JP4648936B2 - ガスバリアフィルムの製造方法、及びガスバリアフィルムの製造装置 - Google Patents
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Description
本願発明にかかる、基材となるプラスチックフィルムに対し酸素や水蒸気などのガスを透過させないガスバリア性を有するフィルムであるガスバリアフィルムをプラズマ化学気相成長法(プラズマCVD法)により製造するための製造方法(以下、単に「製造方法」とも言う。)と、かかる製造方法を実施するための製造装置につき、第1の実施の形態として図面を参照しつつ説明する。
2 アノード(接地電極)
3 巻出し
4 巻取り
5 マスフローコントローラ
6 キャリアガスボンベ
7 液体マスフローコントローラ
8 モノマー原料
9 排気ポンプ
10 ガス管
11 電源
12 真空反応室
13 プラス電極
14 バイアス電極
Claims (5)
- プラズマ化学気相成長(プラズマCVD)装置により、基材となるプラスチックフィルムにガスバリア膜を形成するガスバリアフィルムの製造方法であって、
前記プラズマCVD装置は、少なくとも、プラズマCVDを実行する反応室と、前記反応室内部を真空状態とするための真空手段と、前記反応室内部にキャリアガスを用いつつ原料ガスを導入するためのガス供給手段と、前記反応室の中に高周波の電界をかけるための電界発生手段と、前記反応室内で前記プラスチックフィルムを搬送するフィルム搬送手段と、を備え、
前記電界発生手段は、前記プラスチックフィルムを挟んで配置された給電電極と接地電極、およびプラス電極を有し、前記給電電極は、前記プラスチックフィルムの表面に対してほぼ一定間隔で配置され、前記接地電極は、前記プラスチックフィルムの表面との間隔および前記給電電極との間隔が、前記プラスチックフィルムの搬送方向に沿って次第に近接するように配置され、前記プラス電極が前記プラスチックフィルム搬送方向に直交する向きで前記接地電極のいずれか一方の端に配置されてなり、
前記プラズマCVD装置を用い、前記電界発生手段の給電電極と接地電極との間に電界を印加して、前記プラスチックフィルムにガスバリア膜を形成すること、
を特徴とする、ガスバリアフィルムの製造方法。 - 請求項1に記載のガスバリアフィルムの製造方法であって、
プラスチックフィルムに形成するガスバリア膜の密度は、前記プラスチックフィルムの表面側で最も小さく、膜の厚み方向に順次増大したものとすること、
を特徴とする、ガスバリアフィルムの製造方法。 - プラズマ化学気相成長(プラズマCVD)法により、基材となるプラスチックフィルムにガスバリア膜を形成するガスバリアフィルムの製造装置であって、
少なくとも、プラズマCVDを実行する反応室と、前記反応室内部を真空状態とするための真空手段と、前記反応室内部にキャリアガスを用いつつ原料ガスを導入するためのガス供給手段と、前記反応室の中に高周波の電界をかけるための電界発生手段と、前記反応室内で前記プラスチックフィルムを搬送するフィルム搬送手段と、を備え、
前記電界発生手段は、前記プラスチックフィルムを挟んで配置された給電電極と接地電極、およびプラス電極を有し、前記給電電極は、前記プラスチックフィルムの表面に対してほぼ一定間隔で配置され、前記接地電極は、前記プラスチックフィルムの表面との間隔および前記給電電極との間隔が、前記プラスチックフィルムの搬送方向に沿って次第に近接するように配置され、前記プラス電極は、前記プラスチックフィルム搬送方向に直交する向きで前記接地電極のいずれか一方の端に配置されてなること、
を特徴とする、ガスバリアフィルムの製造装置。 - 請求項3に記載のガスバリアフィルムの製造装置であって、
給電電極は、平板状であること、
を特徴とする、ガスバリアフィルムの製造装置。 - 請求項3に記載のガスバリアフィルムの製造装置であって、
給電電極は、円筒状であること、
を特徴とする、ガスバリアフィルムの製造装置。
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