JP4696385B2 - カラー固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は固体撮像素子の製造方法に関し、特に固体撮像素子を構成するカラーフィルターの形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
デジタルカメラやビデオカメラに用いられる固体撮像素子は、カメラの解像度を高めるべく多画素化が図られ、またカメラ光学系の小型化にともないチップサイズの縮小が図られている。その結果、画素サイズが小さくなり、3μm×3μmといった画素サイズの固体撮像素子も出現している。カメラの高解像度化や小型化への要求は強く、固体撮像素子の画素サイズは今後さらに縮小することが予想される。
【0003】
一方、カラー固体撮像素子において光電変換素子からマイクロレンズまでの高さ、すなわち光電変換素子上層の厚さを薄くすることは難しく、通常、5μm程度となっている。したがって、画素の幅が上述のように3μmになると、光電変換素子上層の各光電変換素子の箇所におけるアスペクト比が高くなって、入射光をマイクロレンズによって光電変換素子に集光することが難しくなり、固体撮像素子の感度低下が問題となる。また、仮に集光できたとしてもカメラのレンズとしてF値の小さいものが用いられた場合、斜めに入射する光に対する感度低下が大きくなるという問題が生じる。
【0004】
そこで光電変換素子上層を薄くすることが課題となるが、カラー固体撮像素子の場合、光電変換素子の前方に配置されるカラーフィルターの厚さは2μm程度であり、上記光電変換素子上層の厚さ5μmのうち40%をカラーフィルターの厚さが占めていることになる。したがって、光電変換素子上層を薄くするためには、カラーフィルターを薄くすることが有効となる。
【0005】
カラーフィルターは従来、感光性を備えた染色基材をフォトリソグラフィーによりパターン化して染色を行ったり、あるいは色素を含有する感光性樹脂をフォトリソグラフィーによってパターン化することで形成していた。しかし、これらの手法では、フォトリソグラフィーのためにかならず所定量の感光剤や硬化剤が染色基材や感光性樹脂に含まれている必要がある。また染色基材中に含有させ得る色素量には上限があり、そして感光性樹脂としての性能を維持するために感光性樹脂中の色素の含有量は制限される。したがって、従来のカラーフィルターの薄膜化には限界がある。
【0006】
そこで、感光性を持たない色素材料を蒸着させて色素蒸着膜を形成し、この色素蒸着膜をドライエッチングによりパターン化するという手法が提案されている。
図7の(A)ないし(C)は従来の色素蒸着膜を用いたカラーフィルターの形成工程を示す固体撮像素子の部分側断面図、図8の(A)および(B)は、図7の(C)につづく工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【0007】
図7の(A)に示したように、たとえばシリコンによる半導体基板の表面部に周知の技術によって光電変換素子102を多数配列し、また光電変換素子102からの電荷の読み出し、および電荷転送のための電荷転送電極104を形成するとともに遮光膜106などを形成する。
【0008】
その後、たとえばPSG(Phospho Silicate Glass)膜やBPSG(Boronate Phosphorous Silicate Glass)膜などによる平坦化層108を形成した上で、平坦化層108上に、色素蒸着法により1色目の色素材料、たとえば緑の色素材料を蒸着し、色素蒸着膜110を形成する。
つづいて、図7の(B)に示したように、ドライエッチング耐性の高いフォトレジスト層112をエッチングマスクとしてドライエッチングにより色素蒸着膜110をエッチングしパターン化して緑のカラーフィルター114を形成する。
そして、図7の(C)に示したように、フォトレジスト層112を除去した後、たとえば無機膜によってエッチングストッパー膜116を形成して、カラーフィルター114の表面および露出した平坦化層108の表面を覆い、2色目の色素材料、たとえば赤の色素材料を蒸着して色素蒸着膜118を形成する。
【0009】
次に、図8の(A)に示したように、上記緑の色素蒸着膜110の場合と同様に、フォトレジスト層120を形成しフォトレジスト層120をマスクとして、カラーフィルター114上の色素蒸着膜118をドライエッチングにより除去することで、図8の(B)に示したように、色素蒸着膜118をパターン化し、赤のカラーフィルター122を形成する。
