JP4671672B2 - Light receiving / emitting device, optical transmission / reception module, optical transmission module, and optical communication system - Google Patents

Light receiving / emitting device, optical transmission / reception module, optical transmission module, and optical communication system Download PDF

Info

Publication number
JP4671672B2
JP4671672B2 JP2004348281A JP2004348281A JP4671672B2 JP 4671672 B2 JP4671672 B2 JP 4671672B2 JP 2004348281 A JP2004348281 A JP 2004348281A JP 2004348281 A JP2004348281 A JP 2004348281A JP 4671672 B2 JP4671672 B2 JP 4671672B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
resonator
light emitting
optical
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004348281A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006156870A (en
Inventor
孝志 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2004348281A priority Critical patent/JP4671672B2/en
Publication of JP2006156870A publication Critical patent/JP2006156870A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4671672B2 publication Critical patent/JP4671672B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

本発明は、受発光装置、光送受信モジュール、光送信モジュールおよび光通信システムに関する。 The present invention, light emitting and receiving device, an optical transceiver module, an optical transmission module Contact and optical communication systems.

近年、光伝送技術は、幹線系伝送網だけでなく、LANや光アクセス系、ホームネットワークにも展開されてきている。FTTH(Fiber−To−The−Home)等の光アクセス系においては、光送信部と光受信部と、LDの光出力をモニターする受光素子がハイブリッドに集積された光集積送受信モジュールが開発されている。しかしながら、モジュールザイズは数cmとなっており、さらなるモジュールの小型化が求められている。また、光LANにおいては、10Gbpsの伝送容量が実現されているが、将来的には更なる伝送容量の増加が求められており、並列光伝送や波長分割多重光伝送等の方式も検討されている。並列光伝送及び波長分割多重光伝送においては、光源や受光素子の個数が増加するため、モジュールサイズの小型化が重大な課題となっている。モジュールサイズを小型化する方法の1つとして、光源と受光素子とをモノリシックに集積した素子が検討されている。   In recent years, optical transmission technology has been developed not only in trunk transmission networks but also in LANs, optical access systems, and home networks. In an optical access system such as FTTH (Fiber-To-The-Home), an optical integrated transmission / reception module in which an optical transmitter, an optical receiver, and a light receiving element for monitoring the optical output of an LD are integrated in a hybrid has been developed. Yes. However, the module size is several centimeters, and further downsizing of the module is demanded. In addition, in the optical LAN, a transmission capacity of 10 Gbps is realized, but further increase in the transmission capacity is demanded in the future, and methods such as parallel optical transmission and wavelength division multiplexing optical transmission have been studied. Yes. In parallel optical transmission and wavelength division multiplexing optical transmission, since the number of light sources and light receiving elements increases, downsizing of the module size is a serious issue. As one method for reducing the module size, an element in which a light source and a light receiving element are monolithically integrated has been studied.

また、近年、LANや光インターコネクション用の光源として、垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL)が用いられるようになってきている。VCSELは、従来の端面発光型半導体レーザに比べて、低消費電力であり、また製造工程で劈開が不用であり、ウエハ状態で素子の検査が可能であるため、低コスト化に優れた特徴を有している。そのため、並列光伝送や波長分割多重光伝送のように複数の光源を用いる伝送方式にVCSELは適している。   In recent years, vertical cavity surface emitting lasers (VCSELs) have come to be used as light sources for LAN and optical interconnection. The VCSEL has lower power consumption than conventional edge-emitting semiconductor lasers, requires no cleaving in the manufacturing process, and can inspect elements in the wafer state. Have. Therefore, the VCSEL is suitable for a transmission method using a plurality of light sources such as parallel optical transmission and wavelength division multiplexing optical transmission.

例えば、特許文献1,特許文献2,特許文献3には、VCSEL光源と受光素子とをモノリシックに集積したモジュールが示されている。   For example, Patent Literature 1, Patent Literature 2, and Patent Literature 3 show a module in which a VCSEL light source and a light receiving element are monolithically integrated.

すなわち、特許文献1のモジュールでは、VCSEL構造の発光部と、受光部とが、同一基板上に集積形成されており、発光部は単共振器構造であり、受光部は二重共振器構造であり、受光部では、同一波長で共鳴する二つの共振器が適当なバリヤを介して接続されており、吸収スペクトルが平坦に近くなるように設計されている。これにより、受光帯域を広くすることができる。   That is, in the module of Patent Document 1, the VCSEL structure light emitting portion and the light receiving portion are integrated on the same substrate, the light emitting portion has a single resonator structure, and the light receiving portion has a double resonator structure. In the light receiving section, two resonators that resonate at the same wavelength are connected via an appropriate barrier, and the absorption spectrum is designed to be nearly flat. As a result, the light receiving band can be widened.

また、特許文献2のモジュールでは、高抵抗半導体基板上に、第1のPIN型フォトダイオードとVCSELが集積された領域と、第2のPIN型フォトダイオードが形成された領域とが、モノリシックに集積されており、第1のPIN型フォトダイオードは、VCSELの出射光を検出し、第2のPIN型フォトダイオードは、前記VCSELの外部反射光または他の発光素子からの光を検出するようになっており、また、第2のPIN型フォトダイオードは共振器構造を有しており、受光感度を向上させている。   In the module disclosed in Patent Document 2, a region where the first PIN photodiode and the VCSEL are integrated and a region where the second PIN photodiode is formed are monolithically integrated on the high-resistance semiconductor substrate. The first PIN type photodiode detects the emission light of the VCSEL, and the second PIN type photodiode detects the light reflected from the VCSEL or light from other light emitting elements. In addition, the second PIN photodiode has a resonator structure and improves the light receiving sensitivity.

また、特許文献3のモジュールでは、高抵抗半導体基板上に、フォトダイオード領域とVCSEL領域がモノリシックに集積されており、フォトダイオード領域は、異なるバンド幅の光吸収層を有する複数のpin型フォトダイオードを含んでおり、異なる波長の光を個別に検出することができる。また、VCSELの下部に積層されたモノリシック受光素子は、VCSELの光量をモニタして、VCSELのAPC(auto power control)が可能となっている。
特開平5−299689号公報 特開平10−242500号公報 特開平11−330532号公報
In the module of Patent Document 3, a photodiode region and a VCSEL region are monolithically integrated on a high-resistance semiconductor substrate, and the photodiode region includes a plurality of pin-type photodiodes having light absorption layers with different bandwidths. It is possible to individually detect light of different wavelengths. In addition, the monolithic light receiving element stacked under the VCSEL can monitor the amount of light of the VCSEL and perform APC (auto power control) of the VCSEL.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-29989 JP-A-10-242500 JP-A-11-330532

上述した従来技術である特許文献1,特許文献2,特許文献3においては、同一基板上に発光部であるVCSELと受光部がモノリシックに集積されており、小型の光送受信モジュールが構成可能となっている。しかしながら、発光部と受光部とでは積層構成が異なっている。これは、従来では、発光部であるVCSELに適した構成と、受光素子に適した構成とが異なるため、同一構造ではVCSELの特性を低下させることなく高感度の受光素子を形成することが困難であったからである。   In Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3, which are the conventional technologies described above, the VCSEL and the light receiving unit, which are light emitting units, are monolithically integrated on the same substrate, and a compact optical transceiver module can be configured. ing. However, the light-emitting part and the light-receiving part have different stacking configurations. This is because, conventionally, a configuration suitable for a VCSEL which is a light emitting portion is different from a configuration suitable for a light receiving element, and thus it is difficult to form a highly sensitive light receiving element without degrading the characteristics of the VCSEL with the same structure. Because it was.

このように、上述した従来技術では、発光部と受光部で積層構成が異なることから、積層構造の一部をエッチングして除去したり、エッチング後に再成長を行う必要があり、作製工程が複雑であった。また、VCSELや共振器構造を有する受光素子は、共振波長が層厚に対して非常に敏感であり、エッチング工程で層厚を厳密に制御することは困難である。   As described above, in the above-described prior art, since the laminated structure is different between the light emitting portion and the light receiving portion, it is necessary to remove a part of the laminated structure by etching, or to perform regrowth after etching, and the manufacturing process is complicated. Met. In the light receiving element having a VCSEL or a resonator structure, the resonance wavelength is very sensitive to the layer thickness, and it is difficult to strictly control the layer thickness in the etching process.

本発明は、上記の課題を解決し、容易に作製可能なモノリシックに集積されている受発光装置を提供することを目的としている。 The present invention aims at solving the above problems, to provide a light emitting and receiving equipment which are integrated readily manufacturable monolithic.

また、上記受発光装置を用いて、小型で低コストの光送受信モジュール,光送信モジュールおよび光通信システムを提供することを目的としている。 Further, by using the light emitting and receiving equipment, small, low-cost optical transceiver module, and its object is to provide an optical transmission module Contact and optical communication systems.

上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方の共振器には活性層が設けられ、また、他方の共振器には光吸収層が設けられ、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有し共振波長が異なっており、活性層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型発光素子と、前記基板上に、前記面型発光素子と同一の積層構造からなり、光吸収層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型受光素子とが、モノリシックに集積されていることを特徴とする受発光装置である。 In order to achieve the above object, the invention described in claim 1 is characterized in that on a substrate, a first semiconductor multilayer reflector, a first resonator, a second semiconductor multilayer reflector, a second resonator, A third semiconductor multilayer mirror is provided, wherein one of the first resonator and the second resonator is provided with an active layer , and the other resonator is provided with a light absorption layer. A surface-type light emitting element having a resonator length different from that of the first resonator and the second resonator, having a different resonance wavelength, and provided with an electrode capable of applying a voltage to the active layer; A surface light-receiving element having a laminated structure identical to that of the surface light-emitting element and provided with an electrode capable of applying a voltage to the light absorption layer is monolithically integrated on the substrate. The light emitting / receiving device.

また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の受発光装置を用いて、双方向の光送受信が可能になっていることを特徴とする光送受信モジュールである。 Further, a second aspect of the present invention, by using a light receiving and emitting device according to claim 1 Symbol mounting an optical transceiver module, characterized that it is capable of optical bidirectional transmission and reception.

また、請求項3記載の発明は、請求項1記載の受発光装置において、前記光吸収層は、前記活性層で発生した光を吸収する材料で構成されていることを特徴とする受発光装置である。 According to a third aspect of the present invention, in the light emitting / receiving device according to the first aspect, the light absorption layer is made of a material that absorbs light generated in the active layer. It is.

また、請求項4記載の発明は、請求項3記載の受発光装置と、該受発光装置から出力される光強度が一定となるように、前記受発光装置の光吸収層から出力された電気信号によって前記受発光装置の活性層に注入する電流を制御する電流制御手段とを有していることを特徴とする光送信モジュールである。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the light emitting / receiving device according to the third aspect and the electric light output from the light absorption layer of the light emitting / receiving device so that the light intensity output from the light emitting / receiving device is constant. An optical transmission module comprising current control means for controlling a current injected into an active layer of the light emitting / receiving device according to a signal.

また、請求項5記載の発明は、請求項1または請求項3記載の受発光装置において、活性層および/または光吸収層は、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体で構成されていることを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, in the light emitting / receiving device according to the first or third aspect , the active layer and / or the light absorption layer is composed of a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and another group V element. It is characterized by being.

また、請求項6記載の発明は、請求項2記載の光送受信モジュール、または、請求項4記載の光送信モジュールが用いられていることを特徴とする光通信システムである。 The invention of claim 6, wherein the optical transceiver module according to claim 2, or a communication system, characterized by being used an optical transmission module according to claim 4, wherein.

請求項1記載の発明によれば、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方の共振器には活性層が設けられ、また、他方の共振器には光吸収層が設けられ、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有し共振波長が異なっており、活性層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型発光素子と、前記基板上に、前記面型発光素子と同一の積層構造からなり、光吸収層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型受光素子とが、モノリシックに集積されており、請求項1の発明では、第1の共振器と第2の共振器は光学的に結合して、二つの共振波長λ1,λ2を形成しているが、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なるため、長波長の共振波長の光は、共振器長が長い共振器に主に閉じ込められる。また、短波長の共振波長の光は、共振器長が短い共振器に主に閉じ込められる。面型発光素子においては、活性層で発生した光(λ1)を一方の共振器に閉じ込めて、光閉じ込め係数を高く保つことができるため、低い閾電流で面型発光素子を動作させることができる。また、面型受光素子においては、外部から波長λ2の光が入射すると、波長λ2の光は他方の共振器に閉じ込められ、光吸収層で共鳴吸収されるため、高感度の面型受光素子を形成できる。従って、同一基板上にモノリシック集積された面型発光素子と面型受光素子とが、同一の積層構造で形成できるため、作製工程が容易な受発光装置を提供することができる。 According to the first aspect of the present invention, the first semiconductor multilayer film reflecting mirror, the first resonator, the second semiconductor multilayer film reflecting mirror, the second resonator, and the third semiconductor multilayer film are formed on the substrate. A reflection mirror, and one of the first resonator and the second resonator is provided with an active layer, and the other resonator is provided with a light absorption layer; A surface-emitting device having a resonator length different from that of the second resonator and having a different resonance wavelength and provided with an electrode capable of applying a voltage to the active layer; and consists surface light-emitting device the same lamination and structure, and the light absorption layer can electrode surface light-receiving element provided applying a voltage to is being monolithically integrated, in the invention of claim 1, the The first resonator and the second resonator are optically coupled to form two resonance wavelengths λ 1 and λ 2. Since the resonator length of the resonator is different from that of the second resonator, light having a long resonance wavelength is mainly confined in the resonator having a long resonator length. In addition, light having a short resonance wavelength is mainly confined in a resonator having a short resonator length. In the surface light emitting device, the light (λ1) generated in the active layer can be confined in one resonator and the light confinement factor can be kept high, so that the surface light emitting device can be operated with a low threshold current. . In addition, in the surface light receiving element, when light having the wavelength λ2 is incident from the outside, the light having the wavelength λ2 is confined in the other resonator and is resonantly absorbed by the light absorption layer. Can be formed. Accordingly, since the surface light emitting element and the surface light receiving element monolithically integrated on the same substrate can be formed with the same laminated structure, it is possible to provide a light emitting and receiving device that can be easily manufactured.

また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の受発光装置を用いて、双方向の光送受信が可能になっていることを特徴とする光送受信モジュールであり、請求項1記載の受発光装置は、低閾動作する面型発光部または面型発光素子と高感度の面型受光部または面型受光素子とがモノリシック集積されており、さらに、面型発光部または面型発光素子と面型受光部または面型受光素子とが同一構造であるため、容易に製造することができる。従って、光送受信モジュールを小型化,低コスト化できる。 Further, a second aspect of the present invention, by using a light receiving and emitting device according to claim 1 Symbol mounting a optical transceiver module, characterized that it is capable of optical bidirectional transmission and reception, placing claim 1 Symbol The light emitting / receiving device has a monolithically integrated surface light emitting unit or surface light emitting element that operates at a low threshold and a highly sensitive surface light receiving unit or surface light receiving element, and further includes a surface light emitting unit or surface light emitting unit. Since the element and the surface light receiving section or the surface light receiving element have the same structure, they can be easily manufactured. Therefore, the optical transceiver module can be reduced in size and cost.

また、請求項3記載の発明によれば、請求項1記載の受発光装置において、前記光吸収層は、前記活性層で発生した光を吸収する材料で構成されており、光吸収層は活性層で発生した光を吸収するため、光吸収層で面型発光部のレーザ光量をモニタすることができる。このとき、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なるため、活性層に結合する光の割合を高くし、光吸収層に結合する光の割合を低減することができ、必要な光量モニタ信号を得ながら、面型発光部の低閾電流動作を同時に満足することができる。 According to a third aspect of the present invention, in the light emitting / receiving device according to the first aspect, the light absorption layer is made of a material that absorbs light generated in the active layer, and the light absorption layer is active. Since the light generated in the layer is absorbed, the laser light quantity of the surface light emitting unit can be monitored by the light absorption layer. At this time, since the resonator lengths of the first resonator and the second resonator are different, the ratio of light coupled to the active layer can be increased, and the ratio of light coupled to the light absorption layer can be reduced. The low threshold current operation of the surface light emitting unit can be satisfied at the same time while obtaining the necessary light intensity monitor signal.

