JP4696549B2

JP4696549B2 - Trifluoronaphthalene derivative

Info

Publication number: JP4696549B2
Application number: JP2004361219A
Authority: JP
Inventors: 隆松本; 豊長島
Original assignee: DIC Corp
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 2004-10-29
Filing date: 2004-12-14
Publication date: 2011-06-08
Anticipated expiration: 2024-12-14
Also published as: JP2006151928A

Description

本発明は電気光学的液晶表示材料として有用な、トリフルオロナフタレン誘導体およびそれを含有する液晶組成物、さらにそれを用いた液晶表示素子に関する。 The present invention relates to a trifluoronaphthalene derivative useful as an electro-optical liquid crystal display material, a liquid crystal composition containing the same, and a liquid crystal display device using the same.

液晶表示素子は、低電圧作動、薄型表示等の優れた特徴から現在広く用いられている。従来の液晶表示素子の表示方式にはTN（ねじれネマチック）、STN（超ねじれネマチック）、又はTNをベースにしたアクティブマトリックス（TFT：薄膜トランジスタ）等があり、これらは誘電率異方性値が正の液晶組成物を利用するものである。しかし、これら表示方式の欠点の一つとして視野角の狭さがあり、近年高まっている液晶パネルの大型化の要求に伴い、その改善が大きな課題となっている。 Liquid crystal display elements are currently widely used because of their excellent features such as low voltage operation and thin display. Conventional liquid crystal display element display methods include TN (twisted nematic), STN (super twisted nematic), or active matrix (TFT: thin film transistor) based on TN, which has a positive dielectric anisotropy value. The liquid crystal composition is used. However, one of the disadvantages of these display methods is a narrow viewing angle, and with the increasing demand for larger liquid crystal panels in recent years, the improvement has become a major issue.

この解決策として近年、垂直配向方式、IPS（インプレインスイッチング）等の表示方式が新たに実用化されてきた。垂直配向方式は液晶分子の垂直配向を利用して視野角の改善を図った方式であり、誘電異方性値が負の液晶材料が使用される。またIPSは、ガラス基板に対して水平方向の横電界を用いて液晶分子をスイッチングさせることで視野角の改善を図った方法であり、誘電異方性値が正又は負の液晶材料が使用される。このように、視野角改善のために有効な表示方式である垂直配向方式及びIPSには誘電率異方性値が負である液晶材料が必要であり、強く要望されるようになってきた。 In recent years, display methods such as vertical alignment and IPS (in-plane switching) have been newly put to practical use as a solution. The vertical alignment method is a method in which the viewing angle is improved by utilizing the vertical alignment of liquid crystal molecules, and a liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy value is used. IPS is a method of improving viewing angle by switching liquid crystal molecules using a horizontal electric field in the horizontal direction with respect to a glass substrate, and a liquid crystal material having a positive or negative dielectric anisotropy value is used. The As described above, the vertical alignment method and IPS, which are effective display methods for improving the viewing angle, require a liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy value, and have been strongly demanded.

絶対値の大きい負の誘電率異方性を有する化合物としてトリフルオロナフタレン誘導体が有り、多くの化合物を含む一般的な開示は既にされている（特許文献１参照）。しかし、トリフルオロナフタレン骨格の製造は必ずしも容易ではなく、当該引用文献においては開示する全ての範囲で化合物が開示されているとは認められない。さらに、当該引用文献は強誘電性液晶組成物に使用することを念頭に置いており、誘電率異方性が負のネマチック液晶組成物として広い開示範囲のどの化合物を具体的に使用し、どの様な化合物を併用し又その効果がどの様なものであるかについての開示は無い。 There is a trifluoronaphthalene derivative as a compound having a large absolute value and negative dielectric anisotropy, and a general disclosure including many compounds has already been made (see Patent Document 1). However, the production of the trifluoronaphthalene skeleton is not always easy, and it is not recognized that the compound is disclosed in the entire range disclosed in the cited document. Further, the cited document is intended for use in ferroelectric liquid crystal compositions, and which compounds in a wide disclosure range are specifically used as nematic liquid crystal compositions having a negative dielectric anisotropy. There is no disclosure of the use of such compounds and what their effects are.

ところで、すべての表示方式にて用いられる液晶材料は、適切な誘電異方性値のみならず、その他の特性、例えば屈折率異方性値、弾性定数比といった諸物性も適切に調整されている必要があり、さらに適切な液晶相発現温度範囲を持ち、低温においても低粘度であることなどが要求される。これまで公知の液晶化合物の中で、単独でこれらの条件を全て満たすものはなかった。従って、通常液晶材料は、数種類から二十数種類の液晶相を有する化合物及び必要により更に数種類の液晶相を有しない化合物を混合して調製されている。通常の液晶材料には環構造を２〜４つ含む、いわゆる２環性、３環性および４環性の液晶性化合物が用いられるが、概して環の数が増加するに従って製造工程が複雑となる。それに加え、一般に環の数が増加するに従って、化合物の粘度は上昇するという問題も有していた。一方、環構造が１つである単環性の化合物は、２〜４環性の液晶化合物に比べて製造工程は複雑ではなく、粘度も低いと予想されるが、これまでのところ液晶材料への応用例はほとんど知られておらず、開発が遅れていた。 By the way, liquid crystal materials used in all display systems are appropriately adjusted not only with appropriate dielectric anisotropy values but also with other properties such as refractive index anisotropy values and elastic constant ratios. It is necessary to have a suitable liquid crystal phase expression temperature range and low viscosity even at a low temperature. Until now, none of the known liquid crystal compounds satisfy all of these conditions alone. Therefore, the liquid crystal material is usually prepared by mixing a compound having several to twenty or more kinds of liquid crystal phases and, if necessary, a compound not having several kinds of liquid crystal phases. In general liquid crystal materials, so-called bicyclic, tricyclic, and tetracyclic liquid crystalline compounds containing 2 to 4 ring structures are used, but generally the manufacturing process becomes more complicated as the number of rings increases. . In addition, generally, the viscosity of the compound increases as the number of rings increases. On the other hand, a monocyclic compound having a single ring structure is not complicated in production process and is expected to have a low viscosity as compared with a bi- to tetracyclic liquid crystal compound. There are few known applications of, and development has been delayed.

独国特許出願公開第１９５２２１９５号明細書（１２頁製造方法）German Patent Application Publication No. 19522195 (page 12 production method)

誘電率異方性が負であってその絶対値が大きい単環性液晶化合物を提供することであり、それを含有する液晶組成物および表示素子を提供することである。 It is to provide a monocyclic liquid crystal compound having a negative dielectric anisotropy and a large absolute value, and to provide a liquid crystal composition and a display device containing the same.

