JP4647535B2 - Manufacturing method of molded body by injection molding - Google Patents
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Description
本発明は射出成形によりポリプロピレン樹脂組成物の成形体を製造する方法に関し、より詳細には、ポリプロピレン、ポリオレフィン系エラストマー、および特定のポリエチレンワックスとを原料とし、射出成形により成形体を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a molded product of a polypropylene resin composition by injection molding, and more particularly to a method for producing a molded product by injection molding using polypropylene, a polyolefin elastomer and a specific polyethylene wax as raw materials. .
従来より、ポリプロピレンにオレフィン系エラストマーを添加したポリプロピレン樹脂組成物は、射出成形により成形体を製造し、得られた成形体は様々な用途に用いられている。近年、このような射出成形の生産性の向上がより一層強く求められるようになっている。射出成形など成形の際の生産性を改善する一般的な方法としては、成形助剤を添加して成形する方法が知られている。例えば、成形する熱可塑性樹脂に対して、オイル、ポリエチレンワックス等の成形助剤を適用して成形する方法が検討されている（例えば、特許文献１、および２）。 Conventionally, a polypropylene resin composition obtained by adding an olefin-based elastomer to polypropylene has produced a molded body by injection molding, and the obtained molded body has been used for various applications. In recent years, improvement in productivity of such injection molding has been increasingly demanded. As a general method for improving productivity at the time of molding such as injection molding, a method of molding by adding a molding aid is known. For example, a method of molding by applying a molding aid such as oil or polyethylene wax to a thermoplastic resin to be molded has been studied (for example, Patent Documents 1 and 2).
しかしながら、従来の成形助剤を用いポリプロピレン樹脂組成物などの樹脂組成物を射出成形したとしても、生産性自体は改善される傾向にあるものの、得られる成形体の特性、例えば、耐衝撃性、曲げ特性、引張特性などの力学特性が低下したり、荷重たわみ温度などの熱変形性が悪化する場合があり、成形体にして使用しようとしても、用途によっては問題となる場合があった。
本発明の目的は、射出成形時の成形性を損なうことなく生産性を改善し、しかも、ポリプロピレン系樹脂組成物が本来有する力学特性、熱変形性などが損なわれないポリプロピレン系樹脂組成物の成形体を製造する方法を提供することにある。 The object of the present invention is to improve the productivity without impairing the moldability at the time of injection molding, and to mold the polypropylene resin composition without impairing the mechanical properties, heat deformability, etc. inherent to the polypropylene resin composition It is to provide a method of manufacturing a body.
本発明者らは上記課題を検討し、ポリプロピレン、オレフィン系エラストマー、および特定のポリエチレンワックスを原料とし、射出成形を行うと、成形性を損なうことなく生産性が改善されるとともに、得られる成形体の、耐衝撃性、曲げ特性、引張特性、などの力学特性、あるいは荷重たわみ温度などの熱変形性が損なわれないことを見いだし、本発明を完成するに至った。 The inventors of the present invention have studied the above problems, and when injection molding is performed using polypropylene, an olefin-based elastomer, and a specific polyethylene wax as raw materials, the productivity is improved without impairing the moldability, and the obtained molded body The present inventors have found that the mechanical properties such as impact resistance, bending properties, tensile properties, and thermal deformation properties such as deflection temperature under load are not impaired, and the present invention has been completed.
すなわち本発明の成形体を製造する方法は、
ポリプロピレンとオレフィン系エラストマーとの合計量１００重量％を基準として、ポリプロピレンを５５〜９５重量％の範囲、オレフィン系エラストマーを５〜４５重量％の範囲含む樹脂混合物１００重量部に対して、ＪＩＳ Ｋ７１１２の密度勾配管法に従って測定した密度が８８０〜９２０（ｋｇ／ｍ3）の範囲にあり、ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリエチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が５００〜４,０００の範囲にあり、かつ下記式（Ｉ）で表される関係を満たすポリエチレンワック
ス０．０１〜１０重量部を添加した原料混合物を、射出成形する点に特徴がある。
Ｂ≦０．００７５×Ｋ ・・・（Ｉ）
（上記式（Ｉ）中、Ｂは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した場合の、上記ポリエチレンワックス中のポリエチレン換算の分子量が２０，０００以上となる成分の含有割合（重量％）であり、Ｋは上記ポリエチレンワックスの１４０℃における溶融粘
度（ｍＰａ・ｓ）である。）
That is, the method for producing the molded article of the present invention includes:
Based on 100% by weight of the total amount of polypropylene and olefinic elastomer, 100 parts by weight of resin mixture containing polypropylene in the range of 55 to 95% by weight and olefinic elastomer in the range of 5 to 45% by weight The density measured according to the density gradient tube method is in the range of 880 to 920 (kg / m 3 ), and the number average molecular weight (Mn) in terms of polyethylene measured by gel permeation chromatography (GPC) is 500 to 4,000. It is characterized in that a raw material mixture to which 0.01 to 10 parts by weight of polyethylene wax that is in the range and satisfies the relationship represented by the following formula (I) is added is injection-molded.
B ≦ 0.0075 × K (I)
(In the above formula (I), B is a content ratio (% by weight) of a component having a polyethylene conversion molecular weight of 20,000 or more in the polyethylene wax when measured by gel permeation chromatography, and K Is the melt viscosity (mPa · s) of the polyethylene wax at 140 ° C.)
上記ポリエチレンワックスは、さらに、下記式（ＩＩ）で表される関係を満たしていることが好ましい。
Ａ≦２３０×Ｋ(-0.537) ・・・（ＩＩ）
（上記式（ＩＩ）中、Ａは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した場合の、上記ポリエチレンワックス中のポリエチレン換算の分子量が１，０００以下となる成分の含有割合（重量％）であり、Ｋは上記ポリエチレンワックスの１４０℃における溶融粘度（ｍＰａ・ｓ）である。）
The polyethylene wax preferably further satisfies the relationship represented by the following formula (II).
A ≦ 230 × K (-0.537) (II)
(In the above formula (II), A is a content ratio (% by weight) of a component in which the molecular weight in terms of polyethylene in the polyethylene wax is 1,000 or less when measured by gel permeation chromatography, and K Is the melt viscosity (mPa · s) of the polyethylene wax at 140 ° C.)