また、請求項4記載の発明は、請求項3記載の受発光装置と、該受発光装置から出力される光強度が一定となるように、前記受発光装置の光吸収層から出力された電気信号によって前記受発光装置の活性層に注入する電流を制御する電流制御手段とを有していることを特徴とする光送信モジュールであり、請求項3記載の受発光装置と、該受発光装置から出力される光強度が一定となるように、前記受発光装置の光吸収層から出力された電気信号によって前記受発光装置の活性層に注入する電流を制御する電流制御手段とを有しているので、環境温度変化や素子の経時変化が生じた場合でも、光送信モジュールから一定のレーザ光信号を出力することができる。また、面型発光部とモニタ用の面型受光部とがモノリシック集積されているので、部品点数が少なく、実装コストを低減できる。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the light emitting / receiving device according to the third aspect and the electric light output from the light absorption layer of the light emitting / receiving device so that the light intensity output from the light emitting / receiving device is constant. 4. An optical transmission module comprising: current control means for controlling a current injected into an active layer of the light emitting / receiving device according to a signal; and the light emitting / receiving device according to claim 3 and the light emitting / receiving device. Current control means for controlling the current injected into the active layer of the light emitting / receiving device by an electric signal output from the light absorbing layer of the light emitting / receiving device so that the light intensity output from the light receiving device is constant. Therefore, even when an environmental temperature change or an element change with time occurs, a constant laser light signal can be output from the optical transmission module. In addition, since the surface light emitting unit and the monitor surface light receiving unit are monolithically integrated, the number of components is small, and the mounting cost can be reduced.

また、請求項5記載の発明によれば、請求項1または請求項3記載の受発光装置において、活性層および/または光吸収層は、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体で構成されているので、石英光ファイバの伝送に適した長波長帯の活性層および/または光吸収層をGaAs基板上に形成できる。そのため、高反射率で熱伝導性に優れたGaAs/AlGaAs系DBRを用いることができ、高性能の受発光装置を形成することができる。 According to a fifth aspect of the present invention, in the light emitting / receiving device according to the first or third aspect , the active layer and / or the light absorption layer is composed of a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and another group V element. Therefore, an active layer and / or a light absorption layer having a long wavelength band suitable for transmission of a quartz optical fiber can be formed on a GaAs substrate. Therefore, a GaAs / AlGaAs DBR having high reflectivity and excellent thermal conductivity can be used, and a high-performance light receiving and emitting device can be formed.

また、本発明では異なる二つの波長の光を用いて光通信を行うが、石英光ファイバの分散がゼロである1.31μm近傍を用いることができ、石英光ファイバ伝送後の波長分散による信号劣化を抑制することができる。   Further, in the present invention, optical communication is performed using light of two different wavelengths, but the vicinity of 1.31 μm where the dispersion of the quartz optical fiber is zero can be used, and the signal degradation due to the wavelength dispersion after the transmission of the quartz optical fiber. Can be suppressed.

また、請求項6記載の発明は、請求項2記載の光送受信モジュール、または、請求項4記載の光送信モジュールが用いられていることを特徴とする光通信システムであり、請求項2記載の光送受信モジュール、または、請求項4記載の光送信モジュールが用いられることにより、製造工程を簡略化し、モジュールサイズの小型化,部品点数の減少を図ることができる。これにより、低コストの光通信システムを実現できる。 Further, an invention according to claim 6, wherein the optical transceiver module of claim 2 or a communication system, characterized by being used an optical transmission module according to claim 4, claim 2, wherein the optical transceiver module, or by an optical transmission module according to claim 4 wherein is used to simplify the manufacturing process, size reduction of the module size, it is possible to decrease the number of parts. Thereby, a low-cost optical communication system can be realized.

以下、本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1の形態)
本発明の第1の形態は、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方には活性層が設けられて面型発光部が形成され、また、他方の共振器には光吸収層が設けられて面型受光部が形成され、前記活性層及び前記光吸収層に対してそれぞれ独立に電圧を印加可能な電極が設けられており、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有していることを特徴とする受発光装置である。
(First form)
In the first embodiment of the present invention, a first semiconductor multilayer reflector, a first resonator, a second semiconductor multilayer reflector, a second resonator, and a third semiconductor multilayer reflector are formed on a substrate. A mirror, and an active layer is provided in one of the first resonator and the second resonator to form a surface light-emitting portion, and a light absorption layer is provided in the other resonator. A resonator that is different from the first resonator and the second resonator is provided with a surface-type light-receiving portion and provided with electrodes capable of independently applying a voltage to the active layer and the light absorption layer. A light receiving and emitting device characterized by having a length.

本発明の第1の形態では、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方には活性層が設けられて面型発光部が形成され、また、他方の共振器には光吸収層が設けられて面型受光部が形成され、前記活性層及び前記光吸収層に対してそれぞれ独立に電圧を印加可能な電極が設けられており、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有しており、第1の共振器と第2の共振器は光学的に結合して、二つの共振波長λ1,λ2を形成しているが、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なるため、長波長の共振波長の光は、共振器長が長い共振器に主に閉じ込められる。また、短波長の共振波長の光は、共振器長が短い共振器に主に閉じ込められる。従って、活性層で発生した光(λ1)を一方の共振器に閉じ込めて、光閉じ込め係数を高く保つことができるため、低い閾電流で面型発光部を動作させることができる。また、外部から波長λ2の光が入射すると、波長λ2の光は他方の共振器に閉じ込められ、光吸収層で共鳴吸収されるため、高感度の面型受光部を形成できる。これにより、低閾動作する面型発光部と高感度の面型受光部とが一体化して集積された受発光装置(面型受発光集積素子)を容易に作製することができる。   In the first embodiment of the present invention, the first semiconductor multilayer film reflector, the first resonator, the second semiconductor multilayer film reflector, the second resonator, and the third semiconductor multilayer film reflector are formed on the substrate. A mirror, and an active layer is provided in one of the first resonator and the second resonator to form a surface light-emitting portion, and a light absorption layer is provided in the other resonator. A resonator that is different from the first resonator and the second resonator is provided with a surface-type light-receiving portion and provided with electrodes capable of independently applying a voltage to the active layer and the light absorption layer. The first resonator and the second resonator are optically coupled to form two resonance wavelengths λ1 and λ2, but the first resonator and the second resonance Since the resonator lengths of the resonators are different, light having a long resonance wavelength is mainly confined in the resonator having a long resonator length. In addition, light having a short resonance wavelength is mainly confined in a resonator having a short resonator length. Therefore, light (λ1) generated in the active layer can be confined in one resonator and the optical confinement factor can be kept high, so that the surface light emitting unit can be operated with a low threshold current. Further, when light having a wavelength λ2 is incident from the outside, the light having a wavelength λ2 is confined in the other resonator and is resonantly absorbed by the light absorption layer, so that a highly sensitive surface-type light receiving portion can be formed. As a result, it is possible to easily manufacture a light emitting / receiving device (surface type light emitting / receiving integrated element) in which a surface light emitting unit operating at a low threshold and a highly sensitive surface light receiving unit are integrated and integrated.

(第2の形態)
本発明の第2の形態は、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方の共振器には活性層が設けられ、また、他方の共振器には光吸収層が設けられ、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有しており、活性層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型発光素子と、
前記基板上に、前記面型発光素子と同一の積層構造からなり、光吸収層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型受光素子とが、
モノリシックに集積されていることを特徴とする受発光装置である。
(Second form)
In the second embodiment of the present invention, the first semiconductor multilayer film reflector, the first resonator, the second semiconductor multilayer film reflector, the second resonator, and the third semiconductor multilayer film reflector are formed on the substrate. The first resonator and the second resonator are each provided with an active layer, and the other resonator is provided with a light absorption layer. And a surface-type light emitting device having a resonator length different from that of the second resonator and provided with an electrode capable of applying a voltage to the active layer;
On the substrate, a surface light-receiving element that has the same laminated structure as the surface light-emitting element and is provided with an electrode capable of applying a voltage to the light absorption layer,
A light emitting and receiving device characterized by being monolithically integrated.

本発明の第2の形態では、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方の共振器には活性層が設けられ、また、他方の共振器には光吸収層が設けられ、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有しており、活性層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型発光素子と、
前記基板上に、前記面型発光素子と同一の積層構造からなり、光吸収層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型受光素子とが、
モノリシックに集積されており、第2の形態においても、第1の共振器と第2の共振器は光学的に結合して、二つの共振波長λ1,λ2を形成しているが、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なるため、長波長の共振波長の光は、共振器長が長い共振器に主に閉じ込められる。また、短波長の共振波長の光は、共振器長が短い共振器に主に閉じ込められる。面型発光素子においては、活性層で発生した光(λ1)を一方の共振器に閉じ込めて、光閉じ込め係数を高く保つことができるため、低い閾電流で面型発光素子を動作させることができる。また、面型受光素子においては、外部から波長λ2の光が入射すると、波長λ2の光は他方の共振器に閉じ込められ、光吸収層で共鳴吸収されるため、高感度の面型受光素子を形成できる。従って、同一基板上にモノリシック集積された面型発光素子と面型受光素子とが、同一の積層構造で形成できるため、作製工程が容易な受発光装置を提供することができる。
In the second embodiment of the present invention, the first semiconductor multilayer film reflector, the first resonator, the second semiconductor multilayer film reflector, the second resonator, and the third semiconductor multilayer film reflector are formed on the substrate. The first resonator and the second resonator are each provided with an active layer, and the other resonator is provided with a light absorption layer. And a surface-type light emitting device having a resonator length different from that of the second resonator and provided with an electrode capable of applying a voltage to the active layer;
On the substrate, a surface light-receiving element that has the same laminated structure as the surface light-emitting element and is provided with an electrode capable of applying a voltage to the light absorption layer,
In the second embodiment, the first resonator and the second resonator are optically coupled to form two resonance wavelengths λ1 and λ2. Since the resonator lengths of the resonator and the second resonator are different, light having a long resonance wavelength is mainly confined in the resonator having a long resonator length. In addition, light having a short resonance wavelength is mainly confined in a resonator having a short resonator length. In the surface light emitting device, the light (λ1) generated in the active layer can be confined in one resonator and the light confinement factor can be kept high, so that the surface light emitting device can be operated with a low threshold current. . In addition, in the surface light receiving element, when light having the wavelength λ2 is incident from the outside, the light having the wavelength λ2 is confined in the other resonator and is resonantly absorbed by the light absorption layer. Can be formed. Accordingly, since the surface light emitting element and the surface light receiving element monolithically integrated on the same substrate can be formed with the same laminated structure, it is possible to provide a light emitting and receiving device that can be easily manufactured.

(第3の形態)
本発明の第3の形態は、第1または第2の形態の受発光装置を用いて、双方向の光送受信が可能になっていることを特徴とする光送受信モジュールである。
(Third form)
According to a third aspect of the present invention, there is provided an optical transmission / reception module characterized in that bidirectional optical transmission / reception is possible using the light emitting / receiving device of the first or second aspect.

本発明の第3の形態では、第1または第2の形態の受発光装置を用いて、双方向の光送受信が可能になっていることを特徴とする光送受信モジュールであり、第1または第2の形態の受発光装置は、低閾動作する面型発光部または面型発光素子と高感度の面型受光部または面型受光素子とがモノリシック集積されており、さらに、面型発光部または面型発光素子と面型受光部または面型受光素子とが同一構造であるため、容易に製造することができる。従って、光送受信モジュールを小型化,低コスト化できる。   According to a third aspect of the present invention, there is provided an optical transceiver module characterized in that bidirectional optical transmission / reception is possible using the light emitting / receiving device of the first or second aspect. The surface light emitting / receiving device according to the second aspect includes a monolithically integrated surface light emitting unit or surface light emitting element that operates at a low threshold and a highly sensitive surface light receiving unit or surface light receiving element. Since the surface light-emitting element and the surface light-receiving part or the surface light-receiving element have the same structure, they can be easily manufactured. Therefore, the optical transceiver module can be reduced in size and cost.

(第4の形態)
本発明の第4の形態は、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方の共振器には活性層が設けられて面型発光部が形成され、また、他方の共振器には光吸収層が設けられてモニタ用の面型受光部が形成され、前記活性層及び前記光吸収層に対してそれぞれ独立に電圧を印加可能な電極が設けられており、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有し、前記光吸収層は、前記活性層で発生した光を吸収する材料で構成されていることを特徴とする受発光装置である。
(4th form)
According to a fourth embodiment of the present invention, a first semiconductor multilayer reflector, a first resonator, a second semiconductor multilayer reflector, a second resonator, and a third semiconductor multilayer reflector are formed on a substrate. The first resonator and the second resonator are provided with active mirrors to form a surface light emitting unit, and the other resonator has a light absorption layer. A surface light-receiving unit for monitoring is formed, and electrodes capable of independently applying a voltage to the active layer and the light absorption layer are provided, and the first resonator and the second resonance are provided. A light receiving and emitting device having a resonator length different from that of the resonator, wherein the light absorption layer is made of a material that absorbs light generated in the active layer.

本発明の第4の形態では、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方の共振器には活性層が設けられて面型発光部が形成され、また、他方の共振器には光吸収層が設けられてモニタ用の面型受光部が形成され、前記活性層及び前記光吸収層に対してそれぞれ独立に電圧を印加可能な電極が設けられており、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有し、前記光吸収層は、前記活性層で発生した光を吸収する材料で構成されており、光吸収層は活性層で発生した光を吸収するため、光吸収層で面型発光部のレーザ光量をモニタすることができる。このとき、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なるため、活性層に結合する光の割合を高くし、光吸収層に結合する光の割合を低減することができ、必要な光量モニタ信号を得ながら、面型発光部の低閾電流動作を同時に満足することができる。   In the fourth embodiment of the present invention, the first semiconductor multilayer reflector, the first resonator, the second semiconductor multilayer reflector, the second resonator, and the third semiconductor multilayer reflector are formed on the substrate. The first resonator and the second resonator are provided with active mirrors to form a surface light emitting unit, and the other resonator has a light absorption layer. A surface light-receiving unit for monitoring is formed, and electrodes capable of independently applying a voltage to the active layer and the light absorption layer are provided, and the first resonator and the second resonance are provided. The light absorption layer is made of a material that absorbs light generated in the active layer, and the light absorption layer absorbs light generated in the active layer. The amount of laser light from the surface light emitting unit can be monitored by the absorption layer. At this time, since the resonator lengths of the first resonator and the second resonator are different, the ratio of light coupled to the active layer can be increased, and the ratio of light coupled to the light absorption layer can be reduced. The low threshold current operation of the surface light emitting unit can be satisfied at the same time while obtaining the necessary light intensity monitor signal.

(第5の形態)
本発明の第5の形態は、第4の形態の受発光装置と、該受発光装置から出力される光強度が一定となるように、前記受発光装置の光吸収層から出力された電気信号によって前記受発光装置の活性層に注入する電流を制御する電流制御手段とを有していることを特徴とする光送信モジュールである。
(5th form)
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an electric signal output from the light receiving / emitting device of the fourth aspect and the light absorption layer of the light emitting / receiving device so that the light intensity output from the light receiving / emitting device is constant. And a current control means for controlling the current injected into the active layer of the light emitting / receiving device.

本発明の第5の形態では、第4の形態の受発光装置と、該受発光装置から出力される光強度が一定となるように、前記受発光装置の光吸収層から出力された電気信号によって前記受発光装置の活性層に注入する電流を制御する電流制御手段とを有していることを特徴とする光送信モジュールであり、第4の形態の受発光装置と、該受発光装置から出力される光強度が一定となるように、前記受発光装置の光吸収層から出力された電気信号によって前記受発光装置の活性層に注入する電流を制御する電流制御手段とを有しているので、環境温度変化や素子の経時変化が生じた場合でも、光送信モジュールから一定のレーザ光信号を出力することができる。また、面型発光部とモニタ用の面型受光部とがモノリシック集積されているので、部品点数が少なく、実装コストを低減できる。   In the fifth aspect of the present invention, the electric signal output from the light-absorbing layer of the light emitting / receiving device so that the light intensity output from the light emitting / receiving device of the fourth aspect is constant. And a current control means for controlling the current injected into the active layer of the light emitting / receiving device. The light transmitting / receiving device according to the fourth aspect; and Current control means for controlling the current injected into the active layer of the light receiving and emitting device by an electric signal output from the light absorbing layer of the light receiving and emitting device so that the output light intensity is constant. Therefore, even when an environmental temperature change or an element change with time occurs, a constant laser light signal can be output from the optical transmission module. In addition, since the surface light emitting unit and the monitor surface light receiving unit are monolithically integrated, the number of components is small, and the mounting cost can be reduced.

(第6の形態)
本発明の第6の形態は、第1または第2または第4の形態の受発光装置において、活性層および/または光吸収層は、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体で構成されていることを特徴とする受発光装置である。
(Sixth form)
According to a sixth aspect of the present invention, in the light emitting / receiving device according to the first, second, or fourth aspect, the active layer and / or the light absorption layer is composed of a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and another group V element. It is the light emitting / receiving device characterized by the above.