本発明者は、トリフルオロナフタレン誘導体及びこれを用いたネマチック液晶組成物、表示素子を検討した結果、本件発明を完成するに至った。
本発明は、一般式（１） As a result of studying a trifluoronaphthalene derivative, a nematic liquid crystal composition using the trifluoronaphthalene derivative, and a display element, the present inventor has completed the present invention.
The present invention relates to a general formula (1)

（式中、R¹およびR²はそれぞれ独立的に炭素原子数1〜10のアルキル基または炭素原子数2〜10のアルケニル基（これらの基中に存在する1個のCH₂基または隣接していない2個以上のCH₂基はOに置換されてもよい）を表し、A¹およびA²はそれぞれ独立的に-CH=CH-、-OCH₂-、-OCO-または単結合を表す。）
で表されるトリフルオロナフタレン誘導体を提供する。
また、それを含む液晶組成物および表示素子もあわせて提供する。 (In the formula, R ¹ and R ² are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (one CH ₂ group present in these groups or adjacent to each other). 2 or more CH ₂ groups which may not be substituted may be substituted with O), and A ¹ and A ² each independently represent —CH═CH—, —OCH ₂ —, —OCO— or a single bond .)
A trifluoronaphthalene derivative represented by the formula:
A liquid crystal composition containing the same and a display element are also provided.

本発明の単環性液晶化合物は誘電率異方性が負であってその絶対値が大きく、粘度が低いという特徴を有し、これを用いた表示素子は垂直配向方式、IPS等向けの液晶組成物の構成部材として有用である。また、本発明の液晶組成物は誘電率異方性が負であってその絶対値が大きい特徴を有し、これを用いた表示素子は垂直配向方式、IPS等の液晶表示素子として有用である。 The monocyclic liquid crystal compound of the present invention is characterized in that the dielectric anisotropy is negative, its absolute value is large, and its viscosity is low, and the display device using this is a liquid crystal for vertical alignment, IPS, etc. It is useful as a component of the composition. In addition, the liquid crystal composition of the present invention is characterized by having a negative dielectric anisotropy and a large absolute value, and a display element using the liquid crystal composition is useful as a liquid crystal display element such as a vertical alignment type or IPS. .

一般式（１）において、R¹およびR²は炭素原子数1〜10のアルキル基が好ましい。A¹およびA²は-OCH₂-、-OCO-および単結合が好ましい。 In the general formula (1), R ¹ and R ² are preferably alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms. A ¹ and A ² are preferably —OCH ₂ —, —OCO— and a single bond.

本発明において、一般式（１）の化合物について、製造例を以下に挙げる。勿論本発明の主旨、及び適用範囲は、これら製造例により制限されるものではない。 In the present invention, production examples of the compound of the general formula (1) are given below. Of course, the gist and scope of the present invention are not limited by these production examples.

(製法１) 1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトールに対して塩基を作用させ、一般式（２） (Production Method 1) A base is allowed to act on 1,7,8-trifluoro-2-naphthol to give a general formula (2)

（式中、M¹はリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属等の金属を表す。）で表される化合物を得る。

(Wherein M ¹ represents an alkali metal such as lithium, sodium or potassium, or a metal such as an alkaline earth metal such as magnesium or calcium).

得られた一般式（２）の化合物を一般式（３） The obtained compound of general formula (2) is converted to general formula (3).

（式中、R²は一般式（１）と同じ意味を表し、X¹は塩素、臭素、よう素、ベンゼンスルホニル機、p-トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基又はトリフルオロメタンスルホニル基を表す。）で表される化合物と反応させることにより、一般式（４）

(In the formula, R ² represents the same meaning as in general formula (1), and X ¹ represents chlorine, bromine, iodine, benzenesulfonyl machine, p-toluenesulfonyl group, methanesulfonyl group, or trifluoromethanesulfonyl group.) By reacting with a compound represented by general formula (4)

（式中、R²は一般式（１）と同じ意味を表す。）で表される化合物を得ることができる。
得られた一般式（４）で表される化合物をリチオ化することにより一般式（５）

(Wherein R ² represents the same meaning as in general formula (1)).
By lithiation of the obtained compound represented by the general formula (4), the general formula (5)

（式中、R²は一般式（１）と同じ意味を表す。）で表されるリチウム化合物を得ることができる。
得られた一般式（５）で表される化合物をほう酸トリメチルと反応させた後、過酸化水素、過酢酸又は過蟻酸により酸化することで一般式（６）

(Wherein R ² represents the same meaning as in general formula (1)).
The compound represented by the general formula (5) thus obtained is reacted with trimethyl borate and then oxidized with hydrogen peroxide, peracetic acid or formic acid to thereby give a general formula (6)

（式中、R²は一般式（１）と同じ意味を表す。）で表されるナフトール化合物を得ることができる。
得られた一般式（６）で表される化合物に塩基を作用させ、一般式（７）

(In the formula, R ² represents the same meaning as in the general formula (1).) A naphthol compound represented by the formula (1) can be obtained.
A base is allowed to act on the resulting compound represented by the general formula (6) to give a general formula (7)

（式中、R²は一般式（１）と同じ意味を表し、M²は一般式（２）におけるM¹と同じ意味を表す。）で表される化合物を得ることができる。
得られた一般式（７）で表される化合物を一般式（８）

(Wherein R ² represents the same meaning as in general formula (1), and M ² represents the same meaning as M ¹ in general formula (2)).
The compound represented by the general formula (7) thus obtained is represented by the general formula (8).

（式中、R¹は一般式（１）と同じ意味を表し、X²は一般式（３）におけるX¹と同じ意味を表す。）で表される化合物と反応させることにより、一般式（９）

(Wherein R ¹ represents the same meaning as in general formula (1), and X ² represents the same meaning as X ¹ in general formula (3)). By reacting with the compound represented by general formula ( 9)

（式中、R¹およびR²は一般式（１）と同じ意味を表す。）で表される化合物を得ることができる。

(Wherein R ¹ and R ² represent the same meaning as in general formula (1)) can be obtained.

