JP4753942B2 - 角適合テンプレートに基づくラスタ走査型印刷における光学近接効果補正 - Google Patents
角適合テンプレートに基づくラスタ走査型印刷における光学近接効果補正 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4753942B2 JP4753942B2 JP2007519490A JP2007519490A JP4753942B2 JP 4753942 B2 JP4753942 B2 JP 4753942B2 JP 2007519490 A JP2007519490 A JP 2007519490A JP 2007519490 A JP2007519490 A JP 2007519490A JP 4753942 B2 JP4753942 B2 JP 4753942B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pixel
- corner
- grayscale
- pixels
- square
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims description 146
- 230000000694 effects Effects 0.000 title description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 52
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 83
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 49
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 21
- 238000003491 array Methods 0.000 claims description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 14
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 21
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 20
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T5/00—Image enhancement or restoration
- G06T5/73—Deblurring; Sharpening
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/10—Segmentation; Edge detection
- G06T7/13—Edge detection
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/40—Picture signal circuits
- H04N1/409—Edge or detail enhancement; Noise or error suppression
- H04N1/4092—Edge or detail enhancement
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/20—Special algorithmic details
- G06T2207/20112—Image segmentation details
- G06T2207/20164—Salient point detection; Corner detection
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Image Processing (AREA)
Description
[0001]本発明の実施形態は、一般に、パターン印刷に使用されるリソグラフィ・システム又は半導体ウエハ上のマスク、より具体的には、それにより印刷されたパターン特徴部の鋭敏さを改善することに関する。
[0002]集積回路のフォトリソグラフィ製造において放射粒子エネルギに敏感なレジストは、所定のパターンで露光され、回路特徴部を画成する。一部の場合、エネルギは、パターンを含むマスクを通過し、半導体ボディ上のフォトレジストを選択的に露光する。他の場合、レジストはマスク基板上にあり、放射エネルギ自体の方向は、レジスト内でパターンを画成する為に制御される。紫外線、可視光、コヒーレント光、X線、電子ビーム(Eビーム)を含む幾つかの放射エネルギ源が使用されてきた。
法を提供する。この方法は、一般に:パターンの画像に対しデータファイルをラスタライズすることによりグレースケールのピクセル・マップを生成するステップであって、上記ピクセル・マップは、0から整数Nの間の対応グレースケール値を有するピクセル・アレイを備える、上記ステップと;上記グレースケールのピクセル・マップ内の対応ピクセルのグレースケール値に依存して、0か1のブーリアン値を有するピクセル・アレイを備えるブーリアン型ピクセル・マップを生成するステップと;角に対応するピクセル用テンプレートに、角型ピクセルに対応するピクセルと囲んでいるピクセルを含む上記ブーリアン型マップ内のピクセル・アレイを比較することにより、上記グレースケールのピクセル・マップ内で角型ピクセルを検出するステップと;角型ピクセルと、角型ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップと;を備える。
[0046]図2は、リソグラフィを介してパターンを書き込む為の「ピクセル・ベース」の光学近接効果補正(OPC)を含む処理フロー202を示す。図示のように、データファイル110sは、標準フロー102にあるように、ラスタライゼーション処理によりビット・マップ120sに変換可能である。しかし、パターン111を書き込む為に、丸くなった角132sが生じ得る上記標準ビット・マップ120sを使用するのではなく、画質向上(enhanced)ビット・マップ120pが使用される。画質向上されるビット・マップ120pは、標準ビット・マップ120sにおいてピクセルの様々なグレースケール値を操作することにより生成される。グレースケール値は、本願で説明される様々な技術を使用して操作可能であり、パターンを書き込むとき角形ピクセルの近傍や、角形ピクセルにおいて供給されたエネルギの投与量の修正に努め、或いは、パターン111の理想的な角に、かなり密接に近付く角132pの達成に努める。
