JP4690790B2

JP4690790B2 - Particle feeder

Info

Publication number: JP4690790B2
Application number: JP2005177198A
Authority: JP
Inventors: 孝佳鈴木; 浩太郎光本
Original assignee: Kowa Co Ltd
Current assignee: Kowa Co Ltd
Priority date: 2005-06-17
Filing date: 2005-06-17
Publication date: 2011-06-01
Anticipated expiration: 2025-06-17
Also published as: JP2006349538A

Description

本発明は、粒子特性の測定を行う粒子測定装置に測定粒子を供給する粒子供給装置に関するものである。 The present invention relates to a particle supply device that supplies measurement particles to a particle measurement device that measures particle characteristics.

工業製品の粒子状物質や自然物である花粉等の粒子の大きさや物性を測定するために用いられる粒子測定装置には、フロー式やレーザー回折／散乱方式等の様々な方式が、昨今利用されている。例えば、光源とカメラの間に測定粒子を含む試料を流し、光源からの証明がパルスの形で不連続に行なわれる技術が公開されている（例えば、特許文献１を参照。）。この技術によると、カメラによって撮影された画像を解析することで、測定粒子の大きさの時間分布を測定することが可能となる。 Various methods such as the flow method and the laser diffraction / scattering method have recently been used for particle size measuring equipment used to measure the size and physical properties of particles such as industrial particulate matter and natural pollen. Yes. For example, a technique is disclosed in which a sample containing measurement particles is passed between a light source and a camera, and verification from the light source is performed discontinuously in the form of pulses (see, for example, Patent Document 1). According to this technique, it is possible to measure the time distribution of the size of the measurement particle by analyzing the image taken by the camera.

粒子測定装置において粒子の物性をより正確に測定するために、粒子測定装置に安定的に測定の対象となる測定粒子を供給する必要がある場合がある。そこで、フロー式粒子測定装置において、測定部の直上流に測定粒子を含む液体試料を、マグネット駆動の撹拌装置で撹拌する技術が公開されている（例えば、特許文献２を参照。）。この技術によると、撹拌され密度分布がより均一となった液体試料が測定部に供給されるため、測定粒子の測定精度が向上され得る。 In order to more accurately measure the physical properties of the particles in the particle measuring apparatus, it may be necessary to stably supply the measurement particles to be measured to the particle measuring apparatus. In view of this, in a flow particle measuring apparatus, a technique for agitating a liquid sample containing measurement particles immediately upstream of a measuring unit with a magnet-driven agitating apparatus is disclosed (for example, see Patent Document 2). According to this technique, since the liquid sample that has been stirred and has a more uniform density distribution is supplied to the measurement unit, the measurement accuracy of the measurement particles can be improved.

また、粒子測定装置への測定粒子の供給装置として、閉鎖空間に飛散させて測定粒子を含む空気を粒子測定装置に送る技術が挙げられる（例えば、非特許文献１を参照。）。この測定粒子の供給装置について、図６に基づいて説明する。図６には、粒子測定装置３３に測定粒子を供給する粒子供給装置が示される。ブロワ３０を駆動することで、測定粒子を含む空気をチャンバー３１内に送る。そして、チャンバー３１内の空気の一部を空気排出チューブ３２を介して、粒子測定装置３３に送ることで、粒子測定装置３３による測定粒子の粒子特性の測定が行われる。尚、チャンバー３１には、その内部の圧力上昇抑制のために排気孔３４が設けられているが、ここからチャンバー３１内の測定粒子は漏れ出さないようにフィルタが設けられている。
特開平６−１７４６２８号公報特開平１１−１３２９３１号公報ＪＩＳＢ９９２１光散乱式自動粒子計測器附属書２ Moreover, as a supply device of the measurement particles to the particle measurement device, there is a technique of scattering air in a closed space and sending air containing the measurement particles to the particle measurement device (for example, see Non-Patent Document 1). This measuring particle supply apparatus will be described with reference to FIG. FIG. 6 shows a particle supply device for supplying measurement particles to the particle measurement device 33. By driving the blower 30, air containing measurement particles is sent into the chamber 31. Then, a part of the air in the chamber 31 is sent to the particle measuring device 33 through the air discharge tube 32, whereby the particle characteristic of the measurement particle is measured by the particle measuring device 33. In addition, although the exhaust hole 34 is provided in the chamber 31 for the pressure rise suppression in the inside, the filter is provided so that the measurement particle | grains in the chamber 31 may not leak from here.
JP-A-6-174628 Japanese Patent Laid-Open No. 11-132931 JIS B9921 Light scattering type automatic particle measuring instrument Annex 2

気体中の測定粒子の物性を測定するために、測定粒子の供給（飛散）を開放された空間で行おうとすると、その周辺環境を測定粒子で汚染してしまう虞がある。また、閉じられた空間で測定粒子を飛散させることで周辺環境の汚染を回避することは可能となるが、そのような場合、気体中の粒子が時間の経過とともに沈降して行き、粒子測定装置に安定した濃度で測定粒子を供給することが困難となる。 If measurement particles are supplied (scattered) in an open space in order to measure the physical properties of the measurement particles in the gas, the surrounding environment may be contaminated with the measurement particles. In addition, it is possible to avoid contamination of the surrounding environment by scattering the measurement particles in a closed space. In such a case, the particles in the gas settle down over time, and the particle measurement device It becomes difficult to supply the measurement particles at a stable concentration.

また、閉じられた空間で測定粒子を飛散させる場合、粒子測定装置での測定の目的に応じた濃度の測定粒子を、迅速に粒子測定装置に供給する技術が今まで見出されていない。 In addition, when scattering measurement particles in a closed space, no technology has been found so far to rapidly supply measurement particles having a concentration according to the purpose of measurement by the particle measurement device to the particle measurement device.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、気体中の測定粒子の物性を測定するために、測定に応じた濃度の測定粒子を安定的に粒子測定装置に供給することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and aims to stably supply measurement particles having a concentration corresponding to the measurement to the particle measurement device in order to measure the physical properties of the measurement particles in the gas. To do.

本発明では、上記した課題を解決するために、閉鎖された空間に測定粒子を貯留し、そこに粒子攪拌用の気体を供給するとともに、攪拌された測定粒子を含む気体を粒子測定装置に供給することとした。このようにすることで、気体中に測定粒子を比較的安定的に含ませた状態で測定粒子を粒子測定装置に供給することが可能となる。 In the present invention, in order to solve the above-described problem, the measurement particles are stored in a closed space, and the gas for stirring the particles is supplied thereto, and the gas containing the stirred measurement particles is supplied to the particle measuring device. It was decided to. By doing in this way, it becomes possible to supply measurement particle | grains to a particle | grain measuring apparatus in the state which contained measurement particle | grains comparatively stably in gas.

詳細には、本発明は、粒子特性の測定を行う粒子測定装置に測定粒子を供給する粒子供給装置であって、前記測定粒子が貯留されているチャンバーと、前記チャンバー内に設けられた気体供給口から該チャンバー内に、粒子撹拌用の気体を供給する気体供給手段と、前記チャンバー内に設けられた気体排出口から前記測定粒子を含む気体を排出し、前記粒子測定装置に該気体を送る気体排出手段と、前記チャンバーにおける前記気体排出口の位置を調整する気体排出口位置調整手段と、を備えることを特徴とする。 Specifically, the present invention relates to a particle supply device that supplies measurement particles to a particle measurement device that measures particle characteristics, the chamber storing the measurement particles, and a gas supply provided in the chamber Gas supply means for supplying gas for stirring particles into the chamber from the mouth, and gas containing the measurement particles are discharged from a gas discharge port provided in the chamber, and the gas is sent to the particle measuring device And a gas exhaust port position adjusting unit configured to adjust a position of the gas exhaust port in the chamber.

