JP4650885B2 - 多孔質膜の形成方法及びその方法によって形成された多孔質膜 - Google Patents
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Description
すなわち、多孔質構造の形成において、孔源材料の除去手段として超臨界流体を用いる従来の方法では、使用する孔源材料がもともと超臨界流体と良好な相溶性を有するものでない限り、比誘電率の低い高品質の多孔質膜を形成することは困難である。このため、超臨界流体によって抽出される孔源材料の成分が限定され、最終的に形成される多孔質膜の空孔サイズや骨格構造などが制限されてしまうという問題がある。
ところで、分子量の測定については、一般的にGPC(ゲル浸透クロマト)分析が利用される。この方法は、測定対象の分子を溶媒に溶解させ、ゲルカラム中を浸透させ、このとき分子量によって浸透速度が異なることを利用してカラム中を透過してくる速度から分子量が見積もられる。しかし、前記分解工程で孔源材料を酸化分解する場合、酸化分解分子の化学的性質が変化してしまうので、前記分析法によって分子量を求めることには問題がある。すなわち、ゲルカラム中を浸透する速度は分子量だけでなく、ゲルとの相互作用にも依存するが、前記孔源材料のような界面活性剤分子においては、酸化分分解により材料自体の親水性、疎水性が変化する。すなわち界面活性剤分子とゲルとの相互作用が変化し、例えば相互作用が強くなった場合、浸透速度が低下する。このため、ゲルカラム中の浸透速度からそのまま分子量を算出することはできない。従って、酸化分解後の分子量については、後述の実施例で詳述するように、酸化分解前後における孔源材料の赤外吸光度から見積もることが推奨される。
酸化性雰囲気の圧力としては、低圧側0.1Paから高圧側2MPa程度までが好ましい。低圧側で処理する場合、酸化性成分自体の濃度も低いため、反応促進の観点から、より活性な酸化性雰囲気を利用することが好ましい。具体的にはプラズマ状態の酸化性雰囲気や、酸素ラジカル、オゾンなど高活性な酸化種を含む雰囲気が挙げられる。一方、高圧側で利用する場合、界面活性剤の析出の観点から2MPa以下で処理することが好ましい。これまでの実験による知見によれば、2MPaを超えたあたりから析出が著しくなる。その他、酸化性雰囲気にて紫外線、電子線などの電磁波を併用することも反応促進に効果的である。
処理時間については、対象とする多孔質膜の膜厚によって必要な処理時間は異なってくるので、膜厚に応じて適宜処理条件を選定すればよい。もっとも、処理のスループット、生産性を考慮すると、分解工程の処理時間は数十分〜100分程度が好ましい。
テトラエトキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラメトキシチタニウム、テトラノルマルブトキシチタニウム、
テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラノルマルブトキシシラン、トリエトキシフロロシラン、トリエトキシシラン、トリイソプロポキシフロロシラン、トリメトキシフロロシラン、トリメトキシシラン、トリノルマルブトキシフロロシラン、トリノルマルプロポキシフロロシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルジエトキシクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリスメトキシエトキシビニルシラン、
トリエトキシアルミニウム、トリイソブトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリメトキシアルミニウム、トリノルマルブトキシアルミニウム、トリノルマルプロポキシアルミニウム、トリセカンダリーブトキシアルミニウム、トリターシャリーブトキシアルミニウム、
トリエトキシボロン、トリイソブトキシボロン、トリイソプロポキシボロン、トリメトキシボロン、トリノルマルブトキシボロン、トリセカンダリーブトキシボロン、
テトラエトキシゲルマニウム、テトライソプロポキシゲルマニウム、テトラメトキシゲルマニウム、テトラノルマルブトキシゲルマニウム、
トリスメトキシエトキシランタン、
ビスメトキシエトキシマグネシウム、
ペンタエトキシニオビウム、ペンタイソプロポキシニオビウム、ペンタメトキシニオビウム、ペンタノルマルブトキシニオビウム、ペンタノルマルプロポキシニオビウム、
トリエチルフォスフェイト、トリエチルフォスファイト、トリイソプロポキシフォスフェイト、トリイソプロポキシフォスファイト、トリメチルフォスフェイト、トリメチルフォスファイト、トリノルマルブチルフォスフェイト、トリノルマルブチルフォスファイト、トリノルマルプロピルフォスフェイト、トリノルマルプロピルフォスファイト、
ペンタエトキシタンタル、ペンタイソプロポキシタンタル、ペンタメトキシタンタル、
テトラターシャリーブトキシスズ、酢酸スズ、トリイソプロポキシノルマルブチルスズ、
トリエトキシバナジル、トリノルマルプロポキシオキシバナジル、トリスアセチルアセトナトバナジウム、
テトライソプロポキシジルコニウム、テトラノルマルブトキシジルコニウム、テトラターシャリーブトキシジルコニウムなどが挙げられる。
ドデカニルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラデカニルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、オクタデカニルトリメチルアンモニウムクロリド、
ドデカニルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラデカニルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、オクタデカニルトリメチルアンモニウムブロミド、
ドデカニルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラデカニルトリエチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウムクロリド、オクタデカニルトリエチルアンモニウムクロリド、
ドデカニルトリエチルアンモニウムブロミド、テトラデカニルトリエチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウムブロミド、オクタデカニルトリエチルアンモニウムブロミドなどが挙げられる。
前記超臨界流体の孔源材料の抽出能力は、超臨界流体の密度に大きく依存する。超臨界流体の密度は温度、圧力によって変化させることができるが、実用的には0.2g/cm3 〜0.9g/cm3 程度である。超臨界流体の密度を上記範囲とする場合、抽出可能な分子量は高々1500程度である。このため、超臨界流体を実用的な密度に設定する場合、孔源材料の酸化分解後の分子量としては1500以下が好ましい。
前記孔源材料の酸化分解後の分子量は、酸化分解熱処理前後の赤外吸光度から以下の要領で見積もった。図2は、後述するように、FTIR分析によって得られた波数と吸光度との関係を示すグラフであるが、酸化処理前後の赤外吸光度の約2880cm-1の吸収バンド強度に着目した。これはC−H結合に起因するバンドであるが、酸化処理によって約40%の減少がみられた。孔源材料として用いたF127はポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドのブロック重合体であるが、これは酸化分解されることにより−C−O−C−の部分の結合が切断され、C=Oが生成されるとともにC−H結合が消失する。この材料自体には、大まかに見積もると約340個の−C−O−C−が存在しており、この内40%のC−H結合が消失したと考えられるので、136個の−C−O−C−が切断されたことになる。すなわち元の分子が136分割されたことに相当する。これより、元の分子量が15000程度であることから、分解後の分子量は約110程度と見積もられた。この値は、超臨界抽出可能な分子量の上限の1500と比べ十分に小さく、超臨界流体によって抽出容易なサイズである。
前記基材を高圧容器内に配した後、高圧容器に80℃の二酸化炭素を導入し、調圧弁を調整することによって高圧容器内の圧力を15MPaまで上昇させて超臨界状態とした。この二酸化炭素の超臨界流体の密度(理論値)は0.43g/cm3 程度である。この超臨界状態で、二酸化炭素を10mL/min (液化炭酸状態の流量)の速度で流通させつつ、抽出促進剤としてメタノールを1mL/min の速度で添加供給し、60分間、超臨界抽出処理を行った。メタノールの供給を停止した後、二酸化炭素のみを10mL/min の速度で流通させ、10分間保持することで、容器内のメタノールを排出した。その後、高圧容器を減圧し、基材を取り出した。
また、FTIR(フーリエ変換赤外分光法)分析を行った結果、図1に示すように、超臨界抽出処理により超臨界抽出前に現れていた2880cm-1付近のCH結合に起因するピークが消失しており、Pluronic F127が完全に除去されていることが確認された。また、超臨界抽出前に現れていた1725cm-1付近のC=O結合に起因するピークが消失しており、Pluronic F127が酸化された部分も完全に除去されていることが確認された
酸素雰囲気での熱処理による膜の変化についてもFTIR分析を行った。その結果を図2に示す。図2より、熱処理前には1725cm-1付近にC=0に起因する吸収ピークは観察されていないが、酸素雰囲気での熱処理により1725cm-1付近に吸収ピークが観察されており、Pluronic F127が酸素雰囲気での熱処理により、酸化分解されたことが確認された。
そして、得られた膜上にAl電極を形成した後、静電容量測定を行い、その比誘電率を求めたところ、比誘電率1.5が得られた。これより、極めて高品質な多孔質膜が形成されたことが確認された。
得られた基材上には透明な膜が形成されていたが、液滴様の物質が基材上に点在していた。また、形成された膜について電子顕微鏡観察を行った結果、規則構造は全く観察することができなかった。
また、FTIR分析を行った結果、超臨界抽出処理後も2880cm-1付近のCH結合に起因するピークは残存しており、Pluronic F127の除去は認められなかった。また、窒素雰囲気処理では、処理後に1725cm-1付近の吸収ピークは観察されず、窒素雰囲気での処理では、Pluronic F127は分解しなかった。
そして、上記実施例と同様にして、得られた膜の静電容量測定を行い、その比誘電率を求めたところ、比誘電率は3であり、窒素雰囲気での熱処理では孔源材料の除去が不十分であることが確認された。
Claims (6)
- 多孔質膜の骨格を形成する基になる骨格材料と多孔質膜の空孔の基となる孔源材料とを混合、攪拌して、加水分解した一次膜形成液を塗布し、乾燥させて一次膜を形成する一次膜形成工程と、前記一次膜を構成する孔源材料を酸化性雰囲気中で酸化分解する分解工程と、前記分解工程によって分解された孔源材料を超臨界流体を用いて抽出する抽出工程とを有し、前記骨格材料として金属アルコキシドを用い、前記孔源材料として界面活性剤を用いることを特徴とする多孔質膜の形成方法。
- 前記界面活性剤は非イオン性界面活性剤である請求項1に記載した多孔質膜の形成方法。
- 前記分解工程は、酸化性ガスを含有し、100℃〜150℃の酸化性雰囲気中で前記界面活性剤を酸化分解する、請求項1又は2に記載した多孔質膜の形成方法。
- 前記金属アルコキシドはシリカを主成分とするシリコンアルコキシドである請求項1から3のいずれか1項に記載した多孔質膜の形成方法。
- 前記超臨界流体は、その主成分が二酸化炭素、アルキルアルコールまたはこれら混合物である請求項1から4のいずれか1項に記載した多孔質膜の形成方法。
- 請求項1から5のいずれか1項に記載された方法によって形成された多孔質膜。
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