[0051]図5は、角形ピクセルを囲むピクセルのグレースケール値を検査することにより、角形ピクセルを検出する為の典型的操作500を示す。異なる実施形態では、操作500は、ソフトウェア、ハードウェア、これらの組合せで実行可能である。例えば、ある実施形態において、ピクセル・マップは、ラスタライジング・エンジンから、各々が検出を実行するようにプログラムを実行する一以上の汎用プロセッサに、ピクセル・マップが転送されてもよい。他の実施形態において、特定用途向け集積回路またはフィールドプログラム可能なゲートアレイ(FPGA)のようなハードウェア構成要素が検出を実行可能である。
[0062]後−角検出処理の後、角補正が、ステップ526で実行可能である。図6は、角を補正する為の典型的な操作600を示す。操作600は、角形ピクセルとして識別された一組のピクセルを受領することにより、ステップ602で始まる。ステップ604には、各々の角形ピクセルで実行される操作608−614のループが挿入されている。前述したように、角補正は、角形ピクセル及び/又は隣接ピクセルのグレースケール値の操作に努めることを伴い、凸状角を「伸ばす」為に投与量を加え(凹状角の縮める為に量を減らし)、書き込まれるパターンの理想的な角へと、より密接に合致させる。
[0069]角形ピクセルを検出する為の他のアプローチは、検査されているピクセル上にセンタリングされたピクセル・アレイに角用テンプレートを付けることを伴う。このテンプレート・ベースのアプローチも、角形ピクセルを識別し分類する為に角形ピクセルの、ゼログレースケール隣接ピクセルに関する情報に依存する。一部の実施形態に対し、この情報はブーリアン型ピクセル・マップで獲得可能であり、これは、ゼロ又はゼロでないグレースケール値のいずれか一方を有するピクセルを識別する。(図11及び図12を参照して)更に詳述されるように、このアプローチは、ハードウェアにおける有効な実現に特に良く適しているかもしれない。図9は、そのようなテンプレート・ベースの角検出を実行する為の典型的な操作900を示す。
[0078]図11は、前述されたテンプレート・ベースの角検出操作を実現する為に使用可能な典型的なハードウェアの実施1100を示す。前述されたように、ラスタライザー1104は、印刷されるパターンを示すデータファイル1102に基づくグレースケール・ピクセル・マップを生成してもよい。図示のように、ラスタライザー1104から出力されたピクセル・データは、フレーム・バッファ1106に保存可能であり、ここで、角検出及び補正ユニット1110によりアクセス可能である。図示のように、角検出及び補正ユニット1110は、一組のバッファ内でピクセル列を蓄積可能である。
例えば、凸状の左上(CVXUL)角(例えば、図10のテンプレート1002)の為の式は、以下のように実現される。
CVXUL = P & N0 & N6 & N7 &!N1 & !N2 & !N3 & !N4 & !N5
(ここで、記号"&"は、論理和関数を示し、記号"!"は、論理反転関数を示す。
凹状角に対し、特別な角の向きに対するテンプレート・マップの全ては、論理的に共に「OR処理される」。例えば、凹状の左上(CCVUL)の角(例えば、図10のテンプレート1010,1018,1026)に対する式は、以下のように実現される。
CCVUL=(P & N0 & N9 & N4 &N1 & N2 & N3 & N5 & N6 & N21 & !N7 & !N8 &!N22) | (P & N0 & N9 & N4 & N1 & N2 & N3 & N5 &N6 & N21 & N22 & N23 &!N7) | (P & N0 & N9 & N4& N1 & N2 & N3 & N5 & N6 & N8 & N21 & N23&!N7)
(ここで、記号"| "は、論理OR関数を示す。)
サンプリング中の補償
[0082]前述されたように、サンプリング中のピクセルは、テンプレート・ベースの角検出アルゴリズムのようにゼロのグレースケール値に基づき角を検出するアルゴリズムに課題を提示してもよい。ピクセルは、一般に、ピクセルに形状が僅かに当たるが、サンプリングされたサブピクセルの場所(「サブサンプル」)をカバーしないとき、サンプリング中に画成される。結果として生じるピクセルは、検出用アルゴリズムに対しゼロのグレースケール値を有し、(テンプレートは、角形ピクセルに、ゼロでないグレースケール値を有することを要求するので)これが、角検出の失敗を引き起こす。
[0085]前述されたように、当初の(未修正の)グレースケールピクセル・バッファ1112とブーリアン型ピクセル・バッファ114に加えて、別個の補正バッファ1116は、角補正に対して実際の調整を行う為に維持され、使用可能である。図11に戻ると、角補正及び検出ユニット1110は、角補正ユニット1120を含んでもよいが、角補正ユニット1120は、角検出ユニット1118により検出された角の識別(例えば、マップ)を受け取り、当初のグレースケール・バッファ内のピクセル値に基づき、補正バッファ1116内でピクセルを修正する。その後、補正されたピクセル値は、実際の書き込み処理中の露光制御において使用される為に(1以上のレーザービームを変調することにより)補正バッファ116から読み出されてもよい。
図示のように、右上の凸状角の典型的な形状1411は、ピクセル1415内にあり、当初のグレースケール・バッファ1412A内に示されたグレースケール値と、ブーリアン型ピクセル・バッファ1414A内に示された対応するブーリアン型ピクセル値になる。
その結果、凸状右上角は、ピクセル1415にセンタリングされたブーリアン型5×5のピクセル・アレイに角用テンプレートを当てるときに検出される。
[0093]角形ピクセルの検出に対する他のアプローチは、サブピクセル情報の検査を伴い、実際、どの位のエリアのピクセルが、描写された形によりカバーされるかを決定する。サブピクセル・データ(例えば、16ビットのサンプリングされたサブピクセル)は、(描写された画像によりカバーされる、サンプリングされたサブピクセルの5ビットの合計にすぎないかもしれない)グレースケール値というよりは検査され、より高度な精度が、角検出のときに達成可能である。例えば、より詳細に以下に説明されるように、角が存在するピクセル内部の正確な位置は、放射投与量の加算または減算を介して角を検出するとき、何が大きな自由度を考慮に入れてもよいか決定されてもよい。