(製法２) 1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトールをトリフルオロメタンスルホニル化し、トリフルオロメタンスルホン酸 1,7,8-トリフルオロナフタレン-2-イルを得る。これを一般式（１０） (Production Method 2) 1,7,8-Trifluoro-2-naphthol is trifluoromethanesulfonylated to obtain 1,7,8-trifluoronaphthalen-2-yl trifluoromethanesulfonic acid. This is expressed by the general formula (10)

（式中、R³は炭素数1〜8のアルキル基を表す。）で表されるアセチレン化合物とカップリング反応させることにより、一般式（１１）

(In the formula, R ³ represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.) By a coupling reaction with the acetylene compound represented by the general formula (11)

（式中、R³は一般式（１０）と同じ意味を表す。）で表される化合物を得ることができる。これを水素添加することにより一般式（１２）

(Wherein R ³ represents the same meaning as in general formula (10)) can be obtained. By hydrogenating this, general formula (12)

（式中、R³は一般式（１０）と同じ意味を表す。）で表される化合物を得ることができる。これを、製法1における一般式（４）の代わりに用い、同様の反応を行うことで、一般式（１３）

(Wherein R ³ represents the same meaning as in general formula (10)) can be obtained. By using this instead of the general formula (4) in the production method 1 and carrying out the same reaction, the general formula (13)

（式中、R¹は一般式（１）と同じ意味を表し、R³は一般式（１０）と同じ意味を表す。）で表される化合物を得ることができる。

(Wherein R ¹ represents the same meaning as in general formula (1), and R ³ represents the same meaning as in general formula (10)).

(製法３) 一般式（６）で表される化合物と一般式（１４） (Production Method 3) Compound represented by general formula (6) and general formula (14)

（式中、R¹は一般式（１）と同じ意味を表す。）で表される化合物と脱水縮合することにより、一般式（１５）

(Wherein R ¹ represents the same meaning as in general formula (1)) and dehydration condensation with the compound represented by general formula (15).

（式中、R¹およびR¹は一般式（１）と同じ意味を表す。）で表される化合物を得ることができる。

(Wherein R ¹ and R ¹ have the same meaning as in general formula (1)) can be obtained.

(製法４) 一般式（６）で表される化合物をトリフェニルホスフィンおよびアゾジカルボン酸ジアルキル存在下、一般式（１６） (Production Method 4) In the presence of triphenylphosphine and dialkyl azodicarboxylate, the compound represented by the general formula (6) is converted to the general formula (16).

（式中、R¹は一般式（１）と同じ意味を表す。）で表される化合物と反応させることにより、一般式（９）で表される化合物を得ることができる。

(In the formula, R ¹ has the same meaning as in general formula (1).) By reacting with the compound represented by general formula (1), the compound represented by general formula (9) can be obtained.

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、質量スペクトル(MS)等により確認した。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「%」は『質量%』を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is further explained in full detail, this invention is not limited to these Examples. The structure of the compound was confirmed by nuclear magnetic resonance spectrum (NMR), mass spectrum (MS) and the like. Further, “%” in the compositions of the following examples and comparative examples means “mass%”.

化合物記載に下記の略号を使用する。
THF ：テトラヒドロフラン
DMF ：N, N-ジメチルホルムアミド
Me ：メチル基
Et ：エチル基
Pr ：プロピル基
Bu ：ブチル基
Ac ：アセチル基
Hep ：ヘプチル基
Pen ：ペンチル基
Ph ：フェニル基
iPr ：イソプロピル基
Hex ：ヘキシル基
Ms ：メタンスルホニル基
Tf ：トリフルオロメタンスルホニル基
WSC ：N-エチル-N'-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩
（実施例１）2-ブトキシ-6-ヘプトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン(Ia)の合成 The following abbreviations are used in compound descriptions.
THF: tetrahydrofuran
DMF: N, N-dimethylformamide
Me: methyl group
Et: ethyl group
Pr: Propyl group
Bu: Butyl group
Ac: Acetyl group
Hep: heptyl group
Pen: pentyl group
Ph: phenyl group
iPr: Isopropyl group
Hex: Hexyl group
Ms: Methanesulfonyl group
Tf: trifluoromethanesulfonyl group
WSC: N-ethyl-N ′-(3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (Example 1) Synthesis of 2-butoxy-6-heptoxy-1,7,8-trifluoronaphthalene (Ia)

(1-1) 2-ブトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレンの合成
1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトール230 gをアセトン800 mLに溶解し、1-ヨードブタン306 g及び無水炭酸カリウム230 gを加え、3時間加熱還流した。反応混合物から溶媒を減圧留去し、ヘキサン200 mLを加えて30分撹拌し、不溶の塩をろ別した。ろ液をカラムクロマトグラフィー（アルミナ／ヘキサン）に付し、溶媒を減圧留去後、残渣を減圧蒸留（1.05 1.15 mmHg, 145 154℃）で精製し、ほぼ無色固体226 gを得た。 (1-1) Synthesis of 2-butoxy-1,7,8-trifluoronaphthalene
1,7,8-trifluoro-2-naphthol (230 g) was dissolved in acetone (800 mL), 1-iodobutane (306 g) and anhydrous potassium carbonate (230 g) were added, and the mixture was heated to reflux for 3 hours. The solvent was removed from the reaction mixture under reduced pressure, 200 mL of hexane was added and the mixture was stirred for 30 minutes, and insoluble salts were filtered off. The filtrate was subjected to column chromatography (alumina / hexane), the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by distillation under reduced pressure (1.05 1.15 mmHg, 145 154 ° C.) to obtain an almost colorless solid 226 g.

(1-2) 6-ブトキシ-3,4,5-トリフルオロナフタレン-2-ほう酸の合成
2-ブトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン191 gをTHF 760 mLに溶解して窒素置換し、-60℃へ冷却した。そこへブチルリチウム（1.58 M in hexane）500 mLを30分かけて滴下し、さらに30分撹拌した。続いてほう酸トリメチル94 gを30分かけて滴下し、ゆっくり0℃まで昇温した。その後10%塩酸300 mLをゆっくり加え、2時間攪拌した。反応溶液から有機層を分取し、水層をヘキサン／THF混合溶媒で抽出し、有機層を合わせ、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して淡黄色固体を得た。これを再結晶（ヘキサン／THF）により2回精製し、灰白色固体150 gを得た。 (1-2) Synthesis of 6-butoxy-3,4,5-trifluoronaphthalene-2-borate
191 g of 2-butoxy-1,7,8-trifluoronaphthalene was dissolved in 760 mL of THF, purged with nitrogen, and cooled to -60 ° C. Thereto, 500 mL of butyl lithium (1.58 M in hexane) was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 30 minutes. Subsequently, 94 g of trimethyl borate was added dropwise over 30 minutes, and the temperature was slowly raised to 0 ° C. Thereafter, 300 mL of 10% hydrochloric acid was slowly added and stirred for 2 hours. The organic layer was separated from the reaction solution, the aqueous layer was extracted with a hexane / THF mixed solvent, the organic layers were combined, and washed with water and saturated brine. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a pale yellow solid. This was purified twice by recrystallization (hexane / THF) to obtain 150 g of an off-white solid.

(1-3) 6-ブトキシ-3,4,5-トリフルオロ-2-ナフトールの合成
6-ブトキシ-3,4,5-トリフルオロナフタレン-2-ほう酸150 gをTHF 750 mLに溶解し、40℃に加温した。そこへ15%過酸化水素水溶液136 mLを30分かけて滴下し、さらに2時間攪拌した。水500 mLおよびヘキサン500 mLを加え、濃塩酸を加えて中和した。有機層を分取し、水層をヘキサン／THF混合溶媒で抽出し、有機層を合わせ、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して淡黄色固体を得た。これを再結晶（ヘキサン／トルエン）により精製し、ほぼ無色固体70 gを得た。 (1-3) Synthesis of 6-butoxy-3,4,5-trifluoro-2-naphthol
150 g of 6-butoxy-3,4,5-trifluoronaphthalene-2-boric acid was dissolved in 750 mL of THF and heated to 40 ° C. Thereto, 136 mL of a 15% aqueous hydrogen peroxide solution was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 2 hours. Water (500 mL) and hexane (500 mL) were added, and concentrated hydrochloric acid was added for neutralization. The organic layer was separated, the aqueous layer was extracted with a hexane / THF mixed solvent, the organic layers were combined, and washed with water and saturated brine. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a pale yellow solid. This was purified by recrystallization (hexane / toluene) to obtain almost colorless solid 70 g.

(1-4) 2-ブトキシ-6-ヘプトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン(Ia)の合成
反応容器に6-ブトキシ-3,4,5-トリフルオロ-2-ナフトール20 g、1-ブロモヘプタン15.9 g、炭酸カリウム15.3 gおよびアセトン80 mLを取り、5時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸エチルを加え、不溶の塩をろ別した。溶媒を減圧留去し、残渣を再結晶（メタノール）、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル／ヘキサン）および再結晶（エタノール／アセトン）により精製し、無色結晶として2-ブトキシ-6-ヘプトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン(Ia)14 gを得た。 (1-4) Synthesis of 2-butoxy-6-heptoxy-1,7,8-trifluoronaphthalene (Ia) 6-Butoxy-3,4,5-trifluoro-2-naphthol 20 g, 1 -15.9 g of bromoheptane, 15.3 g of potassium carbonate and 80 mL of acetone were taken and heated to reflux for 5 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, ethyl acetate was added to the residue, and insoluble salts were filtered off. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by recrystallization (methanol), column chromatography (silica gel / hexane) and recrystallization (ethanol / acetone) to give 2-butoxy-6-heptoxy-1,7, 14 g of 8-trifluoronaphthalene (Ia) was obtained.

相転移温度 : Cr 75 I
MS m/z : 368 (M⁺), 214 (100)
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃)
δ: 0.90 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 0.99 (t, J = 7.6 Hz, 3 H), 1.25 1.45 (m, 6H), 1.45 1.60 (m, 4 H) , 1.75 1.95 (m, 4 H), 4.09 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 4.15 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 6.91 (dt, J = 7.1 Hz, 1.7 Hz, 1 H) , 7.21 (t, J = 8.8 Hz, 1 H), 7.38 (dt, J = 9.0 Hz, 1.7 Hz, 1 H) Phase transition temperature: Cr 75 I
MS m / z: 368 (M ⁺ ), 214 (100)
¹ H-NMR (400 MHz, CDCl ₃ )
δ: 0.90 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 0.99 (t, J = 7.6 Hz, 3 H), 1.25 1.45 (m, 6H), 1.45 1.60 (m, 4 H), 1.75 1.95 (m, 4 H), 4.09 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 4.15 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 6.91 (dt, J = 7.1 Hz, 1.7 Hz, 1 H), 7.21 (t, J = 8.8 Hz, 1 H), 7.38 (dt, J = 9.0 Hz, 1.7 Hz, 1 H)

（実施例２）2-ブトキシ-6-(2-ブトキシエトキシ)-1,7,8-トリフルオロナフタレン(IIa)の合成 Example 2 Synthesis of 2-butoxy-6- (2-butoxyethoxy) -1,7,8-trifluoronaphthalene (IIa)

反応容器に6-ブトキシ-3,4,5-トリフルオロ-2-ナフトール20 g、メタンスルホン酸 2-ブトキシエチル16.0 g、炭酸ナトリウム11.8 gおよびDMF 80 mLを入れ、3時間加熱還流した。反応混合物に水およびトルエンを加え、有機層を分取した。これを水、10%塩酸、飽和食塩水の順で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル／トルエン）に付した。溶媒を減圧留去し、残渣を再結晶（ヘキサン）、カラムクロマトグラフィー（アルミナ、シリカゲル／ヘキサン）、再結晶（メタノール）、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル／ヘキサン）および再結晶（ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、ほぼ無色結晶として2-ブトキシ-6-(2-ブトキシエトキシ)-1,7,8-トリフルオロナフタレン(IIa)3.8 gを得た。 A reaction vessel was charged with 20 g of 6-butoxy-3,4,5-trifluoro-2-naphthol, 16.0 g of 2-butoxyethyl methanesulfonate, 11.8 g of sodium carbonate and 80 mL of DMF, and heated to reflux for 3 hours. Water and toluene were added to the reaction mixture, and the organic layer was separated. This was washed with water, 10% hydrochloric acid and saturated brine in this order, and subjected to column chromatography (silica gel / toluene). The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to recrystallization (hexane), column chromatography (alumina, silica gel / hexane), recrystallization (methanol), column chromatography (silica gel / hexane) and recrystallization (hexane / ethyl acetate). Purification was carried out to obtain 3.8 g of 2-butoxy-6- (2-butoxyethoxy) -1,7,8-trifluoronaphthalene (IIa) as almost colorless crystals.