前記粒子測定装置では、測定粒子の大きさや物性等の特性が測定されるが、その測定粒子はチャンバー内に貯留されている。そして、このチャンバーには、気体供給手段により測定粒子を攪拌するための粒子攪拌用気体が供給される。この粒子攪拌用気体によりチャンバー内には、測定粒子を常時舞い上げるいわゆる上昇流が形成される。そして、チャンバー内で、測定粒子は粒子攪拌用気体によって拡散するとともに、時間の経過とともにその自重やチャンバー内の下降流等で沈降していく。その結果、チャンバー内に該気体の循環流が形成され、以て測定粒子が安定的に分布した状態が形成される。換言すると、チャンバー内に形成される循環流が、測定粒子をチャンバー内に拡散させる機能を有するとともに、沈降してきた測定粒子を再拡散のために回収する機能を有することで、チャンバー内に測定粒子の定常的な分布状態が形成されることになる。 In the particle measuring apparatus, characteristics such as the size and physical properties of the measurement particle are measured, but the measurement particle is stored in the chamber. And the gas for particle stirring for stirring a measurement particle is supplied to this chamber by a gas supply means. This particle agitation gas forms a so-called upward flow that constantly raises the measurement particles in the chamber. In the chamber, the measurement particles are diffused by the particle agitation gas, and are settled as time passes due to their own weight, a downward flow in the chamber, or the like. As a result, a circulating flow of the gas is formed in the chamber, thereby forming a state in which the measurement particles are stably distributed. In other words, the circulating flow formed in the chamber has a function of diffusing the measurement particles into the chamber and a function of collecting the measurement particles that have settled for re-diffusion. Thus, a steady distribution state is formed.

このとき、チャンバー内で形成される循環流の大きさや流れる位置等によって、チャンバー内の位置に応じて、測定粒子の分布濃度には偏りが生じる。例えば、測定粒子が貯留されている部位近傍の空間では、該空間に飛散してくる測定粒子が多いため該空間での測定粒子濃度は比較的高い状態で安定し、一方で、その測定粒子が貯留されている部位から遠くなるに従い、飛散してくる測定粒子量が少なくなるため測定粒子濃度も次第に低下した状態で安定する。 At this time, the distribution concentration of the measurement particles is biased depending on the position in the chamber depending on the size of the circulating flow formed in the chamber, the flowing position, and the like. For example, in the space near the site where the measurement particles are stored, the measurement particle concentration in the space is stable in a relatively high state because there are many measurement particles scattered in the space. As the distance from the stored site decreases, the amount of the measurement particles that scatters decreases, so that the measurement particle concentration is stabilized in a gradually reduced state.

そこで、本発明に係る粒子供給装置においては、チャンバー内から測定粒子を含む気体を、気体排出手段によって排出するとともに粒子測定装置に該気体を供給することで、該粒子測定装置による測定粒子の特性の測定が行われる。このとき、上述したように、チャンバー内には測定粒子が安定的に分布するため、粒子測定装置にも測定粒子の濃度が安定的に保たれた気体が供給され、測定粒子装置による測定精度でも良好な結果を得ることが可能となる。 Therefore, in the particle supply apparatus according to the present invention, the gas containing the measurement particles is discharged from the chamber by the gas discharge means and the gas is supplied to the particle measurement apparatus, whereby the characteristics of the measurement particles by the particle measurement apparatus are measured. Is measured. At this time, as described above, since the measurement particles are stably distributed in the chamber, a gas in which the concentration of the measurement particles is stably maintained is supplied to the particle measurement device, and the measurement accuracy of the measurement particle device is also high. Good results can be obtained.

また、測定粒子を含む気体は気体排出口から排出されるが、上述したようにチャンバー内の位置に応じて、測定粒子の濃度の分布には安定的な偏りが生じている。そこで、気体排出口位置調整手段によって、チャンバーにおける気体排出口の位置を調整することで、チャンバー内に形成される測定粒子の分布濃度の範囲内において、任意の測定粒子濃度の気体を、測定粒子装置に安定的に供給することが可能となる。換言すると、測定の目的に応じて、測定粒子の濃度を速やかに制御することが可能となる。 Moreover, although the gas containing the measurement particles is discharged from the gas discharge port, as described above, the concentration distribution of the measurement particles is stably biased depending on the position in the chamber. Therefore, by adjusting the position of the gas discharge port in the chamber by the gas discharge port position adjusting means, the gas having an arbitrary measurement particle concentration is measured within the range of the distribution concentration of the measurement particles formed in the chamber. It becomes possible to supply the apparatus stably. In other words, the concentration of the measurement particles can be quickly controlled according to the purpose of measurement.

ここで、上記の粒子供給装置において、前記気体供給口の噴出し形状は、前記チャンバー内に前記粒子撹拌用気体による渦流を形成する形状であって、該渦流の進行方向は該チャンバー内に配置された測定粒子に向かう方向であってもよい。このようにすることで、上記の循環流を安定的に形成し、渦流のエネルギーを測定粒子の拡散に効率的に利用することが可能となる。特に測定粒子に向かう渦流とすることで、測定粒子が貯留されている
近傍で安定的な上昇流、即ち測定粒子を拡散させるための流れの形成が可能となる。 Here, in the above-described particle supply apparatus, the ejection shape of the gas supply port is a shape that forms a vortex by the particle agitation gas in the chamber, and the traveling direction of the vortex is arranged in the chamber. The direction toward the measured particle may be used. By doing in this way, it becomes possible to form the above-mentioned circulation flow stably and to efficiently use the energy of the vortex flow for the diffusion of the measurement particles. In particular, by making the vortex flow toward the measurement particles, it is possible to form a stable upward flow in the vicinity where the measurement particles are stored, that is, a flow for diffusing the measurement particles.

尚、このような気体供給口の噴出し形状としては、気体供給口を含む供給気体が流れる通路自体にねじりを加えて、供給気体に旋回成分を加えてスワールを形成する形状が挙げられる。更に、前記チャンバーが、底部および側部を有し、前記測定粒子は該チャンバーの底部に貯留されている場合、前記気体供給口が、前記チャンバーの側部に向かって前記粒子撹拌用気体を噴出する噴出し形状を有するようにしてもよい。即ち、チャンバーの側壁に向かって粒子攪拌用気体を噴き付けることで、該気体が側壁に沿って流れ、大きな渦流を作る。そして、その渦流が、チャンバーの底部に貯留されている測定粒子まで到達すると、測定粒子を拡散させる上昇流となる。これにより、上述した、安定した測定粒子の供給が可能となる。 In addition, as the ejection shape of such a gas supply port, a shape in which a swirl is formed by adding a swirling component to the supply gas by twisting the passage itself through which the supply gas including the gas supply port flows is exemplified. Further, when the chamber has a bottom portion and a side portion, and the measurement particles are stored in the bottom portion of the chamber, the gas supply port ejects the particle stirring gas toward the side portion of the chamber. You may make it have the ejection shape to do. That is, by spraying the particle agitation gas toward the side wall of the chamber, the gas flows along the side wall to create a large vortex. When the swirl reaches the measurement particles stored at the bottom of the chamber, it becomes an upward flow that diffuses the measurement particles. This makes it possible to supply the above-mentioned stable measurement particles.

