JP4736390B2 - Electromagnetic wave shielding material, production method thereof, and display film - Google Patents

Electromagnetic wave shielding material, production method thereof, and display film Download PDF

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本発明は、電磁波遮蔽材およびその製造方法、ならびに該電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムに関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding material, a method for producing the same, and a display film provided with the electromagnetic wave shielding material.

電磁波遮蔽材は様々な分野で用いられているが、最近ではプラズマディスプレイなどの画面上に設ける用途が増えている。ディスプレイの画面上に設ける場合には、電磁波遮蔽性能だけでなく、良好な視認性を有することが重要である。   Electromagnetic wave shielding materials are used in various fields, but recently, there are increasing applications for providing them on a screen such as a plasma display. When providing on the screen of a display, it is important to have not only electromagnetic shielding performance but also good visibility.

従来のディスプレイ用電磁波遮蔽材として、例えば、基材上に接着層を介して銅箔などの金属箔を貼り合わせた後、ケミカルエッチング法などにより金属箔に開口部を形成してメッシュ状に加工する方法が知られている（例えば、下記特許文献１）。   As a conventional electromagnetic shielding material for displays, for example, after bonding a metal foil such as copper foil on a base material via an adhesive layer, an opening is formed in the metal foil by a chemical etching method or the like and processed into a mesh shape The method of doing is known (for example, the following patent document 1).

かかる方法においては、接着層と金属箔との良好な密着性を得るために、金属箔の表面が粗化されている。また、コントラスト向上のために金属箔の表面を予め黒化処理する手法も知られており、黒化処理後の金属箔表面はより粗くなっている。
そして、このように金属箔の表面が粗いと、接着層上に金属箔を積層した際に、金属箔表面の凹凸が接着層に転写される。したがって、金属箔をメッシュ状とした後の開口部内には、かかる凹凸が転写された接着層が露出することになる。このため開口部内を光が透過する際に散乱が生じ易く、その結果、開口部内でぎらつきが生じ、視認性の劣化を招くという不都合がある。 In such a method, the surface of the metal foil is roughened in order to obtain good adhesion between the adhesive layer and the metal foil. In addition, a technique for blackening the surface of the metal foil in advance for improving the contrast is also known, and the surface of the metal foil after the blackening treatment is rougher.
If the surface of the metal foil is rough as described above, the unevenness on the surface of the metal foil is transferred to the adhesive layer when the metal foil is laminated on the adhesive layer. Therefore, the adhesive layer to which the unevenness is transferred is exposed in the opening after the metal foil is meshed. For this reason, scattering is likely to occur when light is transmitted through the opening, resulting in inconvenience that glare occurs in the opening and deteriorates visibility.

かかる不都合に対して、金属箔の開口部内に露出している接着層を、該接着層と屈折率が近い樹脂で被覆する方法が知られている（例えば、下記特許文献１）。
特許第３３８８６８２号公報 For such inconvenience, a method is known in which the adhesive layer exposed in the opening of the metal foil is covered with a resin having a refractive index close to that of the adhesive layer (for example, Patent Document 1 below).
Japanese Patent No. 3388682

開口部内の接着層を被覆する樹脂としては、通常、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂が用いられるが、熱硬化性樹脂は硬化速度が遅いため、生産性が悪いという問題がある。
一方、紫外線硬化性樹脂は、一般的に塗布液（樹脂液）の粘度が高いため、開口部に塗布した際に、開口部内に空孔ができやすい。開口部内に存在する空孔はヘイズ（くもり度）上昇の原因となる。そこで、紫外線硬化性樹脂液（塗布液）の固形分濃度を低くして粘度を下げることによって空孔の発生を防止しようとすると、硬化し難くなる。
さらに、紫外線硬化性樹脂は耐熱性の点で不満があり、特にプラズマディスプレイなど放熱量が大きいディスプレイの画面上に適用された場合に、熱によって反り等の変形が生じ易いという問題もある。 As the resin for covering the adhesive layer in the opening, a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin is usually used. However, since the thermosetting resin has a low curing rate, there is a problem that productivity is poor.
On the other hand, since the ultraviolet curable resin generally has a high viscosity of the coating liquid (resin liquid), when it is applied to the opening, holes are easily formed in the opening. Holes existing in the opening cause an increase in haze (cloudiness). Therefore, if the solid content concentration of the ultraviolet curable resin liquid (coating liquid) is lowered to reduce the viscosity, the generation of pores is difficult to cure.
Further, the ultraviolet curable resin is unsatisfactory in terms of heat resistance, and particularly when applied on the screen of a display having a large heat radiation amount such as a plasma display, there is a problem that deformation such as warpage is likely to occur due to heat.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、生産性が良く、ヘイズが低くて良好な視認性を有するとともに、耐熱性に優れた電磁波遮蔽材、およびその製造方法、ならびに該電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a good productivity, low haze, good visibility, and excellent heat resistance, and a method for producing the same, and the electromagnetic wave. It aims at providing the film for a display provided with the shielding material.