本発明の第6の形態では、第1または第2または第4の形態の受発光装置において、活性層および/または光吸収層は、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体で構成されているので、石英光ファイバの伝送に適した長波長帯の活性層および/または光吸収層をGaAs基板上に形成できる。そのため、高反射率で熱伝導性に優れたGaAs/AlGaAs系DBRを用いることができ、高性能の受発光装置を形成することができる。   According to a sixth aspect of the present invention, in the light emitting / receiving device according to the first, second, or fourth aspect, the active layer and / or the light absorption layer is made of a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and another group V element. Therefore, an active layer and / or a light absorption layer having a long wavelength band suitable for transmission of a quartz optical fiber can be formed on a GaAs substrate. Therefore, a GaAs / AlGaAs DBR having high reflectivity and excellent thermal conductivity can be used, and a high-performance light receiving and emitting device can be formed.

また、本発明では異なる二つの波長の光を用いて光通信を行うが、石英光ファイバの分散がゼロである1.31μm近傍を用いることができ、石英光ファイバ伝送後の波長分散による信号劣化を抑制することができる。   Further, in the present invention, optical communication is performed using light of two different wavelengths, but the vicinity of 1.31 μm where the dispersion of the quartz optical fiber is zero can be used, and the signal degradation due to the wavelength dispersion after the transmission of the quartz optical fiber. Can be suppressed.

(第7の形態)
本発明の第7の形態は、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器とにはそれぞれ光吸収層が設けられて2つの面型受光部が形成され、第1の共振器と第2の共振器とにそれぞれ設けられた光吸収層に対して独立に電圧を印加可能な電極が設けられており、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有していることを特徴とする受光装置である。
(7th form)
According to a seventh aspect of the present invention, a first semiconductor multilayer reflector, a first resonator, a second semiconductor multilayer reflector, a second resonator, and a third semiconductor multilayer reflector are formed on a substrate. The first resonator and the second resonator are each provided with a light absorption layer to form two surface-type light receiving parts, and the first resonator and the second resonator are each provided with a mirror. An electrode capable of applying a voltage independently to the provided light absorption layer is provided, and the first resonator and the second resonator have different resonator lengths. It is a light receiving device.

本発明の第7の形態では、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器とにはそれぞれ光吸収層が設けられて2つの面型受光部が形成され、第1の共振器と第2の共振器とにそれぞれ設けられた光吸収層に対して独立に電圧を印加可能な電極が設けられており、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有しており、外部から波長λ1の光が入射すると、波長λ1の光は一方の第1の共振器と共振して閉じ込められ、第1の共振器内に設けられた光吸収層で共鳴吸収される。また、外部から波長λ2の光が入射すると、波長λ2の光は第2の共振器に閉じ込められ、第2の共振器内に設けられた光吸収層で共鳴吸収される。これにより、同一の素子で、二つの異なる波長の光を選別して、受光することができる。また、第1の共振器と第2の共振器は異なる共振器長を有するため、一方の共振器に光が閉じ込められると、他方の共振器内では光強度が1〜2桁程度低下する。従って、2波長間のクロストークを低減することができる。   In the seventh embodiment of the present invention, the first semiconductor multilayer film reflecting mirror, the first resonator, the second semiconductor multilayer film reflecting mirror, the second resonator, and the third semiconductor multilayer film reflecting are formed on the substrate. The first resonator and the second resonator are each provided with a light absorption layer to form two surface-type light receiving parts, and the first resonator and the second resonator are each provided with a mirror. An electrode capable of applying a voltage independently to the provided light absorption layer is provided, the first resonator and the second resonator have different resonator lengths, and have a wavelength λ1 from the outside. Is incident, the light having the wavelength λ1 is resonated and confined with one of the first resonators, and is resonantly absorbed by the light absorption layer provided in the first resonator. When light having a wavelength λ2 is incident from the outside, the light having a wavelength λ2 is confined in the second resonator and is resonantly absorbed by a light absorption layer provided in the second resonator. As a result, light of two different wavelengths can be selected and received by the same element. In addition, since the first resonator and the second resonator have different resonator lengths, when light is confined in one resonator, the light intensity is reduced by about one to two digits in the other resonator. Therefore, crosstalk between two wavelengths can be reduced.

(第8の形態)
本発明の第8の形態は、波長分割多重光通信用の光受信モジュールであって、該光受信モジュールには、第7の形態の受光装置が用いられていることを特徴とする光受信モジュールである。
(8th form)
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided an optical receiver module for wavelength division multiplexing optical communication, wherein the optical receiver module uses the light receiving device of the seventh embodiment. It is.

本発明の第8の形態では、波長分割多重光通信用の光受信モジュールであって、該光受信モジュールには、第7の形態の受光装置が用いられており、この場合、第7の形態の受光装置は波長選別機能を有しているため、光分岐素子を設ける必要がなく、光受信モジュールの小型化や、コスト低減を図ることができる。   According to an eighth aspect of the present invention, there is provided an optical receiver module for wavelength division multiplexing optical communication, wherein the optical receiver module uses the light receiving device of the seventh aspect. In this case, the seventh embodiment Since the light receiving device has a wavelength selecting function, it is not necessary to provide an optical branching element, and the optical receiving module can be reduced in size and cost can be reduced.

(第9の形態)
本発明の第9の形態は、第7の形態の受光装置と、該受光装置の第1の共振器に設けられている光吸収層から出力される電気信号と前記受光装置の第2の共振器に設けられている光吸収層から出力される電気信号との差分を演算する差分演算手段とを有していることを特徴とする光受信モジュールである。
(9th form)
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a light receiving device according to the seventh embodiment, an electrical signal output from a light absorption layer provided in a first resonator of the light receiving device, and a second resonance of the light receiving device. And a difference calculating means for calculating a difference from an electric signal output from a light absorbing layer provided in the optical device.

本発明の第9の形態では、第7の形態の受光装置と、該受光装置の第1の共振器に設けられている光吸収層から出力される電気信号と前記受光装置の第2の共振器に設けられている光吸収層から出力される電気信号との差分を演算する差分演算手段とを有していることを特徴とする光受信モジュールであり、例えば、波長λ1に対応した光信号と波長λ2に対応した光信号が0と1が反転した状態で同時に出力されると、波長λ1とλ2の光は、請求項7記載の受光装置において、それぞれ別の光吸収層で吸収されるため、波長λ1とλ2の光信号を分離して検知することができる。この二つの信号の差分をとることにより、雑音の影響をキャンセルして、受信感度を向上させた差動伝送方式を実現することができる。   In the ninth embodiment of the present invention, the light receiving device of the seventh embodiment, the electric signal output from the light absorption layer provided in the first resonator of the light receiving device, and the second resonance of the light receiving device. And a difference calculating means for calculating a difference from an electric signal output from a light absorbing layer provided in the optical device, for example, an optical signal corresponding to the wavelength λ1. When the optical signals corresponding to the wavelength λ2 are output at the same time with 0 and 1 inverted, the light of the wavelengths λ1 and λ2 are absorbed by different light absorption layers in the light receiving device according to claim 7. Therefore, the optical signals having wavelengths λ1 and λ2 can be detected separately. By taking the difference between the two signals, it is possible to realize a differential transmission system in which the influence of noise is canceled and reception sensitivity is improved.

(第10の形態)
本発明の第10の形態は、第7の形態の受光装置において、光吸収層が、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体で構成されていることを特徴とする受光装置である。
(10th form)
A tenth aspect of the present invention is the light receiving apparatus according to the seventh aspect, wherein the light absorption layer is made of a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and another group V element.

本発明の第10の形態では、第7の形態の受光装置において、光吸収層は、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体で構成されているので、石英光ファイバの伝送に適した長波長帯の光吸収層をGaAs基板上に形成できる。そのため、高反射率で熱伝導性に優れたGaAs/AlGaAs系DBRを用いることができ、高性能の受光装置を形成することができる。   In the tenth aspect of the present invention, in the light-receiving device according to the seventh aspect, the light absorption layer is made of a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and other group V elements, and is therefore suitable for transmission of quartz optical fibers. A light absorption layer having a long wavelength band can be formed on the GaAs substrate. Therefore, a GaAs / AlGaAs DBR having high reflectivity and excellent thermal conductivity can be used, and a high-performance light receiving device can be formed.

また、本発明では異なる二つの波長の光を用いて光通信を行うが、石英光ファイバの分散がゼロである1.31μm近傍を用いることができ、石英光ファイバ伝送後の波長分散による信号劣化を抑制することができる。   Further, in the present invention, optical communication is performed using light of two different wavelengths, but the vicinity of 1.31 μm where the dispersion of the quartz optical fiber is zero can be used, and the signal degradation due to the wavelength dispersion after the transmission of the quartz optical fiber. Can be suppressed.

(第11の形態)
本発明の第11の形態は、第3の形態の光送受信モジュール、または、第5の形態の光送信モジュール、または、第8または第9の形態の光受信モジュールが用いられていることを特徴とする光通信システムである。
(Eleventh form)
In an eleventh aspect of the present invention, the optical transceiver module according to the third aspect, the optical transmitter module according to the fifth aspect, or the optical receiver module according to the eighth or ninth aspect is used. Is an optical communication system.

本発明の第11の形態では、第3の形態の光送受信モジュール、または、第5の形態の光送信モジュール、または、第8または第9の形態の光受信モジュールが用いられることにより、製造工程を簡略化し、モジュールサイズの小型化,部品点数の減少を図ることができる。これにより、低コストの光通信システムを実現できる。   In the eleventh aspect of the present invention, the optical transceiver module according to the third aspect, the optical transmitter module according to the fifth aspect, or the optical receiver module according to the eighth or ninth aspect is used. The module size can be reduced and the number of parts can be reduced. Thereby, a low-cost optical communication system can be realized.

上述のように、本発明の受発光装置または受光装置は、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器には、活性層または光吸収層が設けられており、それぞれの共振器に設けられた活性層または光吸収層は独立に動作し、1つの積層構造で異なる機能を有することができる。   As described above, the light receiving / emitting device or light receiving device of the present invention includes a first semiconductor multilayer reflector, a first resonator, a second semiconductor multilayer reflector, a second resonator on a substrate. A third semiconductor multilayer mirror is provided, and the first resonator and the second resonator are provided with an active layer or a light absorption layer, and the active layer or light absorption provided in each resonator. The layers operate independently and can have different functions in one stacked structure.

さらに、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有している。第1の共振器と第2の共振器は光学的に結合して、二つの共振波長を形成しているが、第1の共振器の共振器長と第2の共振器の共振器長が異なっており、非対称の二重共振器構造を形成している。対称の二重共振器構造では、二つの共振波長のいずれにおいても、第1の共振器と第2の共振器にほぼ均等に光が閉じ込められるが、非対称の二重共振器構造においては、長波長側の共振波長の光は、共振器長が長い方の共振器内に強く閉じ込められ、共振器長が短い方の共振器内では光は弱くなる。また、短波長側の共振波長の光は、共振器長が短い方の共振器に強く閉じ込められ、共振器長が長い方の共振器内では光は弱くなる。本発明は、二つの結合した共振器における光閉じ込めの非対称性を用いることを特徴としている。   Further, the first resonator and the second resonator have different resonator lengths. The first resonator and the second resonator are optically coupled to form two resonance wavelengths. The resonator length of the first resonator and the resonator length of the second resonator are They are different and form an asymmetric double resonator structure. In a symmetric double resonator structure, light is almost uniformly confined in the first and second resonators at either of the two resonance wavelengths, but in an asymmetric double resonator structure, a long The light having the resonance wavelength on the wavelength side is strongly confined in the resonator having the longer resonator length, and the light becomes weak in the resonator having the shorter resonator length. Further, the light having the resonance wavelength on the short wavelength side is strongly confined in the resonator having the shorter resonator length, and the light becomes weak in the resonator having the longer resonator length. The invention is characterized by the use of optical confinement asymmetry in two coupled resonators.

以下に記載する実施例1,実施例2においては、面型発光部または面型発光素子と、面型発光部または面型発光素子の発振波長と異なる波長の外部光を受光する面型受光部または面型受光素子とが集積形成されている。また、実施例4においては、面型発光部と、面型発光部の光量をモニタする面型受光部とが集積形成されている。また、実施例6においては、互いに異なる二つの波長を独立に受光できる面型受光部が集積形成されている。本発明では、二つの共振器が非対称であることから、それぞれの共振器ごとに独立に構造を最適化することが可能であり、高性能の機能領域をモノリシックに集積することができる。また、積層構造を機能領域ごとにエッチングしたり、再成長する必要がないため、製造工程が容易となる。   In Example 1 and Example 2 described below, a surface light emitting unit or a surface light emitting element and a surface light receiving unit that receives external light having a wavelength different from the oscillation wavelength of the surface light emitting unit or the surface light emitting element. Alternatively, a surface light receiving element is integrated. In Example 4, the surface light emitting unit and the surface light receiving unit for monitoring the light amount of the surface light emitting unit are integrated. In the sixth embodiment, the surface light-receiving portions that can independently receive two different wavelengths are integrated. In the present invention, since the two resonators are asymmetric, the structure can be optimized independently for each resonator, and high-performance functional areas can be monolithically integrated. Further, it is not necessary to etch or re-grow the laminated structure for each functional region, so that the manufacturing process becomes easy.

以下、本発明の実施例について、図面を用いて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明の実施例1は、第1の形態に対応している。図1は、本発明の実施例1の受発光装置(面型受発光集積素子)を示す図である。図1を参照すると、第1導電型の半導体単結晶基板101上には、第1導電型の下部分布ブラッグ反射鏡(DBR)102、第1のスペーサ層103、活性層104、第2のスペーサ層105、第2導電型の分布ブラッグ反射鏡(DBR)106、第3のスペーサ層107、光吸収層108、第4のスペーサ層109、第1導電型の上部分布ブラッグ反射鏡(DBR)110が順次に積層されている。   Example 1 of the present invention corresponds to the first mode. FIG. 1 is a diagram showing a light receiving / emitting device (surface-type light receiving / emitting integrated element) according to a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a first conductive type lower distributed Bragg reflector (DBR) 102, a first spacer layer 103, an active layer 104, and a second spacer are formed on a first conductive type semiconductor single crystal substrate 101. Layer 105, second conductivity type distributed Bragg reflector (DBR) 106, third spacer layer 107, light absorbing layer 108, fourth spacer layer 109, first conductivity type upper distributed Bragg reflector (DBR) 110 Are sequentially stacked.

分布ブラッグ反射鏡(DBR)は、高屈折率層と低屈折率層が、波長の4分の1の光学長で交互に積層されて形成されている。第1導電型の下部DBR102と第2導電型のDBR106ではさまれた領域は、発振波長の1波長分の光学長になる厚さとなっており、第1の共振器を構成している。また、第2導電型のDBR106と第1導電型の上部DBR110ではさまれた領域は、第2の共振器を構成している。第1の共振器と第2の共振器は光学的に結合して、二つの共振波長を形成しているが、第1の共振器の共振器長と第2の共振器の共振器長は異なっており、非対称の二重共振器構造を形成している。   A distributed Bragg reflector (DBR) is formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer with an optical length that is a quarter of a wavelength. A region sandwiched between the first conductivity type lower DBR 102 and the second conductivity type DBR 106 has a thickness that is an optical length corresponding to one wavelength of the oscillation wavelength, and constitutes a first resonator. The region sandwiched between the second conductivity type DBR 106 and the first conductivity type upper DBR 110 constitutes a second resonator. The first resonator and the second resonator are optically coupled to form two resonance wavelengths. The resonator length of the first resonator and the resonator length of the second resonator are They are different and form an asymmetric double resonator structure.

そして、上記積層構造の表面から第2導電型のDBR106の途中までエッチングされて、メサ構造が形成されており、第1導電型の上部DBR110の表面には、光出射部を除いて第1の電極111が形成されている。また、メサ構造の底面には、第2の電極112が形成されている。また、基板101の裏面には、第3の電極113が形成されている。   Then, the mesa structure is formed by etching from the surface of the stacked structure to the middle of the second conductivity type DBR 106, and the first conductivity type upper DBR 110 has a first surface except for the light emitting portion. An electrode 111 is formed. A second electrode 112 is formed on the bottom surface of the mesa structure. A third electrode 113 is formed on the back surface of the substrate 101.