相転移温度 : Cr 32 I
MS m/z : 370 (M⁺), 57 (100)
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃)
δ: 0.93 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 0.99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 1.39 (sextet, J = 7.3 Hz, 2 H), 1.45 1.65 (m, 4H), 1.81 (quintet, J = 6.8 Hz, 2 H) , 3.57 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 3.87 (t, J = 4.9 Hz, 2 H), 4.16 (t, J = 6.3 Hz, 2 H), 4.26 (t, J = 4.9 Hz, 2 H), 6.97 (d, J = 7.3 Hz, 1 H), 7.15 7.25 (m, 1H), 7.35 7.45 (m, 1H) Phase transition temperature: Cr 32 I
MS m / z: 370 (M ⁺ ), 57 (100)
¹ H-NMR (400 MHz, CDCl ₃ )
δ: 0.93 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 0.99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 1.39 (sextet, J = 7.3 Hz, 2 H), 1.45 1.65 (m, 4H), 1.81 (quintet, J = 6.8 Hz, 2 H), 3.57 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 3.87 (t, J = 4.9 Hz, 2 H), 4.16 (t, J = 6.3 Hz, 2 H) , 4.26 (t, J = 4.9 Hz, 2 H), 6.97 (d, J = 7.3 Hz, 1 H), 7.15 7.25 (m, 1H), 7.35 7.45 (m, 1H)

（実施例３）ヘプタン酸 2-ブトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン-6-イル(IIIa)の合成 (Example 3) Synthesis of 2-butoxy-1,7,8-trifluoronaphthalen-6-yl (IIIa) heptanoate

反応容器に6-ブトキシ-3,4,5-トリフルオロ-2-ナフトール23.9 g、ヘプタン酸12.5 mL、N-エチル-N'-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩（WSC）18.7 g、4-ジメチルアミノピリジン1.1 gおよびジクロロメタン200 mLを取り、室温で8時間攪拌した。ヘキサンおよび10%塩酸を加えて有機層を分取し、10%塩酸および飽和食塩水2回で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル／ヘキサン）、再結晶（ヘキサン）および再結晶（メタノール）により精製し、無色結晶としてヘプタン酸 2-ブトキシ-1,7,8-トリフルオロナフタレン-6-イル(IIIa)19.5 gを得た。 In a reaction vessel, 23.9 g of 6-butoxy-3,4,5-trifluoro-2-naphthol, 12.5 mL of heptanoic acid, 18.7 g of N-ethyl-N ′-(3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (WSC), 4-dimethylaminopyridine (1.1 g) and dichloromethane (200 mL) were taken and stirred at room temperature for 8 hours. Hexane and 10% hydrochloric acid were added to separate the organic layer, which was washed twice with 10% hydrochloric acid and saturated brine. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by column chromatography (silica gel / hexane), recrystallization (hexane) and recrystallization (methanol) to give 2-butoxy-1 heptanoate as colorless crystals. Thus, 19.5 g of 7,8-trifluoronaphthalen-6-yl (IIIa) was obtained.

相転移温度 : Cr 50 I
MS m/z : 382 (M⁺), 214 (100)
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃)
δ: 0.92 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 0.99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 1.30 1.60 (m, 8H), 1.75 1.85 (m, 4 H) , 2.64 (t, J = 7.6 Hz, 2 H), 4.19 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 7.20 7.35 (m, 2 H), 7.47 (dt, J = 9.0 Hz, 1.5 Hz, 1 H) Phase transition temperature: Cr 50 I
MS m / z: 382 (M ⁺ ), 214 (100)
¹ H-NMR (400 MHz, CDCl ₃ )
δ: 0.92 (t, J = 7.1 Hz, 3 H), 0.99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H), 1.30 1.60 (m, 8H), 1.75 1.85 (m, 4 H), 2.64 (t, J = 7.6 Hz, 2 H), 4.19 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 7.20 7.35 (m, 2 H), 7.47 (dt, J = 9.0 Hz, 1.5 Hz, 1 H)

（実施例４）2-ブトキシ-6-（2-エチルヘキソキシ）-1,7,8-トリフルオロナフタレン(IVa)の合成 Example 4 Synthesis of 2-butoxy-6- (2-ethylhexoxy) -1,7,8-trifluoronaphthalene (IVa)

2-エチル-1-ヘキサノール11.6 g、6-ブトキシ-3,4,5-トリフルオロ-2-ナフトール20 gおよびトリフェニルホスフィン19.4 gをTHF 120 mLに溶解し、氷冷下、アゾジカルボン酸ジイソプロピル15 gのTHF（20 mL）溶液を30分かけて滴下した。室温まで昇温後、2時間攪拌した。反応溶液に水およびトルエンを加え、有機層を分取し、水（２回）、水／メタノール＝１／１（３回）、飽和食塩水の順で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去し、残渣を再結晶、蒸留（1 mmHg／222 232℃）、活性炭処理、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル／ヘキサン）、再結晶（メタノール／アセトン）の順で精製し、無色油状物質として2-ブトキシ-6-（2-エチルヘキソキシ）-1,7,8-トリフルオロナフタレン(IVa)12.4 gを得た。 Dissolve 11.6 g of 2-ethyl-1-hexanol, 20 g of 6-butoxy-3,4,5-trifluoro-2-naphthol and 19.4 g of triphenylphosphine in 120 mL of THF, and diisopropyl azodicarboxylate under ice-cooling. 15 g of THF (20 mL) solution was added dropwise over 30 minutes. After warming to room temperature, the mixture was stirred for 2 hours. Water and toluene were added to the reaction solution, and the organic layer was separated and washed with water (twice), water / methanol = 1/1 (three times), and saturated brine in this order. After drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue is recrystallized, distilled (1 mmHg / 222 232 ° C), activated carbon treatment, column chromatography (silica gel / hexane), and recrystallization (methanol / acetone) in this order. Purification gave 12.4 g of 2-butoxy-6- (2-ethylhexoxy) -1,7,8-trifluoronaphthalene (IVa) as a colorless oil.

MS m/z : 382 (M⁺), 214 (100)
相転移温度 C 1.5 I
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃)
δ: 0.92 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 0.96 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 0.99 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 1.25 1.90 (m, 13 H), 3.98 (d, J = 5.2 Hz, 2 H), 4.15 (t, J = 6.4 Hz, 2 H), 6.91 (d, J = 7.2 Hz, 1 H), 7.21 (t, J = 8.8 Hz, 1 H), 7.38 (d, J = 8.8 Hz, 1 H) MS m / z: 382 (M ⁺ ), 214 (100)
Phase transition temperature C 1.5 I
¹ H-NMR (400 MHz, CDCl ₃ )
δ: 0.92 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 0.96 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 0.99 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 1.25 1.90 (m, 13 H), 3.98 (d, J = 5.2 Hz, 2 H), 4.15 (t, J = 6.4 Hz, 2 H), 6.91 (d, J = 7.2 Hz, 1 H), 7.21 (t, J = 8.8 Hz, 1 H ), 7.38 (d, J = 8.8 Hz, 1 H)

（実施例５）1,7,8-トリフルオロ-6-ヘプトキシ-2-ペンチルナフタレン(Va)の合成 Example 5 Synthesis of 1,7,8-trifluoro-6-heptoxy-2-pentylnaphthalene (Va)

(5-1)トリフルオロメタンスルホン酸 1,7,8-トリフルオロ-2-ナフチルの合成
1,7,8-トリフルオロ-2-ナフトール109 gのジクロロメタン(500 ml)溶液を、10 ℃以下で激しく攪拌している中に、内温を保ちながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物(93 ml)を滴下して加えた。内温を保ちながら、ピリジン(67 ml)を滴下して加えた。その温度を保ったまま1時間攪拌を続けた後、水を滴下して加えた。有機層を分離し、水層からジクロロメタンで抽出した。有機層を集めた後、10%塩酸、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル／ヘキサン)を用いて精製し、減圧蒸留(3 mmHg, 141-146 ℃)し、さらに再結晶(メタノール)することにより、ほぼ無色結晶としてトリフルオロメタンスルホン酸 1,7,8-トリフルオロ-2-ナフチル95 gを得た。 (5-1) Synthesis of 1,7,8-trifluoro-2-naphthyl trifluoromethanesulfonic acid
While a solution of 109 g of 1,7,8-trifluoro-2-naphthol in dichloromethane (500 ml) was vigorously stirred at 10 ° C or lower, trifluoromethanesulfonic anhydride (93 ml) was maintained while maintaining the internal temperature. Was added dropwise. While maintaining the internal temperature, pyridine (67 ml) was added dropwise. Stirring was continued for 1 hour while maintaining the temperature, and water was added dropwise. The organic layer was separated and extracted from the aqueous layer with dichloromethane. The organic layer was collected, washed with 10% hydrochloric acid, water and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was purified using column chromatography (silica gel / hexane), distilled under reduced pressure (3 mmHg, 141-146 ° C), and further recrystallized (methanol) to give trifluoride as almost colorless crystals. 95 g of 1,7,8-trifluoro-2-naphthyl lomethanesulfonic acid was obtained.

(5-2)1,7,8-トリフルオロ-2-(1-ペンチニル)ナフタレンの合成
トリフルオロメタンスルホン酸1,7,8-トリフルオロ-2-ナフチル(94.4 g)のDMF(300 ml)溶液を室温で攪拌している中に、トリエチルアミン(100 ml)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(3.3 g)、ヨウ化銅(I)(1.1 g)を加えた。全量を加え終わった後、内温90 ℃ - 95℃で1-ペンチン25.3 gのDMF（25 mL）溶液を滴下し、その後適時1-ペンチンを追加しながら80 100℃で原料がほぼ消失するまで攪拌を続けた。反応液を放冷した後、水を加えて反応を終了させた。液性が酸性になるまで10%塩酸を加えた後酢酸エチルを加え、ろ過した（セライト使用）。有機層を分離し、水層から酢酸エチルで抽出した。有機層を集めた後、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル／トルエン)を用いて精製することにより、褐色固体として1,7,8-トリフルオロ-2-(1-ペンチニル)ナフタレン85 gを得た。 (5-2) Synthesis of 1,7,8-trifluoro-2- (1-pentynyl) naphthalene DMF (300 ml) of 1,7,8-trifluoro-2-naphthyl trifluoromethanesulfonate (94.4 g) While the solution was stirred at room temperature, triethylamine (100 ml), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (3.3 g), and copper (I) iodide (1.1 g) were added. After all the amount has been added, add 25.3 g of DMF (25 mL) solution of 1-pentine at an internal temperature of 90 ° C to 95 ° C, and then add the 1-pentine in a timely manner until the material is almost disappeared at 80 100 ° C. Stirring was continued. After allowing the reaction solution to cool, water was added to terminate the reaction. 10% Hydrochloric acid was added until the liquid became acidic, ethyl acetate was added, and the mixture was filtered (using celite). The organic layer was separated and extracted from the aqueous layer with ethyl acetate. The organic layer was collected, washed with water and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was purified using column chromatography (silica gel / toluene) to obtain 85 g of 1,7,8-trifluoro-2- (1-pentynyl) naphthalene as a brown solid.

(5-3) 1,7,8-トリフルオロ-2-ペンチルナフタレンの合成
1,7,8-トリフルオロ-2-(1-ペンチニル)ナフタレン85 gの酢酸エチル（340 mL）溶液中に、5%パラジウム炭素(8.5 g、50%含水品)を加えた後、水素圧下(0.5 MPa)、室温で攪拌した。反応液をろ過（セルロース使用）した後溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル／ヘキサン)を用いて精製し、減圧蒸留(0.5 mmHg／132 144℃)することにより、淡黄色油状物質として1,7,8-トリフルオロ-2-ペンチルナフタレン58 gを得た。 (5-3) Synthesis of 1,7,8-trifluoro-2-pentylnaphthalene
To a solution of 85 g of 1,7,8-trifluoro-2- (1-pentynyl) naphthalene in ethyl acetate (340 mL) was added 5% palladium on carbon (8.5 g, 50% water-containing product), and then under hydrogen pressure. (0.5 MPa) and stirred at room temperature. After filtering the reaction solution (using cellulose), the solvent was distilled off, and the residue was purified using column chromatography (silica gel / hexane) and distilled under reduced pressure (0.5 mmHg / 132 144 ° C.) to give a pale yellow oily substance. As a result, 58 g of 1,7,8-trifluoro-2-pentylnaphthalene was obtained.

(5-4) 3,4,5-トリフルオロ-6-ペンチル-2-ナフトールの合成
1,7,8-トリフルオロ-2-ペンチルナフタレン15 gのTHF(150 ml)溶液を、-50 ℃以下で激しく攪拌している中に、内温を保ちながら1.54 Mブチルリチウムヘキサン溶液42 mLを滴下して加えた後、その温度を保ったまま30分攪拌を続けた。内温を保ちながら、ホウ酸トリメチル7.4 gを滴下して加え、35℃まで昇温した。15%過酸化水素水20 mLを滴下して加え、1時間攪拌を続けた。10%塩酸およびトルエンを加えて有機層を分取し、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し褐色油状物質として3,4,5-トリフルオロ-6-ペンチル-2-ナフトール18.6 gを得た。 (5-4) Synthesis of 3,4,5-trifluoro-6-pentyl-2-naphthol
While stirring a solution of 15 g of 1,7,8-trifluoro-2-pentylnaphthalene in THF (150 ml) vigorously at -50 ° C or lower, keeping the internal temperature 42 mL of 1.54 M butyllithium hexane solution Was added dropwise, and stirring was continued for 30 minutes while maintaining the temperature. While maintaining the internal temperature, 7.4 g of trimethyl borate was added dropwise, and the temperature was raised to 35 ° C. 20 mL of 15% hydrogen peroxide was added dropwise and stirring was continued for 1 hour. 10% Hydrochloric acid and toluene were added, the organic layer was separated, washed with water and then saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 18.6 g of 3,4,5-trifluoro-6-pentyl-2-naphthol as a brown oily substance.

(5-5) 1,7,8-トリフルオロ-6-ヘプトキシ-2-ペンチルナフタレン(Va)の合成
1-ブロモヘプタン12.8 gおよび3,4,5-トリフルオロ-6-ペンチル-2-ナフトール18.6 gをメチルエチルケトン70 mLに溶解し、無水炭酸カリウム12.3 gを加えて3時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル／トルエン）、再結晶（メタノール）、蒸留（1.5 mmHg／220 228℃）、活性炭処理、カラムクロマトグラフィー（シリカ／ヘキサン）、再結晶（メタノール／アセトン）の順で精製し、無色結晶として1,7,8-トリフルオロ-6-ヘプトキシ-2-ペンチルナフタレン(Va)7.8 gを得た。 (5-5) Synthesis of 1,7,8-trifluoro-6-heptoxy-2-pentylnaphthalene (Va)
12.8 g of 1-bromoheptane and 18.6 g of 3,4,5-trifluoro-6-pentyl-2-naphthol were dissolved in 70 mL of methyl ethyl ketone, 12.3 g of anhydrous potassium carbonate was added, and the mixture was heated to reflux for 3 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography (silica gel / toluene), recrystallization (methanol), distillation (1.5 mmHg / 220 228 ° C.), activated carbon treatment, column chromatography (silica / hexane), recrystallization (methanol / Acetone) to obtain 7.8 g of 1,7,8-trifluoro-6-heptoxy-2-pentylnaphthalene (Va) as colorless crystals.

MS m/z : 366 (M⁺), 211 (100)
相転移温度 C 34.0 I
¹H-NMR (400 MHz, CDCl₃)
δ: 0.85 0.95 (m, 6 H), 1.25 1.45 (m, 10 H), 1.45 1.55 (m, 2 H), 1.60 1.70 (m, 2H), 1.89 (quintet, J = 7.6 Hz, 2 H) , 2.75 (t, J = 7.8 Hz, 2 H), 4.11 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 6.94 (d, J = 7.3 Hz, 1 H), 7.15 7.25 (m, 1 H), 7.39 (d, J = 8.3 Hz, 1 H) MS m / z: 366 (M ⁺ ), 211 (100)
Phase transition temperature C 34.0 I
¹ H-NMR (400 MHz, CDCl ₃ )
δ: 0.85 0.95 (m, 6 H), 1.25 1.45 (m, 10 H), 1.45 1.55 (m, 2 H), 1.60 1.70 (m, 2H), 1.89 (quintet, J = 7.6 Hz, 2 H), 2.75 (t, J = 7.8 Hz, 2 H), 4.11 (t, J = 6.6 Hz, 2 H), 6.94 (d, J = 7.3 Hz, 1 H), 7.15 7.25 (m, 1 H), 7.39 ( d, J = 8.3 Hz, 1 H)

（実施例６）液晶組成物の調製（１）
以下の組成からなるホスト液晶組成物(H) (Example 6) Preparation of liquid crystal composition (1)
Host liquid crystal composition comprising the following composition (H)

を調製した。ここで(H)の物性値は以下の通りである。 Was prepared. Here, the physical properties of (H) are as follows.

ネマチック相上限温度(TN-I)： 103.2℃
誘電率異方性(Δε)： 0.03
屈折率異方性(Δn)： 0.099
粘度（mPa・s）： 15.2
このホスト液晶(H)95％と実施例1で得られた(Ia)5％からなる液晶組成物(M-1)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。 Nematic phase upper limit temperature (TN-I): 103.2 ℃
Dielectric anisotropy (Δε): 0.03
Refractive index anisotropy (Δn): 0.099
Viscosity (mPa · s): 15.2
A liquid crystal composition (M-1) comprising 95% of the host liquid crystal (H) and 5% of (Ia) obtained in Example 1 was prepared. The physical properties of this composition are as follows.

ネマチック相上限温度(TN-I)： 95.9℃
誘電率異方性(Δε)： −0.4
屈折率異方性(Δn)： 0.099
粘度（mPa・s）： 15.9
本発明の化合物(Ia)を含有する液晶組成物(M-1)は、ホスト液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は減少して負の値となり、粘度はほぼ同等の値となった。このことから、本発明の化合物は(Ia)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が極めて大きく、また低粘度であることがわかる。 Nematic phase upper limit temperature (TN-I): 95.9 ℃
Dielectric anisotropy (Δε): −0.4
Refractive index anisotropy (Δn): 0.099
Viscosity (mPa · s): 15.9
In the liquid crystal composition (M-1) containing the compound (Ia) of the present invention, the dielectric anisotropy (Δε) decreases to a negative value and the viscosity is almost the same as that of the host liquid crystal (H). Value. This shows that the compound (Ia) of the present invention has a negative dielectric anisotropy, an extremely large absolute value, and a low viscosity.

（実施例７）液晶組成物の調製（２）
実施例６で調製したホスト液晶 (H) 95％と実施例２で得られた(IIa)5％からなる液晶組成物(M-２)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。
ネマチック相上限温度(TN-I)： 96.1℃
誘電率異方性(Δε)： −0.27
屈折率異方性(Δn)： 0.099
粘度（mPa・s）： 15.7
本発明の化合物(IIa)を含有する液晶組成物(M-２)は、ホスト液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は減少して負の値となり、粘度はほぼ同等の値となった。このことから、本発明の化合物は(IIa)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が大きく、また低粘度であることがわかる。 (Example 7) Preparation of liquid crystal composition (2)
A liquid crystal composition (M-2) comprising 95% of the host liquid crystal (H) prepared in Example 6 and 5% of (IIa) obtained in Example 2 was prepared. The physical properties of this composition are as follows.
Nematic phase upper limit temperature (TN-I): 96.1 ℃
Dielectric anisotropy (Δε): −0.27
Refractive index anisotropy (Δn): 0.099
Viscosity (mPa · s): 15.7
The liquid crystal composition (M-2) containing the compound (IIa) of the present invention has a negative dielectric anisotropy (Δε) and a viscosity almost equal to that of the host liquid crystal (H). Value. This shows that the compound (IIa) of the present invention has a negative dielectric anisotropy, a large absolute value, and a low viscosity.

（実施例８）液晶組成物の調製（３）
実施例６で調製したホスト液晶 (H) 95％と実施例３で得られた(IIIa)5％からなる液晶組成物(M-３)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。 (Example 8) Preparation of liquid crystal composition (3)
A liquid crystal composition (M-3) comprising 95% of the host liquid crystal (H) prepared in Example 6 and 5% of (IIIa) obtained in Example 3 was prepared. The physical properties of this composition are as follows.