上記の目的を達成するために、本発明の電磁波遮蔽材は、厚さ１２〜３００μｍの透明な基材上に、透明な接着層を介して、メッシュ状の金属薄膜が積層されており、前記金属薄膜に形成されている開口部内だけにケイ素化合物からなる光透過性無機材料が充填されており、前記光透過性無機材料の屈折率と前記接着層の屈折率との差が０．３以下であり、前記光透過性無機材料の厚さが５〜１２μｍであり、かつ該光透過性無機材料が前記金属薄膜よりも薄いことを特徴とする。
また本発明は、厚さ１２〜３００μｍの透明な基材上に、透明な接着層を介して金属薄膜を積層した後、該金属薄膜にエッチング処理を施して開口部を形成することにより前記金属薄膜をメッシュ状に加工する工程と、前記金属薄膜の開口部内だけに、ケイ素化合物からなる光透過性無機材料を、該光透過性無機材料が前記金属薄膜よりも薄くなるように充填する工程を有し、前記光透過性無機材料の屈折率と前記接着層の屈折率との差が０．３以下であり、かつ前記光透過性無機材料の厚さが５〜１２μｍであることを特徴とする電磁波遮蔽材の製造方法を提供する。
また本発明は、本発明の電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムを提供する。 In order to achieve the above object, the electromagnetic wave shielding material of the present invention has a mesh-like metal thin film laminated on a transparent substrate having a thickness of 12 to 300 μm via a transparent adhesive layer, A light transmissive inorganic material made of a silicon compound is filled only in the opening formed in the metal thin film, and the difference between the refractive index of the light transmissive inorganic material and the refractive index of the adhesive layer is 0.3 or less. The light-transmitting inorganic material has a thickness of 5 to 12 μm, and the light-transmitting inorganic material is thinner than the metal thin film.
In the present invention, the metal thin film is laminated on a transparent substrate having a thickness of 12 to 300 μm via a transparent adhesive layer, and then the metal thin film is etched to form an opening. A step of processing the thin film into a mesh shape, and a step of filling a light-transmitting inorganic material made of a silicon compound only in the opening of the metal thin film so that the light-transmitting inorganic material is thinner than the metal thin film. The difference between the refractive index of the light transmissive inorganic material and the refractive index of the adhesive layer is 0.3 or less, and the thickness of the light transmissive inorganic material is 5 to 12 μm, A method for producing an electromagnetic shielding material is provided.
Moreover, this invention provides the film for a display provided with the electromagnetic wave shielding material of this invention.

本発明の電磁波遮蔽材は、生産性が良く、ヘイズが低くて視認性が良好であり、優れた耐熱性を有する。
本発明の電磁波遮蔽材の製造方法によれば、ヘイズが低くて視認性が良好であり、優れた耐熱性を有する電磁波遮蔽材を生産性良く製造することができる。
本発明の電磁波遮蔽材はディスプレイ用フィルムに好適であり、ヘイズが低くて視認性が良好であり、優れた耐熱性を有するディスプレイ用フィルムが得られる。 The electromagnetic shielding material of the present invention has good productivity, low haze, good visibility, and excellent heat resistance.
According to the method for producing an electromagnetic wave shielding material of the present invention, an electromagnetic wave shielding material having low haze, good visibility, and excellent heat resistance can be produced with high productivity.
The electromagnetic wave shielding material of the present invention is suitable for a display film, and has a low haze, good visibility, and a display film having excellent heat resistance.

＜電磁波遮蔽材＞
図１は、本発明の電磁波遮蔽材の一実施形態を模式的に示した断面図である。図中符号１は基材、２は接着層、３は金属薄膜、３ａは金属薄膜の開口部、４は光透過性無機材料、５は機能層をそれぞれ示す。
［基材］
基材１は透明な材料で構成される。視認性を妨げない範囲で着色していてもよい。基材１は可撓性を有することが好ましく、透明な樹脂フィルムまたは樹脂シートが好適に用いられる。基材１における可視光の透過率は８０％以上が好ましい。
基材１の材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）などのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、セルロース系樹脂などの樹脂が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレートが好ましい。
基材１は単層で構成されていてもよく、多層構造であってもよい。
基材１の厚さは特に限定されないが、例えば１２〜３００μｍ程度が好ましく、５０〜２００μｍ程度がより好ましい。基材１の厚さが上記範囲の下限値以上であれは、良好な取り扱い性が得られ、上記範囲の上限値以下とすることにより良好な可視光透過率を確保することができる。
本発明では基材１の厚さを１２〜３００μｍとする。 <Electromagnetic wave shielding material>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of the electromagnetic wave shielding material of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a substrate, 2 denotes an adhesive layer, 3 denotes a metal thin film, 3a denotes an opening of the metal thin film, 4 denotes a light-transmitting inorganic material, and 5 denotes a functional layer.
[Base material]
The substrate 1 is made of a transparent material. You may color in the range which does not prevent visibility. The substrate 1 preferably has flexibility, and a transparent resin film or resin sheet is preferably used. The visible light transmittance of the substrate 1 is preferably 80% or more.
Specific examples of the material of the substrate 1 include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, EVA (ethylene-vinyl acetate copolymer), polyvinyl chloride, Examples thereof include vinyl resins such as polyvinylidene chloride, resins such as polysulfone, polyethersulfone, polycarbonate, polyamide, polyimide, acrylic resin, and cellulose resin. Of these, polyethylene terephthalate is preferable.
The substrate 1 may be composed of a single layer or a multilayer structure.
Although the thickness of the base material 1 is not specifically limited, For example, about 12-300 micrometers is preferable and about 50-200 micrometers is more preferable. If the thickness of the base material 1 is not less than the lower limit of the above range, good handleability can be obtained, and good visible light transmittance can be ensured by setting the thickness to be not more than the upper limit of the above range.
In this invention, the thickness of the base material 1 shall be 12-300 micrometers.

［接着層］
接着層２は、透明性と接着性の両方を有する材料で構成される。
接着層２の材料の具体例としては、アクリル系接着剤（屈折率１．４５〜１．５５）、エポキシ系接着剤（屈折率１．４５〜１．５５）、シリコーン系接着剤（屈折率１．４５〜１．５５）、ウレタン系接着剤（屈折率１．４５〜１．５５）等が挙げられる。中でも好ましいのはウレタン系接着剤である。 [Adhesive layer]
The adhesive layer 2 is made of a material having both transparency and adhesiveness.
Specific examples of the material of the adhesive layer 2 include an acrylic adhesive (refractive index 1.45 to 1.55), an epoxy adhesive (refractive index 1.45 to 1.55), and a silicone adhesive (refractive index). 1.45 to 1.55), urethane adhesive (refractive index 1.45 to 1.55), and the like. Of these, urethane adhesives are preferred.

