JP4761051B2 - アイパターン測定方法およびその装置 - Google Patents

アイパターン測定方法およびその装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4761051B2
JP4761051B2 JP2006039554A JP2006039554A JP4761051B2 JP 4761051 B2 JP4761051 B2 JP 4761051B2 JP 2006039554 A JP2006039554 A JP 2006039554A JP 2006039554 A JP2006039554 A JP 2006039554A JP 4761051 B2 JP4761051 B2 JP 4761051B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
eye pattern
histogram
temporary
unit
divided
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006039554A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007218737A (ja
Inventor
傑史 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
Priority to JP2006039554A priority Critical patent/JP4761051B2/ja
Publication of JP2007218737A publication Critical patent/JP2007218737A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4761051B2 publication Critical patent/JP4761051B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Dc Digital Transmission (AREA)

Description

本発明は、ノイズが多いなどの条件が悪い場合でも正確にアイパターンの特性値を算出することができる、アイパターン測定方法およびその装置に関するものである。
アイパターンは変動するデジタル信号波形を手軽に評価する手法であり、デジタル信号のアナログ的な要素を統計的・定性的に把握することができる。図11はアイパターンの作成方法を模式的に示したものである。図11において、(A)、(B)はそれぞれクロック、測定信号の波形であり、(C)はアイパターンである。(B)の測定信号を(A)のクロックの立ち上がり点で分割して重ね書きすることにより、(C)のアイパターンを得ることができる。
図12はアイパターンの特性パラメータを表した図である。図12において、10はアイパターン、11はアイパターン10の電圧方向のヒストグラム、12は時間方向のヒストグラムであり、Vcrossingはアイパターン10の電圧方向のクロス点、Tcrossing1、Tcrossing2は時間方向のクロス点、Vtopはアイパターン10の頂辺、Vbaseは底辺である。また、wは各ピークの3σ(σは標準偏差)の幅を表す。
Eye Widthは時間方向クロス点間の間隔、Eye Heightは電圧方向の頂辺と底辺間の間隔である。このTcrossing1、Tcrossing2、Vcrossing 、Vtop 、Vbase 、Eye Width、Eye Height等のパラメータを評価することにより、信号の品質を評価することができる。
図13にアイパターン表示装置の構成例を示す。このアイパターン表示装置は、デジタルオシロスコープの機能の一部として実現されている。図13において、測定信号20はAD変換器22でデジタル信号に変換される。このデジタル信号は、クロック21の立ち上がりのタイミングで分割され、メモリ23に格納される。表示処理部24はこの分割された信号を重ね書き処理してアイパターンを作成する。CPU25は、表示処理部24が作成したアイパターンからEye Width、Eye Height等のパラメータを算出し、アイパターンと共に表示部26に表示する。
特表2006−503295
しかし、このような構成のアイパターン表示装置は、ノイズが非常に大きい場合、表示されているアイの数が多い場合、立ち上がりが非常に俊敏な場合、クロス点が上側(Vtop)あるいは下側(Vbase)に大幅に偏っている場合等、特殊な形のアイパターンを安定に測定できないという課題があった。