ネマチック相上限温度(TN-I)： 93.7℃
誘電率異方性(Δε)： −0.29
屈折率異方性(Δn)： 0.099
粘度（mPa・s）： 16.3
本発明の化合物(IIIa)を含有する液晶組成物(M-３)は、ホスト液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は減少して負の値となり、粘度はほぼ同等の値となった。このことから、本発明の化合物は(IIIa)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が大きく、また低粘度であることがわかる。 Nematic phase upper limit temperature (TN-I): 93.7 ℃
Dielectric anisotropy (Δε): −0.29
Refractive index anisotropy (Δn): 0.099
Viscosity (mPa · s): 16.3
The liquid crystal composition (M-3) containing the compound (IIIa) of the present invention has a negative dielectric anisotropy (Δε) and a viscosity substantially equal to that of the host liquid crystal (H). Value. This shows that the compound (IIIa) of the present invention has a negative dielectric anisotropy, a large absolute value, and a low viscosity.

（実施例９）液晶組成物の調製（４）
実施例６で調製したホスト液晶 (H) 95％と実施例４で得られた(IVa)5％からなる液晶組成物(M-４)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。 (Example 9) Preparation of liquid crystal composition (4)
A liquid crystal composition (M-4) comprising 95% of the host liquid crystal (H) prepared in Example 6 and 5% of (IVa) obtained in Example 4 was prepared. The physical properties of this composition are as follows.

ネマチック相上限温度(TN-I)： 88.7℃
誘電率異方性(Δε)： −0.23
屈折率異方性(Δn)： 0.096
粘度（mPa・s）： 16.9
本発明の化合物(IVa)を含有する液晶組成物(M-４)は、ホスト液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は減少して負の値となった。このことから、本発明の化合物は(IVa)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が大きいことがわかる。 Nematic phase upper limit temperature (TN-I): 88.7 ℃
Dielectric anisotropy (Δε): −0.23
Refractive index anisotropy (Δn): 0.096
Viscosity (mPa · s): 16.9
The liquid crystal composition (M-4) containing the compound (IVa) of the present invention had a negative dielectric anisotropy (Δε) as compared with the host liquid crystal (H). From this, it can be seen that the compound (IVa) of the present invention has a negative dielectric anisotropy and a large absolute value.

（実施例１０）液晶組成物の調製（５）
実施例６で調製したホスト液晶 (H) 95％と実施例５で得られた(Va)5％からなる液晶組成物(M-５)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。 (Example 10) Preparation of liquid crystal composition (5)
A liquid crystal composition (M-5) comprising 95% of the host liquid crystal (H) prepared in Example 6 and 5% of (Va) obtained in Example 5 was prepared. The physical properties of this composition are as follows.

ネマチック相上限温度(TN-I)： 93.7℃
誘電率異方性(Δε)： −0.27
屈折率異方性(Δn)： 0.098
粘度（mPa・s）： 16.0
本発明の化合物(Va)を含有する液晶組成物(M-５)は、ホスト液晶(H)に比べ、誘電率異方性(Δε)は減少して負の値となり、粘度はほぼ同等の値となった。このことから、本発明の化合物は(Va)は、誘電率異方性が負であり、その絶対値が大きく、また低粘度であることがわかる。
（比較例１）
実施例６で調製したホスト液晶 (H) 95％と二環性液晶化合物（Ｉb） Nematic phase upper limit temperature (TN-I): 93.7 ℃
Dielectric anisotropy (Δε): −0.27
Refractive index anisotropy (Δn): 0.098
Viscosity (mPa · s): 16.0
In the liquid crystal composition (M-5) containing the compound (Va) of the present invention, the dielectric anisotropy (Δε) decreases to a negative value and the viscosity is almost the same as that of the host liquid crystal (H). Value. From this, it can be seen that the compound (Va) of the present invention has a negative dielectric anisotropy, a large absolute value, and a low viscosity.
(Comparative Example 1)
Host liquid crystal prepared in Example 6 (H) 95% and bicyclic liquid crystal compound (Ib)

5％からなる液晶組成物(M-６)を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

A liquid crystal composition (M-6) comprising 5% was prepared. The physical properties of this composition are as follows.

ネマチック相上限温度(TN-I)： 95.9℃
誘電率異方性(Δε)： −0.10
屈折率異方性(Δn)： 0.097
粘度（mPa・s）： 17.1
二環性液晶化合物 (Ib)を含有する液晶組成物(M-６)は、実施例６〜１０記載の(M-１)〜（M-５）と比べ、誘電率異方性の絶対値が小さく、また粘度が大きいことがわかる。 Nematic phase upper limit temperature (TN-I): 95.9 ℃
Dielectric anisotropy (Δε): −0.10
Refractive index anisotropy (Δn): 0.097
Viscosity (mPa · s): 17.1
The liquid crystal composition (M-6) containing the bicyclic liquid crystal compound (Ib) has an absolute value of dielectric anisotropy as compared with (M-1) to (M-5) described in Examples 6 to 10. Is small and the viscosity is large.

本発明の化合物および液晶組成物、表示素子は、垂直配向方式、IPS等の液晶表示素子の構成部材として有用である。
The compound, the liquid crystal composition, and the display element of the present invention are useful as constituent members of a liquid crystal display element such as a vertical alignment method and IPS.

Claims

一般式（１）

（式中、R¹およびR²はそれぞれ独立的に炭素原子数1〜10のアルキル基（これらの基中に存在する1個のCH₂基または隣接していない2個以上のCH₂基はOに置換されてもよい）を表し、A¹およびA²はそれぞれ独立的に-OCH ₂ -、-OCO-または単結合を表す。）
で表されるトリフルオロナフタレン誘導体。 General formula (1)

(Wherein R ¹ and R ² are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms ( one CH ₂ group present in these groups or two or more CH ₂ groups not adjacent to each other are A ¹ and A ² each independently represents —OCH ₂ —, —OCO—, or a single bond.
A trifluoronaphthalene derivative represented by:

請求項１記載の化合物を1種又は2種以上含有する液晶組成物。 A liquid crystal composition containing one or more compounds according to claim 1.

請求項２記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。 A liquid crystal display device using the liquid crystal composition according to claim 2.

アクティブマトリックス駆動される請求項３記載の液晶表示素子。 4. The liquid crystal display element according to claim 3, which is active matrix driven.

垂直配向方式で表示される請求項４記載の液晶表示素子。 The liquid crystal display element according to claim 4, wherein the liquid crystal display element is displayed in a vertical alignment method.