たとえば緑、赤、青のカラーフィルターを形成する場合には、残りの青のカラーフィルター(図示せず)についても同様の工程を経て形成し、カラーフィルターの形成工程が完了することになる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
このようにして形成したカラーフィルターでは、たとえば図8の(B)に示したように、隣接する2つのカラーフィルター、すなわちカラーフィルター114、122の境界部では、一部がオーバーラップしており、この例では、カラーフィルター122の一部はカラーフィルター114の上に形成され、カラーフィルター122の周辺部が上方に突出した形態となっている。
カラーフィルターを境界部でオーバーラップさせるのは、パターン化における加工精度が充分でないことなどによってカラーフィルターの境界部に隙間が生じることを防止するためである。
【0011】
しかし、その結果、上述のようにカラーフィルターの一部が突出してしまい、突出箇所では膜厚が厚くなっている。したがって、膜厚を薄くすべく色素蒸着膜によりカラーフィルターを形成しているにもかかわらず、充分にその効果が得られないのが現状である。
パターン化における加工精度を高めることができれば、カラーフィルターどうしをオーバーラップをさせない構造とすることでこの問題は回避できる。しかし、エッチングマスクとなるフォトレジスト層を形成する際の位置合わせ精度や、パターン化における寸法精度、ドライエッチングのCD(Critical Dimension)ロス量など、誤差を生む要因が多く、現在のフォトリソグラフィーおよびドライエッチングの技術水準では、色素蒸着膜のパターン化における加工精度をさらに高めることは困難である。
【0012】
本発明はこのような問題を解決するためになされたもので、その目的は、色素蒸着膜によるカラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消してカラーフィルターを薄膜化したカラー固体撮像素子の製造方法を提供することにある。
【0014】
また、本発明は、基板上に配列された光電変換素子と、各光電変換素子ごとに光電変換素子の受光部前方に配置されたカラーフィルターとを含み、各カラーフィルターは隣接するものどうしが互いに側部を実質的に接して配置されているカラー固体撮像素子を製造する方法であって、前記光電変換素子が配列された前記基板上に透明材料により平坦化層を形成し、前記平坦化層の上に第1の色の色素材料を蒸着させて色素蒸着膜を形成し、前記色素蒸着膜の上にパターン化したフォトレジスト層を形成し、前記フォトレジスト層をマスクとして等方性エッチングを行い前記フォトレジスト層から露出した前記色素蒸着膜を除去し前記色素蒸着膜をパターン化して第1の色のカラーフィルターを形成し、前記色素蒸着膜を除去した箇所に第2の色の色素蒸着膜による第2の色のカラーフィルターを形成する工程を含むことを特徴とする。
【0015】
本発明で製造されるカラー固体撮像素子では、隣接するカラーフィルターの側部対向面が、基板に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されているので、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
【0016】
また、本発明のカラー固体撮像素子の製造方法では、第1の色の色素材料による色素蒸着膜の上にパターン化したフォトレジスト層を形成して同フォトレジスト層をマスクとして色素蒸着膜をエッチングする際、等方性エッチングを行うので、フォトレジスト層の縁部ではフォトレジスト層の下部においても色素蒸着膜がエッチングされ、そして、浅い箇所ほど大きくエッチングされるので、第1の色のカラーフィルターの側面は傾斜して形成される。
したがって、その後、上記色素蒸着膜のエッチング箇所に第2の色のカラーフィルターを形成すると、第1および第2の色のカラーフィルターの側部対向面は、基板に垂直な仮想直線に対して傾斜したものとなる。よって、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
【0017】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施の形態例について図面を参照して説明する。
図1は本発明によるカラー固体撮像素子の一例を示す部分側断面図である。
