JP4653948B2 - エピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶の検査方法及びエピタキシャルウエーハ用シリコンウエーハの製造方法、並びにエピタキシャルウエーハの製造方法 - Google Patents
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このように、本発明のシリコン単結晶の検査方法により所望のBMD密度が保証されたシリコン単結晶からシリコンウエーハを製造することにより、所望のBMD密度を有するエピタキシャルウエーハを高歩留まりで作製できるシリコンウエーハを容易に得ることができる。
このように、本発明のシリコンウエーハの製造方法により製造されたシリコンウエーハにエピタキシャル層を形成してエピタキシャルウエーハを製造することにより、所望のBMD密度を有するエピタキシャルウエーハを高歩留まりで製造することができ、エピタキシャルウエーハの生産性の向上やコストダウンを図ることができる。
このように、シリコン単結晶からシリコンウエーハを切出すスライス工程が行われる前に、シリコン単結晶から検査用ウエーハを作製し、上記擬似エピタキシャル熱処理工程とBMD密度測定工程とを行って検査用ウエーハのBMD密度を測定すれば、シリコン単結晶を育成した段階でその後にエピタキシャルウエーハを作製した際のBMD密度を予測してウエーハ品質の良否を判別できるため、不良品を製造した場合に生じる時間的なロスや製造コストのロスを一層低減できる。
本発明者等は、エピタキシャルウエーハの製造において生産性の向上やコストダウンを図るために、エピタキシャルウエーハの製造工程の早い段階、特にシリコン単結晶を育成した段階で、エピタキシャルウエーハを作製した後のウエーハが有するBMD密度を予測できれば良いと考え、鋭意実験及び検討を重ねた。その結果、シリコン単結晶から検査用ウエーハを作製し、その作製した検査用ウエーハに擬似エピタキシャル熱処理工程及びBMD密度測定工程を行うことによって、シリコン単結晶を育成した段階でエピタキシャルウエーハとした場合のBMD密度を予測して所望のウエーハ品質を得ることのできる単結晶を判別することができ、そしてそれによって、エピタキシャルウエーハの歩留まりを向上させるとともに、不良品が製造されることを防止して製造時間や製造コストのロスを低減できることを見出して、本発明を完成させた。
先ず、検査用ウエーハ作製工程で検査対象となるシリコン単結晶から検査用ウエーハを作製する(図1の工程A)。この検査用ウエーハ作製工程において、シリコン単結晶から検査用ウエーハを作製する方法は特に限定されるものではないが、例えばシリコン単結晶から内周刃切断機やワイヤーソー等を用いてウエーハを切出した後、得られたウエーハに例えば面取り、ラッピング、エッチング、研磨等の従来一般的に行われているようなウエーハ加工工程を施すことによって検査用ウエーハを容易に作製することができる。
このBMD密度測定工程では、先ず検査用ウエーハに酸素析出熱処理を施して酸素析出物を検出可能なサイズに成長させる。このとき、酸素析出熱処理では、例えば検査用ウエーハに1000℃で16時間の熱処理、より好ましくは800℃で4時間+1000℃で16時間の熱処理を行えば良く、このような熱処理条件で酸素析出熱処理を行うことにより、検査用ウエーハに存在している酸素析出物を検出可能なサイズに容易に成長させることができる。
先ず、チョクラルスキー法(CZ法)や浮遊帯域法(FZ法)等によりシリコン単結晶を製造した後、得られたシリコン単結晶からシリコンウエーハを作製する際に検査用ウエーハを作製する。
(実施例1〜3、比較例1)
先ず、CZ法により、直径300mmで抵抗率10Ω・cmの窒素をドープしたシリコン単結晶を育成した。次に、このシリコン単結晶の各結晶部位からスライサーを用いてウエーハをスライスした後、面取り、ラッピング、エッチング、鏡面研磨を施して検査用ウエーハを複数枚作製した。
先ず、CZ法により、窒素ドープを行わずに直径300mmで抵抗率10Ω・cmのシリコン単結晶を育成した。次に、このシリコン単結晶の各結晶部位からスライサーを用いてウエーハをスライスした後、面取り、ラッピング、エッチング、鏡面研磨を施して検査用ウエーハを複数枚作製した。
Claims (8)
- エピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶の検査方法であって、少なくとも、前記シリコン単結晶から検査用ウエーハを作製する検査用ウエーハ作製工程と、該作製した検査用ウエーハにエピタキシャルウエーハを作製する際に施される熱処理と同様の熱処理条件で熱処理を行う擬似エピタキシャル熱処理工程と、該擬似エピタキシャル熱処理工程が施された検査用ウエーハに酸素析出物を成長させるための酸素析出熱処理を施してウエーハの内部微小欠陥(BMD)の密度を測定するBMD密度測定工程とを有することを特徴とするエピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶の検査方法。
- 前記擬似エピタキシャル熱処理工程において、前記検査用ウエーハに1100℃以上1250℃以下の熱処理温度で5〜40分間の熱処理を行うことを特徴とする請求項1に記載のエピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶の検査方法。
- 前記BMD密度測定工程の酸素析出熱処理において、前記検査用ウエーハに1000℃で16時間の熱処理を行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶の検査方法。
- 前記BMD密度測定工程の酸素析出熱処理において、前記検査用ウエーハに1000℃で16時間の熱処理を行う前に、800℃で4時間の熱処理を行うことを特徴とする請求項3に記載のエピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶の検査方法。
- 請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載のエピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶の検査方法によりBMD密度を測定し、シリコン単結晶を育成した段階でエピタキシャルウエーハを作製した際のBMD密度を予測して、所望の品質を有するエピタキシャルウエーハを製造できる単結晶を判別することで、所望のBMD密度が保証されたエピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶からエピタキシャルウエーハ用シリコンウエーハを製造することを特徴とするエピタキシャルウエーハ用シリコンウエーハの製造方法。
- 請求項5に記載のエピタキシャルウエーハ用シリコンウエーハの製造方法により製造されたエピタキシャルウエーハ用シリコンウエーハにエピタキシャル層を形成してエピタキシャルウエーハを製造することを特徴とするエピタキシャルウエーハの製造方法。
- エピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶からエピタキシャルウエーハ用シリコンウエーハを作製した後、該シリコンウエーハにエピタキシャル層を形成してエピタキシャルウエーハを製造する方法において、前記シリコン単結晶からシリコンウエーハを作製する際に検査用ウエーハを作製し、該検査用ウエーハに、少なくとも、エピタキシャル層の形成の際に施される熱処理と同様の熱処理条件で熱処理を行う擬似エピタキシャル熱処理工程と、酸素析出物を成長させるための酸素析出熱処理を施してウエーハの内部微小欠陥(BMD)の密度を測定するBMD密度測定工程とを行って検査用ウエーハのBMD密度を測定し、該BMD密度の測定結果に基づいて、シリコン単結晶を育成した段階でエピタキシャルウエーハを作製した際のBMD密度を予測して、所望の品質を有するエピタキシャルウエーハを製造できる単結晶を判別することで、所望のBMD密度が保証されたシリコン単結晶または該シリコン単結晶から作製されたシリコンウエーハを用いてエピタキシャルウエーハの製造を行うことを特徴とするエピタキシャルウエーハの製造方法。
- 前記検査用ウエーハを、エピタキシャルウエーハ用シリコン単結晶からエピタキシャルウエーハ用シリコンウエーハを切出すスライス工程が行われる前に作製することを特徴とする請求項7に記載のエピタキシャルウエーハの製造方法。
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