は、基盤を収納する支持部が容器本体に形成されて、開口部を蓋体で密封可能に閉鎖するものとすることができる。あるいは、上部や底部に開口を有し、基板を収納するカセットを収納して密封するタイプの基板収納容器であっても良い。
ここで、基板の収納方向は水平でも、垂直でも良く、収納枚数も１又は複数とすることができる。 The substrate storage container targeted by the present invention is preferably formed of a transparent resin (at least the lid) in order to make the inside visible. In the substrate storage container, a support part for storing the base is formed in the container main body, and the opening part can be closed with a lid so as to be sealed. Or the board | substrate storage container of the type which has an opening in an upper part and a bottom part, accommodates the cassette which accommodates a board | substrate, and seals it may be sufficient.
Here, the storage direction of the substrate may be horizontal or vertical, and the number of stored substrates may be one or more.

本発明の実施形態を図面を使用しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の基板収納容器の一実施形態を示す展開斜視図である。
基板収納容器は、図１に示すように、正面に開口を有し、内側壁に基板を垂直方向に一定間隔で水平に支持する支持部３が相対向するように配設された容器本体１と、容器本体の開口部１をシール可能に閉鎖する蓋体２とからなるものが標準形としてあげられる。容器本体の底部には、加工装置等との位置決めに使用されるＶ溝を有する、キネマティツクカップリングが、Ｙ字形となるように３箇所に配置されている。また、容器本体の天面には、搬送用のロボティックフランジを設けることができる。 Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an embodiment of a substrate storage container of the present invention.
As shown in FIG. 1, the substrate storage container has an opening in the front, and a container body 1 in which support portions 3 for horizontally supporting the substrate in the vertical direction at regular intervals are arranged on the inner wall so as to face each other. And a lid 2 that closes the opening 1 of the container body so as to be sealable is a standard type. At the bottom of the container body, kinematic couplings having V-grooves used for positioning with a processing apparatus or the like are arranged at three locations so as to be Y-shaped. Moreover, the robotic flange for conveyance can be provided in the top | upper surface of a container main body.

蓋体の側面には、シール形成用のシールガスケット５が取り付けられている。また、蓋体の内面には、基板を個別に保持する保持部を弾性片上に備えたリテーナ（図示せず）が取り付けられている。蓋体には、筐体６と、筐体の開口を被覆するカバー７と、外部から操作可能なラッチ機構４とを有し、ラッチ機構は筐体および蓋体に収納・内蔵されている。ラッチ機構は、蓋体に軸支され、外部から操作可能な外部操作係合凹部１０を蓋体表面に露呈する回転部材８と、一端が回転部材８と係止されて蓋体側壁の貫通穴から出没可能な連結部材９とを有し、連結部材９の他端が容器本体の連結部材係合凹部１１に係合し、蓋体を容器本体１に係止する。 A seal gasket 5 for forming a seal is attached to the side surface of the lid. Further, a retainer (not shown) having a holding portion for holding the substrate individually on the elastic piece is attached to the inner surface of the lid. The lid body includes a housing 6, a cover 7 that covers the opening of the housing, and a latch mechanism 4 that can be operated from the outside. The latch mechanism is housed and incorporated in the housing and the lid body. The latch mechanism includes a rotating member 8 that is pivotally supported by the lid body and exposes an external operation engagement recess 10 that can be operated from the outside to the lid body surface, and one end that is locked to the rotating member 8 so The other end of the connecting member 9 engages with the connecting member engaging recess 11 of the container body, and the lid is locked to the container body 1.

本発明の実施形態の基板収納容器の表面には、さらに透明導電層が形成されていて、この透明導電層は、電子共役系ポリマーにより形成されている。電子共役系ポリマーは、アニリン、ピロール、チオフェンまたはこれらの誘導体から選ばれたモノマーを重合することで形成される（特許文献１参照）。 A transparent conductive layer is further formed on the surface of the substrate storage container of the embodiment of the present invention, and this transparent conductive layer is formed of an electron conjugated polymer. The electron conjugated polymer is formed by polymerizing a monomer selected from aniline, pyrrole, thiophene, or derivatives thereof (see Patent Document 1).

次に、本発明の実施形態の基板収納容器の製造方法について説明する。ここでは、電子共役系ポリマーとしてピロールを用いる例を説明するが、本発明は、これに限られない。
容器本体と蓋体とは、視認性の良好なポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルイミド、アクリル樹脂などの熱可塑性樹脂から形成することが好ましい。支持部材、リテーナ、位置決め部材等は、上記の樹脂のほかに、ポリブチレンテレフクレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォンなどの合成樹脂や、ポリオレフィン系、ポリエステル系、ポリスチレン系などの各種熱可塑性エラストマー樹脂を用いて形成される。 Next, the manufacturing method of the substrate storage container of the embodiment of the present invention will be described. Here, an example in which pyrrole is used as the electron conjugated polymer will be described, but the present invention is not limited to this.
The container body and the lid are preferably formed from a thermoplastic resin such as polycarbonate, cycloolefin polymer, polyetherimide, or acrylic resin with good visibility. Support members, retainers, positioning members, etc., in addition to the above resins, synthetic resins such as polybutylene terephthalate, polyether ether ketone, and polyether sulfone, and various thermoplastics such as polyolefin, polyester, and polystyrene It is formed using an elastomer resin.

容器本体や蓋体は、上記した樹脂を用いて、射出成形によって形成される。このように形成された容器本体や蓋体は、検査された後に、容器本体にはロボティックハンドルやマニュアルハンドルといった搬送部品や、識別用のボトムプレート、蓋体には、シールガスケットやリテーナ等の付属部品が取り付けられる。 The container body and the lid are formed by injection molding using the above-described resin. After the container body and lid formed in this way are inspected, the container body has transport parts such as robotic handles and manual handles, the identification bottom plate, and the lid body such as a seal gasket and a retainer. Attached parts are attached.

次に、容器本体と蓋体の表面に、透明導電層を形成する。
透明導電層は、容器本体や蓋体が１又は複数個収納できるような処理槽に、ドーパント作用を有する酸化重合剤またはドーパントを含む酸化重合剤溶液を注入し、この溶液中に容器本体と蓋体とを浸漬する。引き続いて、ピロール水溶液を処理槽に供給し、処理槽に備付けられた攪拌機を用いて処理溶液をゆっくりと攪拌しながら処理溶液中に容器本体と蓋体とを浸漬保持する。このとき、容器本体と蓋体の表面に上記した処理液が接触し、ドーパントの存在下にモノマーが重合されるので、ポリピロールが生成する。 Next, a transparent conductive layer is formed on the surface of the container body and the lid.
The transparent conductive layer is prepared by injecting an oxidizing polymerizer having a dopant action or an oxidizing polymerizer solution containing a dopant into a treatment tank in which one or a plurality of container bodies and lids can be accommodated. Immerse the body. Subsequently, the pyrrole aqueous solution is supplied to the treatment tank, and the container body and the lid are immersed and held in the treatment solution while slowly stirring the treatment solution using a stirrer provided in the treatment tank. At this time, the treatment liquid described above comes into contact with the surfaces of the container body and the lid, and the monomer is polymerized in the presence of the dopant, so that polypyrrole is generated.

処理液へのモノマーおよび酸化重合剤の添加は、両者を一緒に添加することができるし、先にモノマーを添加しその後酸化重合剤を添加しても良い。また、酸化重合剤は、一括添加してもよく、あるいは数回に分けて添加しても、少量ずつ連続して添加してもよい。
触媒の酸化重合剤としては、ピロールモノマーの重合を促進する物質を使用することができ、例えば、過硫酸、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム等の過硫酸塩類、あるいは、塩化第二鉄、硫酸第二鉄、硫酸アンモニウム第二鉄、クエン酸第二鉄等の第二鉄塩、過マンガン酸塩、塩素、臭素等のハロゲン、過酸化水素、過酸化ベンゾイル等の過酸化物などを挙げることができる。 The monomer and the oxidative polymerization agent can be added to the treatment liquid together. Alternatively, the monomer may be added first and then the oxidative polymerization agent may be added. In addition, the oxidation polymerization agent may be added all at once, or may be added in several portions, or may be added continuously little by little.
As the oxidative polymerization agent for the catalyst, a substance that accelerates the polymerization of the pyrrole monomer can be used. For example, persulfates such as persulfuric acid, ammonium persulfate, potassium persulfate, sodium persulfate, or ferric chloride. , Ferric sulfate such as ferric sulfate, ferric ammonium sulfate and ferric citrate, permanganate, halogen such as chlorine and bromine, peroxide such as hydrogen peroxide and benzoyl peroxide, etc. be able to.

ピロールモノマーを重合するにあたって、導電性を高めるために、ドーパントを併用することが好ましい。ドーパントとしては、例えば、ｐ―トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、モノクロロベンゼンスルホン酸、ジクロロベンゼンスルホン酸、トリクロロベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸およびその他の芳香族スルホン酸、あるいは、過塩素酸、塩酸、硫酸、硝酸、トリフルオロスルホン酸などが挙げられる。 In polymerizing the pyrrole monomer, it is preferable to use a dopant in combination in order to increase conductivity. Examples of the dopant include p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, anthraquinonesulfonic acid, monochlorobenzenesulfonic acid, dichlorobenzenesulfonic acid, trichlorobenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, sulfosalicylic acid and other aromatic sulfonic acids, or Perchloric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, trifluorosulfonic acid and the like.

このようにして容器本体と蓋体の表面に導電層が均一に付与される。導電層が付与された容器本体と蓋体表面の表面抵抗値は、処理層での反応時間および生成する導電層の厚みにより、ＪＩＳＫ−６９１１に準拠して測定したときに、１×１０³〜９×１０⁸Ωの範囲に入るように調整するのが好ましい。導電層の厚みは、２０〜１００ｎｍ、好ましくは４０〜６０ｎｍとすることができる。２０ｎｍ以上では、使用中の剥離がなく、表面抵抗値も９×１０⁸Ω以下とすることができる。また、ｌ００ｎｍ以下だと、表面抵抗埴を１０³Ωと低くできるし、全光線透過率を４０％以上とすることができる。導電層の厚みを４０〜６０ｎｍとすれば、表面抵抗を１０³〜１０⁷Ωの範囲とでき、全光線透過率を６５％以上とできるのでより好ましい。このように、容器本体及び又は蓋体の表面抵抗値と全光線透過率が調整される。 In this way, the conductive layer is uniformly applied to the surfaces of the container body and the lid. The surface resistance value of the container body to which the conductive layer is applied and the lid surface is 1 × 10 ³ when measured according to JIS K-6911 depending on the reaction time in the treatment layer and the thickness of the conductive layer to be formed. It is preferable to adjust so that it may fall in the range of ˜9 × 10 ⁸ Ω. The thickness of the conductive layer can be 20 to 100 nm, preferably 40 to 60 nm. When the thickness is 20 nm or more, there is no peeling during use, and the surface resistance value can be 9 × 10 ⁸ Ω or less. On the other hand, when it is 100 nm or less, the surface resistance can be lowered to 10 ³ Ω, and the total light transmittance can be 40% or more. If the thickness of the conductive layer is 40 to 60 nm, the surface resistance can be in the range of 10 ³ to 10 ⁷ Ω, and the total light transmittance can be 65% or more, which is more preferable. In this way, the surface resistance value and the total light transmittance of the container body and / or lid are adjusted.

容器本体と蓋体とは処理槽での一定時間の浸漬の後、取り出されて、純水にて洗浄されて、乾燥がなされる。このようにして得られる容器本体と蓋体とは、表面近傍に形成された電子共役系ポリマーにより導電性が付与されたものとなる。また、表面全域を、電子共役ポリマーで被覆しているので、容器本体や蓋体を形成する樹脂の揮発成分が、基板収納容器を常温で２４時間放置したときに、容器内部に充満してくることを防止できる。特には、半導体部品の回路を腐触する恐れのある塩化メチレンの発生量をブランクとなる保管環境の空気の値以下、好ましくは３μｇ／ｍ³以下とすることができる。
ここで、半導体部品の回路に与える影響を求める目安として、図１に示す容器に模擬的に市販のハンダボールを入れて蓋体を閉め、８０℃で保管した際にハンダボールの外観・色調変化が発生するまでの時間を確認した。
常温で２４時間放置した際の塩化メチレンの発生量が５μｇ／ｍ³の場合、ハンダボール表面に変色が生ずるまでの時間は１０日間、９μｇ／ｍ³の場合６日間、一方、３μｇ／ｍ³の場合は３０日間であり、実用上の使用環境に十分耐えうる結果であった。 The container main body and the lid body are taken out after being immersed in the treatment tank for a certain period of time, and are then washed with pure water and dried. The container body and the lid obtained in this way are given conductivity by an electron conjugated polymer formed in the vicinity of the surface. Further, since the entire surface is covered with the electron conjugated polymer, the volatile components of the resin forming the container body and the lid body fill the inside of the container when the substrate storage container is left at room temperature for 24 hours. Can be prevented. In particular, the amount of methylene chloride that may corrode the circuit of the semiconductor component can be made to be not more than the value of air in the storage environment as a blank, preferably not more than 3 μg / m ³ .
Here, as a guideline for determining the influence of the semiconductor component on the circuit, the appearance and color tone change of the solder ball when stored in the container shown in FIG. Confirmed the time to occur.
When the amount of methylene chloride generated at room temperature for 24 hours is 5 μg / m ³ , the time until discoloration occurs on the solder ball surface is 10 days, when it is 9 μg / m ³ , it is 6 days, while 3 μg / m ³ In this case, it was 30 days, and it was a result that could sufficiently withstand the practical use environment.

基板収納容器の溶出イオンは、次のように測定することができる。
容器本体に純水を１リットル注ぎ、前後左右に３回づつ揺動させた後、容器本体をオーブンにて５０℃×３時間保持する間に、純水中に抽出（溶出）された塩素イオン量と硫酸イオン量をイオンクロマトグラフにより分析する。
容器本体から抽出されるイオンの基板収納容器１個当たりの塩酸イオン量が６００ｎｇ／Ｂｏｘ以下、硫酸イオンが６００ｎｇ／Ｂｏｘ以下であることが実用上好ましい。 The eluted ions in the substrate storage container can be measured as follows.
After pouring 1 liter of pure water into the container body, rocking it three times in front, back, left, and right, the chlorine ions extracted (eluted) in pure water while holding the container body in an oven at 50 ° C. for 3 hours The amount and sulfate ion amount are analyzed by ion chromatography.
It is practically preferable that the amount of hydrochloric acid ions per one substrate storage container of ions extracted from the container main body is 600 ng / Box or less and the sulfate ions are 600 ng / Box or less.

図１の基板収納容器の表面に透明導電層を形成するにあたって、反応時間を変えて実施例１〜３及び比較例１、２のサンプルを作製し、表面抵抗値と全光線透過率の比較を行った。なお、表面抵抗値と全光線透過率とは、次のように測定した。
○全光線透過率
ＪＩＳＫ７１０５（１９８１）に準じて全光線透過率を測定した。
また、導電層を形成したサンプルを用いて基板収納容器の内部の視認性を確認した。
○表面抵抗値
三和ＭＩテクノス社製抵抗測定器モデル５５０１ＤＭを用いて、温度２４℃、湿度５０％の環境にて、基板収納容器の表面抵抗値の測定を行った。
結果を表１に示す。

実施例１〜３では、表面抵抗値、全光線透過率共に良好な範囲であった。 In forming the transparent conductive layer on the surface of the substrate storage container of FIG. 1, samples of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared by changing the reaction time, and the surface resistance value and the total light transmittance were compared. went. The surface resistance value and the total light transmittance were measured as follows.
-Total light transmittance The total light transmittance was measured according to JIS K7105 (1981).
Moreover, the visibility inside the substrate storage container was confirmed using a sample in which a conductive layer was formed.
○ Surface resistance value Using a resistance measuring instrument model 5501DM manufactured by Sanwa MI Technos, the surface resistance value of the substrate container was measured in an environment of a temperature of 24 ° C. and a humidity of 50%.
The results are shown in Table 1.

In Examples 1 to 3, both the surface resistance value and the total light transmittance were in good ranges.

