JP4679213B2 - 青紫レーザー感光性組成物、青紫レーザー用画像形成材料及び青紫レーザー用画像形成材 - Google Patents
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Description
画像形成材料(a)とは、仮支持フィルム上に感光性組成物の塗布液を塗布し乾燥させて感光性組成物層を形成し、その感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆ったドライフィルムレジスト材等をいう。
ところで、レーザー光は、紫外から赤外領域までの種々の光源が知られているが、画像露光に利用できるレーザー光としては、出力、安定性、感光能力、及びコスト等の点から、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、YAGレーザー、及び半導体レーザー等の可視から赤外領域の光を発するものが主力となっており、例えば、波長488nmのアルゴンイオンレーザー、波長532nmのFD−YAGレーザーを用いたリソグラフィー法は既に実用化に到っている。しかしながら、これら可視レーザー光による直接描画のための感光性組成物は、黄色灯下でのセーフライト性に劣り、赤色灯照明のような暗室環境下での作業が必要であるという制約があった。
対しては、感度が不十分であり、更に感光層に短時間で高エネルギー量が与えられるというレーザー光特有の露光条件下では、光重合反応が不均一に起こるため現像時の膨潤により解像性が低下するという問題があった。
(A)下記一般式(I)で表される(メタ)アクリレート類及びスチレン類を共重合成分として含有し、かつ、該(メタ)アクリレート類に由来する構成繰返し単位の含有量が、共重合体の全構成繰返し単位に対して10〜25重量%であるアルカリ可溶性樹脂
(B)エチレン性不飽和化合物
(C)光重合開始剤
(D)355〜430nmの波長域に吸収極大を有する増感色素
また、本発明は、仮支持フィルム上に前記青紫レーザー感光性組成物の層が形成されてなることを特徴とする青紫レーザー用画像形成材料を別の要旨とする。
また、本発明は、被加工基板上に前記青紫レーザー用画像形成材料が青紫レーザー感光性組成物層側で積層されてなることを特徴とする青紫レーザー用画像形成材を別の要旨とする。
[1]青紫レーザー感光性組成物
本発明の青紫レーザー感光性組成物は、下記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分を含有してなることを特徴とする。また、要すれば、更に前記以外の成分を含有していても良い。
(B)エチレン性不飽和化合物
(C)光重合開始剤
(D)355〜430nmの波長域に吸収極大を有する増感色素
以下、各成分について詳述する。
本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する(A)成分のアルカリ可溶性樹脂は、基板上への感光性組成物の層としての形成性、解像性、及び現像性の向上等を目的とするものであり、本発明においては、下記一般式(I)で表される(メタ)アクリレート類及びスチレン類を共重合成分として含有する(下記一般式(I)で表される(メタ)アクリレート類に由来する構成繰り返し単位を含有する)ことが必須である。
R2としては、具体的には、例えば、tert-ブチル基、イソブチル基、tert-アミル基、
イソアミル基、ピナコリル基等の炭素数4以上20以下の分岐状飽和炭化水素基;
ノルボルニル基、イソボルニル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、2−エチルアダマンチル基、メンチル基、イソメンチル基、2−tert-ブチルシクロヘキシル基、
4−tert-ブチルシクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基
、1−メチルシクロヘキシル基、2−メチルシクロヘキシル基、3−メチルシクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、2,3−ジメチルシクロヘキシル基、3,5−ジメチルシクロヘキシル基、2,6−ジメチルシクロヘキシル基、デカヒドロ−1−ナフチル基、デカヒドロ−2−ナフチル基、3,3,5−トリメチルシクロヘキシル基等の炭素数6以上20以下の環状飽和炭化水素基;
下記構造式で表される基等の炭素数5以上20以下の分岐状不飽和炭化水素基;
中で、カルボキシル基に直接結合する炭素原子が3級炭素原子である飽和または不飽和の炭化水素基、及び4級炭素原子を含有する飽和または不飽和の炭化水素基が好ましく、その中でも炭素数10以下の飽和炭化水素基が特に好ましい。
前記一般式(I)で表される(メタ)アクリレート類としては、具体的には、例えば以下の化合物が挙げられる。
ル(メタ)アクリレート、4−tert-ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1−
メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2,3−ジメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3,5−ジメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2,6−ジメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート。
本発明における(A)成分のアルカリ可溶性樹脂を構成する繰り返し単位としては、前記一般式(I)で表される(メタ)アクリレート類、エチレン性不飽和カルボン酸類、及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類に由来する構成繰返し単位以外に、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−又はi−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、n−ドデシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の3級及び4級炭素を含まないアルキル(メタ)アクリレート類を含有していても良い。また、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、p−クロロスチレン、p−ブロモスチレン、ジブロモスチレン等のスチレン類を含有する。
また、本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する(B)成分のエチレン性不飽和化合物は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する(C)成分の光重合開始剤を含む光重合開始系の作用により付加重合し、場合により架橋、硬化するようなラジカル重合性のエチレン性不飽和結合を分子内に少なくとも1個有する化合物である。
そのエチレン性不飽和化合物としては、エチレン性不飽和結合を分子内に1個有する化合物、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、スチレン等であってもよいが、重合性、架橋性、及びそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物であるのが好ましく、また、その不飽和結合が(メタ)アクリロイルオキシ基に由来するアクリレート化合物が特に好ましい。
以上の(B)成分のエチレン性不飽和化合物として、本発明においては、エステル(メタ)アクリレート類、又は、ウレタン(メタ)アクリレート類が好ましく、エステル(メタ)アクリレート類が特に好ましく、そのエステル(メタ)アクリレート類の中でも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、或いはビスフェノールAのポリエチレンオキサイド付加物等のポリオキシアルキレン基を有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を2個以上有するエステル(メタ)アクリレート類が殊更好ましい。
又、本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する(C)成分の光重合開始剤は、後述する(D)成分の増感色素との共存下で光照射されたときに、増感色素の光励起エネルギーを受け取って活性ラジカルを発生し、前記(B)成分のエチレン性不飽和化合物を重合に到らしめるラジカル発生剤であって、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、チタノセン系化合物、ハロメチル化s−トリアジン誘導体、ハロメチル化1,3,4−オキサジアゾール誘導体、ジアリールヨードニウム塩、有機硼素酸塩、及び有機過酸化物等が挙げられる。中で、感光性組成物としての感度、基板に対する密着性、及び保存安定性等の面から、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、及びチタノセン系化合物が好ましく、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物が特に好ましい。
本発明の青紫レーザー感光性組成物を構成する(D)成分の増感色素は、355〜430nmの波長域に吸収極大を有するものであって、該波長域の青紫領域の光を効率的に吸収すると共に、その光励起エネルギーを前記(C)成分の光重合開始剤に伝え、該光重合開始剤を分解させ、前記(B)成分のエチレン性不飽和化合物の重合を誘起する活性ラジカルを発生させる増感機能を有する光吸収色素である。尚、ここで、吸収極大波長は、増感色素をテトラヒドロフランに溶解し、吸収波長を測定した際の極大値を示す波長であり、355〜430nmの波長域にある吸収極大波長が、極大波長の最長波長であるのが好ましい。
そのジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物としては、下記一般式(II) で表される
ものが好ましい。
アルキル基を示し、R5 、R6 、R9 、及びR10 は各々独立して、置換基を有していて
もよいアルキル基、又は水素原子を示し、R3 とR4 、R7 とR8 、R3とR5 、R4 と
R6 、R7 とR9 、及びR8 とR10 とは各々独立して、含窒素複素環を形成していても
よい。〕
ここで、式(I) 中のR3 、R4 、R7 、及びR8 のアルキル基の炭素数、並びに、R5 、R6 、R9 、及びR10 がアルキル基であるときの炭素数は1〜6であるのが好ましい
。又、含窒素複素環を形成する場合、5又は6員環であるのが好ましく、R3 とR5 、R4 とR6 、R7 とR9 、又はR8 とR10 が6員環のテトラヒドロキノリン環を形成して
いるのが好ましく、R3 とR4 とR5 とR6 、又は/及び、R7 とR8 とR9 とR10 が
ジュロリジン環を形成しているのが特に好ましい。更に、2位にアルキル基を置換基として有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。
前記一般式(II) で表される化合物の具体例としては、例えば、下記構造の化合物が挙
げられる。
し、R5 及びR6 は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、R3 とR4 、R3 とR5 、及びR4 とR6 とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Xは、酸素原子、硫黄原子、ジアルキルメチレン基、イミノ基、又はアルキルイミノ基を示し、複素環に縮合するベンゼン環は置換基を有していてもよい。〕
ここで、式(III)中のR3 及びR4 のアルキル基の炭素数、並びに、R5 及びR6 がア
ルキル基であるときの炭素数は1〜6であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、5又は6員環であるのが好ましく、R3 とR5 、又はR4 とR6が6員環のテトラ
ヒドロキノリン環を形成しているのが好ましく、R3 とR4 とR5 とR6がジュロリジン
環を形成しているのが特に好ましい。更に、2位にアルキル基を置換基として有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。又、Xがジアルキルメチレン基であるときのアルキル基の炭素数は1〜6であるのが好ましく、アルキルイミノ基であるときのアルキル基の炭素数は1〜6であるのが好ましい。
前記一般式(III)で表される化合物の具体例としては、例えば、2−(p−ジメチルア
ミノフェニル)ベンゾオキサゾール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾ〔4,5〕ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾ〔6,7〕ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾチアゾール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ベンゾチアゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾイミダゾール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ベンゾイミダゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)−3,3−ジメチル−3H−インドール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)−3,3−ジメチル−3H−インドール、及び、下記構造の化合物が挙げられる。
位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、例えば、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ピリジン、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ピリジン、2−(p−ジメチルアミノフェニル)キノリン、2−(p−ジエチルアミノフェニル)キノリン、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ピリミジン、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ピリミジン、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−チアジアゾール等が挙げられる。
又、ベンゼン環上のアミノ基に対してp−位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、下記一般式(IV) で表される
ものが好ましい。
し、R5 及びR6 は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、R3 とR4 、R3 とR5 、及びR4 とR6 とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、R11 は1価基、又は水素原子を示し、R12は1価基を示す。〕
ここで、式(IV) 中のR3 及びR4 のアルキル基の炭素数、並びに、R5 及びR6 がア
ルキル基であるときの炭素数は1〜6であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、5又は6員環であるのが好ましいが、R5 及びR6は水素原子であるのが好ましい
。又、R11 及びR12の1価基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アル
ケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリールアルケニル基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、イミノ基、シアノ基、及び複素環基等が挙げられる。これらの中で、R11 としては水素原子が、又、R12としてはアリール基
が好ましい。
又、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、下記一般式(V)で表されるものが好ましい。
ここで、式(V)中のR3 、R4 、及びR13のアルキル基の炭素数、並びに、R5 、R6 、及びR14がアルキル基であるときの炭素数は1〜6であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、5又は6員環であるのが好ましいが、R5 及びR6 は水素原子であるのが好ましい。又、R14としてはフェニル基であるのが好ましい。
族炭化水素環及び/又は芳香族複素環を含む連結基を表し、連結基LとNとは該芳香族炭化水素環又は芳香族複素環で結合しており、nは2以上の整数を表す。)
又、アクリドン系化合物としては、アクリドン環を基本骨格とし、2個のベンゼン環は、炭化水素環、複素環による縮合環を有していてもよく、又、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリールアルケニル基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、イミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、及び複素環基等の置換基を有していてもよく、それらの置換基は、更に置換基を有していてもよい。又、イミノ基における水素原子は、アルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。
ジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物、前記一般式(IV) で表される、ベンゼン環上
のアミノ基に対してp−位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、前記一般式(A)で表される、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物、及びトリフェニルアミン系化合物が特に好ましい。
尚、本発明の青紫レーザー感光性組成物は、前記(A)〜(D)成分の外に、光重合開始能力の向上等を目的として、水素供与性化合物を含有していてもよく、その水素供与性化合物としては、例えば、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン、エチレングリコールジチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート等のメルカプト基含有化合物類、ヘキサンジチオール、トリメチロールプロパントリスチオグリコネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート等の多官能チオール化合物類、N,N−ジアルキルアミノ安息香酸エステル、N−フェニルグリシン、又はそのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、その双極イオン化合物等の誘導体、フェニルアラニン、又はそのエステル、そのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、その双極イオン化合物等の誘導体等の芳香族環を有するアミノ酸又はその誘導体類等が挙げられる。中で、本発明においては、メルカプト基含有化合物類、及び、アミノ酸又はその誘導体類が好ましい。
本発明の青紫レーザー感光性組成物において、前記(A)〜(D)成分の外に含有される前記水素供与性化合物の含有割合は、感光性組成物の全量に対して5重量%以下であるのが好ましく、2重量%以下であるのが更に好ましい。
更に、本発明の青紫レーザー感光性組成物は、前記各成分の外に、感光性組成物の熱的或いは経時的な重合を防止するための重合禁止剤、感光性組成物層としての膜物性をコントロールするための可塑剤、形成される像を可視化するための色素(可視画剤)、変色剤、形成される像の被加工基板への密着性を付与するための密着付与剤、及び、酸化防止剤、表面張力改質剤、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤、溶剤、界面活性剤等を、必要に応じて含有していてもよい。
本発明の青紫レーザー感光性組成物は、本発明の青紫レーザー用画像形成材料(以下、本第[2]章において、単に画像形成材料(a)と称することがある)を形成するのに用いることができる。画像形成材料(a)は、通常、前記各成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液として、仮支持フィルム上に塗布し乾燥させ、必要に応じて、形成された感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆うことにより形成される。この様な画像形成材料(a)としては、例えばドライフィルムレジスト材等が挙げられる。
前記ドライフィルムレジスト材等として用いられる場合における仮支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等の従来公知のフィルムが用いられる。その際、それらのフィルムがドライフィルムレジスト材の作製時に必要な耐溶剤性や耐熱性等を有しているものであるときは、それらの仮支持フィルム上に直接に感光性組成物塗布液を塗布し乾燥させてドライフィルムレジスト材を作製することができ、又、それらのフィルムが耐溶剤性や耐熱性等の低いものであっても、例えば、ポリテトラフルオロエチレンフィルムや離型フィルム等の離型性を有するフィルム上に先ず感光性組成物層を形成した後、その層上に耐溶剤性や耐熱性等の低い仮支持フィルムを積層し、しかる後、離型性を有するフィルムを剥離することにより、ドライフィルムレジスト材を作製することもできる。尚、特に高解像力を追求する場合は、仮支持フィルムのヘイズ値は0.01〜1.8%であることが好ましく、又仮支持フィルムの厚みとしては10〜30μmであることが好ましい。
[1]実施例1〜3、比較例1〜3の作製
[1−1]ドライフィルムレジスト材の作製
青紫レーザー感光性組成物として、下記のアルカリ可溶性樹脂(A1〜A5)、エチレン性不飽和化合物(B1〜B2)、光重合開始剤(C1)、増感色素(D1〜D2)、及びその他成分(X1〜X2)を、表2に示す処方で下記の溶剤(Y1)に加えて、室温で攪拌して調液した塗布液を、仮支持フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み25μm)上に、深さ100μmのアプリケーターを用いて乾燥膜厚が20μmとなる量で塗布し、90℃のオーブンで10分間乾燥させ、形成された青紫レーザー感光性組成物層上に、被覆フィルムとしてのポリエチレンフィルム(厚み25μm)を積層し、ドライフィルムレジスト材を作製した。
次表1に示す(A1)〜(A5)の共重合体
(C1)2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール
<増感色素>
(D1)下記の化合物(増感色素をテトラヒドロフランで60,000倍に希釈し、300〜500nmの波長域でUV吸光係数を測定したときの、最も長波長に存在する吸収極大388nm)
(X1)ロイコクリスタルバイオレット
(X2)クリスタルバイオレット
<溶剤>
(Y1)メチルエチルケトン
別に、厚み35μmの銅箔を貼り合わせたポリイミド樹脂の銅張積層基板(厚み1.5mm、大きさ250mm×200mm)の銅箔表面を、住友スリーエム社製「スコッチブライトSF」を用いてバフロール研磨し、水洗し、空気流で乾燥させて整面し、次いで、これをオーブンで80℃に予熱した後、その銅張積層板の銅箔上に、前記で得られたドライフィルムレジスト材を、そのポリエチレンフィルムを剥離しながらその剥離面で、ハンド式ロールラミネーターを用いて、ロール温度100℃、ロール圧0.3MPa、ラミネート速度1.5m/分でラミネートすることにより、銅張積層基板上に青紫レーザー感光性組成物層が形成された画像形成材を製造した。
[2−1]露光・現像
得られた各画像形成材の青紫レーザー感光性組成物層を、以下に示す露光・現像条件下で、露光、現像処理した。
発振波長407nm、定格光出力500mWの日亜化学工業社製、青色LDスロットモジュール「NDAV520E2」を用い、ビームスポット径8μm、像面光量2mW/cm2 で、8.0mJ/cm2 、11.2mJ/cm2 16.0mJ/cm2 、22.3mJ/cm2 、32.0mJ/cm2 、及び44.6mJ/cm2 、64.0mJ/c
m2の7段階の露光量として、10μm〜30μmのライン・アンド・スペース(ライン幅:スペース幅=1:1)、及び10μm〜30μmの独立ラインの露光パターンを走査露光した。露光後、20分経過してから、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離、除去し、次いで、32℃で1重量%炭酸ナトリウム水溶液をブレークポイント(非露光部が完全に溶解するまでの時間)の2倍の現像時間で、0.3MPaでスプレーすることにより現像した。
各露光量で得られたパターン画像を光学顕微鏡で、ライン・アンド・スペース、独立ラインの解像状態を観察し、以下の基準で露光感度、解像度、密着性を評価し、結果を表2に示した。
20μmのライン・アンド・スペースが1:1として解像した露光量を露光感度とした。
上記露光感度において、解像した最小のライン・アンド・スペースを解像度とした。
各露光量で得られた独立ラインの中で、最も細く残ったライン幅を密着性とした。
又、別に、得られた各レジスト画像形成材をロール状に巻き取り、室温(20〜30℃)で3ヶ月間保存した後、ロール端面からの感光層の滲み出しを観察し以下に示す基準で評価し、結果を表2に示した。
△:少し滲み出しているがフィルムの貼り付き無し
×:滲み出しが有り、フィルムが貼り付く
Claims (8)
- 下記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分を含有してなることを特徴とする青紫レーザー感光性組成物。
(A)下記一般式(I)で表される(メタ)アクリレート類及びスチレン類を共重合成分として含有し、かつ、該(メタ)アクリレート類に由来する構成繰返し単位の含有量が、共重合体の全構成繰返し単位に対して10〜25重量%であるアルカリ可溶性樹脂
(B)エチレン性不飽和化合物
(C)光重合開始剤
(D)355〜430nmの波長域に吸収極大を有する増感色素
- (A)成分のアルカリ可溶性樹脂が、一般式(I)で表される(メタ)アクリレート類、スチレン類、エチレン性不飽和カルボン酸類、及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類を共重合成分として含有する請求項1に記載の青紫レーザー感光性組成物。
- (B)成分のエチレン性不飽和化合物として、ポリオキシアルキレン基を有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を2個以上有するエステル(メタ)アクリレート類を含む請求項1又は2に記載の青紫レーザー感光性組成物。
- (C)成分の光重合開始剤として、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含む請求項1乃至3のいずれかに記載の青紫レーザー感光性組成物。
- (D)成分の増感色素として、ジアルキルアミノベンゼン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、アクリドン系化合物、及びカルバゾール系化合物からなる群から選択された何れか1以上の化合物を含む請求項1乃至4の何れか1項に記載の青紫レーザー感光性組成物。
- ジアルキルアミノベンゼン系化合物が、下記一般式(II)で表されるジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物、下記一般式(IV)で表されるスルホニルイミノ基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、及び下記一般式(V)で表されるカルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物からなる群より選択された何れか1以上の化合物を含む請求項5に記載の青紫レーザー感光性組成物。
、R6 、R9 、及びR10 は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、R3 とR4 、R7 とR8 、R3とR5 、R4 とR6 、R7 とR9 、及びR8 とR10 とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。〕
及びR6 は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、R3 とR4 、R3 とR5 、及びR4 とR6 とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、R11 は1価基、又は水素原子を示し、R12は1価基を示す。〕
- 仮支持フィルム上に請求項1乃至6の何れか1項に記載の青紫レーザー感光性組成物の層が形成されてなることを特徴とする青紫レーザー用画像形成材料。
- 被加工基板上に請求項7に記載の青紫レーザー用画像形成材料が青紫レーザー感光性組成物層側で積層されてなることを特徴とする青紫レーザー用画像形成材。
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