JP4789446B2 - 基板の処理装置 - Google Patents
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Description
気体が供給されるとともに前記チャンバ内に前記基板の搬送方向と交差する方向に沿って配置された気体用配管と、
液体が供給されるとともに前記チャンバ内に前記気体用配管と所定間隔で平行に配置された液体用配管と、
前記気体用配管の長手方向両端に接続されこの気体用配管に気体を供給する給気管及び前記液体用配管の長手方向両端に接続されこの液体用配管に液体を供給する給液管と、
液体供給部、気体供給部及び噴射孔を有し、前記液体供給部を前記液体用配管に接続するとともに、前記気体供給部を前記気体用配管に接続してこれら配管の長手方向に所定間隔で設けられ、前記液体用配管から前記液体供給部を通じて供給された液体を前記気体用配管から前記気体供給部を通じて供給された気体によって加圧して前記噴射孔から噴射する複数の二流体噴射ノズルとを具備し、
前記気体用配管が上側で、前記液体用配管が下側に位置するよう上下方向に配置され、
前記二流体噴射ノズルは、ノズル本体を有し、このノズル本体には側部に前記液体供給部が設けられ上端部に前記気体供給部が設けられていて、
前記液体供給部と前記液体用配管とは直接的に接続され、前記気体供給部と前記気体用配管とは金属管によって接続されることで、前記気体用配管と前記液体用配管とが一体化されていることを特徴とする基板の処理装置にある。
前記高さ調整機構は、上下方向に沿う長孔が形成され前記チャンバの側壁内面に取り付けられたブラケットと、前記気体用配管と液体用配管とのどちらか一方の両端に設けられ前記長孔に上下方向に沿って移動可能に挿入される取り付け軸部と、前記ブラケットに設けられ先端部が前記取り付け軸部に螺合されていて、回転させることで前記取り付け軸部を介して前記気体用配管と液体用配管とを上下動させる調整ねじとによって構成されていることが好ましい。
前記チャンバ1の一対の端面壁1eの一方には例えば液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板W(図1に示す)を導入する搬入口6が開口形成され、他方にはチャンバ1内で処理された前記基板Wを搬出する搬出口(図示せず)が開口形成されている。なお、底壁1cはチャンバの幅方向中央に行くにつれて低くなっていて、最も低い位置には排液管7が接続されている。
Claims (3)
- チャンバ内を搬送される基板に、気体によって加圧された液体を噴射して処理する基板の処理装置であって、
気体が供給されるとともに前記チャンバ内に前記基板の搬送方向と交差する方向に沿って配置された気体用配管と、
液体が供給されるとともに前記チャンバ内に前記気体用配管と所定間隔で平行に配置された液体用配管と、
前記気体用配管の長手方向両端に接続されこの気体用配管に気体を供給する給気管及び前記液体用配管の長手方向両端に接続されこの液体用配管に液体を供給する給液管と、
液体供給部、気体供給部及び噴射孔を有し、前記液体供給部を前記液体用配管に接続するとともに、前記気体供給部を前記気体用配管に接続してこれら配管の長手方向に所定間隔で設けられ、前記液体用配管から前記液体供給部を通じて供給された液体を前記気体用配管から前記気体供給部を通じて供給された気体によって加圧して前記噴射孔から噴射する複数の二流体噴射ノズルとを具備し、
前記気体用配管が上側で、前記液体用配管が下側に位置するよう上下方向に配置され、
前記二流体噴射ノズルは、ノズル本体を有し、このノズル本体には側部に前記液体供給部が設けられ上端部に前記気体供給部が設けられていて、
前記液体供給部と前記液体用配管とは直接的に接続され、前記気体供給部と前記気体用配管とは金属管によって接続されることで、前記気体用配管と前記液体用配管とが一体化されていることを特徴とする基板の処理装置。 - 一体化された前記気体用配管と液体用配管とは、これらの両端に設けられた高さ調整機構によって前記チャンバ内に高さ調整可能に設けられていて、
前記高さ調整機構は、上下方向に沿う長孔が形成され前記チャンバの側壁内面に取り付けられたブラケットと、前記気体用配管と液体用配管とのどちらか一方の両端に設けられ前記長孔に上下方向に沿って移動可能に挿入される取り付け軸部と、前記ブラケットに設けられ先端部が前記取り付け軸部に螺合されていて、回転させることで前記取り付け軸部を介して前記気体用配管と液体用配管とを上下動させる調整ねじとによって構成されていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。 - 前記気体用配管と前記液体用配管とは、これらの長手方向の両端部が連結板によって一体的に連結されていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004279848A JP4789446B2 (ja) | 2004-09-27 | 2004-09-27 | 基板の処理装置 |
TW094130710A TWI278031B (en) | 2004-09-27 | 2005-09-07 | Apparatus for treating substrates |
KR1020050090145A KR100742678B1 (ko) | 2004-09-27 | 2005-09-27 | 기판의 처리 장치 |
CNB2005101057296A CN100553801C (zh) | 2004-09-27 | 2005-09-27 | 基板的处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004279848A JP4789446B2 (ja) | 2004-09-27 | 2004-09-27 | 基板の処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006093591A JP2006093591A (ja) | 2006-04-06 |
JP4789446B2 true JP4789446B2 (ja) | 2011-10-12 |
Family
ID=36234243
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004279848A Active JP4789446B2 (ja) | 2004-09-27 | 2004-09-27 | 基板の処理装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4789446B2 (ja) |
KR (1) | KR100742678B1 (ja) |
CN (1) | CN100553801C (ja) |
TW (1) | TWI278031B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4954795B2 (ja) * | 2007-05-31 | 2012-06-20 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板の保持装置及び基板の処理方法 |
KR101041168B1 (ko) * | 2008-12-29 | 2011-06-14 | 정우리 | 저압분무장치 |
CN102078866A (zh) * | 2009-11-26 | 2011-06-01 | 昆山厚声电子工业有限公司 | 薄膜片状基板的掩膜清洗烘干工艺 |
CN102091700B (zh) * | 2009-12-10 | 2013-03-06 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 晶圆的喷雾清洗方法 |
JP6423204B2 (ja) * | 2014-09-01 | 2018-11-14 | 株式会社モリタホールディングス | 車両用収納装置及び支持部材 |
JP6865402B2 (ja) * | 2017-07-10 | 2021-04-28 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
CN110180822A (zh) * | 2019-06-18 | 2019-08-30 | 徐州玉伟机械设备有限公司 | 一种汽车变速箱齿轮生产用自动清洗装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51137628A (en) * | 1975-05-26 | 1976-11-27 | Nippon Steel Corp | Method of correcting spangle pattern on surface of zinc coated steel strip |
JPS63248464A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-14 | Nisshin Steel Co Ltd | 二流体ノズルヘツダ |
JP3257340B2 (ja) * | 1995-05-24 | 2002-02-18 | 松下電器産業株式会社 | 液体塗布方法、液体塗布装置およびスリットノズル |
JP3626610B2 (ja) * | 1998-11-02 | 2005-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及び処理方法 |
JP4611482B2 (ja) * | 2000-02-22 | 2011-01-12 | 株式会社テック・ヤスダ | バイス用のインデックスワークホルダ |
JP3926593B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2007-06-06 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
WO2003071594A1 (fr) * | 2002-02-25 | 2003-08-28 | Sumitomo Precision Products Co., Ltd | Dispositif de traitement de substrats de type support |
JP2004237282A (ja) * | 2003-01-16 | 2004-08-26 | Kyoritsu Gokin Co Ltd | 二流体ノズル |
-
2004
- 2004-09-27 JP JP2004279848A patent/JP4789446B2/ja active Active
-
2005
- 2005-09-07 TW TW094130710A patent/TWI278031B/zh active
- 2005-09-27 KR KR1020050090145A patent/KR100742678B1/ko active IP Right Grant
- 2005-09-27 CN CNB2005101057296A patent/CN100553801C/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100742678B1 (ko) | 2007-07-25 |
TWI278031B (en) | 2007-04-01 |
KR20060051701A (ko) | 2006-05-19 |
TW200631085A (en) | 2006-09-01 |
CN1772400A (zh) | 2006-05-17 |
JP2006093591A (ja) | 2006-04-06 |
CN100553801C (zh) | 2009-10-28 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
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A521 | Written amendment |
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A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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