接着層２の厚さは、基材１と金属薄膜３との良好な接着性が得られる範囲で任意に設定することができるが、透明性の点では薄い方が好ましい。接着層２の厚さは材質にもよるが、例えば０．１〜１０μｍ程度とすることができる。
本発明においては、金属薄膜の開口部３ａ内において露出している接着層２の表面が粗面化されていてもよい。 The thickness of the adhesive layer 2 can be arbitrarily set within a range in which good adhesion between the substrate 1 and the metal thin film 3 can be obtained, but is preferably thinner in terms of transparency. Although the thickness of the adhesive layer 2 depends on the material, it can be, for example, about 0.1 to 10 μm.
In the present invention, the surface of the adhesive layer 2 exposed in the opening 3a of the metal thin film may be roughened.

［金属薄膜］
金属薄膜３は、導電性を有する金属材料で構成される。具体例としては、銅、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン、白金、コバルト等が挙げられる。これらを２種以上組み合わせた合金でもよい。これらの中でも、銅、銀が好ましい。
金属薄膜３は、好ましくは開口部３ａを有するメッシュ状の金属箔で構成される。例えば銅箔等の金属箔に開口部が形成されたものが好ましく用いられる。
金属薄膜３の厚さは特に限定されないが、例えば０．５〜２０μｍ程度が好ましく、１〜１０μｍ程度がより好ましい。金属薄膜３の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより良好な電磁波遮蔽効果が得られ、上記範囲の上限値以下とすることにより、開口部３ａの形成加工がし易くなり、広い視野角を確保することができる。 [Metal thin film]
The metal thin film 3 is comprised with the metal material which has electroconductivity. Specific examples include copper, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, tungsten, chromium, titanium, platinum, cobalt, and the like. An alloy in which two or more of these are combined may be used. Among these, copper and silver are preferable.
The metal thin film 3 is preferably composed of a mesh-like metal foil having an opening 3a. For example, a metal foil such as a copper foil in which an opening is formed is preferably used.
Although the thickness of the metal thin film 3 is not specifically limited, For example, about 0.5-20 micrometers is preferable and about 1-10 micrometers is more preferable. By setting the thickness of the metal thin film 3 to be equal to or higher than the lower limit value in the above range, a favorable electromagnetic wave shielding effect can be obtained. A corner can be secured.

金属薄膜３には開口部３ａが形成されてメッシュ状になっている。開口部３ａの平面形状や大きさは特に限定されず、良好な視認性が得られるように適宜設定することができる。
例えば開口部３ａの平面形状としては、正多角形や、その他の多角形から選ばれる１種または２種以上が好ましく用いられる。
金属薄膜３は、開口部３ａの周囲のライン状の枠部をなすものであるが、この枠部（金属薄膜３）の幅は、好ましくは０．５〜２００μｍ程度、より好ましくは５〜１００μｍ程度とされる。枠部（金属薄膜３）の幅を上記範囲の下限値以上とすることにより十分な導電性が得られ、上記範囲の上限値以下とすると良好な視認性を得ることができる。
開口率は、特に制限されないが、好ましくは７０％以上、より好ましくは８５％以上である。これ以下であると視認性が低下する。 An opening 3a is formed in the metal thin film 3 and has a mesh shape. The planar shape and size of the opening 3a are not particularly limited, and can be set as appropriate so that good visibility can be obtained.
For example, as the planar shape of the opening 3a, one or more types selected from regular polygons and other polygons are preferably used.
The metal thin film 3 forms a line-shaped frame around the opening 3a. The width of the frame (metal thin film 3) is preferably about 0.5 to 200 μm, more preferably 5 to 100 μm. It is said to be about. Sufficient conductivity can be obtained by setting the width of the frame (metal thin film 3) to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, and good visibility can be obtained when the width is equal to or lower than the upper limit value of the above range.
The aperture ratio is not particularly limited, but is preferably 70% or more, more preferably 85% or more. Visibility falls that it is below this.

金属薄膜３は黒化処理が施されていることが好ましい。少なくとも視認側の金属薄膜３表面に黒化処理が施されていると、これによりコントラストが向上する。より優れたコントラストを得るためには、金属薄膜３表裏両面が黒化処理されていることが好ましく、さらに開口部３ａの側壁も黒化処理されていることがより好ましい。また金属薄膜３の接着層２側の表面に黒化処理が施されていれば、これにより接着層２との良好な密着性が得られる。
金属薄膜３の黒化処理方法は特に制限されず、既知の手法を適宜用いることができる。例えば、酸化処理による黒化処理が施された銅箔を金属薄膜３として用いることが好ましい。 The metal thin film 3 is preferably blackened. If at least the surface of the metal thin film 3 on the viewing side is blackened, the contrast is improved. In order to obtain a better contrast, it is preferable that both the front and back surfaces of the metal thin film 3 are blackened, and it is more preferable that the side wall of the opening 3a is blackened. Also, if the surface of the metal thin film 3 on the side of the adhesive layer 2 is subjected to blackening treatment, good adhesion to the adhesive layer 2 can be obtained.
The blackening treatment method of the metal thin film 3 is not particularly limited, and a known method can be appropriately used. For example, it is preferable to use as the metal thin film 3 a copper foil that has been subjected to blackening treatment by oxidation treatment.

［光透過性無機材料］
光透過性無機材料４は、透明な無機材料で構成される。視認性を妨げない範囲で着色していてもよい。光透過性無機材料４における可視光の透過率は８０％以上が好ましい。
また光透過性無機材料４の屈折率と、接着層２の屈折率との差が小さい方が、視認性の点で好ましい。光透過性無機材料４の屈折率と、接着層２の屈折率との差は、好ましくは０．３以下であり、０．２以下がより好ましい。本発明では０．３以下とする。
光透過性無機材料４の材料の具体例としては、ポリシラザン、ポリシロキサン等のケイ素化合物や、Ｍ（ＯＲ）Ｘで表される金属アルコキシド等が挙げられる。上記Ｍは、チタン、アルミニウム、ジルコニウム、錫、亜鉛等の金属原子を表し、Ｒは有機官能基を表し、Ｘは自然数を表す。なおＸが２以上の場合、Ｒは互いに異なるものであっても構わない。
本発明における光透過性無機材料４はケイ素化合物からなる。 [Light transmissive inorganic material]
The light transmissive inorganic material 4 is made of a transparent inorganic material. You may color in the range which does not prevent visibility. The transmittance of visible light in the light transmissive inorganic material 4 is preferably 80% or more.
In addition, it is preferable in terms of visibility that the difference between the refractive index of the light-transmitting inorganic material 4 and the refractive index of the adhesive layer 2 is small. The difference between the refractive index of the light transmissive inorganic material 4 and the refractive index of the adhesive layer 2 is preferably 0.3 or less, and more preferably 0.2 or less. In the present invention, it is 0.3 or less.
Specific examples of the material of the light transmissive inorganic material 4 include silicon compounds such as polysilazane and polysiloxane, metal alkoxides represented by M (OR) X , and the like. Said M represents metal atoms, such as titanium, aluminum, a zirconium, tin, and zinc, R represents an organic functional group, and X represents a natural number. When X is 2 or more, R may be different from each other.
The light transmissive inorganic material 4 in the present invention is made of a silicon compound.

ポリシロキサンとして、下記一般式（Ｉ）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物が好ましい。
ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ ・・・（Ｉ）
（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦４を満たす整数である）
かかるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。中でもテトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシランが好ましい。
前記加水分解物は、一般式（Ｉ）で示されるケイ素アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
なお、光透過性無機材料４には、一般式（Ｉ）で示されるケイ素アルコキシド、すなわち未反応の加水分解物の原料が存在していても構わない。 The polysiloxane is preferably a hydrolyzate of silicon alkoxide represented by the following general formula (I).
R x Si (OR) 4-x (I)
(In the formula, R represents an alkyl group, and x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 4)
Examples of the silicon alkoxide include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, and tetra-tert-butoxysilane. Tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-proxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane , Methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, di Chill propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like. Of these, tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, and tetra-iso-propoxysilane are preferable.
The hydrolyzate may be obtained by using a silicon alkoxide represented by the general formula (I) as a raw material, for example, by hydrolysis with hydrochloric acid.
The light transmissive inorganic material 4 may contain a silicon alkoxide represented by the general formula (I), that is, a raw material of an unreacted hydrolyzate.

前記Ｍ（ＯＲ）Ｘで表される金属アルコキシドとしては、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、アルミニウムテトライソプロポキシド、アルミニウムアセチルセトナート、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、テトラメトキシ錫、テトラエトキシ錫などが挙げられる。 Examples of the metal alkoxide represented by M (OR) X include titanium tetraisopropoxide, titanium tetrabutoxide, aluminum tetraisopropoxide, aluminum acetylsettinate, zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, tetramethoxytin, Examples include tetraethoxytin.

前記ポリシラザン又は前記ポリシロキサンから得られる光透過性無機材料の屈折率は１．４０〜１．５５程度である。また、前記金属アルコキシドから得られる光透過性無機材料の屈折率は１．６０〜２．４０程度である。   The refractive index of the light-transmitting inorganic material obtained from the polysilazane or the polysiloxane is about 1.40 to 1.55. The refractive index of the light-transmitting inorganic material obtained from the metal alkoxide is about 1.60 to 2.40.

光透過性無機材料４の厚さは、少なくとも金属薄膜３の開口部３ａ内で露出している接着層２の表面が光透過性無機材料４で覆われていればよく、特に限定されない。図１に示す例のように、光透過性無機材料４が金属薄膜３よりも薄くてもよい。あるいは、光透過性無機材料４の厚さと金属薄膜３の厚さが等しくて両者の表面が面一になっていてもよく、又は光透過性無機材料４の方が金属薄膜３よりも厚くて金属薄膜３全体が光透過性無機材料４で覆われている状態であってもよい。
光透過性無機材料４の厚さが厚いほど、耐熱性は向上し、可撓性は低下する傾向がある。また光透過性無機材料４の塗布液の性状にもよるが、生産性の点では一回の塗布で形成できる膜厚とすることが好ましい。これらのことを考慮すると、光透過性無機材料４の好ましい厚さは１〜２０μｍ程度であり、５〜１２μｍ程度がより好ましい。
本発明では、金属薄膜３の開口部３ａ内だけに光透過性無機材料４を充填し、光透過性無機材料４の厚さを５〜１２μｍとし、かつ光透過性無機材料４を金属薄膜３よりも薄くする。 The thickness of the light transmissive inorganic material 4 is not particularly limited as long as at least the surface of the adhesive layer 2 exposed in the opening 3 a of the metal thin film 3 is covered with the light transmissive inorganic material 4. As in the example shown in FIG. 1, the light transmissive inorganic material 4 may be thinner than the metal thin film 3. Alternatively, the thickness of the light-transmitting inorganic material 4 and the thickness of the metal thin film 3 may be equal, and the surfaces of both may be flush with each other, or the light-transmitting inorganic material 4 is thicker than the metal thin film 3. The metal thin film 3 may be entirely covered with the light transmissive inorganic material 4.
As the light-transmitting inorganic material 4 is thicker, heat resistance is improved and flexibility tends to be lowered. Further, although depending on the properties of the coating liquid of the light-transmitting inorganic material 4, it is preferable to have a film thickness that can be formed by a single coating in terms of productivity. Considering these, the preferable thickness of the light-transmitting inorganic material 4 is about 1 to 20 μm, and more preferably about 5 to 12 μm.
In the present invention, the light-transmitting inorganic material 4 is filled only in the opening 3a of the metal thin film 3, the thickness of the light-transmitting inorganic material 4 is 5 to 12 μm, and the light-transmitting inorganic material 4 is used as the metal thin film 3. Make it thinner.

［機能層］
基材１、接着層２、金属薄膜３、および光透過性無機材料４の他に、必要に応じて各種の機能を付与するための機能層５を任意に設けてもよい。
例えば、基材１上に、接着層２、金属薄膜３および光透過性無機材料４が設けられた状態で、光透過性無機材料４が設けられている側の表面が平坦でなければ、光透過性の材料からなる平坦化層（機能層５）を設けることが好ましい。
光透過性無機材料４が設けられている側の表面上に、さらに他のフィルムやシートを積層する場合は光透過性材料からなる接着層（機能層５）を設けることが好ましい。
あるいは、赤外吸収機能を有する層、紫外線吸収機能を有する層、反射防止機能を有する層、特定波長の光を選択的に吸収して色調を補正する機能を有する層、防汚機能を有する層、耐擦傷機能を有する層など、ディスプレイ用フィルムを構成する層として知られている各種の機能を有する層（機能層５）を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜設けることができる。機能層５は一層でもよく複数層が積層されていてもよい。また一層で複数の機能を兼ね備えた層を含んでもよい。
また図示していないが、基材１の裏面上（接着層２と反対側）に、上記の機能層を設けてもよく、基材１の表裏両側に機能層を設けてもよい。 [Functional layer]
In addition to the base material 1, the adhesive layer 2, the metal thin film 3, and the light transmissive inorganic material 4, a functional layer 5 for imparting various functions may be optionally provided as necessary.
For example, in the state where the adhesive layer 2, the metal thin film 3, and the light transmissive inorganic material 4 are provided on the base material 1, the surface on which the light transmissive inorganic material 4 is provided is not flat. It is preferable to provide a planarization layer (functional layer 5) made of a transparent material.
When another film or sheet is further laminated on the surface on which the light transmissive inorganic material 4 is provided, an adhesive layer (functional layer 5) made of the light transmissive material is preferably provided.
Alternatively, a layer having an infrared absorption function, a layer having an ultraviolet absorption function, a layer having an antireflection function, a layer having a function of selectively absorbing light of a specific wavelength and correcting a color tone, and a layer having an antifouling function A layer having various functions (functional layer 5) known as a layer constituting a display film, such as a layer having a scratch resistance function, can be appropriately provided as long as the effects of the present invention are not impaired. The functional layer 5 may be a single layer or a plurality of layers may be laminated. Further, a single layer having a plurality of functions may be included.
Moreover, although not shown in figure, said functional layer may be provided on the back surface (the side opposite to the contact bonding layer 2) of the base material 1, and a functional layer may be provided in the front and back both sides of the base material 1. FIG.

＜製造方法＞
本実施形態の電磁波遮蔽材は、好ましくは以下の方法で製造される。
まず、基材１上に接着層２を介して金属薄膜３を積層する。
次いで、フォトリソグラフ法を用い、金属薄膜３にエッチング処理を施してその一部を除去することにより開口部３ａを形成してメッシュ状に加工する。こうして基材１、接着層２、および開口部３ａを有する金属薄膜３を備えた第１の積層体を得る。 <Manufacturing method>
The electromagnetic wave shielding material of the present embodiment is preferably produced by the following method.
First, the metal thin film 3 is laminated on the base material 1 via the adhesive layer 2.
Next, by using a photolithographic method, the metal thin film 3 is subjected to an etching process and a part thereof is removed, thereby forming an opening 3a to be processed into a mesh shape. In this way, the 1st laminated body provided with the base material 1, the contact bonding layer 2, and the metal thin film 3 which has the opening part 3a is obtained.

次に、前記第１の積層体の金属薄膜３の開口部３ａ内に光透過性無機材料４を充填する。
好ましくは光透過性無機材料４を有機溶剤に溶解または分散させた塗布液を、第１の積層体の金属薄膜３側の表面全面に塗布した後、加熱乾燥して光透過性無機材料４からなる塗膜を形成することが好ましい。該塗膜の膜厚は、塗布液の固形分濃度および塗布量によって制御可能である。
塗布方法は、特に制限はなく、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。
こうして第１の積層体における金属薄膜３の開口部３ａ内に光透過性無機材料４が充填された第２の積層体を得る。
この後、第２の積層体の光透過性無機材料４を設けた側の表面上に、必要に応じて機能層５を設けることにより、電磁波遮蔽材が得られる。 Next, a light transmissive inorganic material 4 is filled into the opening 3a of the metal thin film 3 of the first laminate.
Preferably, a coating solution in which the light transmissive inorganic material 4 is dissolved or dispersed in an organic solvent is applied to the entire surface of the first laminate on the metal thin film 3 side, and then heated and dried to form the light transmissive inorganic material 4. It is preferable to form a coating film. The film thickness of the coating film can be controlled by the solid content concentration and the coating amount of the coating solution.
The coating method is not particularly limited, and a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or the like can be used.
In this way, the 2nd laminated body with which the transparent organic material 4 was filled in the opening part 3a of the metal thin film 3 in a 1st laminated body is obtained.
Then, an electromagnetic wave shielding material is obtained by providing the functional layer 5 as necessary on the surface of the second laminate on the side where the light transmissive inorganic material 4 is provided.

前記第２の積層体における、金属薄膜３側を視認側として測定したヘイズ（測定方法はＪＩＳ−Ｋ７１０５１２に準じる、以下同様。）の値は、良好な視認性を得るうえで０．５〜１０％であることが好ましく、０．５〜３％がより好ましい。
また第２の積層体における全光線透過率（測定方法はＪＩＳ−Ｋ７１０５１２に準じる、以下同様）の値は、良好な視認性を得るうえで５０〜９０％であることが好ましく、７０〜９０％がより好ましい。 In the second laminate, the haze value (measurement method conforms to JIS-K710512, the same applies hereinafter) measured with the metal thin film 3 side as the viewing side is 0.5 to 10 for obtaining good visibility. % Is preferable, and 0.5 to 3% is more preferable.
Further, the value of the total light transmittance (measurement method conforms to JIS-K710512, the same applies hereinafter) in the second laminate is preferably 50 to 90%, and preferably 70 to 90% for obtaining good visibility. Is more preferable.

＜ディスプレイ用フィルム＞
本実施形態の電磁波遮蔽材は、該電磁波遮蔽材単独で、またはその他の必要に応じた部材が付加されて、ディスプレイ用フィルムを構成することができる。ディスプレイ用フィルムは、例えばプラズマディスプレイなどの画面上に接着一体化して使用される。
ディスプレイ用フィルムとして用いられる場合、画面側の最外層は接着機能を有する層であることが好ましい。電磁波遮蔽材の光透過性無機材料４が設けられている側を表面とすると、表面が画面側で裏面が視認側でもよく、その反対に表面が視認側で裏面が画面側であってもよい。特に、光透過性無機材料４の耐熱性が優れているので、表面が画面側で裏面が視認側に配された場合に、より耐熱性向上効果が発揮されるので好ましい。 <Display film>
The electromagnetic wave shielding material of the present embodiment can constitute a display film by using the electromagnetic wave shielding material alone or by adding other necessary members. The display film is used by being bonded and integrated on a screen such as a plasma display.
When used as a display film, the outermost layer on the screen side is preferably a layer having an adhesive function. When the side where the light-transmitting inorganic material 4 of the electromagnetic wave shielding material is provided is the front surface, the front surface may be the screen side and the back surface may be the viewing side, and conversely, the front surface may be the viewing side and the back surface may be the screen side. . In particular, since the heat-resistant inorganic material 4 has excellent heat resistance, it is preferable because the effect of improving heat resistance is exhibited more when the front surface is on the screen side and the back surface is on the viewing side.

本実施形態によれば、金属薄膜３の開口部３ａに光透過性無機材料を充填することにより、該開口部３ａ内に露出されている接着層２の表面が粗面である場合にも、該開口部３ａ内を透過する光の散乱を抑えることができる。また、低粘度の塗布液を用いて開口部３ａに光透過性無機材料を充填することができるので、開口部３ａ内に空孔が生じるのを防止することができる。したがってヘイズが低くて視認性に優れた電磁波遮蔽材が得られる。
また、開口部３ａ内に充填する材料が無機材料であるので、耐熱性に優れており、熱によって電磁波遮蔽材に反り等の変形が生じるのが抑えられる。 According to this embodiment, even when the surface of the adhesive layer 2 exposed in the opening 3a is rough by filling the opening 3a of the metal thin film 3 with a light-transmitting inorganic material, Scattering of light transmitted through the opening 3a can be suppressed. Moreover, since the light-transmitting inorganic material can be filled into the opening 3a using a low-viscosity coating liquid, it is possible to prevent the formation of holes in the opening 3a. Therefore, an electromagnetic wave shielding material having a low haze and excellent visibility can be obtained.
Moreover, since the material with which the opening 3a is filled is an inorganic material, it has excellent heat resistance, and it is possible to suppress deformation such as warpage of the electromagnetic wave shielding material due to heat.

以下、本発明の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムからなる基材１の一面上にエポキシ系接着剤（ニッカン工業社製、製品名；ニカフレックスＳＡＦ、屈折率１．５８）からなる接着層２を介して、酸化処理による黒化処理が施された厚さ１０μｍの銅箔３を積層一体化した。銅箔３に対してホトリソグラフ法にて開口部３ａを形成して第１の積層体を得た。開口部３ａの平面形状は一辺が５００μｍの正方形とした。また開口部３ａ周囲の枠部のライン幅は２５μｍとした。この第１の積層体について、銅箔３側を視認側として測定したヘイズの値は４８．９％、全光線透過率の値は８３．６％であった。
次いで、第１の積層体の銅箔３上に、ポリシラザンを有機溶剤に溶解させた塗布液（クラリアントジャパン社製、製品名；ＮＬ−１１０Ａ、固形分濃度２０質量％、粘度２．０ｃｐ）をバーコート法により塗布した後、１２０℃のオーブンで５分間加熱処理して厚み９μｍの塗膜（光透過性無機材料４）を形成することにより電磁波遮蔽材を得た。塗膜（光透過性無機材料４）の屈折率は１．４０であった。
なお、本明細書において、粘度の測定方法はＪＩＳ−Ｋ５４００に準じた回転粘度計による方法とする（以下、同様）。 Examples of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited thereto.
Example 1
Oxidation treatment is performed on one surface of a substrate 1 made of a PET film having a thickness of 100 μm via an adhesive layer 2 made of an epoxy adhesive (manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd., product name; Nikaflex SAF, refractive index 1.58). A copper foil 3 having a thickness of 10 μm subjected to blackening treatment was laminated and integrated. An opening 3a was formed on the copper foil 3 by a photolithographic method to obtain a first laminate. The planar shape of the opening 3a was a square having a side of 500 μm. The line width of the frame around the opening 3a was 25 μm. About this 1st laminated body, the haze value measured by making the copper foil 3 side into the visual recognition side was 48.9%, and the value of the total light transmittance was 83.6%.
Next, on the copper foil 3 of the first laminate, a coating liquid (manufactured by Clariant Japan, product name: NL-110A, solid content concentration 20 mass%, viscosity 2.0 cp) in which polysilazane is dissolved in an organic solvent. After coating by the bar coating method, an electromagnetic wave shielding material was obtained by heat-treating in an oven at 120 ° C. for 5 minutes to form a 9 μm-thick coating film (light-transmitting inorganic material 4). The refractive index of the coating film (light-transmitting inorganic material 4) was 1.40.
In this specification, the viscosity is measured by a rotational viscometer according to JIS-K5400 (hereinafter the same).

得られた電磁波遮蔽材についての、銅箔３側を視認側として測定したヘイズの値は２．４％、全光線透過率の値は８２．２％であった。
得られた電磁波遮蔽材から１０ｃｍ×１０ｃｍの試験片を切り出し、該試験片に対してオーブンにて１３０℃、４時間の条件で加熱試験を行った。加熱による反りの程度を表す指標として、加熱試験後の試験片を平らな台の上に置いた状態で、台の上面から試験片の端縁までの高さを測定したところ、０．１ｃｍであった。
また、開口部３ａ内を走査型電子線顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察したところ、空孔の発生は見られなかった。 The obtained electromagnetic shielding material had a haze value of 2.4% and a total light transmittance value of 82.2% as measured on the copper foil 3 side as the viewer side.
A 10 cm × 10 cm test piece was cut out from the obtained electromagnetic shielding material, and a heating test was performed on the test piece in an oven at 130 ° C. for 4 hours. As an index representing the degree of warping due to heating, the height from the upper surface of the table to the edge of the test sample was measured with the test piece after the heating test placed on a flat table. there were.
Moreover, when the inside of the opening part 3a was observed with the scanning electron beam microscope (SEM), generation | occurrence | production of the void | hole was not seen.

（実施例２）
実施例１において、塗膜（光透過性無機材料４）を形成するための塗布液を、下記組成の塗布液に変更した他は同様にして電磁波遮蔽材を製造した。
すなわち、実施例１と同様の第１の積層体の銅箔３上に、下記組成の塗布液（固形分濃度５２質量％、粘度１．８ｃｐ）をバーコート法により塗布した後、１２０℃のオーブンで５分間加熱処理して厚み９μｍの塗膜（光透過性無機材料４）を形成することにより電磁波遮蔽材を得た。塗膜（光透過性無機材料４）の屈折率は１．４２であった。
テトラエトキシシラン（関東化学社製） ３．１２質量部
１．０Ｎ 塩酸 （和光純薬社製） ２．０ 質量部
イソプロピルアルコール ０．８８質量部 (Example 2)
An electromagnetic wave shielding material was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for forming the coating film (light-transmitting inorganic material 4) was changed to a coating solution having the following composition.
That is, after applying a coating solution (solid content concentration 52 mass%, viscosity 1.8 cp) having the following composition on the copper foil 3 of the first laminate similar to that of Example 1 at 120 ° C. An electromagnetic wave shielding material was obtained by heat-treating in an oven for 5 minutes to form a 9 μm-thick coating film (light-transmitting inorganic material 4). The refractive index of the coating film (light transmissive inorganic material 4) was 1.42.
Tetraethoxysilane (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) 3.12 parts by mass 1.0 N hydrochloric acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 2.0 parts by mass Isopropyl alcohol 0.88 parts by mass

得られた電磁波遮蔽材についての、銅箔３側を視認側として測定したヘイズの値は３．０％、全光線透過率の値は８１．６％であった。
実施例１と同様に加熱試験を行ったところ、反りの程度は０．２ｃｍであった。
また、実施例１と同様にして開口部３ａ内を観察したところ、空孔の発生は見られなかった。 The obtained electromagnetic shielding material had a haze value of 3.0% and a total light transmittance of 81.6% as measured on the copper foil 3 side as the viewer side.
When the heating test was conducted in the same manner as in Example 1, the degree of warpage was 0.2 cm.
Further, when the inside of the opening 3a was observed in the same manner as in Example 1, no generation of voids was observed.

（比較例１）
実施例１において、塗膜を形成するための塗布液を、下記組成のＵＶ硬化型アクリル塗料に変更した。
すなわち、実施例１と同様の第１の積層体の銅箔３上に、下記組成の塗布液（固形分濃度５０質量％、粘度３．２ｃｐ）をバーコート法により塗布した後、メタルハライドランプにより４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して厚み１０μｍの塗膜を形成することにより電磁波遮蔽材を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄化学社製） ５．０質量部
メチルエチルケトン ５．０ 質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ） ０．２５質量部 (Comparative Example 1)
In Example 1, the coating solution for forming the coating film was changed to a UV curable acrylic paint having the following composition.
That is, after applying a coating liquid (solid content concentration 50 mass%, viscosity 3.2 cp) having the following composition on the copper foil 3 of the first laminate similar to that of Example 1 by a bar coating method, An electromagnetic wave shielding material was obtained by irradiating an ultraviolet ray of 400 mJ / cm 2 to form a coating film having a thickness of 10 μm.
Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.) 5.0 parts by mass Methyl ethyl ketone 5.0 parts by mass Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) 0.25 parts by mass

得られた電磁波遮蔽材についての、銅箔３側を視認側として測定したヘイズの値は３．６％、全光線透過率の値は８４．４％であった。
実施例１と同様に加熱試験を行ったところ、反りの程度は３．０ｃｍであった。
また、実施例１と同様にして開口部３ａ内を観察したところ、空孔の発生が見られた。 The obtained electromagnetic shielding material had a haze value of 3.6% and a total light transmittance of 84.4% as measured on the copper foil 3 side as the viewer side.
When the heating test was conducted in the same manner as in Example 1, the degree of warpage was 3.0 cm.
Further, when the inside of the opening 3a was observed in the same manner as in Example 1, the generation of holes was observed.

（比較例２）
実施例１において、塗膜を形成するための塗布液を、下記組成のＵＶ硬化型アクリル塗料に変更した。
すなわち、実施例１と同様の第１の積層体の銅箔３上に、下記組成の塗布液（固形分濃度２０質量％、粘度２．０ｃｐ）をバーコート法により塗布した後、メタルハライドランプにより４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射したが、塗布液は硬化せず、塗膜は形成されなかった。これは塗布液の固形分濃度が低かったためと考えられる。
ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄化学社製） ２．０質量部
メチルエチルケトン ８．０ 質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ） ０．１質量部 (Comparative Example 2)
In Example 1, the coating solution for forming the coating film was changed to a UV curable acrylic paint having the following composition.
That is, after applying a coating solution (solid content concentration 20 mass%, viscosity 2.0 cp) having the following composition on the copper foil 3 of the first laminate similar to that of Example 1, using a metal halide lamp Although ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 were irradiated, the coating solution was not cured and a coating film was not formed. This is presumably because the solid content concentration of the coating solution was low.
Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.) 2.0 parts by mass Methyl ethyl ketone 8.0 parts by mass Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) 0.1 parts by mass

これらの結果より、実施例１および２においては、銅箔３上に塗膜（光透過性無機材料４）を形成する前に比べて、塗膜を形成した後のヘーズが大きく低減された。また、開口部３ａ内での空孔の発生は見られず、全光線透過率も良好であり、熱による反りも非常に小さかった。
これに対して、銅箔３上に塗布する塗布液として紫外線硬化性樹脂液を用いた比較例１では、開口部３ａ内に空孔が発生した。これは塗布液の粘度が高かったためと考えられる。塗膜形成後の全光線透過率は良好であったが、塗膜形成後のヘーズが実施例１，２に比べて高かった。また、熱による反りが大きかった。
比較例２は、比較例１における塗布液の固形分濃度を下げて、粘度を実施例１と同程度としたものであるが、塗布液が硬化しなかった。 From these results, in Examples 1 and 2, the haze after forming the coating film was greatly reduced as compared to before forming the coating film (light transmissive inorganic material 4) on the copper foil 3. Further, no generation of voids was observed in the opening 3a, the total light transmittance was good, and the warpage due to heat was very small.
On the other hand, in Comparative Example 1 using an ultraviolet curable resin liquid as a coating liquid applied on the copper foil 3, pores were generated in the opening 3a. This is presumably because the viscosity of the coating solution was high. Although the total light transmittance after the coating film formation was good, the haze after the coating film formation was higher than in Examples 1 and 2. Moreover, the warp by heat was large.
In Comparative Example 2, the solid content concentration of the coating liquid in Comparative Example 1 was lowered to make the viscosity about the same as in Example 1, but the coating liquid was not cured.

本発明の電磁波遮蔽材の一実施形態を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically one Embodiment of the electromagnetic wave shielding material of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１…基材、２…接着層、３…金属薄膜、３ａ…開口部、４…光透過性無機材料。

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material, 2 ... Adhesion layer, 3 ... Metal thin film, 3a ... Opening part, 4 ... Light transmissive inorganic material.

Claims (3)

厚さ１２〜３００μｍの透明な基材上に、透明な接着層を介して、メッシュ状の金属薄膜が積層されており、前記金属薄膜に形成されている開口部内だけにケイ素化合物からなる光透過性無機材料が充填されており、前記光透過性無機材料の屈折率と前記接着層の屈折率との差が０．３以下であり、前記光透過性無機材料の厚さが５〜１２μｍであり、かつ該光透過性無機材料が前記金属薄膜よりも薄いことを特徴とする電磁波遮蔽材。 A mesh-like metal thin film is laminated on a transparent substrate having a thickness of 12 to 300 μm via a transparent adhesive layer, and light transmission made of a silicon compound is made only in the opening formed in the metal thin film. The difference between the refractive index of the light transmissive inorganic material and the refractive index of the adhesive layer is 0.3 or less, and the thickness of the light transmissive inorganic material is 5 to 12 μm. An electromagnetic wave shielding material, wherein the light-transmitting inorganic material is thinner than the metal thin film. 請求項１に記載の電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルム。   A display film comprising the electromagnetic wave shielding material according to claim 1. 厚さ１２〜３００μｍの透明な基材上に、透明な接着層を介して金属薄膜を積層した後、該金属薄膜にエッチング処理を施して開口部を形成することにより前記金属薄膜をメッシュ状に加工する工程と、前記金属薄膜の開口部内だけに、ケイ素化合物からなる光透過性無機材料を、該光透過性無機材料が前記金属薄膜よりも薄くなるように充填する工程を有し、
前記光透過性無機材料の屈折率と前記接着層の屈折率との差が０．３以下であり、かつ前記光透過性無機材料の厚さが５〜１２μｍであることを特徴とする電磁波遮蔽材の製造方法。 After laminating a metal thin film on a transparent substrate having a thickness of 12 to 300 μm through a transparent adhesive layer, the metal thin film is etched to form an opening by forming an opening. A step of processing and filling a light-transmitting inorganic material made of a silicon compound only in the opening of the metal thin film so that the light-transmitting inorganic material is thinner than the metal thin film,
The electromagnetic wave shielding characterized in that a difference between a refractive index of the light transmissive inorganic material and a refractive index of the adhesive layer is 0.3 or less, and a thickness of the light transmissive inorganic material is 5 to 12 μm. A method of manufacturing the material.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001183988A (en) * 1999-12-24 2001-07-06 Arisawa Mfg Co Ltd Front plate for plasma display and its manufacturing method
JP2002317280A (en) * 2001-04-18 2002-10-31 Toyo Metallizing Co Ltd Metallized plastic film
JP3388682B2 (en) * 1996-05-23 2003-03-24 日立化成工業株式会社 Method for producing display film having electromagnetic wave shielding and transparency

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1124296A (en) * 1997-07-02 1999-01-29 Dainippon Ink & Chem Inc Electrophotographic photoreceptor
JPH1187987A (en) * 1997-09-05 1999-03-30 Gunze Ltd Transparent member for electromagnetic shield and its manufacture
JP3502979B2 (en) * 1997-12-24 2004-03-02 グンゼ株式会社 Transparent member for electromagnetic wave shielding and method of manufacturing the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3388682B2 (en) * 1996-05-23 2003-03-24 日立化成工業株式会社 Method for producing display film having electromagnetic wave shielding and transparency
JP2001183988A (en) * 1999-12-24 2001-07-06 Arisawa Mfg Co Ltd Front plate for plasma display and its manufacturing method
JP2002317280A (en) * 2001-04-18 2002-10-31 Toyo Metallizing Co Ltd Metallized plastic film

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