また、上述までの粒子供給装置において、前記チャンバー内において前記粒子撹拌用気体によって前記測定粒子とともに浮遊する撹拌部材を、更に備えるようにしてもよい。攪拌部材を備えるようにすることで、粒子攪拌用気体による渦流によって攪拌部材が動かされ、チャンバーに貯留された測定粒子の拡散を促進させることが可能となる。ここで、攪拌部材は、気体排出口に流れ込んだり、気体排出口を塞いだりする大きさや重さでないことが好ましい。 In the particle supply apparatus described above, a stirring member that floats together with the measurement particles by the particle stirring gas in the chamber may be further provided. By providing the stirring member, the stirring member is moved by the vortex generated by the particle stirring gas, and the diffusion of the measurement particles stored in the chamber can be promoted. Here, it is preferable that the stirring member does not have a size or weight that flows into the gas discharge port or blocks the gas discharge port.

更に、前記撹拌部材は、交換可能であってもよい。即ち、測定粒子の種類等に応じて、測定粒子の拡散が十分に生じる適当な攪拌部材に交換してもよい。 Furthermore, the stirring member may be replaceable. In other words, depending on the type of measurement particles, the stirring member may be replaced with an appropriate stirring member that causes sufficient diffusion of the measurement particles.

ここで、上述までの粒子供給装置において、前記チャンバー内に二つの空間領域を画定する遮蔽板と、前記チャンバーに対する前記遮蔽板の位置を調整し、前記二つの空間領域の比率を変更する遮蔽板位置調整手段と、を更に備え、前記測定粒子は前記二つの空間領域のうち一方の空間領域に貯留されるとともに、前記気体供給口も該一方の空間領域側に設けられ、前記気体排出口位置調整手段は、前記一方の空間領域側で前記気体排出口の位置を調整するようにしてもよい。 Here, in the particle supply apparatus described above, a shielding plate that defines two spatial regions in the chamber, and a shielding plate that adjusts a position of the shielding plate with respect to the chamber and changes a ratio of the two spatial regions. A position adjusting means, wherein the measurement particles are stored in one of the two space regions, and the gas supply port is also provided on the one space region side, and the gas discharge port position The adjusting means may adjust the position of the gas outlet on the one space region side.

上記の粒子供給装置では、遮蔽板位置調整手段によって遮蔽板の位置を調整すると、測定粒子が貯留されている空間領域の容積が変動する。その結果、該空間領域内に発生する渦流の強さや位置が変化するため、該空間領域に安定的に存在する測定粒子の分布も変化することになる。従って、遮蔽板位置調整手段によって遮蔽板の位置を調整することで、粒子測定装置に安定的に供給される測定粒子の濃度を調整することが可能となる。 In the above particle supply device, when the position of the shielding plate is adjusted by the shielding plate position adjusting means, the volume of the space region in which the measurement particles are stored fluctuates. As a result, since the strength and position of the vortex generated in the space region change, the distribution of the measurement particles stably present in the space region also changes. Therefore, by adjusting the position of the shielding plate by the shielding plate position adjusting means, it is possible to adjust the concentration of the measurement particles stably supplied to the particle measuring apparatus.

また、前記粒子供給装置が、前記チャンバー内に二つの空間領域を画定する遮蔽板と、前記チャンバーに対する前記遮蔽板の位置を調整し、前記二つの空間領域の比率を変更する遮蔽板位置調整手段と、を更に備える場合、前記遮蔽板は、所定の口径の孔であって前記二つの空間領域のそれぞれに連通する貫通孔を有し、前記測定粒子は前記二つの空間領域のうち一方の空間領域に配置されるとともに、前記気体供給口も該一方の空間領域側に設けられ、前記気体排出口位置調整手段は、前記二つの空間領域のうち他方の空間領域側で前記気体排出口の位置を調整するようにしてもよい。 The particle supply device includes a shielding plate that defines two space regions in the chamber, and shielding plate position adjusting means that adjusts a position of the shielding plate with respect to the chamber and changes a ratio of the two space regions. And the shielding plate has a through hole that is a hole having a predetermined diameter and communicates with each of the two space regions, and the measurement particle is one of the two space regions. The gas supply port is also provided on the one space region side, and the gas discharge port position adjusting means is arranged on the other space region side of the two space regions. May be adjusted.

この粒子供給装置においても、同様に、遮蔽板位置調整手段によって遮蔽板の位置を調整すると、測定粒子が貯留されている空間領域の容積が変動する。その結果、該空間領域内に発生する渦流の強さや位置が変化するため、該空間領域に安定的に存在する測定粒子の分布も変化することになる。ここで、測定粒子を粒子測定装置に送るための気体排出口が設けられる領域空間は、粒子攪拌用気体が供給される領域空間とは異なる空間であって、互いの領域空間は所定の口径を有する貫通孔で繋がっている。従って、遮蔽板の位置によって、測定粒子が貯留されている空間領域（前記一方の空間領域）内の圧力が変動する
ため、貫通孔を経て気体排出口が設けられている空間領域（前記他方の空間領域）に流れ込む気体（測定粒子を含む）量が変動し、以て他方の空間領域に形成される測定粒子の濃度が変動する。 Similarly, in this particle supply apparatus, when the position of the shielding plate is adjusted by the shielding plate position adjusting means, the volume of the space region in which the measurement particles are stored varies. As a result, since the strength and position of the vortex generated in the space region change, the distribution of the measurement particles stably present in the space region also changes. Here, the region space in which the gas discharge port for sending the measurement particles to the particle measuring device is provided is a space different from the region space to which the particle agitation gas is supplied, and each region space has a predetermined diameter. They are connected by through holes. Therefore, since the pressure in the space region (the one space region) where the measurement particles are stored varies depending on the position of the shielding plate, the space region (the other space) in which the gas discharge port is provided through the through hole. The amount of gas (including measurement particles) flowing into the (space region) fluctuates, so that the concentration of measurement particles formed in the other space region fluctuates.

また、遮蔽板に設けられた貫通孔は、一方の空間領域と他方の空間領域とを繋ぐだけではなく、その口径が所定の口径であるため、該所定の口径より大きな測定粒子の移動を遮断する。即ち、遮蔽板は、いわゆるフィルタとしての機能を有することになる。従って、上記所定の口径とは、粒子測定装置に供給する測定粒子の大きさを目的の大きさ以下に限定するための貫通孔の口径であり、測定の目的に応じて設定されるものである。尚、貫通孔は、遮蔽板に一つに限らず、複数個設けても構わない。 In addition, the through hole provided in the shielding plate not only connects one space region and the other space region, but also has a predetermined diameter, and therefore blocks movement of measurement particles larger than the predetermined diameter. To do. That is, the shielding plate has a function as a so-called filter. Therefore, the predetermined diameter is a diameter of the through hole for limiting the size of the measurement particles supplied to the particle measuring apparatus to a target size or less, and is set according to the purpose of measurement. . Note that the number of through holes is not limited to one, but a plurality of through holes may be provided.

更に、上述までの粒子供給装置において、前記気体供給手段による前記チャンバー内への前記粒子撹拌用気体の供給流量を制御する気体供給流量制御手段を、更に備えるようにしてもよい。気体供給手段によって気体供給口から供給される粒子攪拌用気体で、安定的な測定粒子の供給が可能となることは上述の通りである。そして、更に、気体供給流量制御手段によって該気体の供給流量を制御することで、チャンバー内に形成される測定粒子の分布濃度を変動させることが可能となる。即ち、該気体の供給流量をより多くすることで、チャンバー内に形成される循環流が強くなり、チャンバー内での測定粒子の分布濃度の高低差がより顕著となる。これに、前記気体排出口調整手段による気体排出口の位置調整を加えることで、粒子測定装置へ供給される測定粒子濃度をより細かく調整することが可能となる。 Furthermore, the particle supply apparatus described above may further include gas supply flow rate control means for controlling the supply flow rate of the particle agitation gas into the chamber by the gas supply means. As described above, the particle agitation gas supplied from the gas supply port by the gas supply means can stably supply the measurement particles. Further, by controlling the gas supply flow rate by the gas supply flow rate control means, it becomes possible to vary the distribution concentration of the measurement particles formed in the chamber. That is, by increasing the supply flow rate of the gas, the circulating flow formed in the chamber becomes stronger, and the difference in the distribution concentration of the measurement particles in the chamber becomes more prominent. By adding the position adjustment of the gas discharge port by the gas discharge port adjusting means to this, it becomes possible to adjust the measurement particle concentration supplied to the particle measuring device more finely.

また、更に、上述までの粒子供給装置において、前記チャンバー内に複数の前記気体排出口が設けられ、該気体排出口のそれぞれに対応する前記気体排出手段および前記気体排出口位置調整手段を備え、複数の前記粒子測定装置に同時に前記測定粒子を供給するようにしてもよい。即ち、上述した本発明に係る粒子供給装置によって、同時に複数の粒子測定装置に対して安定的に測定粒子を供給することで、同一の測定粒子供給条件下での粒子測定装置の測定結果を得ることが可能となる。これは、粒子測定装置の校正や、粒子測定装置間の個体差の検出等に適用が可能である。 Furthermore, in the particle supply apparatus up to the above, a plurality of the gas outlets are provided in the chamber, and the gas outlet means and the gas outlet position adjusting means corresponding to each of the gas outlets are provided, The measurement particles may be simultaneously supplied to a plurality of the particle measurement devices. That is, the measurement result of the particle measurement device under the same measurement particle supply condition is obtained by supplying measurement particles stably to a plurality of particle measurement devices simultaneously by the particle supply device according to the present invention described above. It becomes possible. This can be applied to calibration of particle measuring devices, detection of individual differences between particle measuring devices, and the like.

気体中の測定粒子の物性を測定するために、測定に応じた濃度の測定粒子を安定的に粒子測定装置に供給することが可能となる。 In order to measure the physical properties of the measurement particles in the gas, it is possible to stably supply the measurement particles having a concentration corresponding to the measurement to the particle measurement device.

発明に係る粒子供給装置の実施の形態について図面に基づいて詳細に説明する。 Embodiments of a particle supply apparatus according to the invention will be described in detail with reference to the drawings.

図１は、本発明が適用される粒子測定装置への粒子供給装置の概略的な構成を示す図である。この粒子供給装置は、粒子測定装置１１に対して測定の対象となる任意の粒子（以下、「測定粒子」という。）９を供給する装置である。粒子測定装置１１は、測定粒子の大きさや物性等の、その粒子特性を測定するための装置であり、例えば、気体中の測定粒子に光を当て、その散乱光又は蛍光を光電変換素子で受光することにより測定粒子の粒子特性を測定する光散乱式／蛍光式粒子測定器や、フロー式粒子測定器等の任意の粒子測定器が、本発明に係る粒子測定装置１１として適用可能である。以下に、粒子測定装置１１への測定粒子の供給を行う粒子供給装置について説明する。 FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a particle supply device to a particle measuring device to which the present invention is applied. This particle supply device is a device that supplies arbitrary particles (hereinafter referred to as “measurement particles”) 9 to be measured to the particle measurement device 11. The particle measuring apparatus 11 is an apparatus for measuring particle characteristics such as the size and physical properties of the measurement particle. For example, the particle measuring apparatus 11 applies light to the measurement particle in the gas and receives the scattered light or fluorescence by the photoelectric conversion element. Thus, any particle measuring device such as a light scattering type / fluorescent type particle measuring device or a flow type particle measuring device that measures the particle characteristics of the measurement particles can be applied as the particle measuring device 11 according to the present invention. Below, the particle supply apparatus which supplies the measurement particle | grain to the particle | grain measuring apparatus 11 is demonstrated.

粒子供給装置は、測定粒子をその内部に貯留するチャンバー５を有している。そして、チャンバー５には、空気供給チューブ２を介して空気ポンプ１から空気が供給される。空気供給チューブ２の途中には、チューブ内の空気に含まれる塵等を除去するためのエアフ
ィルタ３が設けられ、その更に下流側の空気供給チューブ２には、そこを流れる空気の流量を検出するための流量計４が設けられている。 The particle supply apparatus has a chamber 5 for storing measurement particles therein. The chamber 5 is supplied with air from the air pump 1 via the air supply tube 2. An air filter 3 is provided in the middle of the air supply tube 2 to remove dust and the like contained in the air in the tube, and the air supply tube 2 further downstream detects the flow rate of the air flowing therethrough. A flow meter 4 is provided.

ここで、チャンバー５は、遮蔽板６によって二つの領域、第一領域５ａと第二領域５ｂが画定されている。この遮蔽板６はチャンバー５内を図１の上下方向に移動し、第一領域５ａと第二領域５ｂの比率を変更することが可能となっている。第一領域５ａには、粒子測定装置１１の測定対象物である測定粒子９が、その底部に貯留されている。そして、空気供給チューブ２のチャンバー５側の開口部である噴出し口７が第一領域５ａ内に設定されることで、第一領域５ａ内にポンプ１からの空気が供給される。尚、空気供給チューブ２は遮蔽板６に固定されており、従って遮蔽板６の上記の移動に従い空気供給チューブ２およびその噴出し口７も移動する。また、第一領域５ａ内には、発砲スチロール等からなる軽量の攪拌球８が複数個置かれている。 Here, the chamber 5 is divided into two regions, a first region 5 a and a second region 5 b, by the shielding plate 6. The shielding plate 6 moves in the vertical direction in FIG. 1 in the chamber 5 so that the ratio between the first region 5a and the second region 5b can be changed. In the first region 5a, measurement particles 9 that are measurement objects of the particle measurement device 11 are stored at the bottom thereof. And the air from the pump 1 is supplied in the 1st area | region 5a because the ejection port 7 which is the opening part by the side of the chamber 5 of the air supply tube 2 is set in the 1st area | region 5a. The air supply tube 2 is fixed to the shielding plate 6, so that the air supply tube 2 and its ejection port 7 also move according to the above movement of the shielding plate 6. A plurality of lightweight stirring balls 8 made of foamed polystyrene or the like are placed in the first region 5a.

更に、第一領域５ａには、第一領域５ａ内の空気をチャンバー５外に排出する空気排出チューブ１０の排出口１０ａが開口している。この空気排出チューブ１０は、その排出口１０ａから粒子測定装置１１の測定粒子取り込み口まで延出している。尚、空気排出チューブ１０は、遮蔽板６に対してチャンバー５の長手方向（図１の縦方向）と径方向（図１の横方向）に相対移動可能に取り付けられている。空気排出チューブ１０の取り付け部には、第一領域５ａ内の空気、即ち測定粒子９を含む空気が第二領域５ｂに漏れ出さないように、ゴムパッキン１５（後述する図２に表示）が設けられている。 Further, in the first region 5a, an outlet 10a of an air discharge tube 10 for discharging the air in the first region 5a to the outside of the chamber 5 is opened. The air discharge tube 10 extends from the discharge port 10 a to the measurement particle intake port of the particle measuring device 11. The air discharge tube 10 is attached to the shielding plate 6 so as to be relatively movable in the longitudinal direction (vertical direction in FIG. 1) and the radial direction (lateral direction in FIG. 1) of the chamber 5. A rubber packing 15 (shown in FIG. 2 to be described later) is provided at the attachment portion of the air discharge tube 10 so that the air in the first region 5a, that is, the air containing the measurement particles 9 does not leak into the second region 5b. It has been.