本実施の形態例のカラー固体撮像素子2は、図1に示したように、シリコンから成る半導体基板4上に配列された光電変換素子6と、各光電変換素子6の受光部8ごとに受光部8前方に配置された色素蒸着膜によるカラーフィルター10、12などを含み、各カラーフィルターは隣接するものどうしが互いに側部を実質的に接して配置されている。
【0018】
光電変換素子6は、本実施の形態例では半導体基板4上にマトリクス状に配列されており、光電変換素子6の各列ごとに半導体基板4の表面部に垂直電荷転送路14が延設されている。なお、図1において紙面に直交する方向が光電変換素子6の列の方向である。半導体基板4の表面にはシリコン酸化膜による絶縁膜16が形成され、各垂直電荷転送路14の上には絶縁膜16を挟んで電荷転送電極18が配置されている。各電荷転送電極18は、シリコン酸化膜による絶縁膜20を介して遮光膜22により覆われている。
【0019】
遮光膜22および光電変換素子6の上には、たとえばPSG膜やBPSG膜などによる平坦化層24が形成され、その上にカラーフィルター10、12が形成されている。本実施の形態例では、カラーフィルター10、12の側部対向面26は、図1に示したように、半導体基板4に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されている。
【0020】
なお、カラーフィルター10の上面、およびカラーフィルター10から露出している平坦化層24の上面はエッチングストッパー膜28により覆われ、カラーフィルター12の主要部は、平坦化層24がカラーフィルター10から露出している箇所において平坦化層24の上にエッチングストッパー膜28を介して形成されている。
【0021】
カラーフィルター12の、カラーフィルター10との境界部は、詳しくは下部30がエッチングストッパー膜28を介しカラーフィルター10に実質的に接しており、この箇所において、カラーフィルター10、12の側部対向面26が上述のように半導体基板4に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されている。
一方、カラーフィルター12の、カラーフィルター10との境界部における上部側面32は、上記側部対向面26に対して逆向きに傾斜している。
【0022】
以上のとおり、本実施の形態例のカラー固体撮像素子2では、隣接するカラーフィルターの側部対向面26が、半導体基板4に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されているので、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低く、たとえばカラーフィルター10、12が左右に若干ずれたり、幅が若干狭くなったとしても、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
これにより、画素サイズの縮小に対応して光電変換素子上層を薄くすることができ、入射光をマイクロレンズによって効果的に光電変換素子6に集光して、固体撮像素子の感度低下を回避することが可能となる。
また、本実施の形態例では、カラーフィルター12の上部側面32も上述のように傾斜しており、このような形状は、カラーフィルター10、12の境界部におけるオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を確実に解消する上で有効である。
【0023】
図2はカラーフィルターの配列の一例を示す部分平面図である。固体撮像素子が原色タイプのものである場合には、カラーフィルターとしては赤(R)、青(B)、緑(G)の3色のものが用いられ、それらはたとえば図2のように配列される。この例では、緑のカラーフィルターが市松模様に配置されており、各緑のカラーフィルターに隣接して赤あるいは青のカラーフィルターが規則的に配置されている。
【0024】
カラーフィルターが図2のように配列されている場合、図1に示したカラーフィルター10がたとえば緑のカラーフィルターであったとすると、カラーフィルター12は赤または青のカラーフィルターとなる。
固体撮像素子が補色タイプの場合には、各カラーフィルターの色はマゼンタ、シアン、黄色、緑のいずれかとなる。
ただし、本発明は、カラーフィルターとしてどのような色のものが用いられるかには無関係であり、いずれの場合にも上記効果を奏するものである。
【0025】
次に、本発明によるカラー固体撮像素子2の製造方法の一例について説明する。
図3の(A)および(B)は、本発明による固体撮像素子の製造方法にもとづくカラーフィルターの形成工程を示す固体撮像素子の部分側断面図、図4の(A)および(B)は、図3の(B)の工程ににつづく工程をを示す固体撮像素子の部分側断面図である。図中、図1と同一の要素には同一の符号が付されている。
【0026】
図3の(A)に示したように、シリコンによる半導体基板4の表面部に周知の技術によって光電変換素子6を多数配列し、また光電変換素子6からの電荷の読み出し、および電荷転送のための電荷転送電極18を形成するとともに絶縁膜16、20、遮光膜22などを形成する。
【0027】
その後、たとえばPSG膜やBPSG膜などによる平坦化層24を形成した上で、平坦化層24上に、色素蒸着法により1色目の色素材料、たとえば緑の色素材料を蒸着し、色素蒸着膜34を形成する。
つづいて、図3の(B)に示したように、パターン化した、ドライエッチング耐性の高いフォトレジスト層36を形成し、フォトレジスト層36をエッチングマスクとして等方性ドライエッチングを行って色素蒸着膜34をエッチングしパターン化してカラーフィルター10を形成する。ここで、等方性エッチングを行うことにより、フォトレジスト層36の縁部38ではフォトレジスト層の下部においても色素蒸着膜34がエッチングされ、そして、浅い箇所ほど大きくエッチングされるので、第1の色のカラーフィルターの側面26は傾斜して形成される。
【0028】
なお、等方性エッチングとしては、たとえば酸素ガスを用いたアッシングを行うことができる。また、このとき、たとえば100°C以下の低温でアッシングを行うことにより、フォトレジスト層36に対するダメージを低く抑えることができ、次に行うMMP(メチル−3−メトキシプロピオネート)などの溶剤を用いたフォトレジスト層36の除去工程が容易となる。
【0029】
そして、図4の(A)に示したように、フォトレジスト層36を除去した後、たとえば無機膜によってエッチングストッパー膜28を形成して、カラーフィルター10の表面および露出した平坦化層24の表面を覆う。
次に、エッチングストッパー膜28の上に2色目の色素材料、たとえば赤の色素材料を蒸着して色素蒸着膜を形成し、カラーフィルター10の場合と同様に、平坦化層24の上にエッチングストッパー膜28が形成された箇所、すなわち2色目のカラーフィルターを形成する箇所で開口するフォトレジスト層を形成し、同フォトレジスト層をマスクとして、またエッチングストッパー膜28をエッチングストッパーとして赤の色素材料による色素蒸着膜に対して等方性エッチングを行い、図4の(B)に示したように、カラーフィルター12を得る。
その後、カラーフィルターの上に周知の工程によってマイクロレンズなどを形成することにより、固体撮像素子が完成する。
【0030】
本実施の形態例のカラー固体撮像素子2の製造方法では、上述のように、1色目の色素材料による色素蒸着膜34の上にパターン化したフォトレジスト層36を形成して同フォトレジスト層をマスクとして色素蒸着膜34をエッチングする際、等方性エッチングを行うので、フォトレジスト層36の縁部ではフォトレジスト層の下部においても色素蒸着膜34がエッチングされ、そして、浅い箇所ほど大きくエッチングされるので、第1の色のカラーフィルターの側面26は傾斜して形成される。
【0031】
したがって、その後、色素蒸着膜34のエッチング箇所に2色目のカラーフィルター12を形成すると、カラーフィルター10、12のエッチングストッパー膜28を介した側部対向面26は、半導体基板4に垂直な仮想直線に対して傾斜したものとなる。よって、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター10、12間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルター10、12のオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
これにより、画素サイズの縮小に対応して光電変換素子上層を薄くすることができ、入射光をマイクロレンズによって効果的に光電変換素子6に集光して、固体撮像素子の感度低下を回避することが可能となる。
【0032】
なお、本実施の形態例では、カラーフィルター12を形成する場合にも、上述のように等方性エッチングを行ったため、カラーフィルター12の、カラーフィルター10との境界部におけるフォトレジスト層下部もエッチングされ、上部側面32(図4の(B))は、カラーフィルター10の側面に対して逆向きに傾斜している。このような形状は、カラーフィルター10、12の境界部におけるオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を確実に解消する上で有効である。
【0033】
また、各色のカラーフィルターの配列方法は様々であり、したがって、たとえば図5に示したように、緑のカラーフィルター10および赤のカラーフィルター12が隣接し、赤のカラーフィルター12の反対側に青のカラーフィルター42が隣接して形成される場合もある。このような場合にも、基本的に、フォトリソグラフィー技術とドライエッチング技術を用いた同様の工程により本発明にもとづいて各カラーフィルターを形成することができる。
【0034】
本実施の形態例では、上述のように、カラーフィルター12を形成する際にも等方性エッチングを行うとしたが、1色目のカラーフィルター10が緑のカラーフィルターであり、この緑のカラーフィルターが、図2に示したように市松模様に配列されている場合には、2色目以降のカラーフィルターの形成では異方性エッチングを行って各色素蒸着膜をパターン化してもよい。
【0035】
図6は1色目のカラーフィルターのみ等方性エッチングを行って形成した場合の固体撮像素子を示す部分側断面図である。なお、図中、図1などと同一の要素には同一の符号が付されている。図6に示したように、異方性エッチングで形成するカラーフィルター12Aは、カラーフィルター10との境界部における上部がエッチングされず、したがってカラーフィルター10との境界部で若干突出するものの、カラーフィルター10の側面が傾斜しているため突出量は少なく、したがって従来よりカラーフィルターの膜厚を抑えることができる。
そして、異方性エッチングは、等方性エッチングに比べて寸法の制御性が高く、この利点を活かしてカラーフィルターを精度よく形成すべく図ることができる。
【0036】
なお、1色目のカラーフィルターが市松模様に配列されていない場合には、1色目のカラーフィルターを等方性エッチングにより形成しただけでは、カラーフィルターの隣接側面がすべて傾斜して形成されるとは限らなくなるため、2色目以降のカラーフィルターを形成する場合にも等方性エッチングを行うことになる。
【0037】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のカラー固体撮像素子では、隣接するカラーフィルターの側部対向面が、基板に垂直な仮想直線に対して斜めに形成されているので、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
【0038】
また、本発明のカラー固体撮像素子の製造方法では、第1の色の色素材料による色素蒸着膜の上にパターン化したフォトレジスト層を形成して同フォトレジスト層をマスクとして色素蒸着膜をエッチングする際、等方性エッチングを行うので、フォトレジスト層の縁部ではフォトレジスト層の下部においても色素蒸着膜がエッチングされ、そして、浅い箇所ほど大きくエッチングされるので、第1の色のカラーフィルターの側面は傾斜して形成される。
したがって、その後、上記色素蒸着膜のエッチング箇所に第2の色のカラーフィルターを形成すると、第1および第2の色のカラーフィルターの側部対向面は、基板に垂直な仮想直線に対して傾斜したものとなる。よって、色素蒸着膜のパターン化における加工精度が多少低くとも、隣接するカラーフィルター間に隙間が生じることはなく、かつ、隣接カラーフィルターのオーバーラップにともなうカラーフィルターの突出を解消することができる。その結果、色素蒸着膜を用いることの効果を充分に活かしてカラーフィルターの薄膜化を実現できる。
【0039】
これにより、画素サイズの縮小に対応して光電変換素子上層を薄くすることができ、入射光をマイクロレンズによって効果的に光電変換素子に集光して、固体撮像素子の感度低下を回避することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるカラー固体撮像素子の一例を示す部分側断面図である。
【図2】カラーフィルターの配列の一例を示す部分平面図である。
【図3】(A)および(B)は、本発明による固体撮像素子の製造方法にもとづくカラーフィルターの形成工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【図4】図3の(B)の工程ににつづく工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【図5】本発明によるカラー固体撮像素子の他の例を示す部分側断面図である。
【図6】1色目のカラーフィルターのみ等方性エッチングを行って形成した場合の固体撮像素子を示す部分側断面図である。
【図7】(A)ないし(C)は従来の色素蒸着膜を用いたカラーフィルターの形成工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【図8】(A)および(B)は、図7の(C)につづく工程を示す固体撮像素子の部分側断面図である。
【符号の説明】
2……カラー固体撮像素子、4……半導体基板、6……光電変換素子、8……受光部、10……カラーフィルター、12……カラーフィルター、14……垂直電荷転送路、16……絶縁膜、18……電荷転送電極、20……絶縁膜、22……遮光膜、24……平坦化層、26……側部対向面、28……エッチングストッパー膜、30……下部、32……上部側面、34……色素蒸着膜、36……フォトレジスト層、38……縁部、42……カラーフィルター、102……光電変換素子、104……電荷転送電極、106……遮光膜、108……平坦化層、110……色素蒸着膜、112……フォトレジスト層、114……カラーフィルター、116……エッチングストッパー膜、118……色素蒸着膜、120……フォトレジスト層、122……カラーフィルター。
Claims (6)
- 基板上に配列された光電変換素子と、各光電変換素子ごとに光電変換素子の受光部前方に配置されたカラーフィルターとを含み、各カラーフィルターは隣接するものどうしが互いに側部を実質的に接して配置されているカラー固体撮像素子を製造する方法であって、前記光電変換素子が配列された前記基板上に透明材料により平坦化層を形成し、前記平坦化層の上に第1の色の色素材料を蒸着させて色素蒸着膜を形成し、前記色素蒸着膜の上にパターン化したフォトレジスト層を形成し、前記フォトレジスト層をマスクとして等方性エッチングを行い前記フォトレジスト層から露出した前記色素蒸着膜を除去し前記色素蒸着膜をパターン化して第1の色のカラーフィルターを形成し、前記色素蒸着膜を除去した箇所に第2の色の色素蒸着膜による第2の色のカラーフィルターを形成する工程を含むことを特徴とするカラー固体撮像素子の製造方法。
- 前記第2の色のカラーフィルターを形成する工程では、前記第1の色のカラーフィルターの表面および露出した前記平坦化層の表面に透明材料から成るエッチングストッパー膜を形成し、前記エッチングストッパー膜の上に第2の色の色素材料を蒸着させて第2の色素蒸着膜を形成し、前記第2の色のカラーフィルターを形成する箇所の前記第2の色素蒸着膜の上に第2のフォトレジスト層を形成し、同第2のフォトレジスト層をマスクとし前記エッチングストッパー膜をエッチングストッパーとして等方性エッチングを行い前記第2のフォトレジスト層から露出した前記第2の色の色素蒸着膜を除去することを特徴とする請求項1記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
- 前記第2の色のカラーフィルターを形成する工程では、前記第1の色のカラーフィルターの表面および露出した前記平坦化層の表面に透明材料から成るエッチングストッパー膜を形成し、前記エッチングストッパー膜の上に第2の色の色素材料を蒸着させて第2の色素蒸着膜を形成し、前記第2の色のカラーフィルターを形成する箇所の前記第2の色素蒸着膜の上に第2のフォトレジスト層を形成し、同第2のフォトレジスト層をマスクとし前記エッチングストッパー膜をエッチングストッパーとして異方性エッチングを行い前記第2のフォトレジスト層から露出した前記第2の色の色素蒸着膜を除去することを特徴とする請求項1記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
- 前記等方性エッチングは、酸素ガスを用いたアッシングにより行うことを特徴とする請求項1記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
- 前記アッシングは100°C以下の温度で行うことを特徴とする請求項4記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
- 前記エッチングストッパー膜は無機材料により形成することを特徴とする請求項2または3に記載のカラー固体撮像素子の製造方法。
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