このような構造では、第2の電極112と第3の電極113との間に順方向電流を流すことにより、活性層104にキャリアが注入されて発光する。活性層104で発光した光は、第1の共振器で共振し、基板と垂直方向にレーザ発振する。すなわち、第1の共振器に活性層104が設けられて面型発光部が形成されている。   In such a structure, by flowing a forward current between the second electrode 112 and the third electrode 113, carriers are injected into the active layer 104 and light is emitted. The light emitted from the active layer 104 resonates at the first resonator and oscillates in the direction perpendicular to the substrate. That is, the active layer 104 is provided in the first resonator to form a surface light emitting unit.

また、第1の電極111と第2の電極112との間に負荷抵抗を介して逆方向バイアスを加えることにより、光吸収層108で吸収された光量に応じて負荷抵抗に電流が流れて、光量を検知することができる。すなわち、第2の共振器に光吸収層108が設けられて面型受光部が形成されている。   In addition, by applying a reverse bias between the first electrode 111 and the second electrode 112 via the load resistance, a current flows through the load resistance according to the amount of light absorbed by the light absorption layer 108, The amount of light can be detected. That is, the light absorption layer 108 is provided in the second resonator to form a surface light receiving portion.

以下、本実施例1の構成を、より具体的な例を用いて説明する。第1導電型の半導体単結晶基板101は、n型GaAs基板で構成されており、第1導電型の下部DBR102は、n型Al0.2Ga0.8Asとn型AlAsとを交互に30.5周期積層してn型DBRとして形成されている。また、第1のスペーサ層103は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、活性層104は、GaAs/Al0.2Ga0.8As多重量子井戸構造で形成され、第2のスペーサ層105は、Al0.2Ga0.8Asで形成されている。また、第2導電型のDBR106は、p型Al0.2Ga0.8Asとp型AlAsとを交互に12.5周期積層してp型DBRとして形成されている。また、第3のスペーサ層107は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、光吸収層108は、Al0.06Ga0.94Asで形成され、第4のスペーサ層109は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、第1導電型の上部DBR110は、n型Al0.2Ga0.8Asとn型AlAsとを交互に10周期積層してn型DBRとして形成されている。 Hereinafter, the configuration of the first embodiment will be described using a more specific example. The first-conductivity-type semiconductor single crystal substrate 101 is composed of an n-type GaAs substrate, and the first-conductivity-type lower DBR 102 alternately includes n-type Al 0.2 Ga 0.8 As and n-type AlAs. 30.5 periods are stacked to form an n-type DBR. The first spacer layer 103 is made of Al 0.2 Ga 0.8 As, the active layer 104 is made of a GaAs / Al 0.2 Ga 0.8 As multiple quantum well structure, and the second The spacer layer 105 is made of Al 0.2 Ga 0.8 As. Further, the second conductivity type DBR 106 is formed as a p-type DBR by alternately laminating p-type Al 0.2 Ga 0.8 As and p-type AlAs for 12.5 periods. The third spacer layer 107 is made of Al 0.2 Ga 0.8 As, the light absorption layer 108 is made of Al 0.06 Ga 0.94 As, and the fourth spacer layer 109 is made of The upper DBR 110 of the first conductivity type formed of Al 0.2 Ga 0.8 As is formed as an n-type DBR by alternately stacking n-type Al 0.2 Ga 0.8 As and n-type AlAs for 10 periods. Is formed.

なお、活性層104及び光吸収層108は、光の定在波分布の腹に位置するように構成されている。   Note that the active layer 104 and the light absorption layer 108 are configured to be located at the antinodes of the standing wave distribution of light.

本実施例1では、下部DBR102、p型DBR106、上部DBR110、及び第1の共振器は波長850nmに位相整合するように各層厚を形成した。また、第2の共振器長は、波長800nmに位相整合する層厚とした。これにより、第1の共振器と第2の共振器が光学的に結合して形成された二つの共振波長は、851nmと835nmとなっている。   In the first embodiment, the lower DBR 102, the p-type DBR 106, the upper DBR 110, and the first resonator have respective layer thicknesses so as to be phase-matched to a wavelength of 850 nm. The second resonator length was a layer thickness that matched the phase to a wavelength of 800 nm. Thereby, the two resonance wavelengths formed by optically coupling the first resonator and the second resonator are 851 nm and 835 nm.

このように、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なっていることにより、長波長側の波長851nmの光は、共振器長が相対的に長い第1の共振器に主に閉じ込められる(図10(a)参照)。活性層104の利得ピーク波長は850nm近傍となっており、第2の電極112と第3の電極113間に順方向電流を流すことにより活性層104で発生した光は、第1の共振器で共振し、基板101と垂直方向にレーザ発振する。このとき、第2の共振器内の光強度は小さく、活性層104の光閉じ込め係数を高く保つことができる。従って、低い閾電流で面型発光部を動作させることができる。   As described above, since the resonator lengths of the first resonator and the second resonator are different, light having a wavelength of 851 nm on the long wavelength side is changed to the first resonator having a relatively long resonator length. It is mainly confined (see FIG. 10A). The gain peak wavelength of the active layer 104 is in the vicinity of 850 nm, and the light generated in the active layer 104 when a forward current flows between the second electrode 112 and the third electrode 113 is transmitted from the first resonator. Resonates and oscillates in the direction perpendicular to the substrate 101. At this time, the light intensity in the second resonator is small, and the optical confinement coefficient of the active layer 104 can be kept high. Therefore, the surface light emitting unit can be operated with a low threshold current.

一方、外部から波長835nmの光が入射すると、波長835nmの光は共振器長が相対的に短い第2の共振器に主に閉じ込められる(図10(b)参照)。すなわち、第2の共振器に設けられたAl0.06Ga0.94As光吸収層108のバンドギャップ波長は約835nmとなっており、Al0.06Ga0.94As光吸収層108は波長835nmの光を吸収する。従って、第2の共振器内に設けられた光吸収層108において、外部から入射された波長835nmの光は共鳴吸収される。これにより、高感度の受光素子を形成することができる。 On the other hand, when light having a wavelength of 835 nm is incident from the outside, the light having a wavelength of 835 nm is mainly confined in the second resonator having a relatively short resonator length (see FIG. 10B). That is, the band gap wavelength of the Al 0.06 Ga 0.94 As light absorption layer 108 provided in the second resonator is about 835 nm, and the Al 0.06 Ga 0.94 As light absorption layer 108 is Absorbs light having a wavelength of 835 nm. Therefore, light having a wavelength of 835 nm incident from the outside is resonantly absorbed in the light absorption layer 108 provided in the second resonator. Thereby, a highly sensitive light receiving element can be formed.

なお、Al0.06Ga0.94As光吸収層108は、面型発光部の発振波長851nmよりもバンドギャップ波長が短くなっているため、波長851nmの光に対しては吸収係数が小さくなっている。従って、活性層104で発生した851nmの光が、第2の共振器にわずかにあっても、内部吸収損失を増大させない。従って、閾電流増加やスロープ効率低下を抑制することができる。 Since the Al 0.06 Ga 0.94 As light absorption layer 108 has a band gap wavelength shorter than the oscillation wavelength 851 nm of the surface light emitting unit, the absorption coefficient is small for light with a wavelength of 851 nm. ing. Therefore, even if 851 nm light generated in the active layer 104 is slightly in the second resonator, the internal absorption loss is not increased. Therefore, an increase in threshold current and a decrease in slope efficiency can be suppressed.

以上のように、図1の装置(素子)は、波長851nmの光を出射する面型発光部と波長835nmの光を受光する面型受光部とが一体化して集積された受発光装置(面型受発光集積素子)となっている。本構造では、発光部と受光部を異なる積層構造で形成する必要がなく、作製工程が容易となっている。また、低閾動作する面型発光部と高感度の面型受光部とを同時に形成することができ、どちらかの性能を低下させることもない。   As described above, the device (element) in FIG. 1 is a light emitting / receiving device (surface) in which a surface light emitting unit that emits light having a wavelength of 851 nm and a surface light receiving unit that receives light having a wavelength of 835 nm are integrated and integrated. Type light receiving and emitting integrated device). In this structure, it is not necessary to form the light emitting portion and the light receiving portion with different laminated structures, and the manufacturing process is easy. In addition, a surface light emitting part that operates at a low threshold and a highly sensitive surface light receiving part can be formed at the same time, and either performance is not degraded.

なお、DBRの設計波長と面型発光部の発振波長とは、できるだけ一致させることが望ましい。これにより、面型発光部の発振波長に対して高反射率の反射鏡を形成できるため、面型発光部の閾電流を低減できる。   Note that it is desirable that the design wavelength of the DBR and the oscillation wavelength of the surface light emitting unit be matched as much as possible. As a result, a reflecting mirror having a high reflectivity with respect to the oscillation wavelength of the surface light emitting unit can be formed, so that the threshold current of the surface light emitting unit can be reduced.

なお、図1の実施例においては、活性層を第1の共振器(基板側)内に設け、光吸収層を第2の共振器内に設けているが、活性層を第2の共振器内に設け、光吸収層を第1の共振器内に設けることも可能である。   In the embodiment of FIG. 1, the active layer is provided in the first resonator (substrate side) and the light absorption layer is provided in the second resonator, but the active layer is provided in the second resonator. It is also possible to provide the light absorption layer in the first resonator.

また、図1においては、活性層104に対する電流(または光)狭窄構造については示されていないが、図1の受発光装置(面型受発光集積素子)に、従来の面型発光部(VCSEL)に用いられているような狭窄構造(例えば、イオン注入高抵抗構造、サイドエッチング狭窄構造、Al酸化狭窄構造、埋め込み構造等)を用いることも可能である。   1 does not show a current (or light) confinement structure for the active layer 104, the conventional light emitting / receiving device (surface light emitting / receiving integrated element) shown in FIG. It is also possible to use a constriction structure (for example, an ion-implanted high resistance structure, a side etching constriction structure, an Al oxide confinement structure, a buried structure, etc.) used in

本発明の実施例2は、第2の形態に対応している。図2は、本発明の実施例2の受発光装置(面型受発光集積素子)を示す図である。図2を参照すると、実施例2では、実施例1とは異なり、第1導電型の半導体単結晶基板201上に、発光領域2Aと受光領域2Bとが空間的に分離されてモノリシックに集積形成されている。発光領域2Aにおいて、第1導電型の半導体単結晶基板201上には、第1導電型の下部DBR202、第1のスペーサ層203、活性層204、第2のスペーサ層205、第2導電型のDBR206、第3のスペーサ層207、光吸収層208、第4のスペーサ層209、第1導電型の上部DBR210が順次に積層されている。また、受光領域2Bの積層構成は、発光領域2Aの積層構成と同一となっている。   Example 2 of the present invention corresponds to the second mode. FIG. 2 is a diagram showing a light emitting / receiving device (surface type light emitting / receiving integrated element) according to a second embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, in the second embodiment, unlike the first embodiment, the light emitting region 2A and the light receiving region 2B are spatially separated and monolithically integrated on the first conductivity type semiconductor single crystal substrate 201. Has been. In the light emitting region 2A, the first conductivity type lower DBR 202, the first spacer layer 203, the active layer 204, the second spacer layer 205, and the second conductivity type are formed on the first conductivity type semiconductor single crystal substrate 201. The DBR 206, the third spacer layer 207, the light absorption layer 208, the fourth spacer layer 209, and the first conductivity type upper DBR 210 are sequentially stacked. The laminated structure of the light receiving region 2B is the same as the laminated structure of the light emitting region 2A.

そして、上記積層構造の表面から第2導電型のDBR206の途中までエッチングされて、発光領域2A,受光領域2Bのそれぞれにメサ構造が形成されている。さらに、発光領域2Aと受光領域2Bとの間には、下部DBR202に達するまでエッチングされて分離溝211が形成されている。受光領域Bにおいて、第1導電型の上部DBR110の表面には、光入射部を除いて第1の電極111が形成されている。そして、発光領域2A,受光領域2Bのメサ構造の底面には、第2の電極212,213がそれぞれ形成されている。また、基板201の裏面には、第3の電極113が形成されている。   The mesa structure is formed in each of the light emitting region 2A and the light receiving region 2B by etching from the surface of the laminated structure to the middle of the DBR 206 of the second conductivity type. Further, a separation groove 211 is formed between the light emitting region 2A and the light receiving region 2B by etching until reaching the lower DBR 202. In the light receiving region B, the first electrode 111 is formed on the surface of the first conductivity type upper DBR 110 except for the light incident portion. Second electrodes 212 and 213 are formed on the bottom surfaces of the mesa structure of the light emitting region 2A and the light receiving region 2B, respectively. A third electrode 113 is formed on the back surface of the substrate 201.

このような構造では、第2の電極212と第3の電極113との間に順方向電流を流すことにより、活性層204にキャリアが注入されて発光する。活性層204で発光した光は、第1の共振器で共振し、基板と垂直方向にレーザ発振する。   In such a structure, when a forward current flows between the second electrode 212 and the third electrode 113, carriers are injected into the active layer 204 to emit light. The light emitted from the active layer 204 resonates in the first resonator and oscillates in the direction perpendicular to the substrate.

また、第1の電極111と第2の電極213との間に負荷抵抗を介して逆方向バイアスを加えることにより、光吸収層208で吸収された光量に応じて負荷抵抗に電流が流れて、光量を検知することができる。   In addition, by applying a reverse bias between the first electrode 111 and the second electrode 213 via the load resistance, a current flows through the load resistance according to the amount of light absorbed by the light absorption layer 208, The amount of light can be detected.

以下、本実施例2の構成を、より具体的な例を用いて説明する。第1導電型の半導体単結晶基板201は、n型GaAs基板で構成されており、第1導電型の下部DBR202は、n型GaAsとn型AlAsを交互に30.5周期積層してn型DBRとして形成されている。また、第1のスペーサ層203は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、活性層204は、GaInAs/Al0.2Ga0.8As多重量子井戸構造で形成され、第2のスペーサ層205はAl0.2Ga0.8Asで形成されている。また、第2導電型のDBR206は、p型GaAsとp型AlAsとを交互に12.5周期積層してp型DBRとして形成されている。また、第3のスペーサ層207は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、光吸収層208は、GaInAsで形成され、第4のスペーサ層209は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、第1導電型の上部DBR210は、n型GaAsとn型AlAsとを交互に10周期積層してn型DBRとして形成されている。 Hereinafter, the configuration of the second embodiment will be described using a more specific example. The first conductivity type semiconductor single crystal substrate 201 is formed of an n-type GaAs substrate, and the first conductivity type lower DBR 202 is formed by alternately stacking n-type GaAs and n-type AlAs for 30.5 periods. It is formed as a DBR. The first spacer layer 203 is formed of Al 0.2 Ga 0.8 As, the active layer 204 is formed of a GaInAs / Al 0.2 Ga 0.8 As multiple quantum well structure, and the second The spacer layer 205 is made of Al 0.2 Ga 0.8 As. Further, the second conductivity type DBR 206 is formed as a p-type DBR by alternately laminating p-type GaAs and p-type AlAs for 12.5 periods. The third spacer layer 207 is made of Al 0.2 Ga 0.8 As, the light absorption layer 208 is made of GaInAs, and the fourth spacer layer 209 is made of Al 0.2 Ga 0.8 As. The upper DBR 210 of the first conductivity type formed of As is formed as an n-type DBR by alternately stacking n-type GaAs and n-type AlAs for 10 periods.

なお、活性層204及び光吸収層208は、光の定在波分布の腹に位置するように構成されている。   Note that the active layer 204 and the light absorption layer 208 are configured to be located on the antinodes of the standing wave distribution of light.

下部DBR202とp型DBR206ではさまれた領域は、第1の共振器を構成している。また、p型DBR206と上部DBR210ではさまれた領域は、第2の共振器を構成している。実施例2では、下部DBR202、p型DBR206、上部DBR210、及び第1の共振器は波長950nmに位相整合するように各層厚を形成した。また、第2の共振器長は、波長890nmに位相整合する層厚とした。これにより、第1の共振器と第2の共振器が光学的に結合して形成された二つの共振波長は、951nmと933nmとなっている。   A region sandwiched between the lower DBR 202 and the p-type DBR 206 forms a first resonator. The region sandwiched between the p-type DBR 206 and the upper DBR 210 constitutes a second resonator. In Example 2, the lower DBR 202, the p-type DBR 206, the upper DBR 210, and the first resonator were formed with respective layer thicknesses so as to be phase-matched to a wavelength of 950 nm. The second resonator length was a layer thickness that matched the phase to a wavelength of 890 nm. Thereby, two resonance wavelengths formed by optically coupling the first resonator and the second resonator are 951 nm and 933 nm.