本発明の基板収納容器の一実施形態を示す展開斜視図である。It is an expansion | deployment perspective view which shows one Embodiment of the substrate storage container of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１容器本体
２蓋体
３（基板）支持部
４ラッチ機構
５シールガスケット
６筐体
７カバー
８回転部材
９連結部材
１０外部操作係合凹材
１１連結部材係合凹材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Container main body 2 Lid 3 (board | substrate) support part 4 Latch mechanism 5 Seal gasket 6 Housing | casing 7 Cover 8 Rotating member 9 Connecting member 10 External operation engaging concave material 11 Connecting member engaging concave material

Claims

一端に開口部を有し基板を収納する容器本体と開口部を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器であって、前記基板収納容器の表面に、ドーパントを含む酸化重合剤溶液とモノマー溶液とを用いてドーパント存在下にモノマーを重合させた電子共役系ポリマー層が形成されており、前記基板収納容器の表面固有抵抗値が１×１０³〜９×１０⁸Ωの範囲であり、全光線透過率が、４０〜８０％であり、前記基板収納容器を密封し、２３℃×２４時間放置して保管したときに、基板収納容器の内部に発生してくる塩化メチレン量が、３μｇ／ｍ ³ 以下であることを特徴とする基板収納容器。 A substrate storage container having a container body having an opening at one end and storing a substrate, and a lid for closing the opening, the surface of the substrate storage container, an oxidizing polymer solution containing a dopant and a monomer solution, An electron conjugated polymer layer in which a monomer is polymerized in the presence of a dopant, and the surface resistivity of the substrate storage container is in the range of 1 × 10 ^{3 to} 9 × 10 ⁸ Ω, The transmittance is 40 to 80%, and the amount of methylene chloride generated inside the substrate storage container when the substrate storage container is sealed and stored at 23 ° C. for 24 hours is 3 μg / m. A substrate storage container characterized by being ³ or less .

前記容器本体に純粋を１リットル注ぎ、前後左右に３回づつ揺動させた後、容器本体をオーブンにて５０℃×３時間保持する間に、純水中に抽出される塩酸イオンの量が６００ｎｇ／Ｂｏｘ以下である請求項１記載の基板収納容器。 After pouring 1 liter of pure into the container body and rocking it three times in front, back, left, and right, the amount of hydrochloric acid ions extracted into the pure water is maintained while holding the container body in an oven at 50 ° C. for 3 hours. 2. The substrate storage container according to claim 1, which is 600 ng / Box or less .

前記容器本体に純粋を１リットル注ぎ、前後左右に３回づつ揺動させた後、容器本体をオーブンにて５０℃×３時間保持する間に、純水中に抽出される硫酸イオンの量が６００ｎｇ／Ｂｏｘ以下である請求項１に記載の基板収納容器。 After pouring 1 liter of pure into the container body and rocking it three times in front, back, left, and right, the amount of sulfate ions extracted into the pure water is maintained while holding the container body in an oven at 50 ° C. for 3 hours. The substrate storage container according to claim 1 , wherein the substrate storage container is 600 ng / Box or less .

一端に開口部を有し基板を収納する容器本体と、開口部を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器の製造方法であって、前記した基板収納容器の製造方法が、前記容器本体と、前記蓋体とを成形する工程、前記容器本体および又は蓋体をドーパントを含む酸化重合剤溶液が供給された処理槽に浸漬する工程、前記処理槽にモノマー溶液を供給する工程、前記処理槽を攪拌しながら、容器本体と蓋体の表面にドーパント存在下にモノマーを重合させて電子共役系ポリマー層を形成する工程、とからなり、前記基板収納容器の表面固有抵抗値が１×１０ ³ 〜９×１０ ⁸ Ωの範囲であり、全光線透過率が、４０〜８０％であり、前記基板収納容器を密封し、２３℃×２４時間放置して保管したときに、基板収納容器の内部に発生してくる塩化メチレン量が、３μｇ／ｍ ³ 以下となるように形成されることを特徴とする基板収納容器の製造方法。 A manufacturing method of a substrate storage container having a container body having an opening at one end and storing a substrate, and a lid for closing the opening, wherein the manufacturing method of the substrate storage container includes the container main body, A step of molding the lid, a step of immersing the container body and / or the lid in a treatment tank supplied with an oxidizing polymer solution containing a dopant, a step of supplying a monomer solution to the treatment tank, and the treatment tank A step of polymerizing a monomer in the presence of a dopant on the surface of the container body and the lid while stirring to form an electron conjugated polymer layer, and the surface resistivity of the substrate storage container is from 1 × 10 ³ to 9 × 10 ⁸ Ω, total light transmittance is 40 to 80%, and when the substrate storage container is sealed and stored at 23 ° C. for 24 hours, the inside of the substrate storage container Amount of methylene chloride generated The method of manufacturing a substrate storage container, characterized in that it is formed such that the 3 [mu] g / m ³ or less.