[0100]図19A−図19Dは、(図15のステップ1508のように)内部にある形状1911の角を検出する為に、ピクセル1910の3×3のアレイ1900に対して凸状角検出用オーバーレイの応用を示す。図示のように、アレイ1900のピクセル1910は、左上から始まり、0から9までラベルが付されている。一般に、角検出用オーバーレイ1800は、オーバーレイを画成するサブピクセル状態が満足されるまで、(例えば、X方向及びY方向において、1/4ピクセル・ステップ内で)アレイ内を「滑り」回される。以下に詳細に説明されるように、幾つかのハードウェアの実現において、オーバーレイは、実際には滑り回されないが、内部に提供された論理が3×3アレイ内で全ての角を同時に検出する。
[0106]角をピクセル内で単に検出することに加えて、その角があるピクセル内部で正確な位置を決定することも望ましい。そのような正確な位置は、角を含む形状により正確にどれがカバーされているかを決定する為にサンプリングされたサブピクセルを検査することにより決定可能であり、検出された角を補正するとき、より正確な投与量を見込むことができる(例えば、異なる補正投与量は、ピクセル内で角が配置される場所に依存して使用可能である)。幾つかの実施形態に対し、ピクセルは、領域とNビット数に分けられてもよく(以下、角用タグという。)、検出された角形ピクセルが存在する領域を識別する為に生成されてもよい。
[0113]図24は、サンプリングされたサブピクセル・データに基づき、エリア・ベースの角補正を実行する為に使用可能な典型的なハードウェアの実現例2400を示す。前述されたアプローチのように、ラスタライザー2404は、書き込まれるパターンを示すデータファイル2402を受け取り、そのパターンによりカバーされる数多くのサブピクセルの場所をサンプリングしてもよい。単純にグレースケール値(例えば、設定された、サンプリングされたサブピクセルの数を符号することにより生成された5ビット値)のピクセル・マップを生成して出力するというより、むしろ、ラスタライザー2404は、実際の(例えば、16ビットの)サブピクセル・データを出力してエリア・ベースの角補正を見込むことが可能である。図示のように、このサブピクセル・データは、角検出及び補正ユニット2410によりアクセスされてもよいフレーム・バッファ2406に保存されてもよい。
図示のように、幾つかの実施形態において、角検出ユニットは、ピクセル(例えば、16ピクセル)の「フレーム」用サブピクセル・データを受け取り、前述されたように、同時に角検出用オーバーレイを内部のピクセル・アレイに適用して角形ピクセルを検出してもよい。幾つかの実施形態において、オーバーレイの検出領域は、1−1/4ピクセルの高さ、広さでもよい(例えば、白と幾つかの白い領域の凸状角用オーバーレイでもよい)ので、縁で、或いは、縁で、或いは「見える」フレームから離れる角を考慮に入れる為に、フレームの周りに境界ピクセルを含むことが必要になるかもしれない。角検出ユニット2418は、また、角を含む、検出された角形ピクセル内部に位置を識別する角用タグを生成してもよい。
[0117]角補正及び検出ユニット2410の構成要素は、FPGAや汎用ASICのような適切なハードウェア構成要素の、あらゆる組合せを使用して実現可能である。しかし、エリア・ベース・アプローチを使用して処理可能な潜在的に大量のサブピクセルのため、そのようなハードウェア構成要素で必要なゲート数は、構成要素の制限を達成可能である。そのため、幾つかの実施形態に対し、角補正の機能性を実現する為に必要なゲート数を最小にするように努めつつ、幾つかのタイプの最適化を実行することが望ましい。
クワドを生成する為に使用される論理層2620は、実際、4つのサブピクセル入力の関数のような出力信号を生成する。クワドは、集合的に、角によりカバーされた、ピクセル・エリア又はピクセルの組を示す為に使用されるので、対応した論理層は、典型的に、サブピクセルの組の直接の合計ではない。むしろ、各クワドは、ピクセルの4/16を示し、(P1-P4とラベルが付けられた)4つの位置に分けられる。(クワドQ0の位置P3のような)サブサンプルを含まないクワドの位置が存在する場合、それは、対応する式において有効に考慮されない。一方、クワドの位置が(クワドQ0の位置P1のような)2つのサブサンプルを有する場合には、2つのサブサンプルは、共に、OR処理される。そのため、論理層2620は、クワドQ1−Q3に対し、以下の式を実現してもよい。
Q0 = (s0 | s1) & s2 & s3
Q1 = s4 & (s5 | s6) & s7
Q2 = s8 & s9 & s10 & s11
Q3 = s12 & s13 & s14 & s15
ここで、シンボル|と&は、論理OR処理及び論理AND処理関数をそれぞれ示し、サンプリングされたサブサンプルs0-s15は、奇数のマップ2700Aからである。同様の式が、偶数のピクセル・マップ2700Eからサンプリングされたサブピクセルを使用して、クワドQ4−Q7を生成する為に実現可能である。
CCVX-LR = BO & B1_ & B2_ & B3_ & (!B4 | !B7 | !B8) &B5_ & B6_
ここで、シンボル!は、論理否定関数を示す。そのため、この式は、以下のように解釈可能である。ブロックB0は、全てが1でなければならず、B1_,B2_,B3_,B5,B6は、全てがゼロでなければならず、ブロックB4,B7,B8内のサブピクセルの少なくとも一つは1でなければならない。同様に、ブロック・ベースの式は、他の角の型の為に角検出用オーバーレイを実現するように案出されてもよい。さらに、当業者は、幾つかのブロックの組合せが特定の角の型を検出する為に使用可能であり、使用される正確なブロックの組合せが任意に選択可能であることを認識するであろう。いずれの場合でも、ここで説明された階層構造のスキームの実現は、有効なハードウェアの利用を考慮に入れ、全体のゲート総数を減少させる。この方式と分かれた角検出、クワド、ブロックの使用は、また、(各クロックサイクルで実行される複数の操作を用いて)操作の有効なパイプラインを許容し、全体の検出及び補正操作が最大のクロックレートで行われること許容し、全体のパターン書き込み時間を減少させる。