発光領域2Aにおいては、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なるため、長波長側の波長951nmの光は、共振器長が長い第1の共振器に主に閉じ込められる。活性層204は第1の共振器内に設けられており、活性層204の利得ピーク波長は950nm近傍となっているため、第2の電極112と第3の電極113間に順方向電流を流すことにより活性層204で発生した光は、第1の共振器で共振し、基板201と垂直上方向にレーザ発振する。このとき、第2の共振器内の光強度は小さく、活性層204の光閉じ込め係数を高く保つことができる。また、DBRの設計波長を面型発光素子(発光領域2A)の発振波長にほぼ一致させることで、高反射率の反射鏡を形成している。これにより、発光領域2Aの閾電流増加を抑制することができる。   In the light emitting region 2A, since the resonator lengths of the first resonator and the second resonator are different, light having a wavelength of 951 nm on the long wavelength side is mainly confined in the first resonator having a long resonator length. . Since the active layer 204 is provided in the first resonator and the gain peak wavelength of the active layer 204 is in the vicinity of 950 nm, a forward current flows between the second electrode 112 and the third electrode 113. As a result, the light generated in the active layer 204 resonates in the first resonator and oscillates in the direction perpendicular to the substrate 201. At this time, the light intensity in the second resonator is small, and the optical confinement coefficient of the active layer 204 can be kept high. Also, a high-reflectivity reflecting mirror is formed by making the design wavelength of the DBR substantially coincide with the oscillation wavelength of the surface light emitting element (light emitting region 2A). Thereby, the increase in the threshold current of the light emitting region 2A can be suppressed.

一方、受光領域2Bにおいては、外部から波長933nmの光が入射すると、波長933nmの光は主に第2の共振器に閉じ込められる。第2の共振器に設けられた光吸収層208は、波長933nmの光を吸収する。従って、外部から入射された波長933nmの光は光吸収層208で共鳴吸収される。これにより、高感度の面型受光素子を形成することができる。   On the other hand, in the light receiving region 2B, when light having a wavelength of 933 nm is incident from the outside, the light having a wavelength of 933 nm is mainly confined in the second resonator. The light absorption layer 208 provided in the second resonator absorbs light having a wavelength of 933 nm. Accordingly, light having a wavelength of 933 nm incident from the outside is resonantly absorbed by the light absorption layer 208. Thereby, a highly sensitive surface light-receiving element can be formed.

また、外部から受光する光の波長に対しては、DBRの設計波長がずれている。さらに、光吸収層208は入射窓部に近い第2の共振器内に設けられており、共振器よりも上側のDBR積層数が少なくなっている。そのため、共振器のQ値が小さくなり、共鳴吸収帯域を広くすることができる。   Further, the design wavelength of the DBR is deviated from the wavelength of light received from the outside. Furthermore, the light absorption layer 208 is provided in the second resonator close to the entrance window, and the number of DBR stacks on the upper side of the resonator is reduced. Therefore, the Q value of the resonator is reduced, and the resonance absorption band can be widened.

以上の動作より、図2の装置(素子)は、波長951nmの光を出射する面型発光部2Aと、波長933nmの光を受光する面型受光部2Bとが、同一基板上にモノリシックに集積された受発光装置(面型受発光集積素子)となっている。本構造では、面型発光部2Aと面型受光部2Bとが同一の積層構造で形成されており、作製工程が容易となっている。また、同一の積層構造でありながら、非対称の二重共振器構造を用いることで、面型発光部の低閾動作と面型受光素子の高感度化とを同時に実現することができる。   As a result of the above operation, the apparatus (element) in FIG. 2 is monolithically integrated on the same substrate with the surface light-emitting unit 2A that emits light with a wavelength of 951 nm and the surface light-receiving unit 2B that receives light with a wavelength of 933 nm. This is a light emitting / receiving device (surface type light emitting / receiving integrated element). In this structure, the surface light-emitting portion 2A and the surface light-receiving portion 2B are formed with the same laminated structure, which facilitates the manufacturing process. Further, by using an asymmetric double resonator structure with the same laminated structure, it is possible to simultaneously realize the low threshold operation of the surface light emitting unit and the high sensitivity of the surface light receiving element.

実施例1においては一つの素子で発光部と受光部を兼用していたが、この実施例2では発光部2Aと受光部2Bとを空間的に分離している。そのため、活性層の光が受光層で吸収されて発生する雑音電流や、外部入射光が活性層に入力することで出力光強度が変動する影響等を抑制することができる。   In the first embodiment, the light emitting unit and the light receiving unit are combined with one element, but in the second embodiment, the light emitting unit 2A and the light receiving unit 2B are spatially separated. Therefore, it is possible to suppress the noise current generated when the light of the active layer is absorbed by the light receiving layer, the influence of the fluctuation of the output light intensity when external incident light is input to the active layer, and the like.

本発明の実施例3は、第3,第11の形態に対応している。図3は、本発明の実施例3の光送受信モジュール(さらには、光通信システム)を示す図である。すなわち、図3は、実施例2の面型受発光集積素子を用いた光送受信モジュール、さらには、この光送受信モジュールを用いた光通信システムを示す図であり、図3において、二つの光送受信モジュール301,302が単芯の光ファイバ303で接続されており、双方向に光通信が可能となっている。   Example 3 of the present invention corresponds to the third and eleventh modes. FIG. 3 is a diagram illustrating an optical transceiver module (and an optical communication system) according to a third embodiment of the present invention. That is, FIG. 3 is a diagram showing an optical transmission / reception module using the surface light emitting / receiving integrated device of Example 2, and further an optical communication system using this optical transmission / reception module. In FIG. Modules 301 and 302 are connected by a single-core optical fiber 303, and optical communication is possible in both directions.

光送受信モジュール301においては、実施例2の面型受発光集積素子304aを用いている。外部から入力された電気信号に応じて、VCSEL駆動回路305は面型受発光集積素子304の活性層に注入する電流を変調して、出力されるレーザ光強度を変調する。このとき、出力されるレーザ光の波長はλ1(例えば951nm)となっている。面型受発光集積素子304aから出力された波長λ1の光信号は、光結合/分岐素子307を通って光ファイバ303に結合し、光ファイバ303を導波して反対側の光送受信モジュール302に入力される。   In the optical transceiver module 301, the surface-type light receiving / emitting integrated element 304a of the second embodiment is used. The VCSEL drive circuit 305 modulates the intensity of the laser beam to be output by modulating the current injected into the active layer of the surface light emitting and receiving integrated element 304 in accordance with the electric signal input from the outside. At this time, the wavelength of the output laser beam is λ1 (for example, 951 nm). The optical signal having the wavelength λ 1 output from the planar light emitting and receiving integrated element 304 a is coupled to the optical fiber 303 through the optical coupling / branching element 307, guided through the optical fiber 303, and transmitted to the optical transceiver module 302 on the opposite side. Entered.

また、光送受信モジュール302の面型受発光集積素子304bは、波長λ2(例えば933nm)のレーザ光を出力し、光ファイバ303を導波して光送受信モジュール301に達した波長λ2の光信号は、光結合/分岐素子307を通って面型受発光集積素子304aの受光部に入力される。光送受信モジュール301に設けられた面型受発光集積素子304aの受光部では、波長λ2の光を共鳴吸収して、光信号を電気信号に変換する。面型受発光集積素子304aの受光部から出力された電気信号は、受信回路306において、信号増幅,波形整形等がなされて、光送受信モジュール301から外部に出力される。   Further, the surface type light emitting / receiving integrated element 304b of the optical transceiver module 302 outputs a laser beam having a wavelength λ2 (for example, 933 nm), and an optical signal having the wavelength λ2 that reaches the optical transceiver module 301 through the optical fiber 303 is guided. Then, the light is input through the optical coupling / branching element 307 to the light receiving unit of the surface light receiving and emitting integrated element 304a. The light receiving unit of the surface light emitting and receiving integrated element 304a provided in the optical transceiver module 301 resonantly absorbs light of wavelength λ2 and converts the optical signal into an electrical signal. The electrical signal output from the light receiving unit of the surface-type light receiving / emitting integrated element 304a is subjected to signal amplification, waveform shaping, and the like in the receiving circuit 306, and is output to the outside from the optical transceiver module 301.

一方、光送受信モジュール302に設けられている面型受発光集積素子304bは、波長λ2のレーザ光を出力し、波長λ1の光を共鳴吸収するように構成されている。   On the other hand, the surface-type light receiving / emitting integrated element 304b provided in the optical transceiver module 302 is configured to output laser light having a wavelength λ2 and resonantly absorb light having a wavelength λ1.

光結合/分岐素子307としては、導波路構造や、ホログラム素子、回折格子、干渉計等を用いることが可能である。   As the optical coupling / branching element 307, a waveguide structure, a hologram element, a diffraction grating, an interferometer, or the like can be used.

本実施例3の光送受信モジュール301,302では、面型発光素子(発光領域)と面型受光素子(受光領域)とがモノリシック集積された面型受発光集積素子304を備えているため、モジュールのサイズを小型化することができる。また、本実施例3に用いた面型受発光集積素子304は、実施例2で述べたように、低閾動作する面型発光素子と高感度の面型受光素子とを同一構造で作製することができ、製造が容易となっている。従って、光送受信モジュールの性能を損なくことなく、低コスト化が図れる。   The optical transmission / reception modules 301 and 302 according to the third embodiment include a surface light emitting / receiving integrated element 304 in which a surface light emitting element (light emitting region) and a surface light receiving element (light receiving region) are monolithically integrated. Can be reduced in size. In addition, as described in the second embodiment, the surface-type light receiving / emitting integrated element 304 used in the third embodiment is manufactured by using the same structure for a low-threshold surface light-emitting element and a highly sensitive surface light-receiving element. Can be manufactured easily. Therefore, the cost can be reduced without impairing the performance of the optical transceiver module.

なお、本実施例3においては、面型受発光集積素子304として、実施例2の素子を用いているが、実施例1の素子を用いることもできる。   In Example 3, the element of Example 2 is used as the planar light emitting and receiving integrated element 304. However, the element of Example 1 can also be used.

また、図3の光通信システムは、単チャンネルの双方向通信の構成例を示しているが、面型受発光集積素子304をアレイ化することで、並列伝送方式で双方向通信を行うことも可能である。これにより、大容量の光通信システムを小型,低コストで構成することができる。   The optical communication system of FIG. 3 shows a configuration example of single-channel bidirectional communication. However, bidirectional communication may be performed by a parallel transmission method by arraying the surface-type light receiving and emitting integrated elements 304. Is possible. Thereby, a large-capacity optical communication system can be configured in a small size and at low cost.

本発明の実施例4は、第4の形態に対応している。図4は、本発明の実施例4の光受発光装置(面型受発光集積素子)を示す図である。図4においては、面型受光部は、面型発光部の光量をモニタする受光素子として機能させることができる。図4を参照すると、第1導電型の半導体単結晶基板401上に、第1導電型の下部DBR402、第1のスペーサ層403、光吸収層404、第2のスペーサ層405、第2導電型のDBR406、第3のスペーサ層407、活性層408、第4のスペーサ層409、第1導電型の上部DBR410が順次に積層されている。   Example 4 of the present invention corresponds to the fourth mode. FIG. 4 is a diagram showing a light receiving and emitting device (surface-type light receiving and emitting integrated element) according to Example 4 of the present invention. In FIG. 4, the surface light-receiving unit can function as a light-receiving element that monitors the light amount of the surface light-emitting unit. Referring to FIG. 4, a first conductivity type lower DBR 402, a first spacer layer 403, a light absorption layer 404, a second spacer layer 405, a second conductivity type are formed on a first conductivity type semiconductor single crystal substrate 401. The DBR 406, the third spacer layer 407, the active layer 408, the fourth spacer layer 409, and the first conductivity type upper DBR 410 are sequentially stacked.

以下、本実施例4の構成を、より具体的な例を用いて説明する。第1導電型の半導体単結晶基板401は、n型GaAs基板で構成されており、第1導電型の下部DBR402は、n型GaAsとn型AlAsとを交互に30.5周期積層してn型DBRとして形成されている。また、第1のスペーサ層403は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、光吸収層404は、GaInAs/Al0.2Ga0.8As多重量子井戸構造で形成され、第2のスペーサ層405は、Al0.2Ga0.8Asで形成されている。また、第2導電型のDBR406は、p型GaAsとp型AlAsとを交互に10.5周期積層してp型DBRとして形成されている。また、第3のスペーサ層407は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、活性層408は、GaInAs/Al0.2Ga0.8As多重量子井戸構造で形成され、第4のスペーサ層409は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、第1導電型の上部DBR410は、n型GaAsとn型AlAsとを交互に22周期積層してn型DBRとして形成されている。 Hereinafter, the configuration of the fourth embodiment will be described using a more specific example. The first conductivity type semiconductor single crystal substrate 401 is formed of an n-type GaAs substrate, and the first conductivity type lower DBR 402 is formed by alternately stacking n-type GaAs and n-type AlAs for 30.5 periods. It is formed as a type DBR. In addition, the first spacer layer 403 is formed of Al 0.2 Ga 0.8 As, the light absorption layer 404 is formed of a GaInAs / Al 0.2 Ga 0.8 As multiple quantum well structure, and the second The spacer layer 405 is made of Al 0.2 Ga 0.8 As. The second conductivity type DBR 406 is formed as a p-type DBR by alternately stacking 10.5 periods of p-type GaAs and p-type AlAs. The third spacer layer 407 is formed of Al 0.2 Ga 0.8 As, the active layer 408 is formed of a GaInAs / Al 0.2 Ga 0.8 As multiple quantum well structure, The spacer layer 409 is formed of Al 0.2 Ga 0.8 As, and the first conductivity type upper DBR 410 is formed as an n-type DBR by alternately stacking n-type GaAs and n-type AlAs for 22 periods. Yes.

下部DBR402とp型DBR406ではさまれた領域は第1の共振器を構成している。また、p型DBR406と上部DBR410ではさまれた領域は、第2の共振器を構成している。下部DBR402、p型DBR406、上部DBR410、及び第2の共振器は波長950nmに位相整合するように各層厚を形成した。また、第1の共振器長は、波長890nmに位相整合する層厚とした。これにより、第1の共振器と第2の共振器が光学的に結合して形成された二つの共振波長は、952nmと933nmとなっている。   A region sandwiched between the lower DBR 402 and the p-type DBR 406 constitutes a first resonator. The region sandwiched between the p-type DBR 406 and the upper DBR 410 constitutes a second resonator. The lower DBR 402, the p-type DBR 406, the upper DBR 410, and the second resonator were formed with respective layer thicknesses so as to be phase-matched to a wavelength of 950 nm. The first resonator length was a layer thickness that matched the phase to a wavelength of 890 nm. Thereby, two resonance wavelengths formed by optically coupling the first resonator and the second resonator are 952 nm and 933 nm.

なお、この実施例4では、第2の共振器に活性層408が設けられて面型発光部が形成され、第1の共振器に光吸収層404が設けられて面型受光部が形成されている。   In Example 4, the active layer 408 is provided in the second resonator to form a surface light emitting portion, and the light absorbing layer 404 is provided in the first resonator to form a surface light receiving portion. ing.

本実施例4では、光吸収層404は、活性層408とバンドギャップが同じか、または小さくなっており、活性層408で発生した光を吸収するようになっている。   In Example 4, the light absorption layer 404 has the same or smaller band gap as that of the active layer 408, and absorbs light generated in the active layer 408.

図4の実施例においては、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なるため、長波長側の波長952nmの光は、共振器長が長い第2の共振器に主に閉じ込められる。活性層408は第2の共振器内に設けられているため、活性層408と光の結合効率が高くなっている。   In the embodiment of FIG. 4, since the resonator lengths of the first resonator and the second resonator are different, light having a wavelength of 952 nm on the long wavelength side is mainly transmitted to the second resonator having a long resonator length. Be trapped. Since the active layer 408 is provided in the second resonator, the coupling efficiency between the active layer 408 and the light is high.

また、第1の共振器内に設けられた光吸収層404では、波長952nmの光を吸収することができる。従って、光吸収層404において光吸収により発生した電流を検出することにより、面型発光部のレーザ光量をモニタすることが可能となっている。すなわち、図4においては、面型受光部は、面型発光部の光量をモニタする受光素子として機能させることができる。   The light absorption layer 404 provided in the first resonator can absorb light having a wavelength of 952 nm. Therefore, by detecting the current generated by the light absorption in the light absorption layer 404, it is possible to monitor the laser light quantity of the surface light emitting unit. That is, in FIG. 4, the surface light-receiving unit can function as a light-receiving element that monitors the light amount of the surface light-emitting unit.

より詳細に、図4において、積層構造の表面から第2導電型のDBR406の途中までエッチングされて、メサ構造が形成されており、第1導電型の上部DBR410の表面には、光出射部を除いて第1の電極111が形成されている。また、メサ構造の底面には、第2の電極112が形成されている。また、基板401の裏面には、第3の電極113が形成されている。   More specifically, in FIG. 4, a mesa structure is formed by etching from the surface of the laminated structure to the middle of the second conductivity type DBR 406, and a light emitting portion is formed on the surface of the upper DBR 410 of the first conductivity type. Except for this, the first electrode 111 is formed. A second electrode 112 is formed on the bottom surface of the mesa structure. A third electrode 113 is formed on the back surface of the substrate 401.

このような構造では、第1の電極111と第2の電極112との間に順方向電流を流すことにより、活性層408にキャリアが注入されて発光する。活性層408で発光した光は、第2の共振器で共振し、基板と垂直方向にレーザ発振する。すなわち、第2の共振器に活性層408が設けられて面型発光部が形成されている。   In such a structure, when a forward current flows between the first electrode 111 and the second electrode 112, carriers are injected into the active layer 408 to emit light. The light emitted from the active layer 408 resonates in the second resonator and oscillates in the direction perpendicular to the substrate. That is, the active layer 408 is provided in the second resonator to form a surface light emitting unit.

また、第2の電極112と第3の電極113との間に負荷抵抗を介して逆方向バイアスを加えることにより、光吸収層404で吸収された光量に応じて負荷抵抗に電流が流れて、光量を検知することができる。すなわち、第1の共振器に光吸収層404が設けられて面型受光部が形成されている。   Further, by applying a reverse bias between the second electrode 112 and the third electrode 113 via the load resistance, a current flows through the load resistance in accordance with the amount of light absorbed by the light absorption layer 404, The amount of light can be detected. That is, the light absorption layer 404 is provided in the first resonator to form a surface light-receiving portion.

実施例4では、第1の共振器と第2の共振器の共振器長が異なるため、第1の共振器においては、波長952nmの光は閉じ込めが弱くなっている。従って、活性層408で発生した光を過剰に吸収することがなく、面型発光部の閾電流増加が抑制される。即ち、第1の共振器と第2の共振器の共振器長のずれ量、及び第1の共振器と第2の共振器の間に設けられたDBR406の積層周期数を制御することにより、活性層408に結合する光の割合と光吸収層404に結合する光の割合を容易に調整することができる。これにより、必要十分な光量モニタ信号を得ることと、面型発光部の低閾電流動作とを同時に満足することができる。   In Example 4, since the resonator lengths of the first resonator and the second resonator are different, the confinement of light with a wavelength of 952 nm is weak in the first resonator. Accordingly, the light generated in the active layer 408 is not excessively absorbed, and an increase in the threshold current of the surface light emitting unit is suppressed. That is, by controlling the amount of deviation of the resonator length of the first resonator and the second resonator, and the number of lamination periods of the DBR 406 provided between the first resonator and the second resonator, The ratio of light coupled to the active layer 408 and the ratio of light coupled to the light absorption layer 404 can be easily adjusted. As a result, it is possible to simultaneously obtain the necessary and sufficient light amount monitor signal and the low threshold current operation of the surface light emitting unit.

なお、光吸収層404は第1の共振器内において、必ずしも光定在波分布の腹の位置に設ける必要はない。腹の位置からずらすことによっても、光吸収層404の光吸収量を低減することができる。   The light absorption layer 404 is not necessarily provided at the antinode position of the optical standing wave distribution in the first resonator. The amount of light absorption of the light absorption layer 404 can also be reduced by shifting from the position of the belly.

本発明の実施例5は、第5の形態に対応している。図5は、実施例5の光送信モジュールを示す図である。図5において、光送信モジュール501は、光源として、実施例4の面型受発光集積素子502を用いている。   Example 5 of the present invention corresponds to the fifth mode. FIG. 5 illustrates an optical transmission module according to the fifth embodiment. In FIG. 5, the optical transmission module 501 uses the surface-type light receiving / emitting integrated element 502 of Example 4 as a light source.

実施例5の光送信モジュールでは、駆動回路503は、外部から入力された電気信号に応じて、面型受発光集積素子502の活性層408に注入する電流を変調して、出力されるレーザ光強度を変調する。また、面型受発光集積素子502に集積された光吸収層404から、レーザ光量に対応したモニタ電流が受信回路504に出力される。受信回路504では、モニタ電流の電流−電圧変換,信号増幅が行われ、モニタ信号がAPC(Auto Power Control)回路505に出力される。APC回路505では、モニタ信号がある一定値となるように駆動回路503から出力される電流値をフィードバック制御する。これにより、環境温度変化や素子の経時変化が生じた場合でも、光送信モジュール501から一定のレーザ光信号を出力させることができる。   In the optical transmission module according to the fifth embodiment, the drive circuit 503 modulates the current injected into the active layer 408 of the surface light emitting and receiving integrated element 502 in accordance with an electric signal input from the outside, and outputs the laser light. Modulate intensity. In addition, a monitor current corresponding to the amount of laser light is output to the receiving circuit 504 from the light absorption layer 404 integrated in the planar light emitting and receiving integrated element 502. The reception circuit 504 performs current-voltage conversion and signal amplification of the monitor current, and outputs a monitor signal to an APC (Auto Power Control) circuit 505. The APC circuit 505 feedback-controls the current value output from the drive circuit 503 so that the monitor signal becomes a certain value. Thereby, even when an environmental temperature change or an element change with time occurs, a constant laser light signal can be output from the optical transmission module 501.

本実施例5の光送信モジュール501では、面型発光部とモニタ用受光部とがモノリシック集積された面型受発光集積素子502を備えているため、部品点数が少なく、実装コストを低減できる。   The optical transmission module 501 of the fifth embodiment includes the surface light emitting / receiving integrated element 502 in which the surface light emitting portion and the monitor light receiving portion are monolithically integrated, so that the number of components is small and the mounting cost can be reduced.

また、面型発光部(面型発光素子)をアレイ化して並列光伝送を行う場合でも、各面型発光素子にモニタ用受光素子が内蔵されているため、面型発光素子間のクロストークの影響がなく、個別に光出力の制御を容易に行うことができる。   Even when parallel light transmission is performed by arraying surface light emitting units (surface light emitting elements), a monitor light receiving element is built in each surface light emitting element, so that crosstalk between the surface light emitting elements is reduced. There is no influence and the light output can be easily controlled individually.

また、実施例4の素子に隣接して、実施例2と同様に、同一基板上に外部からの光信号を受光する面型受光部を同一構造でモノリシックに集積することも可能である。これにより、APC制御された面型発光部と面型受光部を備えた光送受信モジュールを構成することができる。   Further, adjacent to the element of the fourth embodiment, similarly to the second embodiment, it is also possible to monolithically integrate the surface light-receiving portions that receive optical signals from the outside on the same substrate. As a result, an optical transmission / reception module including an APC-controlled surface light emitting unit and a surface light receiving unit can be configured.

本発明の実施例6は、第7の形態に対応している。図6は、本発明の実施例6の受光装置(面型受光素子)を示す図である。図6を参照すると、第1導電型の半導体単結晶基板601上に、第1導電型の下部DBR602、第1のスペーサ層603、第1の光吸収層604、第2のスペーサ層605、第2導電型のDBR606、第3のスペーサ層607、第2の光吸収層608、第4のスペーサ層609、第1導電型の上部DBR610が順次に積層されている。   Example 6 of the present invention corresponds to the seventh mode. FIG. 6 is a diagram showing a light receiving device (surface type light receiving element) according to a sixth embodiment of the present invention. Referring to FIG. 6, a first conductivity type lower DBR 602, a first spacer layer 603, a first light absorption layer 604, a second spacer layer 605, a first conductivity type semiconductor single crystal substrate 601, A two-conductivity type DBR 606, a third spacer layer 607, a second light absorption layer 608, a fourth spacer layer 609, and a first conductivity type upper DBR 610 are sequentially stacked.

そして、上記積層構造表面から第2導電型のDBR606の途中までエッチングされて、メサ構造が形成されており、第1導電型の上部DBR610の表面には、光入射部を除いて第1の電極111が形成されている。また、メサ構造の底面には、第2の電極112が形成されている。また、基板601の裏面には、第3の電極113が形成されている。   Then, the mesa structure is formed by etching from the surface of the stacked structure to the middle of the second conductivity type DBR 606, and the first electrode is formed on the surface of the first conductivity type upper DBR 610 except for the light incident portion. 111 is formed. A second electrode 112 is formed on the bottom surface of the mesa structure. A third electrode 113 is formed on the back surface of the substrate 601.

以下、本実施例6の構成を、より具体的な例を用いて説明する。第1導電型の半導体単結晶基板601は、n型GaAs基板で構成されており、下部DBR602は、n型GaAsとn型Al0.9Ga0.1Asとを交互に30.5周期積層してn型DBRとして形成されている。また、第1のスペーサ層603は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、第1の光吸収層604は、GaInAs/Al0.2Ga0.8As多重量子井戸構造で形成され、第2のスペーサ層605は、Al0.2Ga0.8Asで形成されている。また、第2導電型のDBR606は、p型GaAsとp型Al0.9Ga0.1Asとを交互に15.5周期積層してp型DBRとして形成されている。また、第3のスペーサ層607は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、第2の光吸収層608は、GaInAs/Al0.2Ga0.8As多重量子井戸構造で形成され、第4のスペーサ層609は、Al0.2Ga0.8Asで形成され、上部DBR610は、n型GaAsとn型Al0.9Ga0.1Asとを交互に10周期積層してn型DBRとして形成されている。 Hereinafter, the configuration of the sixth embodiment will be described using a more specific example. The first-conductivity-type semiconductor single crystal substrate 601 is formed of an n-type GaAs substrate, and the lower DBR 602 is formed by alternately stacking n-type GaAs and n-type Al 0.9 Ga 0.1 As for 30.5 periods. Thus, an n-type DBR is formed. The first spacer layer 603 is formed of Al 0.2 Ga 0.8 As, and the first light absorption layer 604 is formed of a GaInAs / Al 0.2 Ga 0.8 As multiple quantum well structure. The second spacer layer 605 is made of Al 0.2 Ga 0.8 As. Further, the second conductivity type DBR 606 is formed as a p-type DBR by alternately laminating p-type GaAs and p-type Al 0.9 Ga 0.1 As for 15.5 periods. The third spacer layer 607 is formed of Al 0.2 Ga 0.8 As, and the second light absorption layer 608 is formed of a GaInAs / Al 0.2 Ga 0.8 As multiple quantum well structure. The fourth spacer layer 609 is formed of Al 0.2 Ga 0.8 As, and the upper DBR 610 is formed by alternately stacking 10 periods of n-type GaAs and n-type Al 0.9 Ga 0.1 As. It is formed as an n-type DBR.

下部DBR602とp型DBR606ではさまれた領域は第1の共振器を構成している。また、p型DBR606と上部DBR610ではさまれた領域は、第2の共振器を構成している。下部DBR602、p型DBR606、上部DBR610は波長950nmに位相整合するように層厚を形成した。また、第1の共振器長は波長900nmに位相整合する層厚とし、第2の共振器長は波長1000nmに位相整合する層厚とした。これにより、第1の共振器と第2の共振器が光学的に結合して形成された二つの共振波長は、963nmと937nmとなっている。   A region sandwiched between the lower DBR 602 and the p-type DBR 606 constitutes a first resonator. The region sandwiched between the p-type DBR 606 and the upper DBR 610 constitutes a second resonator. The lower DBR 602, the p-type DBR 606, and the upper DBR 610 were formed with layer thicknesses so as to be phase-matched to a wavelength of 950 nm. The first resonator length was a layer thickness that matched the phase to a wavelength of 900 nm, and the second resonator length was a layer thickness that matched the phase to a wavelength of 1000 nm. Thereby, two resonance wavelengths formed by optically coupling the first resonator and the second resonator are 963 nm and 937 nm.

なお、実施例6では、異なる二つの波長をそれぞれ独立に受光できる二つの面型受光部が集積形成されている。すなわち、第1の共振器に第1の光吸収層604が設けられ、第2の共振器に第2の光吸収層608が設けられて、二つの面型受光部が形成されている。   In the sixth embodiment, two surface-type light receiving portions that can independently receive two different wavelengths are integrated. That is, the first light absorption layer 604 is provided in the first resonator, and the second light absorption layer 608 is provided in the second resonator, so that two surface light receiving units are formed.

そして、第1の光吸収層604,第2の光吸収層608は、それぞれ光定在波分布の腹に位置するように設けられている。第1の光吸収層604は、短波長側の共振波長937nmの光を吸収する材料で構成されており、第2の光吸収層608は長波長側の共振波長963nmの光を吸収する材料で構成されている。   And the 1st light absorption layer 604 and the 2nd light absorption layer 608 are provided so that it may each be located in the antinode of optical standing wave distribution. The first light absorption layer 604 is made of a material that absorbs light having a resonance wavelength of 937 nm on the short wavelength side, and the second light absorption layer 608 is a material that absorbs light having a resonance wavelength of 963 nm on the long wavelength side. It is configured.

このような構成では、外部から波長937nmの光が入射すると、波長937nmの光は共振器長が短い第1の共振器と共振して閉じ込められ、第2の共振器内では光強度が低下する。従って、波長937nmの光は第1の共振器内に設けられた第1の光吸収層404で共鳴吸収される。一方、外部から963nmの光が入射すると、波長963nmの光は共振器長が短い第2の共振器に閉じ込められる。従って、波長963nmの光は第2の共振器内に設けられた第2の光吸収層408で共鳴吸収される。これにより、同一の素子で、二つの異なる波長の光を選別して受光することができる。   In such a configuration, when light having a wavelength of 937 nm is incident from the outside, the light having a wavelength of 937 nm is confined by resonating with the first resonator having a short resonator length, and the light intensity is reduced in the second resonator. . Therefore, light having a wavelength of 937 nm is resonantly absorbed by the first light absorption layer 404 provided in the first resonator. On the other hand, when 963 nm light is incident from the outside, the light having a wavelength of 963 nm is confined in the second resonator having a short resonator length. Therefore, light having a wavelength of 963 nm is resonantly absorbed by the second light absorption layer 408 provided in the second resonator. Thereby, two different wavelengths of light can be selected and received by the same element.

なお、波長937nmの光が入射した場合、第2の共振器に設けられた第2の光吸収層404でも光が吸収されてしまう。しかしながら、波長937nmの光は第2の共振器内では第1の共振器内に比べて光強度が1〜2桁程度低下するため、クロストークの影響を小さくすることができる。   Note that when light having a wavelength of 937 nm is incident, the light is also absorbed by the second light absorption layer 404 provided in the second resonator. However, since the light intensity of the light having a wavelength of 937 nm is reduced by about 1 to 2 digits in the second resonator as compared with that in the first resonator, the influence of crosstalk can be reduced.

従来技術である特開平11−330532号においては、複数の波長の光を受光するために、異なるバンドギャップの光吸収層を、光入射側からバンドギャップの大きい順番に積層して形成し、これにより、波長の短い順番に上から光を吸収して個別に検出している。一方、本発明では、第1の光吸収層604と第2の光吸収層608のバンドギャップを同じにした場合でも動作させることができる。即ち、非対称の二重共振器構造により、二つの波長を別々の共振器内に閉じ込めることで、各共振器に設けられた光吸収層604,608で個別に検出することができる。   In Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-330532, which is a conventional technique, in order to receive light of a plurality of wavelengths, light absorption layers having different band gaps are stacked in order of increasing band gap from the light incident side. Thus, light is absorbed from above in the order of short wavelength and detected individually. On the other hand, the present invention can be operated even when the band gaps of the first light absorption layer 604 and the second light absorption layer 608 are the same. In other words, the two wavelengths can be confined in separate resonators by the asymmetric double resonator structure, so that the light absorption layers 604 and 608 provided in each resonator can be detected individually.

また、同一基板上に本実施例6の受光装置(面型受光素子)を集積したアレイ構造を形成することも可能である。また、本実施例6の受光装置(面型受光素子)と、面型発光素子、あるいは、実施例4の面型受発光集積素子(モニタ受光素子を集積した面型受発光集積素子)とを、同一基板上に集積して形成することもできる。本発明によれば、同一基板上の異なる機能部を同一積層構造で形成することができるため、製造工程が容易となる。   It is also possible to form an array structure in which the light receiving device (surface type light receiving element) of the sixth embodiment is integrated on the same substrate. In addition, the light receiving device (surface type light receiving element) of Example 6 and the surface type light emitting element, or the surface type light receiving and emitting integrated element of Example 4 (surface type light receiving and emitting integrated element in which monitor light receiving elements are integrated) are provided. Alternatively, they can be integrated on the same substrate. According to the present invention, since different functional parts on the same substrate can be formed with the same laminated structure, the manufacturing process is facilitated.

本発明の実施例7は、第8,第11の形態に対応している。図7は、実施例7の光通信システムを示す図である。図7の光通信システムは、光送信モジュール701と光受信モジュール702とが単芯の光ファイバ703で接続されて構成されている。   Example 7 of the present invention corresponds to the eighth and eleventh aspects. FIG. 7 is a diagram illustrating an optical communication system according to a seventh embodiment. The optical communication system in FIG. 7 is configured by connecting an optical transmission module 701 and an optical reception module 702 with a single-core optical fiber 703.

ここで、光送信モジュール701においては、二つの面型発光素子(VCSEL)がモノリシック集積された面型発光素子アレイ704を光源として用いている。二つのVCSELは発振波長が異なっており、λ1とλ2の波長でそれぞれ発振する。2波長VCSELアレイとしては、2重共振器構造を有するVCSELを用いることが可能である。各VCSELは、外部から入力された電気信号に応じて、駆動回路705によって駆動され、レーザ光強度が変調される。各VCSELから出力された光信号は、光結合器706で集約されて1本の光ファイバに結合される。波長λ1とλ2の光信号は、それぞれ光ファイバ703を導波して光受信モジュール702に入力される。   Here, in the optical transmission module 701, a surface light emitting element array 704 in which two surface light emitting elements (VCSEL) are monolithically integrated is used as a light source. The two VCSELs have different oscillation wavelengths and oscillate at wavelengths of λ1 and λ2, respectively. As the two-wavelength VCSEL array, a VCSEL having a double resonator structure can be used. Each VCSEL is driven by a drive circuit 705 in accordance with an electric signal input from the outside, and the laser light intensity is modulated. The optical signals output from each VCSEL are collected by an optical coupler 706 and coupled to one optical fiber. The optical signals having the wavelengths λ1 and λ2 are input to the optical receiving module 702 through the optical fiber 703, respectively.

光受信モジュール702においては、受光素子として、本発明の実施例6に記載した面型受光素子707を用いている。面型受光素子707においては、波長λ1とλ2の光がそれぞれ別の光吸収層で吸収されるため、波長λ1とλ2の光信号を分離して検知することができる。面型受光素子707から、波長λ1とλ2の光信号に対応した電気信号が受信回路708に出力され、受信回路708で信号増幅,波形整形等がなされて、光受信モジュール702から外部に出力される。本実施例7の光通信システムは、異なる二つの波長を1本の光ファイバで伝送する波長分割多重伝送方式となっている。   In the optical receiving module 702, the surface light receiving element 707 described in the sixth embodiment of the present invention is used as the light receiving element. In the surface-type light receiving element 707, light of wavelengths λ1 and λ2 is absorbed by separate light absorption layers, so that optical signals of wavelengths λ1 and λ2 can be separated and detected. An electrical signal corresponding to the optical signals of wavelengths λ1 and λ2 is output from the surface light receiving element 707 to the receiving circuit 708, and signal amplification, waveform shaping, and the like are performed by the receiving circuit 708 and output from the optical receiving module 702 to the outside. The The optical communication system of the seventh embodiment is a wavelength division multiplex transmission system in which two different wavelengths are transmitted through one optical fiber.

本実施例7の光受信モジュール702においては、波長分離機能を有する面型受光素子707を備えているため、光分岐素子を設ける必要がない。従って、光受信モジュール702の小型化やコスト低減を図ることができる。   Since the optical receiving module 702 of the seventh embodiment includes the surface light receiving element 707 having a wavelength separation function, it is not necessary to provide an optical branching element. Therefore, the optical receiver module 702 can be reduced in size and cost.

本発明の実施例8は、第9,第11の形態に対応している。図8は、実施例8の光通信システムを示す図である。図8の光通信システムは、光送信モジュール801と光受信モジュール802とが単芯の光ファイバ803で接続されて構成されている。   The eighth embodiment of the present invention corresponds to the ninth and eleventh aspects. FIG. 8 is a diagram illustrating an optical communication system according to an eighth embodiment. The optical communication system in FIG. 8 is configured by connecting an optical transmission module 801 and an optical reception module 802 with a single-core optical fiber 803.

ここで、光送信モジュール801においては、光源として出力レーザ光の波長を変調する面型発光素子(VCSEL)804を用いている。   Here, the optical transmission module 801 uses a surface light emitting element (VCSEL) 804 that modulates the wavelength of the output laser light as a light source.

波長変調動作するVCSEL804は、基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方には活性層が設けられ、他方には光吸収層が設けられ、活性層及び光吸収層に対してそれぞれ独立に電圧を印加できる電極が備えられている。上記VCSELは波長が異なる二つの共振モードを有しており、活性層は長波長側の共振モードに対応する波長よりも短波長側の共振モードに対応する波長の方が高い利得を有しており、光吸収層は、電界を印加しない場合には二つの共振モードに対応する波長で吸収係数が小さく、電界を印加した場合には長波長側の共振モードに対応する波長よりも短波長側の共振モードに対応する波長の方が、吸収係数が大きくなっている。   The VCSEL 804 that performs wavelength modulation operation includes a first semiconductor multilayer reflector, a first resonator, a second semiconductor multilayer reflector, a second resonator, and a third semiconductor multilayer reflector on a substrate. An active layer is provided in one of the first resonator and the second resonator, a light absorption layer is provided in the other, and a voltage is applied to the active layer and the light absorption layer independently. The electrode which can be provided is provided. The VCSEL has two resonance modes with different wavelengths, and the active layer has a higher gain in the wavelength corresponding to the resonance mode on the short wavelength side than the wavelength corresponding to the resonance mode on the long wavelength side. The light absorption layer has a small absorption coefficient at a wavelength corresponding to two resonance modes when an electric field is not applied, and is shorter than a wavelength corresponding to a resonance mode on a long wavelength side when an electric field is applied. The absorption coefficient is larger at the wavelength corresponding to the resonance mode.

上記VCSEL804では、活性層の利得は、長波長側の共鳴波長よりも短波長側の共鳴波長の方が高くなっているため、光吸収層に電界を加えない場合、VCSEL804は短波長側の共鳴波長でレーザ発振する。光吸収層に逆バイアスを印加すると、短波長側の共鳴波長に対して吸収係数が大きくなるため、VCSEL804の発振波長は長波長側の共鳴波長にシフトする。従って、光吸収層に加えるバイアスを変調することにより、VCSEL804のレーザ光を波長変調することが可能となる。   In the VCSEL 804, the gain of the active layer is higher at the resonance wavelength on the short wavelength side than on the resonance wavelength on the long wavelength side. Therefore, when no electric field is applied to the light absorption layer, the VCSEL 804 Laser oscillation at wavelength. When a reverse bias is applied to the light absorption layer, the absorption coefficient increases with respect to the resonance wavelength on the short wavelength side, so that the oscillation wavelength of the VCSEL 804 shifts to the resonance wavelength on the long wavelength side. Accordingly, the laser light of the VCSEL 804 can be wavelength-modulated by modulating the bias applied to the light absorption layer.

光吸収層に電界を加えたときの吸収係数変化の速度は、半導体レーザの緩和振動周波数よりも高くできる。また、波長変調では常にレーザ発振状態が維持されており、活性層内のキャリア密度変化を抑制することができる。そのため、活性層にキャリアを蓄積する時間が不要であり、一層高速に変調することができる。これにより、チャンネル当たりの伝送容量が10Gbpsを超える(例えば40Gbpsの)大容量伝送光源を、外部変調器を用いない簡易な構成で実現することができる。   The rate of change of the absorption coefficient when an electric field is applied to the light absorption layer can be made higher than the relaxation oscillation frequency of the semiconductor laser. In addition, the laser oscillation state is always maintained in the wavelength modulation, and the change in carrier density in the active layer can be suppressed. Therefore, no time is required for accumulating carriers in the active layer, and modulation can be performed at a higher speed. As a result, a large-capacity transmission light source having a transmission capacity per channel exceeding 10 Gbps (for example, 40 Gbps) can be realized with a simple configuration without using an external modulator.

直流電源805は、VCSEL804の活性層に一定電流を注入し、レーザ発振させる。また、外部から入力された電気信号に応じて、変調バイアス電源806は、VCSEL804の光吸収層に加える逆バイアスを変調させる。これにより、本実施例8では、単チャンネル当たり40Gbpsの伝送容量でVCSELの発振波長をλ1とλ2の間で変調している。   The DC power source 805 injects a constant current into the active layer of the VCSEL 804 to cause laser oscillation. Further, the modulation bias power source 806 modulates the reverse bias applied to the light absorption layer of the VCSEL 804 in accordance with an electric signal input from the outside. Thus, in the eighth embodiment, the oscillation wavelength of the VCSEL is modulated between λ1 and λ2 with a transmission capacity of 40 Gbps per single channel.

また、光受信モジュール802では、光ファイバケーブル803を導波した光信号が面型受光素子807に入力される。面型受光素子807としては、本発明の実施例6に記載した面型受光素子を用いている。面型受光素子807においては、波長λ1とλ2の光がそれぞれ別の光吸収層で吸収されるため、波長λ1とλ2の光信号を分離して検知することができる。面型受光素子807から、波長λ1とλ2の光信号に対応した電気信号が受信回路808にそれぞれ出力され、受信回路808で電流電圧変換,信号増幅が行われる。受信回路808から出力された信号は、差分演算回路809に入力される。差分演算回路809では、波長λ1に対応した信号と波長λ2に対応した信号との差分を求める。   In the optical receiver module 802, an optical signal guided through the optical fiber cable 803 is input to the surface light receiving element 807. As the surface light-receiving element 807, the surface light-receiving element described in Example 6 of the present invention is used. In the surface-type light receiving element 807, light of wavelengths λ1 and λ2 is absorbed by separate light absorption layers, so that optical signals of wavelengths λ1 and λ2 can be separated and detected. Electric signals corresponding to the optical signals of wavelengths λ1 and λ2 are output from the surface light receiving element 807 to the receiving circuit 808, and the receiving circuit 808 performs current-voltage conversion and signal amplification. A signal output from the reception circuit 808 is input to the difference calculation circuit 809. The difference calculation circuit 809 obtains the difference between the signal corresponding to the wavelength λ1 and the signal corresponding to the wavelength λ2.

光送信モジュール801のVCSEL804は波長λ1とλ2のどちらかの波長で出力されるため、波長λ1の光信号が受光されたときは波長λ2の光信号は受光されなくなる。そのため、面型受光素子807から出力される波長λ1に対応した信号と波長λ2に対応した光信号は、0と1が反転した状態で同時に出力される。この二つの信号の差分をとることにより、雑音の影響がキャンセルされ、受信感度を向上させることができる。即ち、光伝送において差動伝送を実現することができる。これにより、40Gbpsの高速伝送においても、符号誤り率が低い高性能の通信が可能となる。   Since the VCSEL 804 of the optical transmission module 801 is output at one of the wavelengths λ1 and λ2, when the optical signal having the wavelength λ1 is received, the optical signal having the wavelength λ2 is not received. Therefore, the signal corresponding to the wavelength λ1 and the optical signal corresponding to the wavelength λ2 output from the surface light receiving element 807 are simultaneously output in a state where 0 and 1 are inverted. By taking the difference between these two signals, the influence of noise is canceled and the reception sensitivity can be improved. That is, differential transmission can be realized in optical transmission. This enables high-performance communication with a low code error rate even in high-speed transmission of 40 Gbps.

本発明の実施例9は、第10の形態に対応している。図9は、本発明の実施例9の受発光装置(面型受発光集積素子)を示す図である。本実施例9の特徴は、活性層904及び光吸収層908の材料として、窒素と他のV族元素との混晶半導体を用いている点であり、この点を除いて、基本的に構成,動作は実施例1と同様である。   Example 9 of the present invention corresponds to the tenth aspect. FIG. 9 is a diagram showing a light emitting / receiving device (surface type light emitting / receiving integrated element) according to Example 9 of the present invention. A feature of the ninth embodiment is that a mixed crystal semiconductor of nitrogen and other group V elements is used as a material for the active layer 904 and the light absorption layer 908. The operation is the same as that of the first embodiment.

図9を参照すると、第1導電型の半導体単結晶基板901上に、第1導電型の下部DBR902、第1のスペーサ層903、活性層904、第2のスペーサ層905、AlAs層911、第2導電型のDBR906、第3のスペーサ層907、光吸収層908、第4のスペーサ層909、第1導電型の上部DBR910が順次に積層されている。   Referring to FIG. 9, a first conductivity type lower DBR 902, a first spacer layer 903, an active layer 904, a second spacer layer 905, an AlAs layer 911, a first conductivity type semiconductor single crystal substrate 901, A two-conductivity type DBR 906, a third spacer layer 907, a light absorption layer 908, a fourth spacer layer 909, and a first conductivity-type upper DBR 910 are sequentially stacked.

第1導電型の下部DBR 902と第2導電型のDBR 906ではさまれた領域は、第1の共振器を構成している。また、第2導電型のDBR 906と第1導電型の上部DBR 910ではさまれた領域は、第2の共振器を構成している。   A region sandwiched between the first conductivity type lower DBR 902 and the second conductivity type DBR 906 constitutes a first resonator. The region sandwiched between the second conductivity type DBR 906 and the first conductivity type upper DBR 910 constitutes a second resonator.

上記積層構造の表面から第2導電型のDBR906の途中までエッチングされて、第1のメサ構造が形成されている。さらに、第1のメサ構造よりも大きいサイズで下部DBR902に達するまでエッチングされて、第2のメサ構造が形成されている。第2のメサ構造の側面からAlAs層911が選択的に酸化されてAl酸化領域912が形成されている。Al酸化領域912は絶縁層となっており、活性層904に注入する電流をメサ構造中央部に狭窄する働きをする。また、第1導電型の上部DBR910の表面には、光出射部を除いて第1の電極111が形成されている。そして、第1のメサ構造の底面には、第2の電極112が形成されている。また、基板901の裏面には、第3の電極113が形成されている。   The first mesa structure is formed by etching from the surface of the laminated structure to the middle of the second conductivity type DBR 906. Further, the second mesa structure is formed by etching until reaching the lower DBR 902 with a size larger than that of the first mesa structure. The AlAs layer 911 is selectively oxidized from the side surface of the second mesa structure to form an Al oxidized region 912. The Al oxide region 912 is an insulating layer and functions to confine the current injected into the active layer 904 in the center of the mesa structure. Further, the first electrode 111 is formed on the surface of the first conductivity type upper DBR 910 except for the light emitting portion. A second electrode 112 is formed on the bottom surface of the first mesa structure. A third electrode 113 is formed on the back surface of the substrate 901.

窒素と他のV族元素との混晶半導体としては、例えばGaNAs、GaInNAs、GaNAsP、GaInNAsP、GaNAsSb、GaInNAsSb、GaNAsPSb、GaInNAsPSb等がある。上記混晶半導体は、GaAs基板上に結晶成長可能な長波長帯材料系であることを特徴としている。   Examples of mixed crystal semiconductors of nitrogen and other Group V elements include GaNAs, GaInNAs, GaNAsP, GaInNAsP, GaNAsSb, GaInNAsSb, GaNAsPSb, and GaInNAsPSb. The mixed crystal semiconductor is characterized in that it is a long wavelength band material system capable of crystal growth on a GaAs substrate.

以下、本実施例9の構成を、より具体的な例を用いて説明する。第1導電型の半導体単結晶基板901は、n型GaAs基板で構成されており、第1導電型の下部DBR902は、n型GaAsとn型Al0.9Ga0.1Asとを交互に35.5周期積層して形成されている。また、第1のスペーサ層903はGaAsで形成され、活性層904は、GaInNAs/GaAs多重量子井戸構造で形成され、第2のスペーサ層905は、GaAsで形成されている。また、第2導電型のDBR906は、p型GaAsとp型Al0.9Ga0.1Asとを交互に12.5周期積層して形成されている。また、第3のスペーサ層907は、GaAsで形成され、光吸収層908は、GaInNAs/GaAs多重量子井戸構造で形成され、第4のスペーサ層909は、GaAsで形成され、第1導電型の上部DBR910は、n型GaAsとn型Al0.9Ga0.1Asとを交互に10周期積層して形成されている。 Hereinafter, the configuration of the ninth embodiment will be described using a more specific example. The first conductivity type semiconductor single crystal substrate 901 is composed of an n-type GaAs substrate, and the first conductivity type lower DBR 902 alternately includes n-type GaAs and n-type Al 0.9 Ga 0.1 As. It is formed by laminating 35.5 periods. The first spacer layer 903 is formed of GaAs, the active layer 904 is formed of a GaInNAs / GaAs multiple quantum well structure, and the second spacer layer 905 is formed of GaAs. The second conductivity type DBR 906 is formed by alternately laminating p-type GaAs and p-type Al 0.9 Ga 0.1 As for 12.5 periods. The third spacer layer 907 is formed of GaAs, the light absorption layer 908 is formed of a GaInNAs / GaAs multiple quantum well structure, the fourth spacer layer 909 is formed of GaAs, and has a first conductivity type. The upper DBR 910 is formed by alternately stacking n-type GaAs and n-type Al 0.9 Ga 0.1 As for 10 periods.

本実施例9では、下部DBR902、p型DBR906、上部DBR910、及び第1の共振器は波長1309nmに位相整合するように各層厚を形成した。また、第2の共振器長は、波長1240nmに位相整合する層厚とした。これにより、第1の共振器と第2の共振器が光学的に結合して形成された二つの共振波長は、1310nmと1291nmとなっている。従って、本実施例9では、波長1310nmのレーザ光を出力し、波長1291nmの光を受光することができる。   In the ninth embodiment, the lower DBR 902, the p-type DBR 906, the upper DBR 910, and the first resonator have respective layer thicknesses so as to be phase-matched to a wavelength of 1309 nm. The second resonator length was a layer thickness that matched the phase to a wavelength of 1240 nm. Thereby, the two resonance wavelengths formed by optically coupling the first resonator and the second resonator are 1310 nm and 1291 nm. Therefore, in the ninth embodiment, laser light having a wavelength of 1310 nm can be output and light having a wavelength of 1291 nm can be received.

窒素と他のV族元素との混晶半導体であるGaInNAsは、GaAs等の障壁層との伝導帯電子の閉じ込め障壁高さを300meV以上と高くすることができるため、井戸層からの電子オーバーフローが抑制され、良好な温度特性を有している。また、GaAsとAlAs、またはGaAsとAlGaAsを積層した、高反射率,高熱伝導性のDBR上にエピタキシャル成長することができ、長波長帯で良好な性能のVCSELを形成可能である。   GaInNAs, which is a mixed crystal semiconductor of nitrogen and another group V element, can increase the confinement barrier height of conduction band electrons to a barrier layer such as GaAs as high as 300 meV or more, so that electron overflow from the well layer is prevented. Suppressed and has good temperature characteristics. Further, it can be epitaxially grown on a high reflectivity and high thermal conductivity DBR in which GaAs and AlAs or GaAs and AlGaAs are stacked, and a VCSEL having good performance in a long wavelength band can be formed.

また、GaInNAs等の窒素と他のV族元素との混晶半導体を活性領域に用いることで、石英光ファイバの分散がゼロである波長1.31μm近傍でVCSELを動作させることができる。本発明では、異なる二つの波長の光を用いて光通信を行うが、波長分散が小さい1.3μm帯を用いることで、石英光ファイバ伝送後の波長分散による信号劣化を抑制することができる。   Further, by using a mixed crystal semiconductor of nitrogen and other group V elements such as GaInNAs in the active region, the VCSEL can be operated in the vicinity of a wavelength of 1.31 μm where the dispersion of the quartz optical fiber is zero. In the present invention, optical communication is performed using light of two different wavelengths, but signal degradation due to chromatic dispersion after quartz optical fiber transmission can be suppressed by using a 1.3 μm band with small chromatic dispersion.

本実施例9では、実施例1の面型受発光集積素子において、活性層及び光吸収層に、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体を用いた例で説明したが、実施例2,実施例4記載の面型受発光集積素子や、実施例6記載の面型受光素子においても、活性層及び光吸収層に、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体を用いることができる。
In the ninth embodiment, in the planar light emitting and receiving integrated device of the first embodiment, the active layer and the light absorption layer are described using an example of a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and another group V element. In the surface light-receiving / emitting integrated device described in Example 4 and the surface light-receiving device described in Example 6, a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and other group V elements is used for the active layer and the light absorption layer. it can.

本発明の実施例1の受発光装置(面型受発光集積素子)を示す図である。It is a figure which shows the light emitting / receiving apparatus (surface type light emitting / receiving integrated element) of Example 1 of this invention. 本発明の実施例2の受発光装置(面型受発光集積素子)を示す図である。It is a figure which shows the light emitting / receiving apparatus (surface type light emitting / receiving integrated element) of Example 2 of this invention. 本発明の実施例3の光送受信モジュール(さらには、光通信システム)を示す図である。It is a figure which shows the optical transmission / reception module (further optical communication system) of Example 3 of this invention. 本発明の実施例4の光受発光装置(面型受発光集積素子)を示す図である。It is a figure which shows the light receiving and emitting apparatus (surface type light receiving and emitting integrated element) of Example 4 of this invention. 実施例5の光送信モジュールを示す図である。FIG. 10 illustrates an optical transmission module according to a fifth embodiment. 実施例6の受光装置(面型受光素子)を示す図である。It is a figure which shows the light-receiving device (surface type light receiving element) of Example 6. 実施例7の光通信システムを示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an optical communication system according to a seventh embodiment. 実施例8の光通信システムを示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an optical communication system according to an eighth embodiment. 本発明の実施例9の受発光装置(面型受発光集積素子)を示す図である。It is a figure which shows the light emitting / receiving apparatus (surface type light emitting / receiving integrated element) of Example 9 of this invention. 実施例1の面型受発光集積素子内の光強度分布を示す図である。FIG. 3 is a view showing a light intensity distribution in the surface light emitting / receiving integrated device of Example 1.

符号の説明Explanation of symbols

101,201,401,601,901 基板
102,202,402,602,902 下部DBR
103,203,403,603,903 第1のスペーサ層
104,204,408,904 活性層
105,205,405,605,905 第2のスペーサ層
106,206,406,606,906 DBR
107,207,407,607,907 第3のスペーサ層
108,208,404,908 光吸収層
109,209,409,609,909 第4のスペーサ層
110,210,410,610,910 上部DBR
111 第1の電極
112,212,213 第2の電極
113 第3の電極
2A 発光領域
2B 受光領域
211 分離溝
301 第1の光送受信モジュール
302 第2の光送受信モジュール
303 光ファイバ
304a,304b 面型受発光集積素子
305 VCSEL駆動回路
306 受信回路
307 光結合/分岐素子
501 光送信モジュール
502 面型受発光集積素子
503 駆動回路
504 受信回路
505 APC回路
604 第1の光吸収層
608 第2の光吸収層
701 光送信モジュール
702 光受信モジュール
703 光ファイバ
704 VCSELアレイ
705 駆動回路
706 光結合器
707 面型受光素子
708 受信回路
801 光送信モジュール
802 光受信モジュール
803 光ファイバ
804 VCSEL
805 直流電源
806 変調バイアス電源
807 面型受光素子
808 受信回路
809 差分演算回路
911 AlAs層
912 Al酸化領域
101, 201, 401, 601, 901 Substrate 102, 202, 402, 602, 902 Lower DBR
103, 203, 403, 603, 903 First spacer layer 104, 204, 408, 904 Active layer 105, 205, 405, 605, 905 Second spacer layer 106, 206, 406, 606, 906 DBR
107, 207, 407, 607, 907 Third spacer layer 108, 208, 404, 908 Light absorbing layer 109, 209, 409, 609, 909 Fourth spacer layer 110, 210, 410, 610, 910 Upper DBR
111 First electrode 112, 212, 213 Second electrode 113 Third electrode 2A Light emitting region 2B Light receiving region 211 Separation groove 301 First optical transceiver module 302 Second optical transceiver module 303 Optical fibers 304a, 304b Surface type Light receiving / emitting integrated element 305 VCSEL driving circuit 306 Receiving circuit 307 Optical coupling / branching element 501 Optical transmission module 502 Planar type light receiving / emitting integrated element 503 Driving circuit 504 Receiving circuit 505 APC circuit 604 First light absorption layer 608 Second light absorption Layer 701 Optical transmission module 702 Optical reception module 703 Optical fiber 704 VCSEL array 705 Drive circuit 706 Optical coupler 707 Surface light receiving element 708 Reception circuit 801 Optical transmission module 802 Optical reception module 803 Optical fiber 804 VCSEL
805 DC power supply 806 Modulation bias power supply 807 Surface light receiving element 808 Reception circuit 809 Difference operation circuit 911 AlAs layer 912 Al oxidation region

Claims (6)

基板上に、第1の半導体多層膜反射鏡、第1の共振器、第2の半導体多層膜反射鏡、第2の共振器、第3の半導体多層膜反射鏡を備え、第1の共振器と第2の共振器のいずれか一方の共振器には活性層が設けられ、また、他方の共振器には光吸収層が設けられ、第1の共振器と第2の共振器とは異なる共振器長を有し共振波長が異なっており、活性層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型発光素子と、前記基板上に、前記面型発光素子と同一の積層構造からなり、光吸収層に対して電圧を印加可能な電極が設けられた面型受光素子とが、モノリシックに集積されていることを特徴とする受発光装置。 A first semiconductor multilayer film reflector, a first resonator, a second semiconductor multilayer film reflector, a second resonator, and a third semiconductor multilayer film reflector are provided on a substrate. And the second resonator are provided with an active layer, and the other resonator is provided with a light absorption layer, which is different from the first resonator and the second resonator. A surface light emitting device having a resonator length and a different resonance wavelength and provided with an electrode capable of applying a voltage to the active layer; and the same stacked structure as the surface light emitting device on the substrate. The surface light-receiving element provided with an electrode capable of applying a voltage to the light absorption layer is monolithically integrated. 請求項1記載の受発光装置を用いて、双方向の光送受信が可能になっていることを特徴とする光送受信モジュール。 With light emitting and receiving device according to claim 1 Symbol mounting, the optical transceiver module, characterized that it is capable of optical bidirectional transmission and reception. 請求項1記載の受発光装置において、前記光吸収層は、前記活性層で発生した光を吸収する材料で構成されていることを特徴とする受発光装置。 2. The light emitting / receiving device according to claim 1, wherein the light absorption layer is made of a material that absorbs light generated in the active layer. 請求項3記載の受発光装置と、該受発光装置から出力される光強度が一定となるように、前記受発光装置の光吸収層から出力された電気信号によって前記受発光装置の活性層に注入する電流を制御する電流制御手段とを有していることを特徴とする光送信モジュール。 The light emitting / receiving device according to claim 3 and an active signal of the light emitting / receiving device by an electric signal output from the light absorption layer of the light emitting / receiving device so that the light intensity output from the light emitting / receiving device is constant. An optical transmission module comprising current control means for controlling a current to be injected. 請求項1または請求項3記載の受発光装置において、活性層および/または光吸収層は、窒素と他のV族元素を含む混晶半導体で構成されていることを特徴とする受発光装置。 4. The light emitting / receiving device according to claim 1 or 3, wherein the active layer and / or the light absorbing layer is made of a mixed crystal semiconductor containing nitrogen and another group V element. 請求項2記載の光送受信モジュール、または、請求項4記載の光送信モジュールが用いられていることを特徴とする光通信システム。 Optical transceiver module of claim 2 or the optical communication system, characterized in that the optical transmission module according to claim 4 wherein is used.
JP2004348281A 2004-12-01 2004-12-01 Light receiving / emitting device, optical transmission / reception module, optical transmission module, and optical communication system Expired - Fee Related JP4671672B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004348281A JP4671672B2 (en) 2004-12-01 2004-12-01 Light receiving / emitting device, optical transmission / reception module, optical transmission module, and optical communication system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004348281A JP4671672B2 (en) 2004-12-01 2004-12-01 Light receiving / emitting device, optical transmission / reception module, optical transmission module, and optical communication system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006156870A JP2006156870A (en) 2006-06-15
JP4671672B2 true JP4671672B2 (en) 2011-04-20

Family

ID=36634736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004348281A Expired - Fee Related JP4671672B2 (en) 2004-12-01 2004-12-01 Light receiving / emitting device, optical transmission / reception module, optical transmission module, and optical communication system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4671672B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5500540B2 (en) * 2009-07-27 2014-05-21 国立大学法人神戸大学 Quantum dot solar cell
JP2012195477A (en) * 2011-03-17 2012-10-11 Rohm Co Ltd Surface-emitting semiconductor laser device and method of manufacturing the same
JP5758359B2 (en) 2012-08-09 2015-08-05 株式会社東芝 Optical wiring device and manufacturing method thereof
JP6044239B2 (en) * 2012-10-01 2016-12-14 セイコーエプソン株式会社 Imaging device and medical device
JP7433898B2 (en) * 2019-12-26 2024-02-20 キヤノン株式会社 Photoelectric conversion element, photoelectric conversion system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217481A (en) * 2001-01-17 2002-08-02 Canon Inc Semiconductor optical device
JP2003522421A (en) * 2000-02-02 2003-07-22 インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト VCSEL with monolithically integrated photodetector
JP2004031644A (en) * 2002-06-26 2004-01-29 Taiyo Yuden Co Ltd Light receiving and emitting element, method for manufacturing the same, and optical communication system using the same
JP2005217147A (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Seiko Epson Corp Light receiving and emitting element array, optical module, and optical transmission device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3930610A1 (en) * 1989-09-13 1991-03-21 Esab Hancock Gmbh DEVICE FOR OPTICAL-ELECTRONIC CONTROL OF A FLAME-CUTTING MACHINE
JPH04303972A (en) * 1991-03-30 1992-10-27 Kobe Steel Ltd Light-receiving element
JPH05327002A (en) * 1992-05-15 1993-12-10 Sanyo Electric Co Ltd Multiple-wavelength photodetector
JP2967057B2 (en) * 1996-12-26 1999-10-25 技術研究組合新情報処理開発機構 Surface type optical multifunctional element

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003522421A (en) * 2000-02-02 2003-07-22 インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト VCSEL with monolithically integrated photodetector
JP2002217481A (en) * 2001-01-17 2002-08-02 Canon Inc Semiconductor optical device
JP2004031644A (en) * 2002-06-26 2004-01-29 Taiyo Yuden Co Ltd Light receiving and emitting element, method for manufacturing the same, and optical communication system using the same
JP2005217147A (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Seiko Epson Corp Light receiving and emitting element array, optical module, and optical transmission device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006156870A (en) 2006-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0988671B1 (en) Resonant reflector for improved optoelectronic device performance and enhanced applicability
US7376164B2 (en) Vertical cavity surface emitting semiconductor laser, light emission device, and optical transmission system
US7391800B2 (en) Vertical cavity surface-emitting semiconductor laser device, optical transmission module, optical transmission device, and optical switching method
US6088376A (en) Vertical-cavity-surface-emitting semiconductor devices with fiber-coupled optical cavity
US6836501B2 (en) Resonant reflector for increased wavelength and polarization control
KR20030068573A (en) Resonant reflector for use with optoelectronic devices
JP2003202529A (en) Semiconductor optical modulator, semiconductor light emitting device and wavelength variable laser device and multiwavelength laser device and optical transmission system
JP4612442B2 (en) Vertical cavity surface emitting semiconductor laser device, optical switching method, optical transmission module, and optical transmission device
JP4790287B2 (en) Vertical cavity surface emitting semiconductor laser device, optical switching method, optical transmission module, and optical transmission device
US8532155B2 (en) Optical interconnection system
US8599897B2 (en) Tunable detector
US8576472B2 (en) Optoelectronic device with controlled temperature dependence of the emission wavelength and method of making same
JP4671672B2 (en) Light receiving / emitting device, optical transmission / reception module, optical transmission module, and optical communication system
JP4439199B2 (en) Vertical cavity surface emitting semiconductor laser device, optical logic operation device, wavelength converter, optical pulse waveform shaping device, and optical transmission system using the same
JP2006261150A (en) Vertical resonator type surface-emitting semiconductor laser device, light-emitting system and optical transmission system
JP4820556B2 (en) Vertical cavity surface emitting semiconductor laser device, optical transmission module, optical transmission device, and optical switching method
JP2007219561A (en) Semiconductor light emitting device
JP2006203100A (en) Semiconductor laser and light transmitter module
JP2002141603A (en) Semiconductor laser and semiconductor laser array, and method for fabricating the same, transmission module, local area network system, optical data link system and optical interconnection system
JP2011187730A (en) Semiconductor laser, semiconductor laser device, and method of manufacturing semiconductor laser
JP3505509B2 (en) Semiconductor light emitting device, semiconductor light emitting device, and method for modulating semiconductor light emitting device
JP2004214311A (en) Surface emission laser element, optical transmitter using the same, optical transceiver, and optical communication system

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071129

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100629

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100707

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100903

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110111

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110118

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4671672

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140128

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees