JP4705606B2 - X-ray condenser lens - Google Patents
X-ray condenser lens Download PDFInfo
- Publication number
- JP4705606B2 JP4705606B2 JP2007125439A JP2007125439A JP4705606B2 JP 4705606 B2 JP4705606 B2 JP 4705606B2 JP 2007125439 A JP2007125439 A JP 2007125439A JP 2007125439 A JP2007125439 A JP 2007125439A JP 4705606 B2 JP4705606 B2 JP 4705606B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- zone plate
- layer
- rays
- fresnel zone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
本発明は、Ｘ線マイクロビーム形成による材料評価に関する技術に係り、特にＸ線を集光するＸ線集光レンズに関するものである。 The present invention relates to a technique related to material evaluation by X-ray microbeam formation, and more particularly to an X-ray condenser lens that collects X-rays.
近年、ナノテクノロジー開発の進展に伴い、ナノメートルレベルでの材料の構造評価が求められている。ナノメートルレベルの評価手法としては走査型顕微鏡や電子顕微鏡等があるが、いずれも高真空条件や試料の薄片化などが必要であり、観察したい試料をそのまま測定することは困難であった。これに対し、近年Ｘ線の集光化技術の進展に伴い、マイクロメーターレベルのＸ線ビームが得られるようになってきており、このようなＸ線ビームを利用したＸ線回折や蛍光Ｘ線分析などの材料評価がようやく可能となってきた。 In recent years, with the progress of nanotechnology development, structural evaluation of materials at the nanometer level is required. There are scanning microscopes, electron microscopes and the like as nanometer level evaluation methods, but all of them require high vacuum conditions and thinning of the sample, and it is difficult to measure the sample to be observed as it is. On the other hand, with the progress of X-ray focusing technology in recent years, micrometer level X-ray beams have been obtained, and X-ray diffraction and fluorescent X-rays using such X-ray beams have been obtained. Material evaluation such as analysis has finally become possible.
Ｘ線ビームの集光には大きく分けて、（Ａ）Ｘ線ミラー等のＸ線用光学素子を利用する手法（非特許文献１参照）、（Ｂ）結晶の非対称ブラッグ（Bragg ）反射を利用する手法（非特許文献２参照）、（Ｃ）Ｘ線フレネルゾーンプレートを利用する手法（非特許文献３参照）、（Ｄ）透過積層型ゾーンプレートを利用する手法（非特許文献４参照）、（Ｅ）Ｘ線導波路を利用する手法（非特許文献５参照）がある。表１に各集光法の現状および問題点を示す。 X-ray beam condensing can be broadly divided into (A) a method using an X-ray optical element such as an X-ray mirror (see Non-Patent Document 1), and (B) asymmetric Bragg reflection of a crystal. (C) a method using an X-ray Fresnel zone plate (see Non-Patent Document 3), (D) a method using a transmissive laminated zone plate (see Non-Patent Document 4), (E) There is a method using an X-ray waveguide (see Non-Patent Document 5). Table 1 shows the current status and problems of each condensing method.
このうち（Ａ）のＸ線ミラー等のＸ線用光学素子を利用する手法および（Ｂ）の結晶の非対称ブラッグ反射を利用する手法については現状でほぼ技術的限界に来ており、これ以上の集光化は困難である。 Of these, the method of using the optical element for X-rays such as the X-ray mirror of (A) and the method of using the asymmetric Bragg reflection of the crystal of (B) are almost at the technical limit at present. Condensation is difficult.
これに対しＸ線のエネルギーが５ｋｅＶ以上である硬Ｘ線領域では、（Ｃ）のＸ線フレネルゾーンプレートを利用する手法でビームサイズが１００ナノメートル以下の集光ビームが得られている。フレネルゾーンプレートにＸ線ビームを照射すると、Ｘ線ビームの一部はゾーンプレートにより吸収されるため透過しないが、他のＸ線ビームはゾーンプレートをそのまま透過する。このとき、Ｘ線ビームの波長をλ、Ｘ線フレネルゾーンプレートの焦点距離をｆとして、Ｘ線ビームの中心からビームの進行方向に対して直交する方向に対して（２ｎλｆ）1/2（ｎ＝０，１，２，・・・）の位置と｛（２ｎ＋１）λｆ｝1/2の位置との間、または｛（２ｎ＋１）λｆ｝1/2の位置と｛（２ｎ＋２）λｆ｝1/2の位置との間にＸ線が透過しない材料からなる遮蔽ゾーンを設けると、透過したＸ線が相互に干渉することにより、Ｘ線ビームを集光することができる。 On the other hand, in the hard X-ray region where the X-ray energy is 5 keV or more, a condensed beam having a beam size of 100 nanometers or less is obtained by the method using the X-ray Fresnel zone plate of (C). When the Fresnel zone plate is irradiated with an X-ray beam, a part of the X-ray beam is absorbed by the zone plate and is not transmitted, but the other X-ray beams pass through the zone plate as they are. At this time, assuming that the wavelength of the X-ray beam is λ and the focal length of the X-ray Fresnel zone plate is f, (2nλf) 1/2 (n = 0), 1, 2,... And the position of {(2n + 1) λf} 1/2 , or the position of {(2n + 1) λf} 1/2 and {(2n + 2) λf} 1 / If a shielding zone made of a material that does not transmit X-rays is provided between the position 2 and the transmitted X-rays interfere with each other, the X-ray beam can be condensed.