図14(A)はノイズが非常に大きいアイパターンの例である。このようなアイパターンは線幅が広いためにヒストグラムのピークがブロードになり、Eye Width、Eye Height等のパラメータを正確に算出することができず、信号を正確に評価することができない。
同図(B)は立ち上がりが非常に俊敏なアイパターンの例である。このようなアイパターンはクロス点を正確に特定することは困難であり、特性を正確に測定することができない。
同図(C)はクロス点が大幅に上(Vtop)側に偏っているアイパターンの例である。このようなアイパターンも正確に測定は困難である。
従って本発明の目的は、図14に掲げたような特殊なアイパターンであっても正確に評価することができるアイパターン測定方法およびその装置を提供することにある。
このような課題を達成するために、本発明のうち請求項1記載の発明は、
一連の電圧信号を所定の周波数を有するクロックに基づいて分割し、この分割したデータを重ね書きしてアイパターンを作成して、このアイパターンの特性を測定するアイパターン測定方法において、
前記アイパターンの全域について電圧方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの下側のピーク位置を仮のbase、上側のピーク位置を仮のtopとする第1の工程と、
前記仮のtop、仮のbaseの間の所定の範囲について、時間方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの過去側から順番に2つのピークを抽出する第2の工程と、
前記第2の工程で抽出した2つのピークの各々について、最大値を取る範囲を複数の領域に分割し、この分割した領域の各々について電圧方向のヒストグラムを作成し、これらのヒストグラムのうち、分散値が最も小さいヒストグラムの前記分割した領域の位置をそれぞれTcrossing1、Tcrossing2とし、分散値の平均値をVcrossingとする第3の工程と、
前記Tcrossing1およびTcrossing2の間の所定の範囲について、電圧方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの前記Vcrossingより上側の平均値をVtop、下側の平均値をVbaseとする第4の工程と、
を具備したものである。
これらにより、特殊なアイパターンでも、正確に特性を算出することができる。
請求項記載の発明は、請求項記載の発明において、
前記第2の工程における所定の範囲を、仮のbaseと仮のtopで挟まれた領域の20〜80%の範囲としたものである。
これにより、ノイズの影響を除去できる。
請求項記載の発明は、請求項若しくは請求項記載の発明において、
前記第4の工程における所定の範囲を、Tcrossing1とTcrossing2で挟まれた領域の40〜60%の範囲としたものである。ノイズの影響を除去できる。
請求項記載の発明は、請求項若しくは請求項いずれかに記載の発明において、
複数のアイパターンについて前記Tcrossing1、Tcrossing2、Vcrossing、Vtop、Vbaseを求め、これらの値の統計量を演算するようにしたものである。
これにより、信頼性の高い測定ができる。
請求項5記載の発明は、
一連の電圧信号を所定の周波数を有するクロックに基づいて分割し、この分割したデータを重ね書きしてアイパターンを作成して、このアイパターンの特性を測定するアイパターン測定装置において、
前記電圧信号を所定の周波数を有するクロックに基づいて分割したデータからアイパターンデータを作成して出力するアイパターン作成部と、
前記アイパターン作成部が作成したアイパターンデータが入力され、アイパターン全域について電圧方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの下側のピーク位置および上側のピーク位置から仮のbaseおよび仮のtopを算出する仮top/base算出部と、
前記仮top/base算出部および前記アイパターン作成部の出力が入力され、前記仮のtopおよび仮のbaseで挟まれた領域内の、所定範囲について時間方向のヒストグラムを作成する時間方向ヒストグラム作成部と、
前記時間方向ヒストグラム作成部が作成したヒストグラムデータが入力され、このヒストグラムの過去側から2つのピークを抽出するピーク抽出部と、
前記ピーク抽出部および前記アイパターン作成部の出力が入力され、前記ピーク抽出部が検出したピークについて、最大値を取る範囲を複数の領域に分割し、この分割した領域の各々について電圧方向のヒストグラムを作成し、これらのヒストグラムのうち、分散値が最も小さいヒストグラムの前記分割した領域の位置をそれぞれTcrossing1、Tcrossing2とし、分散値の平均値をVcrossingとして、これらの値を出力するクロス点検出部と、
