JP4709192B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
1、2 プラズマ処理装置
10 処理容器
11 サセプタ
15 排気装置
20 天井部誘電体
23 ラジアルラインスロットアンテナ
24,25 スロット列
26 スロット
30 カバー
31 導波箱
32 導波箱内誘電体
35 アンテナ下部誘電体
40 同軸導波管
45 マイクロ波供給装置
55 プラズマ生成ガス供給源
57 処理ガス供給源
60 天井部誘電体
61 導波箱内誘電体
62 第1の誘電体部
63 第2の誘電体部
Claims (2)
- 処理容器内に基板が収納され、前記処理容器内に導入されるマイクロ波により処理ガスがプラズマ化されて基板が処理されるプラズマ処理装置であって、
前記処理容器内にマイクロ波を導入するアンテナ部材に、同心円状に配置されるスロット列が複数列設けられ、
前記アンテナ部材の上部に形成されるマイクロ波の導波箱の内部に、導波箱内誘電体が配置され、
前記アンテナ部材の下部に、前記処理容器の天井を覆って配置された天井部誘電体と、前記天井部誘電体と前記アンテナ部材の下面との間に配置されたアンテナ下部誘電体が設けられ、
前記スロット列の上部を覆う位置に、前記導波箱内誘電体が配置され、
前記スロット列の下部を覆う位置に、前記アンテナ下部誘電体が配置され、
前記導波箱内誘電体の誘電率および前記アンテナ下部誘電体の誘電率が、前記天井部誘電体の誘電率よりも大きく、
前記導波箱内誘電体の誘電率と前記アンテナ下部誘電体の誘電率が等しく、
前記天井部誘電体の外径は、前記アンテナ部材の外径よりも大きく、
前記導波箱内誘電体の外径と前記アンテナ下部誘電体の外径は、前記アンテナ部材の外径よりも小さく、
前記天井部誘電体が石英であり、前記導波箱内誘電体と前記アンテナ下部誘電体がアルミナであることを特徴とする、プラズマ処理装置。 - 前記処理容器内に導入されるマイクロ波の周波数が915MHz±50MHzであることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
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