この集光原理は可視光と同様であり、その詳細については例えば非特許文献６に述べられており、ゾーンプレート集光系の空間分解能はほぼ最外殻ゾーン幅と等しいことが知られている。したがって、Ｘ線フレネルゾーンプレートの場合、最大空間分解能はゾーンプレートを構成する遮蔽ゾーンのうち最も細いものの幅で規定される。このようなゾーンプレートを作製するためには、電子ビーム描画を初めとする半導体作製用のリソグラフィ技術が用いられる。半導体リソグラフィ技術自体は１０ナノメートルの直線状パターンの描画が可能であるが、Ｘ線フレネルゾーンプレートとして必要なリング状のパターンを作製する場合、４０ナノメートル程度の幅の描画が現状では限界であり、Ｘ線フレネルゾーンプレート自体の分解能も５０ナノメーター程度である。さらに、Ｘ線フレネルゾーンプレートを作製する際、リング状の非常に多くのパターンを精密に作製する必要があるため、Ｘ線フレネルゾーンプレート自体も非常に高価なものとなる。
This condensing principle is the same as that of visible light, and details thereof are described in Non-Patent
Ｘ線フレネルゾーンプレートではＸ線が透過できない遮蔽ゾーンを設けることによりＸ線を集光したのに対し、（Ｄ）の透過積層型ゾーンプレートを利用する手法の場合、Ｘ線が透過する重元素層とＸ線が透過する軽元素層とを積層した構造を用いる。非特許文献４には、Ｘ線ビームの中心からＺ方向に沿った距離が（２ｎλｆ1）1/2（ｎ＝０，１，２，・・・）の位置と｛（２ｎ＋１）λｆ1｝1/2の位置との間の第１の領域、この第１の領域を除く第２の領域のうちいずれかに配置された積層型フレネルゾーンプレート構造により、Ｘ線を線状に集光する可能性が提案されている。また、２つの積層型フレネルゾーンプレート構造を組み合わせることにより、点状に集光する方法が最近提案されている。 The X-ray Fresnel zone plate collects X-rays by providing a shielding zone through which X-rays cannot be transmitted, whereas in the case of the method using the transmissive laminated zone plate (D), a heavy element that transmits X-rays A structure in which a layer and a light element layer that transmits X-rays are stacked is used. In Non-Patent Document 4, the distance along the Z direction from the center of the X-ray beam is a position of (2nλf 1 ) 1/2 (n = 0, 1, 2,...) And {(2n + 1) λf 1 }. X-rays are linearly collected by the laminated Fresnel zone plate structure disposed in either the first region between the half positions or the second region excluding the first region. Possibilities have been proposed. In addition, a method of condensing dots in a spot shape by combining two stacked Fresnel zone plate structures has been recently proposed.
一方、（Ｅ）のＸ線導波路を利用する手法の場合、導波路を構成するコアのサイズでＸ線ビームの大きさが決まる。ここで、コア層を覆うクラッド層のＸ線領域での屈折率をＮ１、コア層のＸ線領域での屈折率をＮ２とすると、（Ｎ１の実数部分）＜（Ｎ２の実数部分）の関係がある。Ｘ線導波路のコア層にＸ線ビームを入射させると、Ｘ線ビームはコア層の中を進行する。このとき、コア層の厚さが充分小さいとき、ある特定の状態のＸ線しか伝達されず、このときにコア層の厚さＤとＸ線ビームの波長λとＸ線ビームのクラッド層への入射角φとの間に以下の関係があることが知られている（非特許文献７参照）。
２Ｄｓｉｎ（φ）＝ｍλ（ｍ＝０，１，２，・・・） ・・・（１）
On the other hand, in the case of the method using the X-ray waveguide of (E), the size of the X-ray beam is determined by the size of the core constituting the waveguide. Here, when the refractive index in the X-ray region of the cladding layer covering the core layer is N1, and the refractive index in the X-ray region of the core layer is N2, the relationship of (the real part of N1) <(the real part of N2) There is. When an X-ray beam is incident on the core layer of the X-ray waveguide, the X-ray beam travels through the core layer. At this time, when the thickness of the core layer is sufficiently small, only X-rays in a specific state are transmitted. At this time, the thickness D of the core layer, the wavelength λ of the X-ray beam, and the X-ray beam to the cladding layer are transmitted. It is known that there is the following relationship with the incident angle φ (see Non-Patent Document 7).
2Dsin (φ) = mλ (m = 0, 1, 2,...) (1)
式（１）の条件は、Ｘ線導波路に入射するＸ線の入射角φに制限があることを示しており、それ以外の入射角を持つＸ線はコア層を透過することができないことを示している。コア層からクラッド層へのＸ線ビームの入射角φとして全反射を起こす角度程度を選択し、クラッド層を通過するＸ線ビームがすべて吸収されてしまって導波路出口に透過しないような長さのＸ線導波路を用いると、導波路の出口ではＸ線ビームをコア層のサイズとほぼ同程度のサイズまで集光することができる。このようなＸ線導波路は蒸着によって作製することができるため、コア層の厚さを１０ナノメートル以下にすることは容易であり、数ナノメートルのサイズを持つＸ線ビームを作製することが原理的に可能となる。 The condition of formula (1) indicates that there is a limit to the incident angle φ of the X-ray incident on the X-ray waveguide, and X-rays having other incident angles cannot pass through the core layer. Is shown. The angle at which total reflection occurs is selected as the incident angle φ of the X-ray beam from the core layer to the cladding layer, and the length is such that all X-ray beams passing through the cladding layer are absorbed and do not pass through the waveguide exit. When the X-ray waveguide is used, the X-ray beam can be condensed to the size of the core layer at the exit of the waveguide. Since such an X-ray waveguide can be manufactured by vapor deposition, it is easy to reduce the thickness of the core layer to 10 nanometers or less, and an X-ray beam having a size of several nanometers can be manufactured. It is possible in principle.
しかし、Ｘ線導波路を利用する手法の場合、コアの厚み方向にＸ線ビームを集光することはできるが、厚み方向及びビームの進行方向に対して垂直なコアの面内方向に対してＸ線を集光することはできない。すなわち、Ｘ線導波路の出口で取り出すことのできるＸ線は水平方向については入射Ｘ線と同じサイズとなるので、このＸ線導波路で得られるのは一次元方向のみに集光された線状のＸ線マイクロビームであり、二次元方向に集光された点状のＸ線マイクロビームを得ることは困難である。 However, in the case of a method using an X-ray waveguide, an X-ray beam can be condensed in the thickness direction of the core, but the in-plane direction of the core perpendicular to the thickness direction and the traveling direction of the beam. X-rays cannot be collected. That is, the X-rays that can be extracted at the exit of the X-ray waveguide have the same size as the incident X-rays in the horizontal direction. It is difficult to obtain a point-shaped X-ray microbeam that is focused in a two-dimensional direction.