前記クロス点検出部および前記アイパターン作成部の出力が入力され、前記Tcrossing1、Tcrossing2間の所定範囲の電圧方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの前記Vcrossingより上方の平均値をVtop、下方の平均値をVbaseとして、これらの値を出力するVtop/Vbase算出部と、
前記クロス点検出部および前記Vtop/Vbase算出部の出力が入力され、これらの入力値を表示し、また外部に出力する出力部と、
を具備したものである。
これにより、特殊なアイパターンでも、正確に特性を算出することができる。
請求項6記載の発明は、請求項5記載の発明において、
前記時間方向ヒストグラム作成部が使用する、仮のtopと仮のbase間の所定範囲を設定する設定部を具備したものである。
これにより、ごく特殊な形状のアイパターンに対応できる。
以上説明したことから明らかなように、本発明によれば次のような効果がある。
アイパターンの所定範囲の時間方向ヒストグラムから2つのピークを抽出し、これらピークの各々について、最大値を取る領域を分割してこの領域の電圧方向のヒストグラムを求め、このヒストグラムの分散値が最小になる点をTcrossing1、Tcrossing2とし、平均値をVcrossingとする。また、Tcrossing1、Tcrossing2間の所定範囲の電圧方向ヒストグラムを求め、上側の平均値をVtop、下側の平均値をVbaseとする。
これらの値からアイパターンの特性を測定することにより、従来測定が困難であったノイズが非常に多いアイパターンや、表示されているアイの数が多いアイパターンでも、その特性を測定できるという効果がある。
また、時間方向のヒストグラムを作成する範囲を設定できるようにすることにより、開口部が小さいアイや、クロス点が上あるいは下に大幅に偏っているアイパターンの特性を測定することができるという効果もある。
以下本発明を、図面を用いて詳細に説明する。図1は本発明に係るアイパターン測定方法の一実施例を示すフローチャートである。なお、以下の説明では、アイパターンの垂直方向を電圧、水平方向を時間とし、下方を低電圧側、左方を過去側とする。
図1において、工程(S−1)でアイパターンの垂直方向、水平方向の全域(0〜100%)について垂直方向のヒストグラムを作成し、下側のピーク位置を仮のbase、上側のピーク位置を仮のtopとする。図2を用いてこの操作を説明する。図2(A)はアイパターン、(B)はこのアイパターンの垂直方向のヒストグラムである。このヒストグラムには2つのピーク30と31が存在する。上側のピーク30のピーク位置(頻度が最も高い位置)を仮のtop、下側のピーク31のピーク位置を仮のbaseとする。
次に、工程(S−2)で、仮のbaseを0%、仮のtopを100%としたときの、垂直方向が20〜80%で水平方向が全域(0〜100%)範囲の水平方向ヒストグラムを作成する。そして、工程(S−3)でこのヒストグラムを左側からスキャンし、最初のピークをPeak2-1、次のピークをPeak2-2とする。
この工程(S−2)と(S−3)を、図3を用いて説明する。図3(A)はアイパターン、(B)は工程(S−2)で求めるヒストグラムである。アイパターンの右側に記されている仮のbase、仮のtopは工程(S−1)で求めたものであり、斜線部32はこの仮のbaseを0%、仮のtopを100%としたときの、20〜80%の領域を表している。この領域32の水平方向のヒストグラムが(B)であり、そのピークを左側からPeak2-1、Peak2-2とする。この例ではヒストグラムのピークは2つのみなので、左側のピークをPeak2-1、右側のピークをPeak2-2とする。なお、本発明で注目するヒストグラムのピークは、表示画面上で0から立ち上がって0まで立ち下がっているピークのみとする。
図4にヒストグラムのピークが3つ以上ある場合の例を示す。図4において、(A)、(C)はアイパターン、(B)はアイパターンAのヒストグラム、(D)はアイパターンCのヒストグラムである。なお、32は図3と同様20〜80%の領域を示す。
(B)からわかるように、アイパターンAに対応するヒストグラムには4つのピークが存在する。この左端のピークをPeak2-1、その次のピークをPeak2-2とする。(D)のヒストグラムは5つのピークを有するが、左端のピークは途中から始まり0から立ち上がっていないので注目ピークとはせず、2番目のピークをPeak2-1、その次のピークをPeak2-2とする。なお、領域32を定める20%、80%の値を固定値にしないで、ユーザが設定できるようにすると、多様なアイパターンに対応させることができる。
次に、工程(S−4)でPeak2-1の最大値を求め、この最大値を取る範囲をTcrossing1Rangeとする。同様にして、Peak2-2の最大値を求め、この最大値を取る範囲をTcrossing2Rangeとする。図5によって、Tcrossing1Rangeを求める例を示す。なお、Tcrossing2Rangeも同じ手順で求めることができるので、Tcrossing1Rangeで説明する。図5(A)、(C)はクロス点付近のアイパターン、(B)、(D)はそれぞれアイパターンA、Cに対応するヒストグラムである。なお、斜線部32は図3と同様20〜80%の領域を表し、ヒストグラム(B)、(D)はこの領域32の水平方向のヒストグラムである。
図5(A)はクロス点が中央付近に位置する比較的正常なアイパターンの例である。この場合は、(B)に示すようにヒストグラムは単純な形になる。(C)はクロス点が上側(仮のTopに近い点)に位置するアイパターンの例であり、ヒストグラム(D)は比較的複雑な形になる。いずれもヒストグラムの最大値を求め、この最大値がとる範囲(平坦な部分)をTcrossing1Rangeとする。
次に、工程(S−5)でクロス点の水平位置であるTcrossing1、Tcrossing2を求める。Tcrossing1、Tcrossing2はクロス点なので、それぞれTcrossing1Range、Tcrossing2Range内かその付近にあるはずである。
Tcrossing1を求めるために、Tcrossing1Rangeを水平方向の最小分解能で分割し、この分割した範囲のそれぞれについてヒストグラムを作成して、このヒストグラムの分散値が最も小さい水平方向の点(位置)をTcrossing1とする。また、この分散値が最も小さいヒストグラムの平均値をVcrossingとする。同様にして、Tcrossing2Rangeを水平方向の最小分解能で分割し、この分割した範囲のそれぞれについてヒストグラムを作成して、このヒストグラムの分散値が最も小さい水平方向の点(位置)をTcrossing2とする。なお、Vcrossingは、Tcrossing2を決定したヒストグラムの平均値から求めてもよい。
この工程(S−5)を図6により説明する。図6(A)はアイパターン、(B)はヒストグラムである。領域33の水平幅はTcrossing1Range、縦幅は領域32と同じく仮のtopと仮のbaseの間の20〜80%である。領域33内の縦線は、この領域33を最小分解能で分割することを表している。(B)の複数個のヒストグラムは、分割された各領域のヒストグラムである。このヒストグラムの分散値が最も小さい水平点、この図ではピークが1つになった水平点をTcrossing1、このTcrossing1におけるヒストグラムの平均値をVcrossingとする。同様にして、Tcrossing2RangeからTcrossing2を求める。
次に、工程(S−6)でTcrossing1を0%、Tcrossing2を100%としたときの、水平方向が40〜60%、垂直方向が全域(0〜100%)範囲の垂直方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムのVcrossingから上側の平均値をVtop、下側の平均値をVbaseとする。
図7によりこの工程を説明する。図7(A)はアイパターンであり、Tcrossing1、Tcrossing2、Vcrossingは工程(S−5)で求めた値である。斜線部34は、Tcrossing1を0%、Tcrossing2を100%としたときの、40〜60%の範囲である。(B)はこの斜線部34のヒストグラムである。斜線部34はクロス点を含まないので、(B)はVcrossingの両側にピークを有するヒストグラムになる。
このヒストグラムのVcrossingから上の部分の平均値をVtop、Vcrossingから下の部分の平均値をVbaseとする。図に示すように、Vcrossingの上と下に各1つのピークがあるので、Vtop、Vbaseはピークの位値にほぼ一致する。
最後に、工程(S−7)でTcrossing1、Tcrossing2、Vcrossing、Vtop、Vbaseのアイパターンの特性値から、信号を評価する。
図8に正常でないアイパターンの例を示す。従来このようなアイパターンを有する信号は正確な評価を行うことができなかった。図8(A)はアイパターンの開口部が極端に狭いアイパターンの例である。このようなアイパターンは、工程(S−2)で仮のTop、仮のbaseの35〜65%間のデータでヒストグラムを作成し、ヒストグラムをアイの開口部に限定することで、Tcrossing1、Tcrossing2などのパラメータを正確に算出できる。
図8(B)はアイパターンの交点が仮のbaseに寄っている例である。このような場合、仮のbaseと仮のtop間の20〜80%にアイパターンの交点が入らない。そこで、アイパターンの交点が入るように工程(S−2)で仮のbaseと仮のtopの8〜92%でヒストグラムを作成する。これにより、Tcrossing1、Tcrossing2などのパラメータを正確に求めることができる。
図9に、複数のアイパターンが同時に表示されている例を示す。このような場合は、アイパターン毎にTcrossing1、Tcorssing2などのパラメータを求め、そのサンプル数(アイパターンの数)、各パラメータの平均値、標準偏差等の統計値を出力することにより、少ないデータ数でも信頼性の高いパラメータ値を求めることができる。
図10に本発明におけるアイパターン測定装置の構成例を示す。なお、図13と同じ要素には同一符号を付し、説明を省略する。図10において、測定信号とクロック信号はAD変換器22に入力される。AD変換器22は測定信号をクロック信号の周期で分割してデジタル値に変換し、メモリ23に格納する。パターン作成部40はメモリ23に格納されたデジタル値を読み込み、アイパターンデータを作成して出力する。
仮top/base算出部41は、アイパターン作成部40が作成したアイパターンデータに基づき、図1の工程(S−1)を実行する。すなわち、垂直方向のヒストグラムを作成して仮のtopと仮のbaseを算出する。
時間方向ヒストグラム作成部43は、仮top/base算出部41から入力される仮topと仮baseおよびアイパターンデータに基づき、図1の工程(S−2)を実行する。すなわち、指定範囲の時間方向のヒストグラムを作成する。
設定部42は、時間方向ヒストグラム作成部43が作成するヒストグラムの範囲を設定する。
ピーク抽出部44は、図1の工程(S−3)に基づき、時間方向ヒストグラム作成部43から入力されるヒストグラムに含まれる2つのピークを抽出する。
クロス点検出部45は、ピーク抽出部44が検出したピークデータおよびアイパターンデータを入力として、図1の工程(S−4)、(S−5)を実行する。すなわち、ピーク抽出部44が求めたピークについて、最大値を取る範囲を水平方向の最小分解能で分割することによりこの分割範囲のヒストグラムを求め、Tcrossing1、Tcrossing2、Vcrossingを検出する。
Vtop/Vbase算出部46は、クロス点検出部45の出力およびアイパターンデータを入力として、図1の工程(S−6)を実行する。すなわち、Tcrossing1、Tcrossing2から求めた範囲について垂直方向のヒストグラムを作成し、Vtop、Vbaseを算出する。
出力部47は、クロス点検出部45およびVtop/Vbase算出部46で検出または算出されたTcrossing1、Tcrossing2、Vcrossing、Vtop、Vbase等のパラメータを表示し、また外部に送信する。
このようにして正常でないアイパターンのパラメータTcrossing1、Tcrossing2、Vtop、Vbaseがわかると、これら正常でないアイパターンを表示するために必要な表示器の水平方向、垂直方向の倍率、オフセット等の最適値を知ることができる。そして、これらの最適値を用いて表示器の倍率やオフセットを自動的に調整するように構成することにより、最適なアイパターン表示を行うことができる。
本発明の一実施例を示すフローチャートである。 本発明の一実施例の手順を説明するための特性図である。 本発明の一実施例の手順を説明するための特性図である。 本発明の一実施例の手順を説明するための特性図である。 本発明の一実施例の手順を説明するための特性図である。 本発明の一実施例の手順を説明するための特性図である。 本発明の一実施例の手順を説明するための特性図である。 特殊なアイパターンを示す特性図である。 特殊なアイパターンを示す特性図である。 本発明の他の実施例を示す構成図である。 アイパターンを説明するための波形図である。 アイパターンのパラメータを説明するための特性図である。 従来のアイパターン表示装置の構成図である。 特殊なアイパターンを示す特性図である。
符号の説明
22 AD変換器
23 メモリ
30、31 ヒストグラムのピーク
32〜34 ヒストグラムの作成範囲
40 アイパターン作成部
41 仮top/base算出部
42 設定部
43 時間方向ヒストグラム作成部
44 ピーク抽出部
45 クロス点検出部
46 Vtop/Vbase算出部
47 出力部

Claims (6)

  1. 一連の電圧信号を所定の周波数を有するクロックに基づいて分割し、この分割したデータを重ね書きしてアイパターンを作成して、このアイパターンの特性を測定するアイパターン測定方法において、
    前記アイパターンの全域について電圧方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの下側のピーク位置を仮のbase、上側のピーク位置を仮のtopとする第1の工程と、
    前記仮のtop、仮のbaseの間の所定の範囲について、時間方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの過去側から順番に2つのピークを抽出する第2の工程と、
    前記第2の工程で抽出した2つのピークの各々について、最大値を取る範囲を複数の領域に分割し、この分割した領域の各々について電圧方向のヒストグラムを作成し、これらのヒストグラムのうち、分散値が最も小さいヒストグラムの前記分割した領域の位置をそれぞれTcrossing1、Tcrossing2とし、分散値の平均値をVcrossingとする第3の工程と、
    前記Tcrossing1およびTcrossing2の間の所定の範囲について、電圧方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの前記Vcrossingより上側の平均値をVtop、下側の平均値をVbaseとする第4の工程と、
    を具備したことを特徴とするアイパターン測定方法。
  2. 前記第2の工程における所定の範囲は、仮のbaseと仮のtopで挟まれた領域の20〜80%の範囲であることを特徴とする請求項記載のアイパターン測定方法。
  3. 前記第4の工程における所定の範囲は、Tcrossing1とTcrossing2で挟まれた領域の40〜60%の範囲であることを特徴とする請求項若しくは請求項記載のアイパターン測定方法。
  4. 複数のアイパターンについて前記Tcrossing1、Tcrossing2、Vcrossing、Vtop、Vbaseを求め、これらの値の統計量を演算するようにしたことを特徴とする請求項若しくは請求項いずれかに記載のアイパターン測定方法。
  5. 一連の電圧信号を所定の周波数を有するクロックに基づいて分割し、この分割したデータを重ね書きしてアイパターンを作成して、このアイパターンの特性を測定するアイパターン測定装置において、
    前記電圧信号を所定の周波数を有するクロックに基づいて分割したデータからアイパターンデータを作成して出力するアイパターン作成部と、
    前記アイパターン作成部が作成したアイパターンデータが入力され、アイパターン全域について電圧方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの下側のピーク位置および上側のピーク位置から仮のbaseおよび仮のtopを算出する仮top/base算出部と、
    前記仮top/base算出部および前記アイパターン作成部の出力が入力され、前記仮のtopおよび仮のbaseで挟まれた領域内の、所定範囲について時間方向のヒストグラムを作成する時間方向ヒストグラム作成部と、
    前記時間方向ヒストグラム作成部が作成したヒストグラムデータが入力され、このヒストグラムの過去側から2つのピークを抽出するピーク抽出部と、
    前記ピーク抽出部および前記アイパターン作成部の出力が入力され、前記ピーク抽出部が検出したピークについて、最大値を取る範囲を複数の領域に分割し、この分割した領域の各々について電圧方向のヒストグラムを作成し、これらのヒストグラムのうち、分散値が最も小さいヒストグラムの前記分割した領域の位置をそれぞれTcrossing1、Tcrossing2とし、分散値の平均値をVcrossingとして、これらの値を出力するクロス点検出部と、
    前記クロス点検出部および前記アイパターン作成部の出力が入力され、前記Tcrossing1、Tcrossing2間の所定範囲の電圧方向のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの前記Vcrossingより上方の平均値をVtop、下方の平均値をVbaseとして、これらの値を出力するVtop/Vbase算出部と、
    前記クロス点検出部および前記Vtop/Vbase算出部の出力が入力され、これらの入力値を表示し、また外部に出力する出力部と、
    を具備したことを特徴とするアイパターン測定装置。
  6. 前記時間方向ヒストグラム作成部が使用する、仮のtopと仮のbase間の所定範囲を設定する設定部を具備したことを特徴とする請求項記載のアイパターン測定装置。
JP2006039554A 2006-02-16 2006-02-16 アイパターン測定方法およびその装置 Expired - Fee Related JP4761051B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006039554A JP4761051B2 (ja) 2006-02-16 2006-02-16 アイパターン測定方法およびその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006039554A JP4761051B2 (ja) 2006-02-16 2006-02-16 アイパターン測定方法およびその装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007218737A JP2007218737A (ja) 2007-08-30
JP4761051B2 true JP4761051B2 (ja) 2011-08-31

Family

ID=38496203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006039554A Expired - Fee Related JP4761051B2 (ja) 2006-02-16 2006-02-16 アイパターン測定方法およびその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4761051B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110672899A (zh) * 2019-12-05 2020-01-10 深圳市鼎阳科技股份有限公司 一种用于数字示波器的眼图重构方法及存储介质

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014165392A (ja) * 2013-02-26 2014-09-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光送信器およびその制御方法
CN111487447B (zh) * 2020-05-09 2022-06-28 深圳市鼎阳科技股份有限公司 一种用于实现快速测量的数字示波器
JP7247160B2 (ja) * 2020-12-14 2023-03-28 アンリツ株式会社 Pam波形解析装置及びpam波形解析方法
CN114362818B (zh) * 2021-12-20 2024-01-30 江苏科大亨芯半导体技术有限公司 利用主信号眼图测量调顶信号调顶深度的方法及***

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04280142A (ja) * 1990-03-23 1992-10-06 Sony Tektronix Corp 非周期信号の特性測定方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04248424A (ja) * 1991-02-04 1992-09-03 Nec Corp 波形解析装置
US6577964B1 (en) * 2000-06-28 2003-06-10 Agilent Technologies, Inc. Apparatus and method for determining compliance margin of a waveform relative to a standard
JP2004357050A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Mitsubishi Electric Corp 波形品質評価システム及び波形品質評価方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04280142A (ja) * 1990-03-23 1992-10-06 Sony Tektronix Corp 非周期信号の特性測定方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110672899A (zh) * 2019-12-05 2020-01-10 深圳市鼎阳科技股份有限公司 一种用于数字示波器的眼图重构方法及存储介质

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007218737A (ja) 2007-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4761051B2 (ja) アイパターン測定方法およびその装置
JP4708056B2 (ja) 差動信号測定をともなう試験システム
US20090076751A1 (en) Systems and methods for measuring signal waveforms
JP6418131B2 (ja) 脈波信号処理装置
CN110927184A (zh) 芯片封装缺陷的视觉检测方法
US20160018443A1 (en) Method for determining a correlated waveform on a real time oscilloscope
JP5660861B2 (ja) 基板上の異物検査方法および異物検査装置
US20170272431A1 (en) Method and apparatus for analyzing a transmission signal
JP2005221501A (ja) パラメータ測定により制限性能を創出する為の方法及び装置
JP5412369B2 (ja) データ信号品質評価装置
US20100070221A1 (en) System and Method for Sample Point Analysis with Threshold Setting
JP3662439B2 (ja) 半導体試験用データ処理装置及び方法並びに半導体試験装置
JP4823981B2 (ja) 表示装置の動画解像度評価装置
JP5098852B2 (ja) 電子回路解析装置
JP4407507B2 (ja) 波形表示装置
US20090192739A1 (en) Automatic signal identifying method and automatic signal skew measurement method
JPH02251714A (ja) 実装極性部品の極性検査方法および実装基板外観検査方法
JP5412368B2 (ja) データ信号品質評価装置
US20190277670A1 (en) Electrical measurement device
JP2007114827A (ja) 画像処理装置および画像処理方法
JP6507512B2 (ja) 推定プログラム、推定方法および推定装置
JP2015001404A (ja) 検査装置、検査方法および検査プログラム
CN112020323B (zh) 数据解析装置
CN110646655B (zh) 一种基于rms值的触发方法及数字示波器
JP4839638B2 (ja) テスタシミュレーション装置及びテストシミュレーション方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081022

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110218

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110222

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110420

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110511

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110524

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees