JP4762898B2 - 重水素化(メタ)アクリル酸エステル、その製造法、その重合体、及び光学部材 - Google Patents
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Description
さらに、本明細書において、「重水素原子比率」とは、化合物中又は基中の全水素原子の総数に対する重水素原子の数の比を意味する。
本発明は、下記一般式[1]で表される化合物に関する。
前記飽和炭化水素環の具体例としては、例えばシクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、ノルボルナン環、トリシクロ[2.2.1.0]ヘプタン環等が挙げられ、中でもシクロペンタン環、シクロヘキサン環、ノルボルナン環が好ましく、特にシクロペンタン環が好ましい。
また、前記不飽和炭化水素環の具体例としては、例えばシクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、1,4−シクロヘキサジエン環、1,3−シクロヘキサジエン環、ノルボルネン環、2,5−ノルボルナンジエン環等が挙げられ、中でもシクロペンテン環、シクロヘキセン環、ノルボルネン環が好ましく、特にシクロペンテン環が好ましい。
また、本発明の一般式[1]で表される化合物のうち、R4がノルボルナン環と炭素数5〜7の飽和炭化水素環との縮合環からなる基であるものを得るには、一般式[3]で表される化合物のうち、R4が前記飽和炭化水素環に対応する不飽和炭化水素環とノルボルナン環との縮合環である化合物を原料として用い、一旦該化合物が有する不飽和炭化水素環の不飽和結合を還元してから、一般式[2]で表される化合物と反応させて製造してもよい。尚、不飽和炭化水素環の不飽和結合を還元する際、重水素ガスを用いて還元を行えば、R4で表される基の軽水素原子の重水素化と不飽和結合の還元とを同時に行うことができる。
第一の態様において、一般式[3]で表される化合物の使用量は、一般式[2]で表される化合物に対して、好ましくは0.8〜1000倍モル、より好ましくは0.8〜100倍モル、さらに好ましくは0.8〜50倍モル、さらにより好ましくは0.8〜10倍モルである。
第一の態様において、塩基の使用量は、使用する一般式[2]で表される化合物に対して、好ましくは1〜50倍モル、より好ましくは1〜20倍モル、さらに好ましくは1〜5倍モルである。
第一の態様において、反応溶媒の使用量は、一般式[2]で表される化合物に対して、好ましくは0〜100倍体積、より好ましくは0〜50倍体積、さらに好ましくは0〜20倍体積となる量である。
第二の態様において、反応溶媒の使用量は、一般式[2]で表される化合物に対して、好ましくは0〜100倍体積、より好ましくは0〜50倍体積、さらに好ましくは0〜20倍体積である。
第三の態様において、酸触媒の使用量は、一般式[2]で表される化合物に対して、好ましくは0.01〜0.5倍モル、より好ましくは0.01〜0.2倍モル、さらに好ましくは0.01〜0.1倍モルである。
第三の態様において、反応溶媒の使用量は、一般式[2]で表される化合物に対して、好ましくは0〜100倍体積、より好ましくは0〜50体積、さらに好ましくは0〜20体積である。
第四の態様において、反応溶媒の使用量は、一般式[2]で表される化合物に対して、好ましくは0〜100倍体積、より好ましくは0〜50倍体積、さらに好ましくは0〜20倍体積である。
トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−3−エン−8−オール 45g及びパラジウムカーボン(Pd 10%)22.5gを重水(D2O)765mLに懸濁させ、反応系を水素置換した後、油浴中180℃で約48時間反応させた。反応終了後、反応液にn−ヘキサンを加え、触媒を濾去した後、濾液を分液した。得られた有機層の溶媒を減圧留去して、重水素化トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−3−エン−8−オールを40.7g得た(収率90%)。得られた重水素化物の1H−NMR及び2H−NMRを測定して構造解析を行ったところ、得られた重水素化物の平均重水素化率は45%であった。
窒素気流下、パラジウムカーボン(Pd 5%)2gをメタノール200mLに懸濁させ、そこに参考例1で得られたトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−3−エン−8−オール 39.1gをメタノール200mLに溶解させた溶液を加えた。反応系を重水素で置換した後、室温で24時間重水素を導入して反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾液を減圧留去して、重水素化トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−オール38.8gを得た(収率98%)。得られた重水素化物の1H−NMR及び2H−NMRを測定して構造解析を行ったところ、得られた重水素化物の平均重水素化率は52%であった。
トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−オール 20g及びパラジウムカーボン(Pd 10%)4.0gを重水(D2O)340mLに懸濁させ、反応系を水素置換した後、油浴中180℃で約24時間反応させた。反応終了後、反応液にn−ヘキサンを加え、触媒を濾去した後、濾液を分液した。得られた有機層の溶媒を減圧留去して、重水素化トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−オール 12.1gを得た(収率61%)。得られた重水素化物の1H−NMR及び2H−NMRを測定して構造解析を行ったところ、得られた重水素化物の平均重水素化率は56%であった。