以上のように、Ｘ線フレネルゾーンプレートを利用する手法では、１０ナノメートルサイズのＸ線ビームを得ることは困難であり、またＸ線導波路を利用する手法では、数ナノメートルのサイズのＸ線ビームを得ることが可能であるが、Ｘ線ビームの集光方向が一次元方向のみで、二次元方向に集光されたＸ線ビームを得ることができず、Ｘ線強度が弱いという問題点があった。前述のとおり、ナノ構造材料研究の進展に伴って、１０ナノメートルレベルの空間分解能でナノ構造材料を評価する技術が要求されているが、従来のＸ線ビームの集光方法では１０ナノメートルレベルの空間分解能を実現することは困難である。 As described above, it is difficult to obtain an X-ray beam having a size of 10 nanometers by a method using an X-ray Fresnel zone plate, and an X-ray beam having a size of several nanometers by a method using an X-ray waveguide. Although it is possible to obtain a ray beam, there is a problem that the X-ray beam is condensed in only a one-dimensional direction, an X-ray beam condensed in a two-dimensional direction cannot be obtained, and the X-ray intensity is weak. There was a point. As described above, with the progress of research on nanostructured materials, a technique for evaluating nanostructured materials with a spatial resolution of 10 nanometer level is required. However, the conventional X-ray beam focusing method has a level of 10 nanometer level. It is difficult to achieve a spatial resolution of
このような技術的困難を克服するために、発明者は、Ｘ線領域における屈折率がＮ１であるコア薄膜層の上下を、屈折率Ｎ２であるクラッド薄膜層で挟み、屈折率Ｎ１とＮ２の間に（Ｎ１の実数部分）＜（Ｎ２の実数部分）の関係があるＸ線導波路を用いて、導波路の一部にフレネルゾーンプレートを組み込むことにより垂直方向および水平方向に対するナノメーターレベルで集光されたＸ線マイクロビームの形成を可能とするＸ線集光レンズを提案した（特願２００６−１７２４５０）。 In order to overcome such technical difficulties, the inventor sandwiched the upper and lower sides of the core thin film layer having a refractive index of N1 in the X-ray region with the clad thin film layer having a refractive index of N2, and having refractive indexes of N1 and N2. Using X-ray waveguides with a relationship of (real part of N1) <(real part of N2) between them, by incorporating a Fresnel zone plate into a part of the waveguide, at the nanometer level in the vertical and horizontal directions An X-ray condensing lens capable of forming a condensed X-ray microbeam has been proposed (Japanese Patent Application No. 2006-172450).
特願２００６−１７２４５０で提案したＸ線集光レンズでは、Ｘ線がＸ線導波路の端面で集光されるため、立体構造を持つ試料の測定では、試料の形状によっては微小部分の調整が困難である。すなわち、前記Ｘ線集光レンズでは、仮に試料をＸ線導波路の端面から離れた場所に置いた場合、導波路から出射したＸ線はその進行方向に対して垂直な方向について再び発散光となり試料に照射されるため、Ｘ線集光レンズで集光したナノビームの特性を有効に利用できないという問題点があった。したがって、このような立体構造の測定には、集光系と試料との間の距離（ワーキングディスタンス）を十分に確保した上で、試料上にナノメートルレベルのビーム集光を実現する必要がある。 In the X-ray condensing lens proposed in Japanese Patent Application No. 2006-172450, X-rays are condensed on the end face of the X-ray waveguide. Therefore, in measurement of a sample having a three-dimensional structure, a minute portion may be adjusted depending on the shape of the sample. Have difficulty. That is, in the X-ray condenser lens, if the sample is placed at a location away from the end face of the X-ray waveguide, the X-ray emitted from the waveguide becomes divergent light again in the direction perpendicular to the traveling direction. Since the sample is irradiated, there is a problem in that the characteristics of the nano beam condensed by the X-ray condenser lens cannot be effectively used. Therefore, in order to measure such a three-dimensional structure, it is necessary to secure a sufficient distance (working distance) between the condensing system and the sample and realize beam focusing on the nanometer level on the sample. .
本発明は、上記課題を解決するためのものであり、従来のＸ線ビームの集光技術では困難であった１０ナノメートルレベルの高強度なＸ線マイクロビームを、試料測定のためのワーキングディスタンスを十分に確保しながら実現することができるＸ線集光レンズを提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a high-intensity X-ray microbeam of 10 nanometer level, which has been difficult with the conventional X-ray beam focusing technique, is used as a working distance for sample measurement. An object of the present invention is to provide an X-ray condensing lens that can be realized while sufficiently securing the above.
本発明のＸ線集光レンズは、コア層の対向する両面にクラッド層を形成したＸ線導波路レンズ構造と、Ｘ線ビームの進行方向に沿って前記Ｘ線導波路レンズ構造よりも下流側において、中心軸の位置が前記Ｘ線導波路レンズ構造の中心軸と一致するように配置された積層型フレネルゾーンプレート構造とを備え、前記Ｘ線導波路レンズ構造は、前記対向する両面と平行にＸ線が入射する前記コア層の一部または前記Ｘ線ビームの進行方向と逆方向に沿って前記コア層よりも上流側に、Ｘ線が透過しない材料からなる遮蔽ゾーンを有し、この遮蔽ゾーンは、Ｘ線の波長をλ、前記Ｘ線導波路レンズ構造の焦点距離をｆ、前記Ｘ線ビームの進行方向をＡＸ、この進行方向ＡＸと直交する方向のうち前記コア層と前記クラッド層の積層方向をＡＺ、前記ＡＸ及びＡＺと直交する方向をＡＹとしたとき、前記Ｘ線ビームの中心から前記ＡＹ方向に沿った距離が（２ｎλｆ）1/2（ｎは０，１，２，・・・）の位置と｛（２ｎ＋１）λｆ｝1/2の位置との間の第１の領域、この第１の領域を除く第２の領域のうちのいずれかに配置され、前記ＡＸ方向に沿った長さが、当該遮蔽ゾーンを透過するＸ線が存在しない程度の寸法に設定され、前記積層型フレネルゾーンプレート構造は、Ｘ線が透過しない材料からなる重元素層とＸ線が透過する材料からなる軽元素層とを交互に積層した構造であり、前記重元素層は、前記積層型フレネルゾーンプレート構造の焦点距離をｆ1としたとき、前記Ｘ線ビームの中心から前記ＡＺ方向に沿った距離が（２ｎλｆ1）1/2の位置と｛（２ｎ＋１）λｆ1｝1/2の位置との間の第３の領域、この第３の領域を除く第４の領域のうちのいずれかに配置され、前記積層型フレネルゾーンプレート構造の出口側の端面は、前記遮蔽ゾーンの出口側の端面から前記ＡＸ方向に沿って下流側に距離Ｌの位置にあり、前記Ｘ線導波路レンズ構造の焦点距離ｆと前記積層型フレネルゾーンプレート構造の焦点距離ｆ1との間にｆ＝ｆ1＋Ｌの関係が成り立つことを特徴とするものである。 The X-ray condenser lens of the present invention includes an X-ray waveguide lens structure in which a clad layer is formed on both opposing surfaces of a core layer, and a downstream side of the X-ray waveguide lens structure along the traveling direction of the X-ray beam. with fraud and mitigating risk and arranged laminated Fresnel zone plate structure so that the position of the center axis coincides with the center axis of the X-ray waveguide lens structure, the X-ray waveguide lens structure, both sides of the counter A shielding zone made of a material that does not transmit X-rays, upstream of the core layer along a direction opposite to the traveling direction of the X-ray beam or a part of the core layer in which X-rays are incident in parallel In this shielding zone, the wavelength of X-ray is λ, the focal length of the X-ray waveguide lens structure is f, the traveling direction of the X-ray beam is AX, and the core layer is out of the directions orthogonal to the traveling direction AX. The laminating direction of the cladding layer is AZ, When the direction orthogonal to the serial AX and AZ and the AY, the position of the distance along the center of the X-ray beam in the AY direction (2nλf) 1/2 (n is 0, 1, 2, ...) And the position of {(2n + 1) λf} 1/2 and the second region excluding the first region, and the length along the AX direction is The laminated Fresnel zone plate structure has a heavy element layer made of a material that does not transmit X-rays and a light element made of a material that transmits X-rays. The heavy element layer has a distance along the AZ direction from the center of the X-ray beam when the focal length of the stacked Fresnel zone plate structure is f 1 ( 2nλf 1 ) 1/2 and {(2n + 1) λf 1 } 1/2 Between the first region and the fourth region excluding the third region, and the end surface on the outlet side of the laminated Fresnel zone plate structure is located on the outlet side of the shielding zone. It is located at a distance L downstream from the end surface along the AX direction, and f = f 1 between the focal length f of the X-ray waveguide lens structure and the focal length f 1 of the laminated Fresnel zone plate structure. It is characterized in that the relationship + L holds.
また、本発明のＸ線集光レンズの１構成例は、前記Ｘ線導波路レンズ構造と前記積層型フレネルゾーンプレート構造とを同一基板上に作製するものである。
また、本発明のＸ線集光レンズの１構成例において、前記積層型フレネルゾーンプレート構造の重元素層は、Ｗ、Ｒｕ、Ｔａ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｐｂ、Ｔｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎのうち少なくとも一つを含む材料からなり、前記軽元素層は、Ｃ、Ｓｉ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｔｅ、高分子材料のうちすくなくとも一つを含む材料からなるものである。
Further , in one configuration example of the X-ray condenser lens of the present invention, the X-ray waveguide lens structure and the laminated Fresnel zone plate structure are formed on the same substrate.
In one configuration example of the X-ray condenser lens of the present invention, the heavy element layer of the laminated Fresnel zone plate structure includes W, Ru, Ta, Rb, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Pd, Ag. , Cd, In, Ba, Re, Os, Ir, Pt, Au, Pb, Tl, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn. The layer is made of a material including at least one of C, Si, Be, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Te, and a polymer material.
本発明によれば、従来実現することが困難であったナノメートルオーダーまで集光した高強度のＸ線マイクロビームを簡便に得ることができ、Ｘ線集光レンズの焦点位置において量子ドット、ナノドット、ナノワイヤー、ナノ粒子や高集積化した半導体材料の微細ゲートなどナノメートルレベルのサイズからなる種々のナノ材料の構造評価が可能となり、半導体材料や半導体デバイスの開発に貢献することができる。また、本発明では、Ｘ線導波路レンズ構造の後方に積層型フレネルゾーンプレート構造を配置することにより、Ｘ線集光レンズと試料との間のワーキングディスタンスを十分に確保しながら、ナノメートルレベルの径のビーム集光を実現することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to easily obtain a high-intensity X-ray microbeam condensed to the nanometer order, which has been difficult to realize in the past, and at the focal position of the X-ray condenser lens, quantum dots and nanodots can be obtained. It is possible to evaluate the structure of various nanomaterials of nanometer size, such as nanowires, nanoparticles and fine gates of highly integrated semiconductor materials, and contribute to the development of semiconductor materials and semiconductor devices. Further, in the present invention, by arranging the laminated Fresnel zone plate structure behind the X-ray waveguide lens structure, the working distance between the X-ray condensing lens and the sample is sufficiently secured, while at the nanometer level. It is possible to realize beam condensing with a diameter of.
また、本発明では、積層型フレネルゾーンプレート構造の出口側の端面が、遮蔽ゾーンの出口側の端面からＸ線ビームの進行方向ＡＸに沿って下流側に距離Ｌの位置になるようにし、Ｘ線導波路レンズ構造の焦点距離ｆと積層型フレネルゾーンプレート構造の焦点距離ｆ1との間にｆ＝ｆ1＋Ｌの関係が成り立つようにすることにより、Ｘ線集光レンズから離れた位置にＸ線を集光することが容易になり、分析などにも利用しやすいＸ線ビームを得ることができる。 In the present invention, the end face on the exit side of the laminated Fresnel zone plate structure is positioned at a distance L downstream from the end face on the exit side of the shielding zone along the traveling direction AX of the X-ray beam, by such relation f = f 1 + L is established between the focal length f of the ray waveguide lens structure as a stacked focal length f 1 of the Fresnel zone plate structure, at a position away from the X-ray focusing lens It becomes easy to collect X-rays, and an X-ray beam that can be easily used for analysis can be obtained.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図１（Ａ）は本発明の実施の形態に係るＸ線集光レンズの構成を示す平面図、図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＸ線集光レンズのＩ−Ｉ線断面図である。なお、図１（Ａ）では、後述するＸ線導波路レンズ構造のＸ線遮蔽層と、Ｘ線導波路レンズ構造及び積層型フレネルゾーンプレート構造を透過するＸ線ビームとを透視しているものとする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a plan view showing a configuration of an X-ray condenser lens according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line II of the X-ray condenser lens of FIG. It is. In FIG. 1A, an X-ray shielding layer having an X-ray waveguide lens structure, which will be described later, and an X-ray beam passing through the X-ray waveguide lens structure and the laminated Fresnel zone plate structure are seen through. And
本実施の形態のＸ線集光レンズは、Ｘ線導波路の一部にフレネルゾーンプレートを組み込んだものであり、同一基板上にあるＸ線導波路レンズ構造１３と、１次元型のフレネルゾーンプレートと呼ばれる積層型フレネルゾーンプレート構造１４とから構成される。
The X-ray condensing lens of the present embodiment incorporates a Fresnel zone plate in a part of an X-ray waveguide, and an X-ray
Ｘ線導波路レンズ構造１３は、Ｘ線ビームを垂直方向に集光するためのＸ線導波路部８と、Ｘ線ビームを水平方向に集光するためのＸ線ゾーンプレート部９およびＸ線集光部１０とから構成される。図１において、１はシリコン基板、２はシリコン基板１の上に形成されたクラッド層である下部ルテニウム層、３は下部ルテニウム層２の上に形成されたコア層であるカーボン層、４はカーボン層３の上に形成されたクラッド層である上部ルテニウム層、５は下部ルテニウム層２とカーボン層３と上部ルテニウム層４とからなるＸ線導波路の一部に形成された、Ｘ線ゾーンプレートとして機能するタンタル材料からなるＸ線遮蔽層である。
The X-ray
積層型フレネルゾーンプレート構造１４は、Ｘ線がほとんど透過しない重元素層６とＸ線が透過する軽元素層７とを交互に積層した構造である。
図１（Ａ）、図１（Ｂ）の例では、Ｘ線ビームの進行方向をＡＸ、この進行方向ＡＸと直交する方向のうちＸ線導波路レンズ構造１３のコア層とクラッド層の積層方向をＡＺ、ＡＸ及びＡＺと直交する方向をＡＹとしている。
The stacked Fresnel
In the example of FIGS. 1A and 1B, the traveling direction of the X-ray beam is AX, and the stacking direction of the core layer and the cladding layer of the X-ray
Ｘ線導波路レンズ構造１３のクラッド層のＸ線領域での屈折率をＮ１、コア層のＸ線領域での屈折率をＮ２とすると、屈折率Ｎ１とＮ２との間には、（Ｎ１の実数部分）＜（Ｎ２の実数部分）の関係がある。本実施の形態では、クラッド層から漏洩するＸ線を防止するため、下部ルテニウム層２及び上部ルテニウム層４の厚さを１００ナノメートルとし、Ｘ線が透過するカーボン層３の厚さを１０ナノメートルとしている。
Assuming that the refractive index in the X-ray region of the cladding layer of the X-ray
Ｘ線導波路レンズ構造１３のＸ線遮蔽層５は、Ｘ線の波長をλ、集光レンズとしての焦点距離をｆとしたとき、Ｘ線ビームの中心（図１（Ａ）のＩ−Ｉ線）からＸ線ビームの進行方向ＡＸと直交する方向ＡＹに沿った距離がＹ2n（ｎは０，１，２，・・・）の位置とＹ2n+1の位置との間の第１の領域、この第１の領域を除く第２の領域のうちのいずれかに配置され、かつＸ線集光レンズの焦点１６からＸ線ビームの進行方向ＡＸと逆方向に沿って焦点距離ｆだけ上流に配置される。Ｘ線遮蔽層５のＸ線ビームの中心からの距離（座標）Ｙ2n，Ｙ2n+1は以下の式で求められる。
Ｙ2n＝（２ｎλｆ）1/2 ・・・（２）
Ｙ2n+1＝｛（２ｎ＋１）λｆ｝1/2 ・・・（３）
The
Y 2n = (2nλf) 1/2 (2)
Y 2n + 1 = {(2n + 1) λf} 1/2 (3)
Ｘ線遮蔽層５をＹ2n（ｎは０，１，２，・・・）とＹ2n+1との間の第１の領域に設ける場合を図２に示す。なお、図２においても、上部ルテニウム層４の下にあるＸ線遮蔽層５を透視しているものとする。Ｘ線遮蔽層５をＹ2nとＹ2n+1との間を除く第２の領域に設ける場合は、図２の黒地の領域の間にＸ線遮蔽層５を配置すればよい。
FIG. 2 shows a case where the
積層型フレネルゾーンプレート構造１４の重元素層６は、集光レンズとしての焦点距離をｆ1としたとき、Ｘ線ビームの中心（図１（Ｂ）のＩＩ−ＩＩ線）からＸ線ビームの進行方向ＡＸと直交する方向ＡＺに沿った距離がＺ2n（ｎは０，１，２，・・・）の位置とＺ2n+1の位置との間の第３の領域、この第３の領域を除く第４の領域のうちのいずれかに配置され、かつＸ線集光レンズの焦点１６からＸ線ビームの進行方向ＡＸと逆方向に沿って焦点距離ｆ1だけ上流に配置される。重元素層６のＸ線ビームの中心からの距離（座標）Ｚ2n，Ｚ2n+1は以下の式で求められる。
Ｚ2n＝（２ｎλｆ1）1/2 ・・・（４）
Ｚ2n+1＝｛（２ｎ＋１）λｆ1｝1/2 ・・・（５）
The
Z 2n = (2nλf 1 ) 1/2 (4)
Z 2n + 1 = {(2n + 1) λf 1 } 1/2 (5)
重元素層６をＺ2n（ｎは０，１，２，・・・）とＺ2n+1との間の第３の領域に設ける場合を図３に示す。重元素層６をＺ2nとＺ2n+1との間を除く第４の領域に設ける場合は、図３の黒地の領域の間に重元素層６を配置し、図３の黒地の領域に軽元素層７を配置すればよい。
The case where the
Ｘ線ゾーンプレート部９でＸ線を効率良く集光するためにはＸ線遮蔽層５を透過するＸ線が存在しないことが必要であるが、本実施の形態ではＸ線ゾーンプレート部９の長さ（図１（Ａ）の左右方向の寸法）を７５ミクロンとしている。このときのＸ線遮蔽層５を透過するＸ線の割合はタンタルの吸収係数より２．５４×１０-4％程度と見積もられることから、Ｘ線遮蔽層５を透過するＸ線の影響はほとんどない。
In order to efficiently collect the X-rays in the X-ray zone plate portion 9, it is necessary that no X-rays pass through the
次に、本実施の形態のＸ線導波路レンズ構造１３の作製方法を説明する。まず、シリコン基板１にエッチングによりメサ構造を形成し、マスクを用いてその上にのみ下部ルテニウム層２を例えば蒸着によって形成する。この下部ルテニウム層２の上にタンタルを蒸着後、電子ビームリソグラフィ等の方法により加工して、Ｘ線遮蔽層５を形成する。続いて、下部ルテニウム層２の上にカーボン層３を例えばスパッタによって形成する。このとき、カーボン層３の厚さは、Ｘ線遮蔽層５の厚さ以下となるようにする。最後に、カーボン層３とＸ線遮蔽層５の上に上部ルテニウム層４を例えば蒸着によって形成することにより、Ｘ線導波路レンズ構造１３の作製が完了する。
Next, a manufacturing method of the X-ray
次に、本実施の形態の積層型フレネルゾーンプレート構造１４の作製方法を説明する。Ｘ線遮蔽層５の出口側の端面からＸ線ビームの進行方向ＡＸに沿って下流側に距離Ｌの位置が積層型フレネルゾーンプレート構造１４の出口側の端面となるように、タングステンからなる重元素層６とタングステンシリサイドからなる軽元素層７とを交互に例えばスパッタによって形成する。本実施の形態では、重元素層６を式（４）に示したＺ2nと式（５）に示したＺ2n+1との間の第３の領域に設けている。このとき、Ｘ線導波路レンズ構造１３から入射するＸ線ビームのＡＺ方向の中心（図１（Ｂ）のＩＩ−ＩＩ線）の位置が、中央の重元素層６の中心と一致するように配置する。これで、Ｘ線集光レンズの作製が完了する。
Next, a manufacturing method of the laminated Fresnel
こうして作製したＸ線集光レンズにＸ線ビーム１１を図１（Ａ）、図１（Ｂ）の左側から入射させた場合、Ｘ線導波路レンズ構造１３の長さによっては導波路モードで進行するＸ線以外のＸ線の存在が無視できない可能性もあるが、本実施の形態ではＸ線導波路レンズ構造１３の長さと積層型フレネルゾーンプレート構造１４の長さをそれぞれ１０ミリメートルとしている。この値はＸ線の波長に比べると充分大きいことから、Ｘ線導波路レンズ構造１３を透過するＸ線ビームは式（１）を満足するビームのみしか存在せず、シリコン基板１に垂直な方向（図１（Ｂ）の上下方向）のＸ線ビームのサイズは約１０ナノメートル程度となる。
When the
Ｘ線導波路８を透過したＸ線は、次にＸ線ゾーンプレート部９に入射する。このとき、導波路を通るＸ線の一部はＸ線遮蔽層５によって吸収され、それ以外のＸ線がＸ線集光部１０に到達する。シリコン基板１と垂直な方向についてはＸ線ビームは広がることができないため、Ｘ線ビームの垂直方向（図１（Ｂ）の上下方向）のサイズはＸ線導波路部８の場合と同様に約１０ナノメートル程度となる。
The X-ray that has passed through the
したがって、Ｘ線導波路レンズ構造１３の出口１５におけるＸ線ビームの垂直方向のサイズは約１０ナノメートル程度となる。出口１５から出射するＸ線ビームは、垂直方向に入射角の２倍の発散角をもって出射する。このＸ線ビームは、Ｘ線導波路レンズ構造１３の後方に配置された積層型フレネルゾーンプレート構造１４により再び集光する。
Therefore, the vertical size of the X-ray beam at the
一方、Ｘ線導波路レンズ構造１３のＸ線ゾーンプレート部９及びＸ線集光部１０の水平面内についてはＸ線ビームのモードを束縛するものはないため、Ｘ線ゾーンプレート部９の開口部から出たＸ線は一次元の球面波としてＸ線集光部１０と積層型フレネルゾーンプレート構造１４の中を進行する。この結果、Ｘ線集光部１０と積層型フレネルゾーンプレート構造１４の中を進行するＸ線は、干渉効果によって水平方向（図１（Ａ）の上下方向）に集光される。
On the other hand, the X-ray zone plate portion 9 of the X-ray
したがって、Ｘ線導波路レンズ構造１３のＸ線ゾーンプレート部９及びＸ線集光部１０による焦点１６の位置と積層型フレネルゾーンプレート構造１４による集光位置とを一致させるようにすれば、Ｘ線集光レンズと焦点１６との間に距離をとることができる。これにより、本実施の形態では、試料測定時における位置合わせの自由度を高めることができる。
Therefore, if the position of the
以上例示したように、本実施の形態のＸ線集光レンズでは、入射するＸ線ビームのエネルギーを有効に活用しながらＸ線ビームの二次元集光を行うことができ、ナノメートルレベルの高強度なＸ線マイクロビームを実現することができるので、ナノメートルレベルの材料のより高度な構造評価が可能になる。
本実施の形態のＸ線集光レンズを材料評価に用いる場合には、Ｘ線集光レンズを出射した光をそのまま評価対象の材料に照射したり、Ｘ線集光レンズを出射した光を更にミラー等で集光して評価対象の材料に照射したりして、材料によって回折したＸ線または材料から発生した蛍光Ｘ線を検出して材料を評価すればよい。
As illustrated above, the X-ray condensing lens of the present embodiment can perform two-dimensional condensing of the X-ray beam while effectively utilizing the energy of the incident X-ray beam. Since an intense X-ray microbeam can be realized, a higher-level structural evaluation of a nanometer level material becomes possible.
When the X-ray condenser lens of the present embodiment is used for material evaluation, the light emitted from the X-ray condenser lens is directly irradiated to the material to be evaluated, or the light emitted from the X-ray condenser lens is further emitted. The material may be evaluated by collecting the light with a mirror or the like and irradiating the material to be evaluated, detecting X-rays diffracted by the material or fluorescent X-rays generated from the material.
なお、本発明は、図１〜図３に示した実施の形態に限定されるものではない。例えば本実施の形態では、Ｘ線遮蔽層５をＸ線導波路レンズ構造１３のコア層中に設けているが、コア層の外に設けてもよい。この場合には、Ｘ線集光レンズの焦点１６から焦点距離ｆだけ上流にＸ線遮蔽層５を設けるようにすればよい。
In addition, this invention is not limited to embodiment shown in FIGS. 1-3. For example, although the
また、本実施の形態では、重元素層６の材料としてタングステンを用いているが、重元素層６の材料は、Ｒｕ、Ｔａ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｐｂ、Ｔｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎのうち少なくとも一つを含む材料であればよい。また、軽元素層７の材料としてタングステンシリサイドを用いているが、軽元素層７の材料は、Ｃ、Ｓｉ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｔｅ、高分子材料のうちすくなくとも一つを含む材料を用いてもよく、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、フッ素樹脂あるいは塩素樹脂を用いてもよい。
Further, in the present embodiment, tungsten is used as the material of the
また、本実施の形態では、コア層の材料としてカーボンを用いているが、コア層の材料はカーボン、シリコン、ベリリウム、高分子材料のうち少なくとも一つを含む材料であればよい。また、コア層の材料として、ホウ素、ベリリウム、アルミニウム、フッ素、カルシウム、マグネシウム、チタンのうち少なくとも一つを含む材料を用いてもよく、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、フッ素樹脂あるいは塩素樹脂を用いてもよい。 In this embodiment, carbon is used as the material for the core layer. However, the material for the core layer may be a material including at least one of carbon, silicon, beryllium, and a polymer material. Further, as the material of the core layer, a material containing at least one of boron, beryllium, aluminum, fluorine, calcium, magnesium, and titanium may be used, and polyimide, polymethyl methacrylate, fluorine resin, or chlorine resin is used. Also good.
また、本実施の形態では、クラッド層の材料としてルテニウムを用いているが、タングステン、ルテニウム、タンタルのうち少なくとも一つを含む材料であればよい。また、クラッド層の材料として、ニッケル、コバルト、クロム、バナジウム、チタン、ゲルマニウム、モリブデン、ジルコニウム、インジウム、レニウム、銀、金、白金、タンタルのうち少なくとも一つを含む材料を用いてもよい。Ｘ線遮蔽層５の材料はクラッド層と同一でもよいし、クラッド層の材料として挙げたものの中からクラッド層とは別の材料を用いてもよい。
In this embodiment, ruthenium is used as the material of the cladding layer, but any material containing at least one of tungsten, ruthenium, and tantalum may be used. Further, as a material for the cladding layer, a material containing at least one of nickel, cobalt, chromium, vanadium, titanium, germanium, molybdenum, zirconium, indium, rhenium, silver, gold, platinum, and tantalum may be used. The material of the
本発明は、Ｘ線集光装置に適用することができる。 The present invention can be applied to an X-ray condensing device.
１…シリコン基板、２…下部ルテニウム層、３…カーボン層、４…上部ルテニウム層、５…Ｘ線遮蔽層、６…重元素層、７…軽元素層、８…Ｘ線導波路部、９…Ｘ線ゾーンプレート部、１０…Ｘ線集光部、１１…Ｘ線ビーム、１３…Ｘ線導波路レンズ構造、１４…積層型フレネルゾーンプレート構造、１５…Ｘ線導波路レンズ構造の出口、１６…Ｘ線集光レンズの焦点。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Silicon substrate, 2 ... Lower ruthenium layer, 3 ... Carbon layer, 4 ... Upper ruthenium layer, 5 ... X-ray shielding layer, 6 ... Heavy element layer, 7 ... Light element layer, 8 ... X-ray waveguide part, 9 ... X-ray zone plate part, 10 ... X-ray condensing part, 11 ... X-ray beam, 13 ... X-ray waveguide lens structure, 14 ... Laminated Fresnel zone plate structure, 15 ... Exit of X-ray waveguide lens structure, 16: The focal point of the X-ray condenser lens.
Claims (3)
Ｘ線ビームの進行方向に沿って前記Ｘ線導波路レンズ構造よりも下流側において、中心軸の位置が前記Ｘ線導波路レンズ構造の中心軸と一致するように配置された積層型フレネルゾーンプレート構造とを備え、
前記Ｘ線導波路レンズ構造は、前記対向する両面と平行にＸ線が入射する前記コア層の一部または前記Ｘ線ビームの進行方向と逆方向に沿って前記コア層よりも上流側に、Ｘ線が透過しない材料からなる遮蔽ゾーンを有し、
この遮蔽ゾーンは、Ｘ線の波長をλ、前記Ｘ線導波路レンズ構造の焦点距離をｆ、前記Ｘ線ビームの進行方向をＡＸ、この進行方向ＡＸと直交する方向のうち前記コア層と前記クラッド層の積層方向をＡＺ、前記ＡＸ及びＡＺと直交する方向をＡＹとしたとき、前記Ｘ線ビームの中心から前記ＡＹ方向に沿った距離が（２ｎλｆ）1/2（ｎは０，１，２，・・・）の位置と｛（２ｎ＋１）λｆ｝1/2の位置との間の第１の領域、この第１の領域を除く第２の領域のうちのいずれかに配置され、前記ＡＸ方向に沿った長さが、当該遮蔽ゾーンを透過するＸ線が存在しない程度の寸法に設定され、
前記積層型フレネルゾーンプレート構造は、Ｘ線が透過しない材料からなる重元素層とＸ線が透過する材料からなる軽元素層とを交互に積層した構造であり、前記重元素層は、前記積層型フレネルゾーンプレート構造の焦点距離をｆ1としたとき、前記Ｘ線ビームの中心から前記ＡＺ方向に沿った距離が（２ｎλｆ1）1/2の位置と｛（２ｎ＋１）λｆ1｝1/2の位置との間の第３の領域、この第３の領域を除く第４の領域のうちのいずれかに配置され、
前記積層型フレネルゾーンプレート構造の出口側の端面は、前記遮蔽ゾーンの出口側の端面から前記ＡＸ方向に沿って下流側に距離Ｌの位置にあり、
前記Ｘ線導波路レンズ構造の焦点距離ｆと前記積層型フレネルゾーンプレート構造の焦点距離ｆ1との間にｆ＝ｆ1＋Ｌの関係が成り立つことを特徴とするＸ線集光レンズ。 An X-ray waveguide lens structure in which clad layers are formed on both opposing surfaces of the core layer;
Along the traveling direction of the X-ray beam the X-ray waveguide lens Oite downstream of structure, the position of the central axis X-ray waveguide lens geometric center axis coincident so arranged laminated Fresnel With zone plate structure,
The X-ray waveguide lens structure has a part of the core layer on which X-rays are incident in parallel with the opposing both surfaces, or upstream of the core layer along the direction opposite to the traveling direction of the X-ray beam. A shielding zone made of a material that does not transmit X-rays;
The shielding zone has an X-ray wavelength of λ, a focal length of the X-ray waveguide lens structure f, an advancing direction of the X-ray beam AX, and the core layer and the out of the directions orthogonal to the advancing direction AX When the stacking direction of the cladding layer is AZ and the direction orthogonal to the AX and AZ is AY, the distance along the AY direction from the center of the X-ray beam is (2nλf) 1/2 (n is 0, 1, 2,...) And the position of {(2n + 1) λf} 1/2 , arranged in any one of the second regions excluding the first region, The length along the AX direction is set to such a dimension that there is no X-ray that passes through the shielding zone,
The laminated Fresnel zone plate structure is a structure in which a heavy element layer made of a material that does not transmit X-rays and a light element layer made of a material that transmits X-rays are alternately stacked. When the focal length of the type Fresnel zone plate structure is f 1 , the distance along the AZ direction from the center of the X-ray beam is (2nλf 1 ) 1/2 and {(2n + 1) λf 1 } 1/2 Arranged in one of the third region between the positions of the first region and the fourth region excluding the third region,
The end surface on the exit side of the laminated Fresnel zone plate structure is at a position of a distance L downstream from the end surface on the exit side of the shielding zone along the AX direction,
An X-ray condenser lens, wherein a relationship of f = f 1 + L is established between a focal length f of the X-ray waveguide lens structure and a focal length f 1 of the laminated Fresnel zone plate structure.
前記Ｘ線導波路レンズ構造と前記積層型フレネルゾーンプレート構造とを同一基板上に作製することを特徴とするＸ線集光レンズ。 The X-ray condenser lens according to claim 1,
An X-ray condenser lens, wherein the X-ray waveguide lens structure and the laminated Fresnel zone plate structure are fabricated on the same substrate .
前記積層型フレネルゾーンプレート構造の重元素層は、Ｗ、Ｒｕ、Ｔａ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｐｂ、Ｔｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎのうち少なくとも一つを含む材料からなり、
前記軽元素層は、Ｃ、Ｓｉ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｔｅ、高分子材料のうちすくなくとも一つを含む材料からなることを特徴とするＸ線集光レンズ。 The X-ray condensing lens according to claim 1 or 2 ,
The layered Fresnel zone plate structure heavy element layers are W, Ru, Ta, Rb, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Pd, Ag, Cd, In, Ba, Re, Os, Ir, Pt, Au. , Pb, Tl, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and a material containing at least one of Zn,
The X-ray condenser lens , wherein the light element layer is made of a material including at least one of C, Si, Be, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Te, and a polymer material .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007125439A JP4705606B2 (en) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | X-ray condenser lens |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007125439A JP4705606B2 (en) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | X-ray condenser lens |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008281421A JP2008281421A (en) | 2008-11-20 |
| JP4705606B2 true JP4705606B2 (en) | 2011-06-22 |
Family
ID=40142359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007125439A Expired - Fee Related JP4705606B2 (en) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | X-ray condenser lens |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4705606B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102010002778B4 (en) | 2010-03-11 | 2012-03-22 | Georg-August-Universität Göttingen Stiftung Öffentlichen Rechts | Confocal multi-filament X-ray waveguide, as well as methods for its production and method for imaging |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6180206A (en) * | 1984-09-28 | 1986-04-23 | Agency Of Ind Science & Technol | X-ray waveguide |
| JPS63114000U (en) * | 1987-01-19 | 1988-07-22 | ||
| JPH11295498A (en) * | 1998-04-14 | 1999-10-29 | Yuji Matsuura | Optical element for x-ray and manufacture thereof |
| JP2002350368A (en) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Fuji Electric Co Ltd | Method and apparatus for measuring x-ray absorption fine structure |
| JP2004012154A (en) * | 2002-06-04 | 2004-01-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | X-ray condensing element |
| JP2004145066A (en) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Japan Synchrotron Radiation Research Inst | Optical component and its manufacturing method |
| JP2007093316A (en) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | X-ray focusing arrangement |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63114000A (en) * | 1986-10-31 | 1988-05-18 | Nec Corp | Control system for dynamic random access memory |
-
2007
- 2007-05-10 JP JP2007125439A patent/JP4705606B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6180206A (en) * | 1984-09-28 | 1986-04-23 | Agency Of Ind Science & Technol | X-ray waveguide |
| JPS63114000U (en) * | 1987-01-19 | 1988-07-22 | ||
| JPH11295498A (en) * | 1998-04-14 | 1999-10-29 | Yuji Matsuura | Optical element for x-ray and manufacture thereof |
| JP2002350368A (en) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Fuji Electric Co Ltd | Method and apparatus for measuring x-ray absorption fine structure |
| JP2004012154A (en) * | 2002-06-04 | 2004-01-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | X-ray condensing element |
| JP2004145066A (en) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Japan Synchrotron Radiation Research Inst | Optical component and its manufacturing method |
| JP2007093316A (en) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | X-ray focusing arrangement |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008281421A (en) | 2008-11-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3008931B2 (en) | High light transmission aperture array | |
| Vedantam et al. | A plasmonic dimple lens for nanoscale focusing of light | |
| JP5896999B2 (en) | X-ray equipment | |
| US20100246764A1 (en) | Source grating for x-rays, imaging apparatus for x-ray phase contrast image and x-ray computed tomography system | |
| US7881432B2 (en) | X-ray focusing device | |
| JP5237186B2 (en) | X-ray scattering measuring apparatus and X-ray scattering measuring method | |
| JP2010249533A (en) | Source grating for talbot-lau-type interferometer | |
| US20050062973A1 (en) | Surface plasmon optic devices and radiating surface plasmon sources for photolithography | |
| JP5341416B2 (en) | X-ray condenser lens | |
| Lider | Zone plates for X-ray focusing | |
| JP4659015B2 (en) | X-ray condenser lens | |
| JP4705606B2 (en) | X-ray condenser lens | |
| JP5431900B2 (en) | X-ray condenser lens | |
| JP4700034B2 (en) | X-ray condenser lens | |
| JP4602944B2 (en) | X-ray condenser lens | |
| US20120288055A1 (en) | X-ray holography light source element and x-ray holography system | |
| Kouznetsov et al. | Ridged atomic mirrors and atomic nanoscope | |
| US20140376699A1 (en) | X ray waveguide system | |
| Rivera et al. | Light transmission via subwavelength apertures in metallic thin films | |
| Osterhoff et al. | Ultra-high-aspect multilayer zone plates for even higher x-ray energies | |
| Schroer et al. | X-ray optics | |
| Erko | High resolution Bragg-Fresnel optics for nanometer scale methods with soft X-rays | |
| US20220283343A1 (en) | Optical device and method of forming the same | |
| Datta | Producing Nanoscale Laser Spot and Its Applications | |
| Xu et al. | Concentrating light into nanometer domain using nanoscale ridge apertures and its application in laser-based nanomanufacturing |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090713 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100810 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100908 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110104 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110207 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110308 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110311 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |