JP4774746B2 - 無鉛低融点ガラス - Google Patents
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Description
SiO2源として微粉珪砂を、B2O3源としてほう酸を、ZnO源として亜鉛華を、Li2O源として炭酸リチウムを、Na2O源として炭酸ナトリウムを、K2O源として炭酸カリウムを、CuO源として酸化第二銅を、MnO2源として二酸化マンガンを、MgO源として炭酸マグネシウムを、CaO源として炭酸カルシウムを、SrO源として炭酸ストロンチウムを、BaO源として炭酸バリウムを要した。これらを所望の低融点ガラス組成となるべく調合したうえで、白金ルツボに投入し、電気加熱炉内で1000〜1300℃、1〜2時間で加熱溶融して表1の実施例1〜8、表2の比較例1〜4に示す組成のガラスを得た。
厚み2〜3mm、サイズ100mm角のソーダ石灰系ガラス基板に、焼付け後の膜厚が約20μmとなるべく勘案して、アプリケーターを用いて前記ペーストを塗布し、塗布層を形成した。 次いで、乾燥後、630℃以下で10〜60分間焼成することにより、クリアな誘電体層を形成させた。
低融点ガラス組成および、各種試験結果を表に示す。
Claims (6)
- 透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量%でSiO2を12〜25、B2O3を48〜63、ZnOを5〜15、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を10〜18、BaOを0.1〜3、ZrO2を0.1〜7、CuOを0.1〜2含み、B 2 O 3 /ZnOの重量比が3以上、7以下であることを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−R2O−BaO−ZrO2−CuO系無鉛低融点ガラス。
- 重量%で、MnO2を0〜2含むことを特徴とする請求項1に記載の無鉛低融点ガラス。
- 重量%で、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10含むことを特徴とする請求項1または2に記載の無鉛低融点ガラス。
- 30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上630℃以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の無鉛低融点ガラス。
- 請求項1乃至4のいずれかの無鉛低融点ガラスを使っていることを特徴とする電子材料用基板。
- 請求項1乃至4のいずれかの無鉛低融点ガラスを使っていることを特徴とするPDP用パネル。
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