参考例2で得られた重水素化トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−オール 38.1g及びトリエチルアミン25.3gをジクロロメタン120mLに溶解し、氷冷下、全ての水素原子が重水素化されている塩化メタクリロイル28.8gを滴下し、室温で2時間反応させた。反応終了後、析出した結晶を濾去し、濾液にp−メトキシフェノールを加えたものを減圧蒸留して、沸点が103〜108℃/2Torrの重水素化された無色油状トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンメタクリレート 37.8gを得た(収率67%)。得られた重水素化物の1H−NMR及び2H−NMRを測定して構造解析を行ったところ、化合物全体の重水素化率は65.7%であった。この化合物を以下、「WDM−6」という。
実施例1で得られたWDM−6 1.0gにジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)[和光純薬工業社製、商品名V−601]1mgを添加した後、真空下、70℃で6時間重合反応させた。重合反応終了後、得られた反応液にアセトニトリルを注入して沈殿させ、析出した固体を濾取し、これを減圧乾燥して白色粉末状の重水素化ポリ(トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンメタクリレート)0.7gを得た。得られたポリマーのガラス転移温度は約175℃であった。
実施例1で得られたWDM−6 1.0gと、重水素化メチルメタクリレート(MMA−d8)5.0gとを混合し、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)[和光純薬工業社製、商品名V−601]1mg、ラウリルメルカプタン 1.5mgを添加した後、真空下70℃で、6時間重合反応させた。重合反応終了後、得られた反応液にメタノールを注入して沈殿させ、析出した固体を濾取し、これを減圧乾燥して白色粉末状の重水素化ポリ(トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンメタクリレート/メチルメタクリレート)5.6gを得た。得られたポリマーの重量平均分子量は、9.5万、分子量分布は2.1であった。ガラス転移温度は約125℃であった。
実施例1で得られたWDM−6(全重水素化率65.7%、側鎖重水素化率56%)を単独で、またはWDM−6と重水素化メチルメタクリレート(MMA−d8)とを重量比にして、25/75と50/50の2種類のモノマー混合溶液をそれぞれ調製し、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)をモノマー混合液に対して0.14重量%、連鎖移動剤としてn−ラウリルメルカプタンをモノマー混合液に対して0.2重量%配合して重合性組成物をそれぞれ調製した。該重合性組成物を窒素にて5分間脱気した後、密閉して、70℃で24時間、90℃で24時間、さらに105℃で3時間重合させてポリマーロッドをそれぞれ作製した。
こうして得られた各ポリマーロッドの両末端をダイヤモンドカッターで切断し、さらに切断表面を光学的な研磨を施し、それぞれ実施例4〜6とした。実施例5および6について、近赤外吸収スペクトル測定した。結果を図1に示す。
トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンメタクリレート(全重水素化率0%;以下「TCDMA」という)、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)をモノマーに対して0.14重量%、連鎖移動剤としてn−ラウリルメルカプタンをモノマー混合液に対して0.2重量%配合して重合性組成物を調製した。該重合性組成物を窒素にて5分間脱気した後、密閉して、70℃で24時間、90℃で24時間、さらに105℃で3時間重合させてポリマーロッドを得た。
こうして得られたポリマーロッドの両末端をダイヤモンドカッターで切断し、さらに切断表面を光学的な研磨を施し、比較例1とした。近赤外吸収スペクトルを測定した。その結果を図1にあわせて示す。
Claims (16)
- 前記炭素数5〜7の炭化水素環が飽和炭化水素環である請求項1の化合物。
- 前記炭素数5〜7の炭化水素環が不飽和炭化水素環である請求項1の化合物。
- 前記飽和炭化水素環が、シクロペンタン環、シクロヘキサン環及びノルボルナン環からなる群より選ばれる環である請求項2の化合物。
- 前記不飽和炭化水素環が、シクロペンテン環、シクロヘキセン環及びノルボルネン環からなる群より選ばれる環である請求項3の化合物。
- 前記一般式[1]で表される化合物が有する水素原子の20%以上が重水素原子である請求項1〜5のいずれか1項の化合物。
- 前記一般式[1]で表される化合物が有する水素原子の40%以上が重水素原子である請求項1〜5のいずれか1項の化合物。
- 前記一般式[1]で表される化合物が有する軽水素原子が15個以下である請求項1〜7のいずれか1項の化合物。
- R4で表される基が有する水素原子の10%以上が重水素原子である請求項1〜8のいずれか1項の化合物。
- R4で表される基が有する軽水素原子が12個以下である請求項1〜9のいずれか1項の化合物。
- 前記一般式[1]におけるR4で表される基が、トリシクロ[5.2.1.02,6]デシル基であって、当該基中の水素原子の少なくとも1つが重水素原子である請求項1、2、4、及び6〜10のいずれか1項の化合物。
- 下記一般式[1]で表される化合物:
有する水素原子の少なくとも1つが重水素原子であるノルボルナン環と炭素数5〜7の炭化水素環との縮合環からなるアルコールと、下記一般式[2]:
- 請求項1〜11のいずれか1項の化合物を含有する重合性組成物を重合させてなる重合体。
- 重合体が有する水素原子の50%以上が重水素原子である請求項13の重合体。
- 請求項13または14の重合体を含む領域を有する光学部材。
- 全水素原子が軽水素であること以外は同一構造を有する重合体と比較して910nmにおける吸光度が50%以下である請求項15の光学部材。
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