このように構成される粒子測定装置１１の粒子供給装置は、ポンプ１からの供給空気によってチャンバー５の第一領域５ａ内に貯留されている測定粒子９を攪拌し、その測定粒子を含む空気を粒子測定装置１１に送る。これにより、測定粒子装置１１が、測定粒子９の粒子特性を測定することが可能となる。 The particle supply apparatus of the particle measuring apparatus 11 configured as described above agitates the measurement particles 9 stored in the first region 5a of the chamber 5 by the supply air from the pump 1, and uses the air containing the measurement particles. This is sent to the particle measuring device 11. Thereby, the measurement particle device 11 can measure the particle characteristics of the measurement particle 9.

更に、図２に基づいて、本発明に係る粒子供給装置の詳細を説明する。図２は、チャンバー５の拡大図である。測定粒子９が貯留されているチャンバー５の第一領域５ａ側の底部５ｃは、その略中央部が突出している錘状の形状を有している。そして、空気供給チューブ２の噴出し口７は、第一領域５ａ側のチャンバー５の側壁方向、且つ底部５ｃ方向に向いている。従って、噴出し口７から第一領域５ａ内に噴き出された空気は、図２に示すように、チャンバー５の側壁に沿って、らせん状に底部５ｃ側に進行する渦流を形成する。 Furthermore, based on FIG. 2, the detail of the particle | grain supply apparatus which concerns on this invention is demonstrated. FIG. 2 is an enlarged view of the chamber 5. The bottom 5c on the first region 5a side of the chamber 5 in which the measurement particles 9 are stored has a weight-like shape with a substantially central portion protruding. And the ejection opening 7 of the air supply tube 2 is facing the side wall direction of the chamber 5 by the side of the 1st area | region 5a, and the bottom part 5c direction. Accordingly, the air ejected from the ejection port 7 into the first region 5a forms a vortex that spirals toward the bottom 5c along the side wall of the chamber 5, as shown in FIG.

この渦流が更に底部５ｃまで進むと、底部５ｃの錘状の形状に従って、第一領域５ａ内に上昇流を形成する。従って、ポンプ１からの供給空気によって、底部５ｃに貯留されていた測定粒子９は、該上昇流に従って第一領域５ａ内を飛散し、時間の経過とともに再び底部５ｃの近傍へと沈降してくる。そして、沈降した測定粒子９は、再び上昇流に従って第一領域５ａ内を飛散する。このように、第一領域５ａ内に、測定粒子９の循環流が形成される。 When this vortex further proceeds to the bottom 5c, an upward flow is formed in the first region 5a according to the weight-like shape of the bottom 5c. Accordingly, the measurement particles 9 stored in the bottom 5c are scattered in the first region 5a according to the upward flow by the supply air from the pump 1, and settle down again in the vicinity of the bottom 5c with the passage of time. . Then, the sedimented measurement particles 9 are scattered again in the first region 5a according to the upward flow. Thus, a circulating flow of the measurement particles 9 is formed in the first region 5a.

この測定粒子９の循環流が形成されることで、定常的に測定粒子９が第一領域５ａ内に飛散し、その後沈降により測定粒子９が回収され更に再飛散させられることになる。その結果、第一領域５ａ内に測定粒子９が比較的安定した状態で分布する。そして、この測定粒子９を含む空気が、粒子測定装置１１の取り込み口に送られ、粒子特性の測定に供される。更に、測定粒子９とともに第一領域５ａ内に設けられている攪拌球８も循環流によって、第一領域５ａ内を動く。この攪拌球８の動きによって、底部５ｃに貯留する測定粒子の飛散を促進させることが可能となる。尚、この攪拌球８は取替え可能であり、測定粒子９の飛散が促進されるべく、測定粒子９に応じて適当な攪拌球が使用されるのが望ましい。 By forming the circulating flow of the measurement particles 9, the measurement particles 9 are regularly scattered in the first region 5a, and then the measurement particles 9 are collected by sedimentation and further re-scattered. As a result, the measurement particles 9 are distributed in a relatively stable state in the first region 5a. And the air containing this measurement particle | grain 9 is sent to the intake port of the particle | grain measuring apparatus 11, and is used for the measurement of a particle characteristic. Furthermore, the stirring sphere 8 provided in the first region 5a together with the measurement particles 9 also moves in the first region 5a by the circulating flow. The movement of the stirring sphere 8 can promote the scattering of the measurement particles stored in the bottom 5c. The stirring sphere 8 can be replaced, and it is desirable to use an appropriate stirring sphere according to the measurement particle 9 so as to promote the scattering of the measurement particle 9.

ここで、図３に、本発明に係る粒子供給装置における粒子供給の様子を示す。図３の横軸は時間を、縦軸は粒子測定装置１１に供給される測定粒子の粒子濃度、即ち空気排出チューブ１０の排出口１０ａに吸い込まれる空気中に含まれる測定粒子９の粒子濃度を表す。 Here, FIG. 3 shows a state of particle supply in the particle supply apparatus according to the present invention. 3, the horizontal axis represents time, and the vertical axis represents the particle concentration of the measurement particles supplied to the particle measuring device 11, that is, the particle concentration of the measurement particles 9 contained in the air sucked into the discharge port 10 a of the air discharge tube 10. To express.

ここで、図３中の線Ｌ１は本発明に係る粒子供給装置による粒子濃度の推移を示し、線Ｌ２は従来の粒子供給装置による粒子濃度の推移を示している。従来の粒子供給装置は、図６に示すチャンバー３１のような閉鎖空間内に測定粒子を一度飛散させ、その閉鎖空間内の空気を粒子測定装置３３に供給する。従って、従来の粒子供給装置では、時間の経過とともに閉鎖空間内において測定粒子が沈降していくため、線Ｌ２で示されるように、粒子測定装置３３に供給される測定粒子の粒子濃度は時間の経過とともに低下していく。 Here, the line L1 in FIG. 3 shows the transition of the particle concentration by the particle supply apparatus according to the present invention, and the line L2 shows the transition of the particle concentration by the conventional particle supply apparatus. The conventional particle supply device once scatters measurement particles in a closed space such as the chamber 31 shown in FIG. 6 and supplies the air in the closed space to the particle measurement device 33. Therefore, in the conventional particle supply device, the measurement particles settle in the closed space with the passage of time. Therefore, as shown by the line L2, the particle concentration of the measurement particles supplied to the particle measurement device 33 is the time. Decreases with progress.

一方で、本発明に係る粒子供給装置では、上述した空気の循環流により、測定粒子９が第一領域５ａ内に安定的に分布するため、粒子測定装置１１に供給される測定粒子９の粒子濃度は比較的安定して推移する。 On the other hand, in the particle supply device according to the present invention, the measurement particles 9 are stably distributed in the first region 5a due to the above-described circulating air flow, so the particles of the measurement particles 9 supplied to the particle measurement device 11 The concentration changes relatively stably.

ここで、第一領域５ａ内に分布する測定粒子９の粒子濃度は、どの場所によっても同一ではなく場所によって変動する。本実施例においては、測定粒子９は底部５ｃに貯留され、上述した空気の循環流が形成されることより、底部５ｃに近い位置であるほど粒子濃度は上昇し、且つ第一領域５ａの中央部に近い位置であるほど粒子濃度は上昇する。即ち、上述した空気の循環流によって、第一領域５ａ内に、その場所に応じた粒子濃度の分布が安定的に形成される。 Here, the particle concentration of the measurement particles 9 distributed in the first region 5a is not the same in any place but varies depending on the place. In the present embodiment, the measurement particles 9 are stored in the bottom portion 5c, and the above-described air circulation flow is formed, so that the particle concentration increases as the position is closer to the bottom portion 5c, and the center of the first region 5a. The closer to the part, the higher the particle concentration. That is, the distribution of the particle concentration according to the place is stably formed in the first region 5a by the above-described circulating air flow.

そこで、第一領域５ａ内における空気排出チューブ１０の排出口１０ａの位置を調整することで、粒子測定装置１１に供給される測定粒子の濃度を制御することが可能となる。これにより、粒子測定装置１１において行われる目的とする粒子特性の測定に適した粒子濃度の、測定粒子９を含む空気を該粒子測定装置１１に供給することが可能となる。例えば、より高い粒子濃度の空気を粒子測定装置１１に供給する場合は、空気排出チューブ１０の排出口１０ａの位置を、底部５ｃ側もしくはチャンバー５の中央部側に移動させればよい。 Therefore, the concentration of the measurement particles supplied to the particle measuring device 11 can be controlled by adjusting the position of the discharge port 10a of the air discharge tube 10 in the first region 5a. As a result, it is possible to supply the particle measuring apparatus 11 with air containing the measuring particles 9 having a particle concentration suitable for the measurement of the target particle characteristics performed in the particle measuring apparatus 11. For example, when air with a higher particle concentration is supplied to the particle measuring device 11, the position of the discharge port 10 a of the air discharge tube 10 may be moved to the bottom 5 c side or the center part side of the chamber 5.

また、上述したように遮蔽板６は、図２中の矢印の方向（図面の上下方向）に移動することが可能である。遮蔽板６が底部５ｃ側に移動すると、第一領域５ａの容積が小さくなる。このとき、空気排出チューブ１０も空気供給チューブ２および遮蔽板６とともに移動する。そして、遮蔽板６の移動によって、第一領域５ａの容積が小さくなり、その内部に形成される循環流の強さが大きくなることで、第一領域５ａ内に形成される測定粒子９の粒子濃度の分布状態がより高い状態で安定化する。 Further, as described above, the shielding plate 6 can be moved in the direction of the arrow in FIG. 2 (vertical direction in the drawing). When the shielding plate 6 moves to the bottom 5c side, the volume of the first region 5a decreases. At this time, the air discharge tube 10 also moves together with the air supply tube 2 and the shielding plate 6. And the volume of the 1st area | region 5a becomes small by the movement of the shielding board 6, and the particle | grains of the measurement particle | grains 9 formed in the 1st area | region 5a because the intensity | strength of the circulating flow formed in the inside becomes large. Stabilizes with higher concentration distribution.

即ち、遮蔽板６の位置を調整することで、粒子測定装置１１に供給する測定粒子９の粒子濃度を調整することが可能となる。より高い粒子濃度の測定粒子９を安定的に供給するには遮蔽板６を底部５ｃ側に移動し、逆により低い粒子濃度の測定粒子９を安定的に供給するには遮蔽板６を底部５ｃ側と反対側に移動すればよい。更に、上述したように空気排出チューブ１０の排出口１０ａの位置を調整することで、粒子測定装置１１に供給される測定粒子９の粒子濃度を細かく調整することが可能となる。 That is, by adjusting the position of the shielding plate 6, the particle concentration of the measurement particles 9 supplied to the particle measurement device 11 can be adjusted. In order to stably supply the measurement particles 9 having a higher particle concentration, the shielding plate 6 is moved toward the bottom 5c, and conversely, in order to stably supply the measurement particles 9 having a lower particle concentration, the shielding plate 6 is provided to the bottom 5c. Move to the opposite side. Furthermore, by adjusting the position of the discharge port 10a of the air discharge tube 10 as described above, the particle concentration of the measurement particles 9 supplied to the particle measurement device 11 can be finely adjusted.

また、第一領域５ａ内の循環流の強さを変化させるために、ポンプ１の流量を調整しても良い。ポンプ１の流量を制御することで、第一領域５ａ内の循環流の強さが変化し、測定粒子９の濃度の分布における高低差が大きくなる。以て粒子測定装置１１に供給される測定粒子９の粒子濃度を安定的に調整することが可能となる。 Further, the flow rate of the pump 1 may be adjusted in order to change the strength of the circulating flow in the first region 5a. By controlling the flow rate of the pump 1, the strength of the circulating flow in the first region 5 a changes, and the height difference in the concentration distribution of the measurement particles 9 increases. Thus, the particle concentration of the measurement particles 9 supplied to the particle measurement device 11 can be stably adjusted.

次に、本発明に係る粒子供給装置の第二の実施例について、図４に基づいて説明する。本実施例の粒子供給装置と、上述の第一の実施例に係る粒子供給装置との相違点は、チャンバー内の構造である。それ以外の構成については第一の実施例と同様であるため、同一の構成には同一の参照番号を付して、その詳細な説明を省略する。 Next, a second embodiment of the particle supply apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. The difference between the particle supply apparatus of the present embodiment and the particle supply apparatus according to the first embodiment described above is the structure in the chamber. Since the other configuration is the same as that of the first embodiment, the same reference numeral is assigned to the same configuration, and the detailed description thereof is omitted.

本実施例に係る粒子供給装置のチャンバー５は、遮蔽板１６によって第一領域５ａと第二領域５ｂとが画定される。この遮蔽板１６には、第一の実施例と同様に、空気供給チューブ２が固定されている。また、空気排出チューブ１０の排出口１０ａは、第二領域５ｂ側に設けられており、第二領域５ｂ内をチャンバー５の長手方向（図４の縦方向）と径方向（図４の横方向）に自在に移動可能である。 In the chamber 5 of the particle supply apparatus according to the present embodiment, the first region 5 a and the second region 5 b are defined by the shielding plate 16. The air supply tube 2 is fixed to the shielding plate 16 as in the first embodiment. Further, the discharge port 10a of the air discharge tube 10 is provided on the second region 5b side, and the longitudinal direction (vertical direction in FIG. 4) and radial direction (lateral direction in FIG. 4) of the chamber 5 are provided in the second region 5b. ) Freely moveable.

更に、遮蔽板１６には、第一領域５ａと第二領域５ｂとを貫通する貫通孔１７が複数個設けられている。この貫通孔１７の径は、測定粒子９の粒径のばらつき内に含まれる何れかの粒径と同等の径である。 Further, the shielding plate 16 is provided with a plurality of through holes 17 that penetrate the first region 5a and the second region 5b. The diameter of the through hole 17 is equivalent to any particle diameter included in the variation in the particle diameter of the measurement particles 9.

このように構成されるチャンバー５を有する本実施例に係る粒子供給装置では、第一の実施例と同様に、ポンプ１から空気が供給されると、第一領域５ａ内に循環流が形成される。それに伴い底部５ｃに貯留されていた測定粒子９が飛散し始めるが、その飛散した測定粒子９の一部の測定粒子９であって貫通孔１７の径より小さい粒径を有する測定粒子９が、貫通孔１７を経て第二領域５ｂ内に飛来する。そして、飛来した測定粒子９が空気排出チューブ１０を介して、粒子測定装置１１に供給される。 In the particle supply apparatus according to the present embodiment having the chamber 5 configured as described above, when air is supplied from the pump 1 as in the first embodiment, a circulating flow is formed in the first region 5a. The Accordingly, the measurement particles 9 stored in the bottom portion 5c start to scatter, but the measurement particles 9 which are part of the scattered measurement particles 9 and have a particle size smaller than the diameter of the through hole 17, It flies into the second region 5b through the through hole 17. Then, the flying measurement particles 9 are supplied to the particle measuring device 11 through the air discharge tube 10.

即ち、粒子濃度が安定した状態で第一領域５ａに飛散している測定粒子９に対して、遮蔽板１６の貫通孔１７がフィルタとして機能することで、粒子測定装置１１での粒子特性の測定に適した粒径を有する測定粒子のみを、安定的に供給することが可能となる。 That is, with respect to the measurement particles 9 scattered in the first region 5a in a state where the particle concentration is stable, the through hole 17 of the shielding plate 16 functions as a filter, so that the particle characteristic measurement by the particle measurement device 11 is performed. It is possible to stably supply only measurement particles having a particle size suitable for the above.

尚、第二領域５ｂ内でも測定粒子９の粒子濃度の分布は、その場所によって変動する。そこで、本実施例においても、空気排出チューブ１０の排出口１０ａの位置を第二領域５ｂ内で調整することで、粒子測定装置１１に供給する測定粒子の粒子濃度を調整することが可能となる。 Even in the second region 5b, the distribution of the particle concentration of the measurement particles 9 varies depending on the location. Therefore, also in this embodiment, it is possible to adjust the particle concentration of the measurement particles supplied to the particle measuring device 11 by adjusting the position of the discharge port 10a of the air discharge tube 10 in the second region 5b. .

次に、本発明に係る粒子供給装置の第三の実施例について、図５に基づいて説明する。本実施例の粒子供給装置は、二台の粒子測定装置に同時に測定粒子を供給するものである。第一の実施例と同様の機能を有する構成については、同一の参照番号を付して、その詳細な説明を省略する。 Next, a third embodiment of the particle supply apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. The particle supply apparatus of the present embodiment supplies measurement particles to two particle measuring apparatuses simultaneously. Components having the same functions as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

本実施例に係る粒子供給装置は、粒子測定装置１１と粒子測定装置２１とに同時に測定粒子９を供給する装置である。粒子測定装置１１と粒子測定装置２１は、同じ型番の機種、あるいは性能が異なるが測定目的あるいは測定対象が同じであるというような、両装置の測定結果を比較することが有意である粒子特性測定用の装置であり、粒子測定装置２１は該粒子特性の測定において基準となる測定装置である。 The particle supply apparatus according to the present embodiment is an apparatus that supplies the measurement particles 9 to the particle measurement apparatus 11 and the particle measurement apparatus 21 at the same time. Particle characteristic measurement in which the particle measurement apparatus 11 and the particle measurement apparatus 21 are significant to compare the measurement results of both apparatuses, such as the same model number or different performance but the same measurement purpose or measurement object. The particle measuring device 21 is a measuring device that serves as a reference in measuring the particle characteristics.

ここで、粒子測定装置１１と粒子測定装置２１への測定粒子９の供給についてであるが、粒子測定装置１１への測定粒子９の供給は、上述の第一の実施例に記載の通りである。次に、粒子測定装置２１への測定粒子９の供給は、空気排出チューブ２０を介して行われる。空気排出チューブ２０の開口部２０ａは、空気排出チューブ１０の開口部１０ａと同じように、遮蔽板６を跨いで第一領域５ａ側に設けられている。そして、空気排出チュー
ブ１０ａと同様に、空気排出チューブ２０の排出口２０ａも、第一領域５ａにおけるその位置を調整することが可能である。 Here, the supply of the measurement particles 9 to the particle measurement device 11 and the particle measurement device 21 is described. The supply of the measurement particles 9 to the particle measurement device 11 is as described in the first embodiment. . Next, the supply of the measurement particles 9 to the particle measurement device 21 is performed via the air discharge tube 20. The opening 20 a of the air discharge tube 20 is provided on the first region 5 a side across the shielding plate 6 in the same manner as the opening 10 a of the air discharge tube 10. And similarly to the air discharge tube 10a, the position of the discharge port 20a of the air discharge tube 20 can be adjusted in the first region 5a.

このように設定された粒子供給装置によって、粒子測定装置１１および粒子測定装置２１に同時に、同一条件の粒子濃度の測定粒子９を安定的に供給することが可能となる。そして、粒子測定装置１１と粒子測定装置２１との測定結果を比較することで、粒子測定装置１１の測定結果が基準となる粒子測定装置２１の測定結果よりどれ程ずれているかを判別することが可能となり、粒子測定装置１１のより良好な校正を行い得る。もちろん、粒子特性の測定の目的に応じて、排出口１０ａと排出口２０ａのそれぞれの位置を調整することで、それぞれの粒子測定装置に異なる条件の粒子濃度の測定粒子を安定的に供給することも可能である。 With the particle supply device set in this way, it becomes possible to stably supply the measurement particles 9 having the same particle concentration to the particle measurement device 11 and the particle measurement device 21 simultaneously. Then, by comparing the measurement results of the particle measuring device 11 and the particle measuring device 21, it is possible to determine how much the measurement result of the particle measuring device 11 deviates from the measurement result of the reference particle measuring device 21. This makes it possible to perform better calibration of the particle measuring apparatus 11. Of course, by adjusting the positions of the discharge port 10a and the discharge port 20a according to the purpose of measuring particle characteristics, it is possible to stably supply the measurement particles having different particle concentrations to the respective particle measurement devices. Is also possible.

本発明の第一の実施例に係る粒子測定装置への測定粒子の供給を行う粒子供給装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the particle supply apparatus which supplies the measurement particle | grain to the particle | grain measurement apparatus which concerns on 1st Example of this invention. 本発明の第一の実施例に係る粒子供給装置を構成するチャンバーの拡大図である。It is an enlarged view of the chamber which comprises the particle supply apparatus which concerns on the 1st Example of this invention. 本発明の第一の実施例に係る粒子供給装置と従来の粒子供給装置の、粒子供給の際の安定性能を比較した図である。It is the figure which compared the stable performance in the case of the particle supply of the particle supply apparatus which concerns on the 1st Example of this invention, and the conventional particle supply apparatus. 本発明の第二の実施例に係る粒子供給装置を構成するチャンバーの拡大図である。It is an enlarged view of the chamber which comprises the particle supply apparatus which concerns on the 2nd Example of this invention. 本発明の第三の実施例に係る粒子供給装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the particle | grain supply apparatus which concerns on the 3rd Example of this invention. 従来の粒子供給装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the conventional particle | grain supply apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

１・・・・ポンプ
２・・・・空気供給チューブ
３・・・・エアフィルタ
４・・・・流量計
５・・・・チャンバー
６・・・・遮蔽板
７・・・・噴出し口
８・・・・攪拌球
９・・・・測定粒子
１０・・・・空気排出チューブ
１０ａ・・・・排出口
１１・・・・粒子測定装置
１５・・・・ゴムパッキン
２０・・・・空気排出チューブ
２０ａ・・・・排出口
２１・・・・粒子測定装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pump 2 ... Air supply tube 3 ... Air filter 4 ... Flow meter 5 ... Chamber 6 ... Shielding plate 7 ... Ejection port 8 ··· Stirring ball 9 ··· Measurement particles 10 ··· Air discharge tube 10a · · · Discharge port 11 · · · Particle measuring device 15 · · · Rubber packing Tube 20a ... Discharge port 21 ... Particle measuring device

Claims

粒子特性の測定を行う粒子測定装置に測定粒子を供給する粒子供給装置であって、
前記測定粒子が貯留されているチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられた気体供給口から該チャンバー内に、粒子撹拌用の気体を供給する気体供給手段と、
前記チャンバー内に設けられた気体排出口から前記測定粒子を含む気体を排出し、前記粒子測定装置に該気体を送る気体排出手段と、
前記チャンバーにおける前記気体排出口の位置を該チャンバーの長手方向および径方向に調整する気体排出口位置調整手段と、
を備えることを特徴とする粒子供給装置。 A particle supply device for supplying measurement particles to a particle measurement device for measuring particle characteristics,
A chamber in which the measurement particles are stored;
Gas supply means for supplying gas for stirring particles into the chamber from a gas supply port provided in the chamber;
A gas discharge means for discharging the gas containing the measurement particles from a gas discharge port provided in the chamber and sending the gas to the particle measurement device;
Gas outlet position adjusting means for adjusting the position of the gas outlet in the chamber in the longitudinal direction and radial direction of the chamber ;
A particle supply apparatus comprising:

粒子特性の測定を行う粒子測定装置に測定粒子を供給する粒子供給装置であって、A particle supply device for supplying measurement particles to a particle measurement device for measuring particle characteristics,
前記測定粒子が貯留されているチャンバーと、A chamber in which the measurement particles are stored;
前記チャンバー内に設けられた気体供給口から該チャンバー内に、粒子撹拌用の気体を供給する気体供給手段と、Gas supply means for supplying gas for stirring particles into the chamber from a gas supply port provided in the chamber;
前記チャンバー内に設けられた気体排出口から前記測定粒子を含む気体を排出し、前記粒子測定装置に該気体を送る気体排出手段と、A gas discharge means for discharging the gas containing the measurement particles from a gas discharge port provided in the chamber and sending the gas to the particle measurement device;
前記チャンバーにおける前記気体排出口の位置を調整する気体排出口位置調整手段と、Gas outlet position adjusting means for adjusting the position of the gas outlet in the chamber;
前記チャンバー内に二つの空間領域を画定する遮蔽板と、A shielding plate that defines two spatial regions within the chamber;
前記チャンバーに対する前記遮蔽板の位置を調整し、前記二つの空間領域の比率を変更する遮蔽板位置調整手段と、を備え、Adjusting the position of the shielding plate relative to the chamber, and comprising a shielding plate position adjusting means for changing the ratio of the two space regions,
前記測定粒子は前記二つの空間領域のうち一方の空間領域に貯留されるとともに、前記気体供給口も該一方の空間領域側に設けられ、The measurement particles are stored in one of the two space regions, and the gas supply port is also provided on the one space region side,
前記気体排出口位置調整手段は、前記一方の空間領域側で前記気体排出口の位置を調整することを特徴とする粒子供給装置。The gas supply device according to claim 1, wherein the gas discharge port position adjusting means adjusts the position of the gas discharge port on the one space region side.

粒子特性の測定を行う粒子測定装置に測定粒子を供給する粒子供給装置であって、A particle supply device for supplying measurement particles to a particle measurement device for measuring particle characteristics,
前記測定粒子が貯留されているチャンバーと、A chamber in which the measurement particles are stored;
前記チャンバー内に設けられた気体供給口から該チャンバー内に、粒子撹拌用の気体を供給する気体供給手段と、Gas supply means for supplying gas for stirring particles into the chamber from a gas supply port provided in the chamber;
前記チャンバー内に設けられた気体排出口から前記測定粒子を含む気体を排出し、前記Exhaust the gas containing the measurement particles from a gas outlet provided in the chamber,
粒子測定装置に該気体を送る気体排出手段と、Gas discharge means for sending the gas to the particle measuring device;
前記チャンバーにおける前記気体排出口の位置を調整する気体排出口位置調整手段と、Gas outlet position adjusting means for adjusting the position of the gas outlet in the chamber;
前記チャンバー内に二つの空間領域を画定する遮蔽板と、A shielding plate that defines two spatial regions within the chamber;
前記チャンバーに対する前記遮蔽板の位置を調整し、前記二つの空間領域の比率を変更する遮蔽板位置調整手段と、を備え、Adjusting the position of the shielding plate relative to the chamber, and comprising a shielding plate position adjusting means for changing the ratio of the two space regions,
前記遮蔽板は、所定の口径の孔であって前記二つの空間領域のそれぞれに連通する貫通孔を有し、The shielding plate is a hole having a predetermined diameter and has a through hole communicating with each of the two space regions,
前記測定粒子は前記二つの空間領域のうち一方の空間領域に配置されるとともに、前記気体供給口も該一方の空間領域側に設けられ、The measurement particles are arranged in one of the two space regions, and the gas supply port is also provided on the one space region side,
前記気体排出口位置調整手段は、前記二つの空間領域のうち他方の空間領域側で前記気体排出口の位置を調整することを特徴とする粒子供給装置。The gas supply port position adjusting means adjusts the position of the gas discharge port on the other space region side of the two space regions.

前記気体供給口の噴出し形状は、前記チャンバー内に前記粒子撹拌用気体による渦流を形成する形状であって、該渦流の進行方向は該チャンバー内に配置された測定粒子に向かう方向であることを特徴とする請求項１から請求項３の何れか一項に記載の粒子供給装置。 The ejection shape of the gas supply port is a shape that forms a vortex flow by the particle agitating gas in the chamber, and the traveling direction of the vortex flow is a direction toward the measurement particles arranged in the chamber. The particle supply device according to any one of claims 1 to 3, wherein

前記チャンバーは、底部および側部を有し、前記測定粒子は該チャンバーの底部に貯留されており、
前記気体供給口は、前記チャンバーの側部に向かって前記粒子撹拌用気体を噴出する噴出し形状を有することを特徴とする請求項４に記載の粒子供給装置。 The chamber has a bottom and sides, and the measurement particles are stored at the bottom of the chamber,
The particle supply apparatus according to claim 4, wherein the gas supply port has an ejection shape for ejecting the particle stirring gas toward a side portion of the chamber.

前記チャンバー内において前記粒子撹拌用気体によって前記測定粒子とともに浮遊する撹拌部材を、更に備えることを特徴とする請求項１から請求項５の何れかに記載の粒子供給装置。 The particle supply device according to claim 1 , further comprising a stirring member that floats together with the measurement particles by the particle stirring gas in the chamber.

前記撹拌部材は、交換可能であることを特徴とする請求項６に記載の粒子供給装置。 The particle supply device according to claim 6, wherein the stirring member is replaceable.

前記気体供給手段による前記チャンバー内への前記粒子撹拌用気体の供給流量を制御する気体供給流量制御手段を、更に備えることを特徴とする請求項１から請求項７の何れかに記載の粒子供給装置。 The particle supply according to any one of claims 1 to 7 , further comprising gas supply flow rate control means for controlling a supply flow rate of the particle agitation gas into the chamber by the gas supply means. apparatus.

前記チャンバー内に複数の前記気体排出口が設けられ、該気体排出口のそれぞれに対応する前記気体排出手段および前記気体排出口位置調整手段を備え、複数の前記粒子測定装置に同時に前記測定粒子を供給することを特徴とする請求項１から請求項８の何れかに記載の粒子供給装置。 A plurality of gas outlets are provided in the chamber, the gas outlets corresponding to each of the gas outlets and the gas outlet position adjusting means are provided, and the measurement particles are simultaneously applied to a plurality of the particle measuring devices. The particle supply device according to claim 1 , wherein the particle supply device is supplied.