[0124]ピクセルのグレースケール値(後のラスタライゼーション)をうまく処理することにより、ピクセル角における放射投与量またはピクセルの角付近の放射投与量は、境界の影響を補償する為に増減されてもよい。その結果、書き込まれるパターンの実際の角は、そのパターンを示すデータファイルのサイズやデータ転送時間を増加することなく、より密接に理想的な角のパターンに似るようになる。
Claims (15)
- 高感度記録面に書き込まれるパターンの角を調整する為の方法において:
前記パターンの画像に対しデータファイルをラスタライズすることによりグレースケールのピクセル・マップを生成するステップであって、前記ピクセル・マップは、0から整数Nの間の対応グレースケール値を有するピクセル・アレイを備える、前記ステップと;
前記グレースケールのピクセル・マップ内の対応ピクセルのグレースケール値に依存して、0か1のブーリアン値を有するピクセル・アレイを備えるブーリアン型ピクセル・マップを生成するステップと;
角に対応するピクセル用テンプレートに、角型ピクセルに対応するピクセル及び囲んでいるピクセルを含む前記ブーリアン型マップ内のピクセル・アレイを比較することにより、前記グレースケールのピクセル・マップ内で角型ピクセルを検出するステップと;
角型ピクセルと、角型ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップと;
を備える、前記方法。 - 角形ピクセルと、角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップは、前記当初のグレースケール・バッファにおいてグレースケール値を修正することなく、前記補正バッファ内のグレースケール値を修正する工程を備える、請求項1に記載の方法。
- 角形ピクセルと、角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップは:
当初のグレースケール・バッファ内の凸状角形ピクセルのグレースケール値と、第1補正係数との和を計算する工程と;
前記計算された和が最大グレースケール値以下である場合、前記凸状角形ピクセルに対応する前記補正バッファ内のピクセルのグレースケール値を、前記第1補正係数だけ増加する工程と;
を備える、請求項2に記載の方法。 - 角形ピクセルと、角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップは:
前記計算された和が前記最大のグレースケール値を超える場合、前記凸状角形ピクセルに対応するピクセルに隣接する前記補正バッファ内の1以上のピクセルのグレースケール値を増加するステップを更に備える、請求項3に記載の方法。 - 前記計算された和が前記最大のグレースケール値を超える場合、前記凸状角形ピクセルに対応するピクセルに隣接する前記補正バッファ内の1以上のピクセルのグレースケール値を増加するステップは、前記凸状角に対応するピクセルから、斜め外側の1以上のピクセルのグレースケール値を、前記計算された和が前記最大のグレースケール値を超える量だけ、増加する工程を備える、請求項4に記載の方法。
- 角形ピクセルと、角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップは:
前記当初のグレースケール・バッファ内の凹状角のグレースケール値から、第2補正係数を減算することにより、差の値を計算する工程と;
計算された差が最小のグレースケール値以下である場合、前記補正バッファ内の前記凹状角に対応するピクセルのグレースケール値から、第2補正係数だけ減少させる工程と;
を備える、請求項3に記載の方法。 - 角形ピクセルと、角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップは:
前記計算された差が前記最小のグレースケール値未満である場合、前記凹状角に対応するピクセルに隣接する前記補正バッファ内の1以上のピクセルのグレースケール値を減少させる工程を更に備える、請求項6に記載の方法。 - 前記第1補正値および第2補正値は、独立して調整可能である、請求項7に記載の方法。
- 高感度記録面に書き込まれるパターンの角を調整する為の方法において:
前記パターンの画像に対しデータファイルをラスタライズすることによりグレースケールのピクセル・マップを生成するステップであって、前記ピクセル・マップは、対応する
グレースケール値を有するピクセル・アレイを備える、前記ステップと;
ブーリアン値を有するピクセル・アレイを備えるブーリアン型ピクセル・マップを生成するステップであって、1のブーリアン値は、0でないグレースケールを有するグレースケールのピクセル・マップ内の対応するピクセルを示し、0のブーリアン値は、0のグレースケール値を有するグレースケールのピクセル・マップ内の対応するピクセルを示す、前記ステップと;
各々が潜在的角形ピクセルにセンタリングされた前記ブーリアン型ピクセル・マップ内の一以上のピクセル・アレイを、凸状角および凹状角の両方に対応する複数のテンプレートと同時に比較することにより、前記グレースケールのピクセル・マップ内で角形ピクセルを検出するステップと;
検出された角形ピクセルと、検出された角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケール値を調整するステップと;
を備える、前記方法。 - 各々が潜在的角形ピクセルにセンタリングされた前記ブーリアン型ピクセル・マップ内の一以上のピクセル・アレイを、凸状角および凹状角の両方に対応する複数のテンプレートと同時に比較するステップは、各々が潜在的角形ピクセルにセンタリングされた前記ブーリアン型ピクセル・マップ内の複数のピクセル・アレイを、凸状角および凹状角の両方に対応する複数のテンプレートと比較する為にハードウェアを利用する工程を備える、請求項9に記載の方法。
- 各々が潜在的角形ピクセルにセンタリングされた前記ブーリアン型ピクセル・マップ内の一以上のピクセル・アレイを、凸状角および凹状角の両方に対応する複数のテンプレートと同時に比較するステップは、各々が潜在的角形ピクセルにセンタリングされた前記ブーリアン型ピクセル・マップ内の複数の異なるピクセル・アレイを、複数の異なるクロックサイクルの各々に対して、凸状角および凹状角の両方に対応する複数のテンプレートと比較する為にハードウェアを利用する工程を備える、請求項10に記載の方法。
- 抵抗面にパターンを書き込む為のシステムであって:
前記パターンの画像に対するデータファイルからグレースケールのピクセル・マップを生成するように構成されたラスタライザーであって、前記グレースケール・マップは、対応するグレースケール値を有するピクセル・アレイを備える、前記ラスタライザーと;
前記グレースケールのピクセル・マップ内の対応するピクセルのグレースケール値に依存して、0か1のブーリアン値を有するピクセル・アレイを備えるブーリアン型ピクセル・マップを生成する為の論理回路と;
前記ブーリアン型ピクセル・マップ内のピクセル・アレイを、角に対応するピクセルの角用テンプレートと比較することにより、グレースケールのピクセル・マップ内で角形ピクセルを検出するように構成された角検出ユニットと;
角形ピクセルと、角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つのグレースケールのピクセル・マップ内でグレースケール値を調整するように構成された角補正ユニットと;
を備える、前記システム。 - 前記角検出ユニットは、角形ピクセルと、角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つを:
前記グレースケール・ピクセル・マップ内の凸状角形ピクセルのグレースケール値と第1補正係数の和を計算すること;
計算された和が最大のグレースケール値以下である場合、前記第1補正係数だけ前記凸状角形ピクセルのグレースケール値を増加し、他の場合には、前記最大量に前記凸状角形ピクセルのグレースケール値を設定し、計算された和の残分を1以上の隣接ピクセルに普及させること;
により、調整するように構成されている、請求項12に記載のシステム。 - 前記角検出ユニットは、角形ピクセルと、角形ピクセルに隣接するピクセルのうち少なくとも一つを:
前記グレースケール・ピクセル・マップ内の凹状角形ピクセルのグレースケール値から第2補正係数を減算することにより差を計算すること;
計算された差が最小のグレースケール値以下である場合、前記第2補正係数だけ前記凹状角型ピクセルのグレースケール値を減少させ、他の場合には、前記最小のグレースケール値に前記凹状角形ピクセルのグレースケール値を設定し、計算された差の残分だけ、1以上の隣接ピクセルのグレースケール値を減少させること;
により、調整するように構成されている、請求項13に記載のシステム。 - ユーザに前記第1補正係数と第2補正係数を独立して調整することを許容するグラフィカルユーザインターフェースを更に備える、請求項14に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/882,959 US7529421B2 (en) | 2004-07-01 | 2004-07-01 | Optical proximity correction in raster scan printing based on corner matching templates |
US10/882,959 | 2004-07-01 | ||
PCT/US2005/023590 WO2006007570A1 (en) | 2004-07-01 | 2005-07-01 | Optical proximity correction in raster scan printing based on corner matching templates |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008505364A JP2008505364A (ja) | 2008-02-21 |
JP2008505364A5 JP2008505364A5 (ja) | 2008-08-14 |
JP4753942B2 true JP4753942B2 (ja) | 2011-08-24 |
Family
ID=35276133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007519490A Expired - Fee Related JP4753942B2 (ja) | 2004-07-01 | 2005-07-01 | 角適合テンプレートに基づくラスタ走査型印刷における光学近接効果補正 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7529421B2 (ja) |
EP (1) | EP1766571A1 (ja) |
JP (1) | JP4753942B2 (ja) |
WO (1) | WO2006007570A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9291902B2 (en) | 2010-03-05 | 2016-03-22 | Mycronic AB | Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030233630A1 (en) * | 2001-12-14 | 2003-12-18 | Torbjorn Sandstrom | Methods and systems for process control of corner feature embellishment |
US7340713B2 (en) * | 2004-09-29 | 2008-03-04 | Synopsys, Inc. | Method and apparatus for determining a proximity correction using a visible area model |
JP4991729B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2012-08-01 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 設計データの多数の形態に基づいたパターン生成のための方法及びシステム |
US8064682B2 (en) * | 2007-06-29 | 2011-11-22 | Intel Corporation | Defect analysis |
JP4525722B2 (ja) * | 2007-09-20 | 2010-08-18 | 株式会社デンソー | 気象情報表示装置、プログラム |
EP2359192B1 (en) * | 2008-12-05 | 2013-02-13 | Micronic Mydata AB | Gradient-assisted image resampling for microlithography |
JP5438848B2 (ja) * | 2010-02-23 | 2014-03-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US11195213B2 (en) * | 2010-09-01 | 2021-12-07 | Apixio, Inc. | Method of optimizing patient-related outcomes |
CN102135725B (zh) * | 2011-03-20 | 2012-07-04 | 北京理工大学 | Pbopc优化掩膜图形的分割矩形总数的获取方法 |
CN103208111B (zh) | 2012-01-17 | 2015-10-07 | 富士通株式会社 | 用于修正图像角点的方法和装置以及图像处理设备 |
US9047658B2 (en) * | 2013-11-05 | 2015-06-02 | United Microelectronics Corp. | Method of optical proximity correction |
CN105549920B (zh) * | 2015-12-10 | 2018-04-03 | 河北远东通信***工程有限公司 | 一种基于Flex的客户端大幅地图打印方法 |
CN108073043A (zh) * | 2016-11-07 | 2018-05-25 | 俞庆平 | 一种直写式丝网制版***的光均匀性补偿方法 |
EP3461116B1 (en) * | 2017-09-23 | 2024-04-17 | Heidelberg Polska Sp. z o.o. | A method and system for am screening and protecting printouts |
US10922472B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-02-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor device |
US10614340B1 (en) * | 2019-09-23 | 2020-04-07 | Mujin, Inc. | Method and computing system for object identification |
CN111681284A (zh) * | 2020-06-09 | 2020-09-18 | 商汤集团有限公司 | 一种角点检测方法、装置、电子设备及存储介质 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11201908A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Nec Corp | 外観検査装置、外観検査方法及び外観検査プログラムを記録した記録媒体 |
WO2000041207A1 (en) * | 1999-01-06 | 2000-07-13 | Etec Systems, Inc. | A method and apparatus that determines charged particle beam shape codes |
WO2000041209A1 (en) * | 1999-01-06 | 2000-07-13 | Etec Systems, Inc. | Raster shaped beam, electron beam exposure strategy using a two dimensional multipixel flash field |
WO2000041208A1 (en) * | 1999-01-06 | 2000-07-13 | Etec Systems, Inc. | An apparatus and method for controlling a beam shape |
JP2001283219A (ja) * | 2000-02-17 | 2001-10-12 | Xerox Corp | テンプレート・フィッティング方法 |
WO2003023488A1 (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Micronic Laser Systems Ab | Graphics engine for high precision lithography |
US20030107770A1 (en) * | 2001-07-11 | 2003-06-12 | Applied Materials, Inc. | Algorithm for adjusting edges of grayscale pixel-map images |
WO2003052516A1 (en) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for patterning a workpiece |
WO2004032000A1 (en) * | 2002-10-01 | 2004-04-15 | Micronic Laser Systems Ab | Methods and systems for process control of corner feature embellishment |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5553170A (en) | 1987-07-09 | 1996-09-03 | Ezel, Inc. | High speed image processing system having a preparation portion and a converting portion generating a processed image based on the preparation portion |
US5329614A (en) | 1991-02-07 | 1994-07-12 | Unisys Corporation | Method and apparatus for enlarging gray scale images |
US5363119A (en) | 1991-05-01 | 1994-11-08 | Atari Games Corporation | Scaling processor for raster images |
WO1994010633A1 (en) | 1992-11-02 | 1994-05-11 | Etec Systems, Inc. | Rasterizer for a pattern generation apparatus |
EP0663645A3 (en) | 1994-01-13 | 1996-07-03 | Eastman Kodak Co | Bitmap registration through gradient descent. |
US6023530A (en) | 1995-11-13 | 2000-02-08 | Applied Intelligent Systems, Inc. | Vector correlation system for automatically locating patterns in an image |
US5751852A (en) | 1996-04-29 | 1998-05-12 | Xerox Corporation | Image structure map data structure for spatially indexing an imgage |
US6038348A (en) | 1996-07-24 | 2000-03-14 | Oak Technology, Inc. | Pixel image enhancement system and method |
DE19636949A1 (de) | 1996-09-11 | 1998-03-12 | Siemens Ag | Verfahren zur Detektion von Kanten in einem Bildsignal |
US5847959A (en) * | 1997-01-28 | 1998-12-08 | Etec Systems, Inc. | Method and apparatus for run-time correction of proximity effects in pattern generation |
US6400838B2 (en) * | 1997-07-29 | 2002-06-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pattern inspection equipment, pattern inspection method, and storage medium storing pattern inspection program |
US6061476A (en) | 1997-11-24 | 2000-05-09 | Cognex Corporation | Method and apparatus using image subtraction and dynamic thresholding |
US6467076B1 (en) | 1999-04-30 | 2002-10-15 | Nicolas Bailey Cobb | Method and apparatus for submicron IC design |
US7167185B1 (en) * | 2002-03-22 | 2007-01-23 | Kla- Tencor Technologies Corporation | Visualization of photomask databases |
US7043089B2 (en) * | 2003-02-27 | 2006-05-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Overflow error diffusion |
US7407252B2 (en) | 2004-07-01 | 2008-08-05 | Applied Materials, Inc. | Area based optical proximity correction in raster scan printing |
-
2004
- 2004-07-01 US US10/882,959 patent/US7529421B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-01 WO PCT/US2005/023590 patent/WO2006007570A1/en active Application Filing
- 2005-07-01 JP JP2007519490A patent/JP4753942B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-01 EP EP05769261A patent/EP1766571A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11201908A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Nec Corp | 外観検査装置、外観検査方法及び外観検査プログラムを記録した記録媒体 |
WO2000041207A1 (en) * | 1999-01-06 | 2000-07-13 | Etec Systems, Inc. | A method and apparatus that determines charged particle beam shape codes |
WO2000041209A1 (en) * | 1999-01-06 | 2000-07-13 | Etec Systems, Inc. | Raster shaped beam, electron beam exposure strategy using a two dimensional multipixel flash field |
WO2000041208A1 (en) * | 1999-01-06 | 2000-07-13 | Etec Systems, Inc. | An apparatus and method for controlling a beam shape |
US6556702B1 (en) * | 1999-01-06 | 2003-04-29 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus that determines charged particle beam shape codes |
JP2001283219A (ja) * | 2000-02-17 | 2001-10-12 | Xerox Corp | テンプレート・フィッティング方法 |
US20030107770A1 (en) * | 2001-07-11 | 2003-06-12 | Applied Materials, Inc. | Algorithm for adjusting edges of grayscale pixel-map images |
WO2003023488A1 (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Micronic Laser Systems Ab | Graphics engine for high precision lithography |
WO2003052516A1 (en) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for patterning a workpiece |
WO2004032000A1 (en) * | 2002-10-01 | 2004-04-15 | Micronic Laser Systems Ab | Methods and systems for process control of corner feature embellishment |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9291902B2 (en) | 2010-03-05 | 2016-03-22 | Mycronic AB | Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060002603A1 (en) | 2006-01-05 |
WO2006007570A1 (en) | 2006-01-19 |
JP2008505364A (ja) | 2008-02-21 |
EP1766571A1 (en) | 2007-03-28 |
US7529421B2 (en) | 2009-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4753941B2 (ja) | ラスタ走査型印刷におけるエリア・ベースの光学近接効果補正 | |
JP4753942B2 (ja) | 角適合テンプレートに基づくラスタ走査型印刷における光学近接効果補正 | |
US7930653B2 (en) | Triangulating design data and encoding design intent for microlithographic printing | |
US7010764B2 (en) | Effective proximity effect correction methodology | |
EP1546788B1 (en) | Methods and systems for improved boundary contrast | |
US7209584B2 (en) | Pattern inspection apparatus | |
JP2984633B2 (ja) | 参照画像作成方法およびパターン検査装置 | |
JPH10104168A (ja) | 設計データに基づく図形データ展開装置 | |
US20080205743A1 (en) | Mask defect analysis | |
KR20200022741A (ko) | 반도체 소자의 제조 방법, 극 자외선 노광 방법 및 광 근접 보정 방법 | |
US6765651B1 (en) | Fast image simulation for photolithography | |
US20050186692A1 (en) | Method and device for correcting SLM stamp image imperfections | |
CN102193308B (zh) | 包含图像反转辅助特征的微光刻掩膜、***及其形成方法 | |
US7420710B2 (en) | Optical proximity correction in raster scan printing based on grayscale manipulation of the bitmap | |
US6692875B2 (en) | Mask for optical projection systems, and a process for its production | |
JP4266217B2 (ja) | パターン検査装置、パターン検査方法及びプログラム | |
EP4369096A1 (en) | Method and device for generating pattern density data | |
US20240210838A1 (en) | Method of designing mask layout for image sensor | |
JP3146542B2 (ja) | マスク製造方法、及びマスク製造システム | |
JP3128876B2 (ja) | パターン作成方法、及びパターン作成システム | |
JPH11271957A (ja) | マスク、マスク製造方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080626 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080626 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20101130 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101210 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110426 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110524 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140603 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |