JP4729371B2 - マスクブランク収納ケースの製造方法及びマスクブランクの収納方法 - Google Patents
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
すなわち、従来のマスクブランクを収納保管する容器は、キャリアなどと呼ばれている内ケースにマスクブランクを数枚乃至数十枚並べて保持させ、このマスクブランクを保持した内ケースを外箱(ケース本体)内に収容し、さらに外箱上に蓋を被せて、マスクブランクを収納する構造となっていた。そして、外箱と蓋との接合部上には粘着テープを貼付することにより、ケースを密封するとともに、外気や異物等の進入を防ぐようにしていた。このような容器の材質として従来は樹脂製のものが殆どである。
従って、本発明は、上記従来の問題点を解消し、清浄な雰囲気で保管される必要があるレジスト膜を形成したマスクブランクに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランク収納ケースを提供することを目的とする。
本発明は、得られた知見に基づいて完成するに至ったものである。
(構成1)基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクを収納するためのマスクブランク収納ケースであって、前記マスクブランク収納ケースの温水抽出により抽出された溶液をイオンクロマトグラフィ法によりアニオン測定条件にて測定したときに検出される、リテンション時間2.8分〜15分におけるピーク数が13未満であることを特徴とするマスクブランク収納ケースである。
(構成2)前記マスクブランク収納ケースの温水抽出により抽出された溶液をイオンクロマトグラフィ法によりアニオン測定条件にて測定したときに検出される、リテンション時間2.8分〜15分におけるピーク面積の、硫酸イオン標準溶液のピーク面積に対する比が15未満であることを特徴とする構成1に記載のマスクブランク収納ケースである。
(構成3)前記マスクブランク収納ケースは、アクリル系樹脂を主体とする材料で形成されていることを特徴とする構成1又は2に記載のマスクブランク収納ケースである。
(構成4)構成1乃至3の何れか一に記載のマスクブランク収納ケースに少なくとも一枚のマスクブランクを収納することを特徴とするマスクブランクの収納方法である。
(構成5)前記マスクブランクは、レジスト膜を有するマスクブランクであることを特徴とする構成4に記載のマスクブランクの収納方法である。
(構成7)構成1乃至3の何れか一に記載のマスクブランク収納ケースと、該収納ケースの内部に収納された少なくとも一枚のマスクブランクとからなることを特徴とするマスクブランク収納体である。
(構成8)前記マスクブランクは、レジスト膜を有するマスクブランクであることを特徴とする構成7に記載のマスクブランク収納体である。
(構成9)前記レジストは、化学増幅型ポジ型レジストであることを特徴とする構成8に記載のマスクブランク収納体である。
装置:ダイオネクス(Dionex)社製DX-500
試料注入量:0.5cm3
溶離液:2.7mM-Na2CO3/0.3mM-NaHCO3
分離カラム:4mmφ Ion Pac AS12A
検出器:電気伝導度計
本発明において、上記硫酸イオン標準溶液は、濃度30ppbの硫酸イオン(SO4 2−)標準溶液を使用する。
本発明におけるマスクブランク収納ケースの材料は、上述のイオンクロマトグラフィ法により分析したときに検出される特定の特性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、軽量且つ取扱いの容易な樹脂材料を好ましく挙げることが出来る。このような樹脂材料としては、例えばポリプロピレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリブチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等を挙げることができる。これらの中でも、アクリル系樹脂、とりわけポリメチルメタクリレート(PMMA)系樹脂は比較的アウトガスの少ない材料であるので、成型されたケースにおいて本発明による特定の特性を有する場合、収納保管されるマスクブランクに形成されたレジスト膜の性能を良好に維持することができる。なお、ABS系樹脂(アクリロニトリルとブタジエンとスチレンの共重合樹脂)で成型された収納ケースの場合、マスクブランクに形成されたポジ型レジスト膜に対しては減膜を引き起こさないが、ある種のネガ型レジスト膜に対しては減膜を引き起こす場合がある。
本例の収納ケースは、主表面が正方形のガラス基板の一主表面上に例えばクロム膜等の遮光性薄膜を成膜し、その上に前述の化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランク1を中ケース2に収納し、この中ケース2を本体3に収納し、この本体3の開口部側に蓋4を被せる構造である(図4)。
なお、上記中ケース2を使用せずに、マスクブランク1を本体3に直接溝等を設けて収納する形態とすることもできる。但し、本例のように中ケース2を使用すると、数枚乃至数十枚のマスクブランクをまとめて中ケース2に入れた状態で取り扱えるので便利である。
上記蓋4は、その一方の対向する下方縁(容器本体へ差し込む開口部側の縁であって、図1では上方へ向いている)47から延びた係合片41,42に凹部43,44を形成している。これにより、蓋4を本体3に被せたときに、上記凹部43,44が前記本体3の凸部33,34とそれぞれ係合することで、蓋4と本体3とが固定される(図4)。また、中ケース2の開口部側上端面25と当接して中ケース2を垂直方向において支持固定するストッパー45,46を一方の内側面に互いに対向させて形成している(図1)。
本体3の上から蓋4を被せて、蓋4の凹部43,44を本体3の凸部33,34と係合させて蓋4と本体3とを固定すると、蓋4の下方縁に続く外周面48と本体3の開口縁に続く外周面36とが前後に重なり合って接合される。
なお、本発明が適用されるマスクブランクは特に制約はなく、ガラス基板などの透光性基板上にCr等の遮光性膜を形成したマスクブランク、基板上に位相シフト膜を形成した位相シフト型マスク用のマスクブランク、基板上に、露光光を反射する例えばMo/Si多層反射膜と露光光を吸収する例えばTa系吸収体膜を形成した反射型マスク用のマスクブランク等が含まれる。
(実施例1)
前述の図1乃至図4に示す形態の収納ケースを作製した。本実施例では、この収納ケースの蓋と本体及び中ケースの材質はPMMA系樹脂とし、PMMA系樹脂を用いて上記形態に成形した後、この収納ケースを水温40℃の超純水で洗浄した。この洗浄を終えた収納ケースをクリーンオーブン内で加熱処理した。加熱処理条件は50℃3時間とした。なお、上記洗浄工程及び加熱処理工程は、炭酸カリウムを含有させた活性炭フィルター及びリン酸を含有させた活性炭フィルター並びにエアーフィルターを併用して清浄化されたクリーンルーム内で実施した。このようにして得た収納ケースを実施例1の収納ケースとする。
すなわち、実施例1の収納ケースの蓋の内側に100mlの超純水を入れ、これを抽出分析用の袋に入れて密栓した後、60℃で4時間抽出を行なった。この方法によって抽出した試料溶液について、以下のアニオン測定条件にてイオンクロマトグラフィ法による測定を行なった。
(アニオン測定条件)
装置:ダイオネクス(Dionex)社製DX-500
試料注入量:0.5cm3
溶離液:2.7mM-Na2CO3/0.3mM-NaHCO3
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検出器:電気伝導度計
このようにして製造した10枚のレジスト膜付きマスクブランクを上述の実施例1の収納ケース(前述の洗浄及び加熱処理を行ったもの)に収納した。尚、マスクブランクの収納作業についても上記活性炭フィルター及びエアーフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行った。
この実施例では、減膜量が10nm以下であり、特に問題となる減膜作用は生じていないことが分かる。また、マスクブランク表面の減膜量の分布も均一であるので、実用上の問題は生じない。本実施例1の収納ケースの場合、レジスト膜付きマスクブランクの収納保管中に、前記ポジ型の化学増幅型レジスト膜を汚染するような化学物質が収納ケースからは殆ど放出されていないことがわかった。
実施例1とは別のPMMA系樹脂を用いたこと以外は同様に成形した後、この収納ケースを実施例1と同様に洗浄及び加熱処理を行った。このようにして得た収納ケースを実施例2の収納ケースとする。
実施例2の収納ケースについて、実施例1とまったく同様にしてイオンクロマトグラフィ法による分析を行なった。
得られたイオンクロマトグラムを図6に示す。この図6に示すイオンクロマトグラムにおいて、ピーク面積300(a.u.)以上のピークを検出ピークとした。その結果、本実施例2の収納ケースは、リテンション時間2.8分〜15分における検出ピーク数が9であった。また、リテンション時間2.8分〜15分における検出ピークの総ピーク面積は514766(a.u.)であり、濃度30ppbの硫酸イオン(SO4 2−)標準溶液のピーク面積(36769(a.u.))に対する比が14であった。
保管後、取り出したマスクブランクに実施例1と同様に現像を行ない、現像前のレジスト膜厚に対する現像後のレジスト膜厚の減膜量を測定した。その結果を実施例1の結果とあわせて図9に示した。図9において、△印で示した結果が実施例2の結果である。
この実施例では、減膜量が10nm以下であり、特に問題となる減膜作用は生じていないことが分かる。また、マスクブランク表面の減膜量の分布も均一であるので、実用上の問題は生じない。本実施例2の収納ケースの場合、保管中に前記ポジ型の化学増幅型レジスト膜を汚染するような化学物質が収納ケースからは殆ど放出されていないことがわかった。
さらに、実施例1と同じネガ型レジスト膜を形成したマスクブランクについても同様のテストを行なったところ、上記のポジ型レジスト同様に、特に問題となる減膜は生じなかった。本実施例2の収納ケースは、ネガ型レジスト膜の場合についても保管中にこれを汚染するような化学物質が収納ケースからは殆ど放出されていないことがわかった。
アクリロニトリルとブタジエンとスチレンの共重合樹脂であるABS系樹脂を用いたこと以外は実施例1と同様に成形した後、この収納ケースを実施例1と同様に洗浄及び加熱処理を行った。但し、加熱処理時間は30分とした。このようにして得た収納ケースを実施例3の収納ケースとする。
実施例3の収納ケースについて、実施例1とまったく同様にしてイオンクロマトグラフィ法による分析を行なった。
得られたイオンクロマトグラムを図7に示す。この図7に示すイオンクロマトグラムにおいて、ピーク面積300(a.u.)以上のピークを検出ピークとした。その結果、本実施例3の収納ケースは、リテンション時間2.8分〜15分における検出ピーク数が8であった。また、リテンション時間2.8分〜15分における検出ピークの総ピーク面積は46550(a.u.)であり、濃度30ppbの硫酸イオン(SO4 2−)標準溶液のピーク面積(36769(a.u.))に対する比が1.2であった。
保管後、取り出したマスクブランクに実施例1と同様に現像を行ない、現像前のレジスト膜厚に対する現像後のレジスト膜厚の減膜量を測定したところ、実施例1と同様の結果が得られた。すなわち、本実施例3の収納ケースの場合、保管中に前記ポジ型の化学増幅型レジスト膜を汚染するような化学物質が収納ケースからは殆ど放出されていないことがわかった。
さらに、実施例1と同じネガ型レジスト膜を形成したマスクブランクについても同様のテストを行なったところ、実施例1と同様の結果が得られた。
実施例1とは別のPMMA系樹脂を用いたこと以外は同様に成形した後、この収納ケースを実施例1と同様に洗浄及び加熱処理を行った。但し、加熱処理時間は30分とした。このようにして得た収納ケースを比較例の収納ケースとする。
本比較例の収納ケースについて、実施例1とまったく同様にしてイオンクロマトグラフィ法による分析を行なった。
得られたイオンクロマトグラムを図8に示す。この図8に示すイオンクロマトグラムにおいて、ピーク面積300(a.u.)以上のピークを検出ピークとした。その結果、本比較例の収納ケースは、リテンション時間2.8分〜15分における検出ピーク数が13であった。また、リテンション時間2.8分〜15分における検出ピークの総ピーク面積は551004(a.u.)であり、濃度30ppbの硫酸イオン(SO4 2−)標準溶液のピーク面積(36769(a.u.))に対する比が15であった。
保管後、取り出したマスクブランクに実施例1と同様に現像を行ない、現像前のレジスト膜厚に対する現像後のレジスト膜厚の減膜量を測定した。その結果を前述の実施例1,2の結果とあわせて、図9に示した。図9において、○印で示した結果が本比較例1の結果である。
この比較例では、特にケースに近接する側では減膜量が最大で33nmもあり、実施例1,2に比べて3倍以上の減膜が生じた。また、マスクブランク表面の減膜量の分布も不均一であるので、転写マスクを作製する工程で均一なパターニングを行うことができなかった。つまり、本比較例の収納ケースの場合、保管中に前記ポジ型の化学増幅型レジスト膜を汚染するような化学物質が収納ケースから放出されていることがわかった。
さらに、実施例1と同じネガ型レジスト膜を形成したマスクブランクについても同様のテストを行なったところ、上記のポジ型レジストを用いた場合と同様、大きな減膜が生じるとともに、ケースに近接する側とマスクブランク中心部とで、レジスト膜厚の差異が大きかった。このため、転写マスクを作製する場合に、均一なパターニングを行うことができなかった。つまり、本比較例の収納ケースは、ネガ型レジスト膜の場合についても保管中にこれを汚染するような化学物質が収納ケースから放出されていることがわかった。
2 中ケース
3 本体
4 蓋
Claims (5)
- 基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクを収納するためのマスクブランク収納ケースの製造方法であって、
前記マスクブランクは、レジスト膜を有するマスクブランクであり、
成形後のマスクブランク収納ケースの温水抽出により抽出された溶液をイオンクロマトグラフィ法によりアニオン測定条件にて測定したときに検出される、リテンション時間2.8分〜15分におけるピーク数が13未満である収納ケース材料を選択し、この選択した材料を用いて成形することを特徴とするマスクブランク収納ケースの製造方法。 - 前記マスクブランク収納ケースの温水抽出により抽出された溶液をイオンクロマトグラフィ法によりアニオン測定条件にて測定したときに検出される、リテンション時間2.8分〜15分におけるピーク面積の、硫酸イオン標準溶液のピーク面積に対する比が15未満であることを特徴とする請求項1に記載のマスクブランク収納ケースの製造方法。
- 前記マスクブランク収納ケースは、アクリル系樹脂を主体とする材料で形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のマスクブランク収納ケースの製造方法。
- 請求項1乃至3の何れか一に記載のマスクブランク収納ケースの製造方法により得られるマスクブランク収納ケースに少なくとも一枚のレジスト膜を有するマスクブランクを収納することを特徴とするマスクブランクの収納方法。
- 前記レジストは、化学増幅型ポジ型レジストであることを特徴とする請求項4に記載のマスクブランクの収納方法。
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JPH11349088A (ja) * | 1998-06-02 | 1999-12-21 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 精密部材用収納容器 |
JP2000063505A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-02-29 | Teijin Chem Ltd | 薄板収納搬送容器用ポリカーボネート樹脂 |
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