本発明の成形体の製造方法によれば、ポリプロピレン樹脂組成物の射出成形時の成形性を損なうことがなく、また生産性にも優れる。さらに、射出成形により得られるポリプロピレン樹脂組成物の成形体は、ポリオレフィン樹脂自体が本来有する耐衝撃性、曲げ特性、引張特性などの力学特性、荷重たわみ温度などの熱変形性が損なわれない。 According to the method for producing a molded article of the present invention, the moldability at the time of injection molding of the polypropylene resin composition is not impaired, and the productivity is excellent. Furthermore, the molded article of the polypropylene resin composition obtained by injection molding does not impair the heat resistance such as the impact resistance, bending characteristics, tensile characteristics, and other mechanical properties inherent to the polyolefin resin itself, and the deflection temperature under load.
以下、本発明を詳細に説明する。
まず本発明の射出成形に用いる原料について説明する。
〔ポリプロピレン〕
本発明に用いるポリプロピレンとは、具体的には、ＪＩＳ Ｋ７２１０に従って２３０℃、試験荷重２１．１８Ｎの条件で測定したＭＩが０．０１〜１００ｇ／１０分の範囲にあり、ＪＩＳ Ｋ７１１２の密度勾配管法に従って測定した密度が９１０（ｋｇ／ｍ3）
以上の範囲のプロピレンの単独重合体、プロピレンと少量のα−オレフィン（プロピレンを除く）との共重合体、またはそれらのブレンド物をいう。上記ポリプロピレンとしては、具体的には、プロピレンホモポリマー、プロピレンとα−オレフィン（プロピレンを除く）とを共重合したポリプロピレンブロックコポリマー、ポリプロピレンランダムコポリマー、またはそれらのブレンド物が挙げられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
First, raw materials used in the injection molding of the present invention will be described.
〔polypropylene〕
Specifically, the polypropylene used in the present invention has an MI measured in the range of 0.01 to 100 g / 10 min at 230 ° C. and a test load of 21.18 N according to JIS K7210, and is a density gradient tube of JIS K7112. The density measured according to the method is 910 (kg / m 3 )
A homopolymer of propylene in the above range, a copolymer of propylene and a small amount of α-olefin (excluding propylene), or a blend thereof. Specific examples of the polypropylene include a propylene homopolymer, a polypropylene block copolymer obtained by copolymerizing propylene and an α-olefin (excluding propylene), a polypropylene random copolymer, or a blend thereof.
本発明において、ポリプロピレンのＭＩの測定条件は以下の通りである。
（ＭＩ）
ＪＩＳ Ｋ７２１０に従って２３０℃、試験荷重２１．１８Ｎの条件で測定した。
上記ポリプロピレンの形状は、特に制限はないが、通常は、ペレット状またはタブレット状の粒子である。
In the present invention, the measurement conditions for MI of polypropylene are as follows.
(MI)
According to JIS K7210, it measured on 230 degreeC and the conditions of the test load of 21.18N.
The shape of the polypropylene is not particularly limited, but is usually pellet-shaped or tablet-shaped particles.
〔オレフィン系エラストマー〕
本発明でオレフィン系エラストマーとは、
ＪＩＳ Ｋ７２１０に従って１９０℃、試験荷重２１．１８Ｎの条件で測定したＭＩが０．０１〜１００ｇ／１０分の範囲にあり、ＪＩＳ Ｋ７１１２の密度勾配管法に従って測定した密度が８５０（ｋｇ／ｍ3）以上、９００（ｋｇ／ｍ3）未満の範囲にあるエチレン・α−オレフィンランダム共重合体、
ＪＩＳ Ｋ７２１０に従って２３０℃、試験荷重２１．１８Ｎの条件で測定したＭＩが０．０１〜１００ｇ／１０分の範囲にあり、ＪＩＳ Ｋ７１１２の密度勾配管法に従って測定した密度が８５０（ｋｇ／ｍ3）以上、９１０（ｋｇ／ｍ3）未満の範囲にある、プロピレンと炭素数４以上のα−オレフィンとを共重合した、プロピレン・α−オレフィンランダム共重合体、
ＪＩＳ Ｋ７２１０に従って１９０℃、試験荷重２１．１８Ｎの条件で測定したＭＩが０．０１〜１００ｇ／１０分の範囲にあり、ＪＩＳ Ｋ７１１２の密度勾配管法に従って測定した密度が８５０（ｋｇ／ｍ3）以上、９００（ｋｇ／ｍ3）未満の範囲にあるエチレン・α−オレフィン・非共役ポリエンランダム共重合体、
およびこれらの混合物である。
[Olefin elastomer]
In the present invention, the olefin elastomer is
The MI measured in accordance with JIS K7210 at 190 ° C. and a test load of 21.18 N is in the range of 0.01 to 100 g / 10 minutes, and the density measured according to the density gradient tube method of JIS K7112 is 850 (kg / m 3 ). As described above, an ethylene / α-olefin random copolymer in a range of less than 900 (kg / m 3 ),
The MI measured under conditions of 230 ° C. and a test load of 21.18 N according to JIS K7210 is in the range of 0.01 to 100 g / 10 minutes, and the density measured according to the density gradient tube method of JIS K7112 is 850 (kg / m 3 ). As described above, a propylene / α-olefin random copolymer obtained by copolymerizing propylene and an α-olefin having 4 or more carbon atoms in a range of less than 910 (kg / m 3 ),
The MI measured in accordance with JIS K7210 at 190 ° C. and a test load of 21.18 N is in the range of 0.01 to 100 g / 10 minutes, and the density measured according to the density gradient tube method of JIS K7112 is 850 (kg / m 3 ). As described above, an ethylene / α-olefin / non-conjugated polyene random copolymer in a range of less than 900 (kg / m 3 ),
And mixtures thereof.
上記エチレン・α−オレフィンランダム共重合体は、通常、エチレンと炭素原子数３〜２０のα−オレフィンとのランダム共重合体であり、ゴムである。上記炭素原子数３〜２０のα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−エイコセンなどが挙げられる。これらα−オレフィンの中でも、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテンが好ましい。これらαオレフィンは、単独で、または２種以上組み合せて用いることができる。 The ethylene / α-olefin random copolymer is usually a random copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, and is a rubber. Examples of the α-olefin having 3 to 20 carbon atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, 1-heptene, 1-octene, 1-decene, 1-decene, Examples include dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, and 1-eicosene. Among these α-olefins, propylene, 1-butene, 1-hexene and 1-octene are preferable. These α-olefins can be used alone or in combination of two or more.
上記エチレン・α−オレフィン共重合体は、通常、９０〜５０モル％の範囲のエチレン、および１０〜５０モル％の範囲のα−オレフィンを共重合体した重合体である。
またＭＩ（ＪＩＳ Ｋ７２１０：１９０℃，試験荷重２１．１８Ｎ）としては、０．３〜２０ｇ／１０分の範囲が好ましい。ＭＩが上記範囲にある場合には、成形加工性と機械強度のバランスに優れた成形体を得ることができる。
The ethylene / α-olefin copolymer is usually a polymer obtained by copolymerizing ethylene in the range of 90 to 50 mol% and α-olefin in the range of 10 to 50 mol%.
Moreover, as MI (JIS K7210: 190 degreeC, test load 21.18N), the range of 0.3-20 g / 10min is preferable. When MI is in the above range, a molded article having an excellent balance between molding processability and mechanical strength can be obtained.
上記プロピレン・α−オレフィンランダム共重合体は、通常、プロピレンと炭素原子数４〜２０のα−オレフィンとのランダム共重合体であり、ゴムである。炭素原子数４〜２０のα−オレフィンとしては、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−エイコセンなどが挙げられる。これらα−オレフィンは、単独で、または２種以上組み合せて用いることができる。 The propylene / α-olefin random copolymer is usually a random copolymer of propylene and an α-olefin having 4 to 20 carbon atoms, and is a rubber. Examples of the α-olefin having 4 to 20 carbon atoms include 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, 1-heptene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, -Tetradecene, 1-hexadecene, 1-eicosene and the like. These α-olefins can be used alone or in combination of two or more.
上記プロピレン・α−オレフィンランダム共重合体は、通常、９０〜５５モル％の範囲のプロピレン、および１０〜４５モル％の範囲のα−オレフィンを共重合体した重合体である。 The propylene / α-olefin random copolymer is usually a polymer obtained by copolymerizing propylene in the range of 90 to 55 mol% and α-olefin in the range of 10 to 45 mol%.
またＭＩ（ＪＩＳ Ｋ７２１０：２３０℃，試験荷重２１．１８Ｎ）としては、０．３〜２０ｇ／１０分の範囲が好ましい。ＭＩが上記範囲にある場合には、成形加工性と機械強度のバランスに優れた成形体を得ることができる。 Moreover, as MI (JIS K7210: 230 degreeC, test load 21.18N), the range of 0.3-20 g / 10min is preferable. When MI is in the above range, a molded article having an excellent balance between molding processability and mechanical strength can be obtained.
上記エチレン・α−オレフィン・非共役ポリエンランダム共重合体は、通常、エチレンと炭素原子数３〜２０のα−オレフィンと非共役ポリエンとのランダム共重合体であり、ゴムである。α−オレフィンは、上記エチレン・α−オレフィンランダム共重合体の場合と同様である。 The ethylene / α-olefin / non-conjugated polyene random copolymer is usually a random copolymer of ethylene, an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms and a non-conjugated polyene, and is a rubber. The α-olefin is the same as in the case of the ethylene / α-olefin random copolymer.
上記非共役ポリエンとしては、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−プロピリデン−５−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチレン−２−ノルボルネン、５−イソプロピリデン−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン等の非環状ジエン；
１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，５−ヘプタジエン、６−メチル−１，５−ヘプタジエン、６−メチル−１，７−オクタジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン等の鎖状の非共役ジエン；
２，３−ジイソプロピリデン−５−ノルボルネン等のトリエンなどが挙げられる。これら非共役ジエンの中では、１，４−ヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネンが好ましく用いられる。
Examples of the non-conjugated polyene include 5-ethylidene-2-norbornene, 5-propylidene-5-norbornene, dicyclopentadiene, 5-vinyl-2-norbornene, 5-methylene-2-norbornene, and 5-isopropylidene-2- Acyclic dienes such as norbornene and norbornadiene;
1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,5-heptadiene, 6-methyl-1,5-heptadiene, 6-methyl- Chain non-conjugated dienes such as 1,7-octadiene, 7-methyl-1,6-octadiene;
And triene such as 2,3-diisopropylidene-5-norbornene. Among these non-conjugated dienes, 1,4-hexadiene, dicyclopentadiene, and 5-ethylidene-2-norbornene are preferably used.
非共役ポリエンが上記化合物である場合には、耐衝撃性や機械強度に優れた成形体を得ることができる。
上記エチレン・α−オレフィン・非共役ポリエンランダム共重合体は、通常、９０〜３０モル％の範囲のエチレン、５〜４５モル％の範囲のα−オレフィン、５〜２５モル％の範囲の非共役ポリエンの共重合体である。
When the non-conjugated polyene is the above compound, a molded article excellent in impact resistance and mechanical strength can be obtained.
The ethylene / α-olefin / non-conjugated polyene random copolymer is usually 90 to 30 mol% of ethylene, 5 to 45 mol% of α-olefin, and 5 to 25 mol% of non-conjugated. It is a copolymer of polyene.
またＭＩ（ＪＩＳ Ｋ７２１０：１９０℃，試験荷重２１．１８Ｎ）としては、０．０５ｇ／１０分〜１００ｇ／１０分の範囲が好ましく、０．１〜１０ｇ／１０分の範囲がより好ましい。ＭＩが上記範囲にある場合には、成形加工性と機械強度のバランスに優れた成形体を得ることができる。 Moreover, as MI (JIS K7210: 190 degreeC, test load 21.18N), the range of 0.05g / 10min-100g / 10min is preferable, and the range of 0.1-10g / 10min is more preferable. When MI is in the above range, a molded article having an excellent balance between molding processability and mechanical strength can be obtained.
上記エチレン・α−オレフィン・非共役ポリエンランダム共重合体としては、エチレン・プロピレン・ジエン三元共重合体（ＥＰＤＭ）などが挙げられる。
〔ポリエチレンワックス〕
本発明でポリエチレンワックスとは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリエチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が５００〜３，０００の範囲にあるエチレンの単独重合体またはエチレンとα−オレフィンとの共重合体、またはそれらのブレンド物をいう。上記ポリエチレンワックスのポリエチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、以下の条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定から求めたものである。
Examples of the ethylene / α-olefin / non-conjugated polyene random copolymer include ethylene / propylene / diene terpolymer (EPDM).
[Polyethylene wax]
In the present invention, polyethylene wax means an ethylene homopolymer or ethylene and α-olefin having a number average molecular weight (Mn) in terms of polyethylene measured by gel permeation chromatography (GPC) in the range of 500 to 3,000. Or a blend thereof. The polyethylene-converted number average molecular weight (Mn) of the polyethylene wax is determined from gel permeation chromatography (GPC) measurement under the following conditions.
（数平均分子量（Ｍｎ））
数平均分子量は、ＧＰＣ測定から求めた。測定は以下の条件で行った。また、数平均分子量は、市販の単分散標準ポリスチレンを用いて検量線を作成し、下記の換算法に基づいて求めた。
装置 ： ゲル浸透クロマトグラフＡｌｌｉａｎｃｅ ＧＰＣ２０００型（Ｗａｔｅｒｓ社製）
溶剤 ： ｏ−ジクロロベンゼン
カラム： ＴＳＫｇｅｌカラム（東ソー社製）×４
流速 ： １．０ ｍｌ／分
試料 ： ０．１５ｍｇ／ｍＬ ｏ−ジクロロベンゼン溶液
温度 ： １４０℃
分子量換算 ： ＰＥ換算／汎用較正法
(Number average molecular weight (Mn))
The number average molecular weight was determined from GPC measurement. The measurement was performed under the following conditions. The number average molecular weight was determined based on the following conversion method by creating a calibration curve using commercially available monodisperse standard polystyrene.
Apparatus: Gel permeation chromatograph Alliance GPC2000 (manufactured by Waters)
Solvent: o-dichlorobenzene column: TSKgel column (manufactured by Tosoh Corporation) x 4
Flow rate: 1.0 ml / min Sample: 0.15 mg / mL o-dichlorobenzene solution temperature: 140 ° C.
Molecular weight conversion: PE conversion / General calibration method
なお、汎用較正の計算には、以下に示すＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋ粘度式の係数を用いた。
ポリスチレン（ＰＳ）の係数 ： ＫＰＳ＝１．３８×１０-4， ａＰＳ＝０．７０
ポリエチレン（ＰＥ）の係数 ： ＫＰＥ＝５．０６×１０-4， ａＰＥ＝０．７０
ポリエチレンワックスが、上述のような組成、分子量にあることで、成形時の生産性が改善される傾向にある。
In addition, the coefficient of the Mark-Houwink viscosity formula shown below was used for calculation of general-purpose calibration.
Coefficient of polystyrene (PS): KPS = 1.38 × 10 −4 , aPS = 0.70
Coefficient of polyethylene (PE): KPE = 0.06 × 10 −4 , aPE = 0.70
When the polyethylene wax has the composition and molecular weight as described above, the productivity during molding tends to be improved.
本発明で用いるポリエチレンワックスは、密度が８８０〜９２０（ｋｇ／ｍ3）の範囲
にある。上記ポリエチレンワックスの密度は、ＪＩＳＫ７１１２の密度勾配管法で測定した値である。ポリエチレンワックスの密度が上記範囲にある場合には、成形時の生産性が改善される傾向にある。
The polyethylene wax used in the present invention has a density in the range of 880 to 920 (kg / m 3 ). The density of the polyethylene wax is a value measured by the density gradient tube method of JISK7112. When the density of the polyethylene wax is in the above range, the productivity during molding tends to be improved.
本発明のポリエチレンワックスはその分子量と、溶融粘度との間に下記式（I）で示さ
れる特定の関係がある点に特徴がある。
Ｂ≦０．００７５×Ｋ ・・・（Ｉ）
ここで上記式（Ｉ）中、Ｂは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した場合の、上記ポリエチレンワックス中のポリエチレン換算の分子量が２０，０００以上となる成分の重量基準での含有割合（重量％）である。また、Ｋはブルックフィールド（Ｂ型
）粘度計で測定した上記ポリエチレンワックスの１４０℃における溶融粘度（ｍＰａ・ｓ）である。
The polyethylene wax of the present invention is characterized in that there is a specific relationship represented by the following formula (I) between its molecular weight and melt viscosity.
B ≦ 0.0075 × K (I)
Here, in the above formula (I), B is a content ratio (weight%) of a component having a polyethylene conversion molecular weight of 20,000 or more in the polyethylene wax when measured by gel permeation chromatography. ). K is the melt viscosity (mPa · s) at 140 ° C. of the polyethylene wax measured with a Brookfield (B type) viscometer.
上記（Ｉ）式の条件を満たすポリエチレンワックスを用い用いた場合には、射出成形時の成形性を損なうことなく生産性が向上でき、得られる成形体では、ポリプロピレンとオレフィン系エラストマーとからなるポリプロピレン樹脂組成物が本来有する、耐衝撃性、荷重たわみ温度などの力学特性が損なわれない傾向にある。 When polyethylene wax that satisfies the above formula (I) is used, productivity can be improved without impairing moldability at the time of injection molding, and in the obtained molded product, polypropylene composed of polypropylene and an olefin elastomer is used. There is a tendency that mechanical properties such as impact resistance and deflection temperature under load inherent in the resin composition are not impaired.
通常、ポリエチレンに溶融粘度が低いポリエチレンワックスを適用して、射出成形をすると、混合物全体の粘度が低下するため、成形時の生産性に関しては改善される傾向にある。しかし、このように生産性を改善されたとしても、結果として得られる成形体の耐衝撃性、荷重たわみ温度などの力学特性が必ずしも十分でない場合があり、さらにその成形性にも問題がある場合もあった。 Usually, when a polyethylene wax having a low melt viscosity is applied to polyethylene and injection molding is performed, the viscosity of the entire mixture is lowered, so that productivity at the time of molding tends to be improved. However, even if productivity is improved in this way, the resulting molded article may not always have sufficient mechanical properties such as impact resistance and deflection temperature under load, and there is a problem with its formability. There was also.
本発明者らが検討した結果、射出成形時の成形性を損なわず、射出成形で得られる成形体の耐衝撃性などの力学特性、あるいは荷重たわみ温度などの熱変形性を損なわないためには、使用するポリエチレンワックスのうち、分子量が２０，０００以上の成分の割合が溶融粘度との関係で極めて重要であることが分かった。その詳細なメカニズムは明らかではないが、ポリエチレンワックスとポリエチレンとを溶融混練する場合には、ポリエチレンワックス全体の中でも、分子量２０，０００以上の成分は、その溶融挙動がワックス全体の中でも特異的であり、ポリエチレンワックス全体の溶融粘度という観点から見て、分子量２０，０００以上の成分一定割合以下としないと、ポリエチレンワックスがポリエチレンに対して良好に分散することができず、成形性に影響を与え、さらには最終的な成形体の耐衝撃性などの力学特性、あるいは荷重たわみ温度などの熱変形性にも影響を与えるものと推定される。 As a result of the examination by the present inventors, in order not to impair the moldability at the time of injection molding and not to impair the mechanical properties such as impact resistance of the molded article obtained by injection molding, or the thermal deformation properties such as the deflection temperature under load. It has been found that the proportion of the component having a molecular weight of 20,000 or more in the polyethylene wax to be used is extremely important in relation to the melt viscosity. Although the detailed mechanism is not clear, when polyethylene wax and polyethylene are melt-kneaded, among the whole polyethylene wax, the component having a molecular weight of 20,000 or more has a specific melting behavior in the whole wax. From the viewpoint of the melt viscosity of the entire polyethylene wax, unless the component has a molecular weight of 20,000 or more, the polyethylene wax cannot be dispersed well in the polyethylene, affecting the moldability. Furthermore, it is presumed that the final molded product also affects the mechanical properties such as impact resistance or the heat deformation properties such as the deflection temperature under load.
B値が上記範囲のポリエチレンワックスは、メタロセン触媒を用いて調製できる。メタ
ロセン触媒の中でも、配位子が非架橋であるメタロセン触媒が好ましい。このようなメタロセン触媒としては、後述する一般式（１）で表されるメタロセン化合物を例示できる。
A polyethylene wax having a B value in the above range can be prepared using a metallocene catalyst. Among the metallocene catalysts, metallocene catalysts whose ligands are non-crosslinked are preferable. As such a metallocene catalyst, a metallocene compound represented by the general formula (1) described later can be exemplified.
さらに、上記B値は重合温度によっても制御できる。例えば、後述するメタロセン触媒
によりポリエチレンワックスを製造する場合には、重合温度は通常１００〜２００℃の範囲であるが、上述したＢ値を有するポリエチレンワックスを製造する観点からは、重合温度は、好ましくは、１００〜１８０℃の範囲、より好ましくは、１００〜１７０℃の範囲である。
Further, the B value can be controlled by the polymerization temperature. For example, when a polyethylene wax is produced by a metallocene catalyst described later, the polymerization temperature is usually in the range of 100 to 200 ° C., but from the viewpoint of producing the polyethylene wax having the B value described above, the polymerization temperature is preferably Is in the range of 100 to 180 ° C, more preferably in the range of 100 to 170 ° C.
本発明のポリエチレンワックスはその分子量と、溶融粘度との間にさらに、下記式（ＩI）で示される特定の関係があることが好ましい。
Ａ≦２３０×Ｋ(-0.537) ・・・（ＩＩ）
ここで上記式（ＩＩ）中、Ａは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した場合の、上記ポリエチレンワックス中のポリエチレン換算の分子量が１，０００以下となる成分の重量基準での含有割合（重量％）である。また、Ｋは上記ポリエチレンワックスの１４０℃における溶融粘度（ｍＰａ・ｓ）である。
The polyethylene wax of the present invention preferably further has a specific relationship represented by the following formula (II) between its molecular weight and melt viscosity.
A ≦ 230 × K (-0.537) (II)
Here, in the above formula (II), A is the content ratio (weight%) of the component whose molecular weight in terms of polyethylene in the polyethylene wax is 1,000 or less when measured by gel permeation chromatography. ). K is the melt viscosity (mPa · s) of the polyethylene wax at 140 ° C.
上記（ＩＩ）式の条件を満たすポリエチレンワックスを用いた場合には、射出成形時の生産性が向上し、しかも成形性が損なわれず、さらに、得られる成形体では、ポリプロピレンとオレフィン系エラストマーとからなるポリプロピレン樹脂組成物が本来有する、引張特性、曲げ特性、耐衝撃性、などの力学特性、あるいは荷重たわみ温度などの熱変形性も損なわれない傾向にあり、しかも成形体表面からのブリードアウトも少なくなる傾向にある。 When polyethylene wax satisfying the condition of the above formula (II) is used, productivity at the time of injection molding is improved, and the moldability is not impaired. Further, in the obtained molded product, polypropylene and an olefin elastomer are used. The polypropylene resin composition inherently has the mechanical properties such as tensile properties, bending properties, impact resistance, and thermal deformation properties such as deflection temperature under load, and the bleed out from the surface of the molded body It tends to decrease.
前述のように、通常、ポリプロピレン樹脂組成物に溶融粘度が低いポリエチレンワックスを混合して、射出成形をすると、混合物全体の粘度が低下するため、成形時の生産性に関しては改善される傾向にある。しかし、このように生産性を改善されたとしても、成形性に問題がある場合があり、また、結果として得られる成形体では、ポリプロピレン樹脂組成物が本来有する力学特性が損なわれる場合があり、さらには成形体表面からのブリードアウトも問題となる場合があった。 As described above, when a polyethylene resin composition having a low melt viscosity is mixed with a polypropylene resin composition and injection molding is usually performed, the viscosity of the entire mixture is lowered, so that the productivity during molding tends to be improved. . However, even if productivity is improved in this way, there may be a problem in moldability, and in the resulting molded article, the mechanical properties inherent to the polypropylene resin composition may be impaired, Furthermore, bleed out from the surface of the molded body may be a problem.
本発明者らが検討した結果、射出成形時の成形性を損なうことなく生産性を向上し、しかも得られる成形体の力学特性等を損なわないためには、使用するポリエチレンワックスのうち、分子量が１，０００以下の成分の割合が溶融粘度との関係で極めて重要であることが分かった。その詳細なメカニズムは明らかではないが、ポリエチレンワックスとポリエチレンとを溶融混練する場合には、ポリエチレンワックス全体の中でも、分子量１，０００以下の成分は、溶融しやすくその溶融挙動がワックス全体の中でも特異的であり、ポリエチレンワックス全体の溶融粘度という観点から見て、分子量１，０００以下の成分一定割合以下としないと、表面へ染み出し、場合によっては劣化等を引き起こし成形性に影響を与え、しかも最終的な成形体の力学特性、ブリードアウトにも影響を与えるものと推定される。 As a result of the study by the present inventors, in order to improve productivity without impairing moldability during injection molding, and not to impair the mechanical properties and the like of the obtained molded article, the molecular weight of the polyethylene wax used is It has been found that the proportion of components of 1,000 or less is extremely important in relation to the melt viscosity. Although the detailed mechanism is not clear, when polyethylene wax and polyethylene are melt-kneaded, among the whole polyethylene wax, components having a molecular weight of 1,000 or less are easy to melt and their melting behavior is unique among all waxes. From the viewpoint of the melt viscosity of the entire polyethylene wax, if the component does not have a molecular weight of 1,000 or less, it will ooze out to the surface, possibly causing deterioration and affecting moldability. It is estimated that the final mechanical properties and bleed-out of the molded product will also be affected.
A値が上記範囲のポリエチレンワックスは、メタロセン触媒を用いて調製できる。メタ
ロセン触媒の中でも、配位子が非架橋であるメタロセン触媒が好ましい。このようなメタロセン触媒としては、後述する一般式（１）で表されるメタロセン化合物を例示できる。
A polyethylene wax having an A value in the above range can be prepared using a metallocene catalyst. Among the metallocene catalysts, metallocene catalysts whose ligands are non-crosslinked are preferable. As such a metallocene catalyst, a metallocene compound represented by the general formula (1) described later can be exemplified.
さらに、上記A値は重合温度によっても制御できる。例えば、後述するメタロセン触媒
によりポリエチレンワックスを製造する場合には、重合温度は通常１００〜２００℃の範囲であるが、上述したA値を有するポリエチレンワックスを製造する観点からは、重合温
度は、好ましくは、１００〜１８０℃の範囲、より好ましくは、１００〜１７０℃の範囲である。
Furthermore, the A value can be controlled by the polymerization temperature. For example, when a polyethylene wax is produced with a metallocene catalyst described later, the polymerization temperature is usually in the range of 100 to 200 ° C., but from the viewpoint of producing the polyethylene wax having the A value described above, the polymerization temperature is preferably Is in the range of 100 to 180 ° C, more preferably in the range of 100 to 170 ° C.
上記ポリエチレンワックスの数平均分子量（Ｍｎ）は、５００〜４，０００の範囲である。
ポリエチレンワックスのMｎは、重合温度などにより制御できる。例えば、後述するメ
タロセン触媒によりポリエチレンワックスを製造する場合には、重合温度は通常１００〜２００℃の範囲であるが、上述した好適範囲のMｎを有するポリエチレンワックスを製造
する観点からは、重合温度は、好ましくは、１００〜１８０℃の範囲、より好ましくは、１００〜１７０℃の範囲である。
The polyethylene wax has a number average molecular weight (Mn) in the range of 500 to 4,000.
Mn of the polyethylene wax can be controlled by the polymerization temperature or the like. For example, when a polyethylene wax is produced with a metallocene catalyst described later, the polymerization temperature is usually in the range of 100 to 200 ° C., but from the viewpoint of producing a polyethylene wax having the above-mentioned preferred range of Mn, the polymerization temperature is , Preferably, it is the range of 100-180 degreeC, More preferably, it is the range of 100-170 degreeC.
また、ポリエチレンワックスの密度（Ｄ（ｋｇ／ｍ3））は８８０〜９２０（ｋｇ／ｍ3）の範囲である。
ポリエチレンワックスの密度（Ｄ）が上記範囲にあり、さらに、上記B値、あるいは上
記A値およびB値の関係を満たす場合には、ワックスを添加しないポリプロピレン樹脂組成物と比較しても、引張特性、曲げ特性、などの力学特性、あるいは荷重たわみ温度などの熱変形性が維持されているだけでなく、耐衝撃性については維持ないし向上する傾向にある。
The density (D (kg / m 3 )) of the polyethylene wax is in the range of 880 to 920 (kg / m 3 ).
When the density (D) of the polyethylene wax is in the above range and further satisfies the above B value or the relationship between the A value and the B value, the tensile properties are higher than those of the polypropylene resin composition to which no wax is added. In addition to maintaining mechanical properties such as bending characteristics and thermal deformation such as deflection temperature under load, impact resistance tends to be maintained or improved.
ポリエチレンワックスの密度は、ポリエチレンワックスがエチレンの単独重合体である場合には、ポリエチレンワックスの数平均分子量（Ｍｎ）に依存する。例えば、ポリエチレンワックスの分子量を低くすれば、得られる重合体の密度を低く制御できる。ポリエチレンワックスがエチレンとα−オレフィンとの共重合体である場合には、ポリエチレンワックスの密度は、数平均分子量（Ｍｎ）の大きさに依存するとともに、重合時のエチレン
に対するα−オレフィンの使用量、およびその種類により制御できる。例えば、エチレンに対するα−オレフィンの使用量を増加すると、得られる重合体の密度を低くできる。
The density of the polyethylene wax depends on the number average molecular weight (Mn) of the polyethylene wax when the polyethylene wax is a homopolymer of ethylene. For example, if the molecular weight of polyethylene wax is lowered, the density of the resulting polymer can be controlled low. When the polyethylene wax is a copolymer of ethylene and α-olefin, the density of the polyethylene wax depends on the number average molecular weight (Mn), and the amount of α-olefin used for ethylene during polymerization. , And its type. For example, when the amount of α-olefin used relative to ethylene is increased, the density of the resulting polymer can be lowered.
ポリエチレンワックスの密度の観点からは、エチレン単独共重合体、エチレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンとの共重合体、またはこれらの混合物が好ましい。
上記エチレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンとの共重合体の製造に使用するα−オレフィンとしては、炭素数が３〜１０のα−オレフィンが好ましく、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−オクテンがより好ましく、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテンが特に好ましい。
From the viewpoint of the density of the polyethylene wax, an ethylene homopolymer, a copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, or a mixture thereof is preferable.
The α-olefin used for producing the copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms is preferably an α-olefin having 3 to 10 carbon atoms, and propylene, 1-butene, 1-pentene. 1-hexene, 4-methyl-1-pentene and 1-octene are more preferable, and propylene, 1-butene, 1-hexene and 4-methyl-1-pentene are particularly preferable.
上記エチレンとα−オレフィンとの共重合体の製造に使用するα−オレフィンは、使用する全単量体に対して０〜２０ｍｏｌ％の範囲にあることが好ましい。
また、ポリエチレンワックスの密度は、重合温度によっても制御できる。例えば、後述するメタロセン触媒によりポリエチレンワックスを製造する場合には、重合温度は通常１００〜２００℃の範囲であるが、上述した好適範囲の密度を有するポリエチレンワックスを製造する観点からは、重合温度は、好ましくは、１００〜１８０℃の範囲、より好ましくは、１００〜１７０℃の範囲である。
It is preferable that the α-olefin used in the production of the copolymer of ethylene and α-olefin is in the range of 0 to 20 mol% with respect to all monomers used.
The density of the polyethylene wax can also be controlled by the polymerization temperature. For example, when a polyethylene wax is produced by a metallocene catalyst described later, the polymerization temperature is usually in the range of 100 to 200 ° C., but from the viewpoint of producing a polyethylene wax having a density in the preferred range described above, the polymerization temperature is , Preferably, it is the range of 100-180 degreeC, More preferably, it is the range of 100-170 degreeC.
このようなポリエチレンワックスは、常温で固体であり、６５〜１３０℃で低粘度の液体となる。
さらに上記ポリエチレンワックスは、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で測定した上記結晶化温度〔Ｔｃ（℃）〕と、上記密度勾配法で測定した密度（Ｄ（ｋｇ／ｍ3））とが、好ま
しくは下記式（ＩＩＩ）
０．５０１×Ｄ−３６６ ≧ Ｔｃ …（ＩＩＩ）
より好ましくは、下記式（ＩＩＩａ）
０．５０１×Ｄ−３６６．５ ≧ Ｔｃ …（ＩＩＩａ）
さらに好ましくは、下記式（ＩＩＩｂ）
０．５０１×Ｄ−３６７ ≧ Ｔｃ …（ＩＩＩｂ）
の関係を満たす。
Such polyethylene wax is solid at normal temperature and becomes a low-viscosity liquid at 65 to 130 ° C.
Further, the polyethylene wax preferably has the crystallization temperature [Tc (° C.)] measured by a differential scanning calorimeter (DSC) and the density (D (kg / m 3 )) measured by the density gradient method. Formula (III) below
0.501 × D-366 ≧ Tc (III)
More preferably, the following formula (IIIa)
0.501 × D-366.5 ≧ Tc (IIIa)
More preferably, the following formula (IIIb)
0.501 × D-367 ≧ Tc (IIIb)
Satisfy the relationship.
ポリエチレンワックスにおいて結晶化温度（Ｔｃ）と密度（Ｄ）とが上記式の関係を満たしている場合には、ポリエチレンに対するポリエチレンワックスの分散性が良好となる傾向にある。 When the crystallization temperature (Tc) and the density (D) satisfy the relationship of the above formula in the polyethylene wax, the dispersibility of the polyethylene wax in the polyethylene tends to be good.
上記式の関係を満たすポリエチレンワックスは、メタロセン触媒を用いて調製できる。メタロセン触媒の中でも、配位子が非架橋であるメタロセン触媒が好ましい。このようなメタロセン触媒としては、後述する一般式（１）で表されるメタロセン化合物が例示できる。 A polyethylene wax that satisfies the relationship of the above formula can be prepared using a metallocene catalyst. Among the metallocene catalysts, metallocene catalysts whose ligands are non-crosslinked are preferable. As such a metallocene catalyst, a metallocene compound represented by the general formula (1) described later can be exemplified.
さらに、上記式の関係を満たすポリエチレンワックスは、重合温度を制御することによっても製造できる。例えば、後述するメタロセン触媒によりポリエチレンワックスを製造する場合には、重合温度は通常１００〜２００℃の範囲であるが、上述したＢ値を有するポリエチレンワックスを製造する観点からは、重合温度は、好ましくは、１００〜１８０℃の範囲、より好ましくは、１００〜１７０℃の範囲である。 Furthermore, the polyethylene wax satisfying the relationship of the above formula can also be produced by controlling the polymerization temperature. For example, when a polyethylene wax is produced by a metallocene catalyst described later, the polymerization temperature is usually in the range of 100 to 200 ° C., but from the viewpoint of producing the polyethylene wax having the B value described above, the polymerization temperature is preferably Is in the range of 100 to 180 ° C, more preferably in the range of 100 to 170 ° C.
本発明において好適なメタロセン系触媒としては、例えば、
（Ａ） 周期表第４族から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物、並びに
（Ｂ）(b-1)有機アルミニウムオキシ化合物、
(b-2)前記架橋メタロセン化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物および
(b-3)有機アルミニウム化合物
とから選ばれる少なくとも1種以上の化合物とからなるオレフィン重合用触媒を
挙げることができる。
Suitable metallocene catalysts in the present invention include, for example,
(A) a metallocene compound of a transition metal selected from Group 4 of the periodic table, and (B) (b-1) an organoaluminum oxy compound,
(b-2) a compound that reacts with the bridged metallocene compound (A) to form an ion pair, and
(b-3) An olefin polymerization catalyst comprising at least one compound selected from organoaluminum compounds.
以下にこれらについて詳細に説明する。
＜メタロセン化合物＞
（Ａ） 周期表第４族から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物
メタロセン系触媒を形成するメタロセン化合物は、周期表第４族から選ばれる遷移金属のメタロセン化合物であり、具体的な例としては下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
Ｍ1Ｌｘ …（１）
ここで、Ｍ1は周期表第４族から選ばれる遷移金属、ｘは遷移金属Ｍ1の原子価、Ｌは配位子である。Ｍ1で示される遷移金属の例としては、ジルコニウム、チタン、ハフニウムな
どがある。Ｌは遷移金属Ｍ1に配位する配位子であって、そのうち少なくとも１個の配位
子Ｌはシクロペンタジエニル骨格を有する配位子であって、このシクロペンタジエニル骨格を有する配位子は置換基を有していてもよい。シクロペンタジエニル骨格を有する配位子Ｌとしては、例えばシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、ｎ−またはｉ−プロピルシクロペンタジエニル基、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、メチルプロピルシクロペンタジエニル基、メチルブチルシクロペンタジエニル基、メチルベンジルシクロペンタジエニル基等のアルキルまたはシクロアルキル置換シクロペンタジエニル基；さらにインデニル基、４,５,６,７−テトラヒドロインデニル基、フルオレ
ニル基などが挙げられる。このシクロペンタジエニル骨格を有する配位子の水素は、ハロゲン原子またはトリアルキルシリル基などで置換されていてもよい。
These will be described in detail below.
<Metalocene compounds>
(A) Metallocene compound of transition metal selected from Group 4 of the periodic table The metallocene compound forming the metallocene catalyst is a metallocene compound of transition metal selected from Group 4 of the periodic table. The compound represented by Formula (1) is mentioned.
M 1 Lx (1)
Here, M 1 is a transition metal selected from Group 4 of the periodic table, x is a valence of the transition metal M 1 , and L is a ligand. Examples of the transition metal represented by M 1 include zirconium, titanium, hafnium and the like. L is a ligand coordinated to the transition metal M 1, and at least one of the ligands L is a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, and the ligand having this cyclopentadienyl skeleton. The ligand may have a substituent. Examples of the ligand L having a cyclopentadienyl skeleton include a cyclopentadienyl group, a methylcyclopentadienyl group, an ethylcyclopentadienyl group, an n- or i-propylcyclopentadienyl group, n-, alkyl such as i-, sec- or t-butylcyclopentadienyl group, dimethylcyclopentadienyl group, methylpropylcyclopentadienyl group, methylbutylcyclopentadienyl group, methylbenzylcyclopentadienyl group, An alkyl-substituted cyclopentadienyl group; and an indenyl group, 4,5,6,7-tetrahydroindenyl group, a fluorenyl group, and the like. The hydrogen of the ligand having a cyclopentadienyl skeleton may be substituted with a halogen atom or a trialkylsilyl group.
上記のメタロセン化合物が、配位子Ｌとしてシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を２個以上有する場合には、そのうち２個のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子同士が、エチレン、プロピレン等のアルキレン基；イソプロピリデン、ジフェニルメチレン等の置換アルキレン基；シリレン基またはジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、メチルフェニルシリレン基等の置換シリレン基などを介して結合されていてもよい。 When the metallocene compound has two or more ligands having a cyclopentadienyl skeleton as the ligand L, the ligands having two cyclopentadienyl skeletons are ethylene, propylene. Or a substituted alkylene group such as isopropylidene or diphenylmethylene; a substituted silylene group such as a silylene group or a dimethylsilylene group, a diphenylsilylene group, or a methylphenylsilylene group.
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外の配位子（シクロペンタジエニル骨格を有しない配位子）Ｌとしては、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、アルコキシ基、アリーロキシ基、スルフォン酸含有基（−ＳＯ3Ｒ1）、ハロゲン原子または水素原子（ここで、Ｒ1はアルキル基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、アリール基、ハロゲン原子で
置換されたアリール基またはアルキル基で置換されたアリール基である。）などが挙げられる。
Examples of ligands other than ligands having a cyclopentadienyl skeleton (ligands having no cyclopentadienyl skeleton) L include hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy groups, aryloxy groups, sulfones. Acid-containing group (—SO 3 R 1 ), halogen atom or hydrogen atom (where R 1 is an alkyl group, an alkyl group substituted with a halogen atom, an aryl group, an aryl group substituted with a halogen atom, or an alkyl group) A substituted aryl group).
＜メタロセン化合物の例−１＞
上記一般式（１）で表されるメタロセン化合物が、例えば遷移金属の原子価が４である場合、より具体的には下記一般式（２）で表される。
Ｒ2 kＲ3 lＲ4 mＲ5 nＭ1 …（２）
ここで、Ｍ1は周期表第４族から選ばれる遷移金属、Ｒ2はシクロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立にシクロペンタジエニル骨格を有す
るかまたは有しない基（配位子）である。ｋは１以上の整数であり、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ＝４である。
<Example 1 of metallocene compound>
When the metallocene compound represented by the general formula (1) has a transition metal valence of 4, for example, it is more specifically represented by the following general formula (2).
R 2 k R 3 l R 4 m R 5 n M 1 (2)
Here, M 1 is a transition metal selected from Group 4 of the periodic table, R 2 is a group (ligand) having a cyclopentadienyl skeleton, and R 3 , R 4 and R 5 are each independently cyclopentadienyl. A group (ligand) having or not having a skeleton. k is an integer of 1 or more, and k + l + m + n = 4.
Ｍ1がジルコニウムであり、かつシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を少なくと
も２個含むメタロセン化合物の例を次に挙げる。ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
リド、ビス（１−メチル−３−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（１,３−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリドなど。
Examples of metallocene compounds in which M 1 is zirconium and contains at least two ligands having a cyclopentadienyl skeleton are given below. Bis (cyclopentadienyl) zirconium monochloride monohydride, bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride, bis (1-methyl-3-butylcyclopentadienyl) zirconium bis (trifluoromethanesulfonate), bis (1, 3-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride and the like.
上記の化合物の中で、１,３−位置換シクロペンタジエニル基を１,２−位置換シクロペンタジエニル基に置き換えた化合物も用いることができる。
またメタロセン化合物の別の例としては、上記一般式（２）において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4
及びＲ5の少なくとも２個、例えばＲ2及びＲ3がシクロペンタジエニル骨格を有する基（
配位子）であり、この少なくとも２個の基がアルキレン基、置換アルキレン基、シリレン基または置換シリレン基などを介して結合されているブリッジタイプのメタロセン化合物を使用することもできる。このときＲ4及びＲ5は、それぞれ独立に、前述したシクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外の配位子Ｌと同様である。
Among the above compounds, compounds in which the 1,3-position substituted cyclopentadienyl group is replaced with a 1,2-position substituted cyclopentadienyl group can also be used.
Another example of the metallocene compound is R 2 , R 3 , R 4 in the general formula (2).
And at least two of R 5 , for example, R 2 and R 3 are groups having a cyclopentadienyl skeleton (
A bridge type metallocene compound in which at least two groups are bonded via an alkylene group, a substituted alkylene group, a silylene group, a substituted silylene group, or the like. At this time, R 4 and R 5 are each independently the same as the ligand L other than the ligand having the cyclopentadienyl skeleton described above.
このようなブリッジタイプのメタロセン化合物としては、エチレンビス（インデニル）ジメチルジルコニウム、エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル−フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、メチルフェニルシリレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリドなどが挙げられる。 Examples of such bridge-type metallocene compounds include ethylenebis (indenyl) dimethylzirconium, ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl-fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylsilylenebis (indenyl) zirconium dichloride, methyl Examples include phenylsilylene bis (indenyl) zirconium dichloride.
＜メタロセン化合物の例−２＞
またメタロセン化合物の例としては、下記一般式（３）で表される特開平４−２６８３０７号公報記載のメタロセン化合物が挙げられる。
<Example 2 of metallocene compound>
Moreover, as an example of a metallocene compound, the metallocene compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 4-268307 represented by following General formula (3) is mentioned.
ここで、Ｍ1は周期表第４族遷移金属であり、具体的にはチタニウム、ジルコニウム、ハ
フニウムが挙げられる。
Ｒ11及びＲ12は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子；炭素原子数１〜１０のアルキル基；炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；炭素原子数６〜１０のアリール基；炭素原子数６〜１０のアリーロキシ基；炭素原子数２〜１０のアルケニル基；炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基；炭素原子数７〜４０のアルキルアリール基；炭素原子数８〜４０のアリールアルケニル基；またはハロゲン原子であり、Ｒ11及びＲ12は、塩素原子であることが好ましい。
Here, M 1 is a Group 4 transition metal of the periodic table, and specifically includes titanium, zirconium, and hafnium.
R 11 and R 12 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms; Aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms; alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms; arylalkyl group having 7 to 40 carbon atoms; alkylaryl group having 7 to 40 carbon atoms; arylalkenyl group having 8 to 40 carbon atoms Or a halogen atom, and R 11 and R 12 are preferably chlorine atoms.
Ｒ13及びＲ14は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子；ハロゲン原子；ハロゲン化されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基；炭素原子数６〜１０のアリール基；−Ｎ(Ｒ20)2、−ＳＲ20、−ＯＳｉ(Ｒ20)3、−Ｓｉ(Ｒ20)3または−Ｐ(Ｒ20)2基である。ここで、Ｒ20はハロゲン原子、好ましくは塩素原子；炭素原子数１〜１０、好ましく
は１〜３のアルキル基；または炭素原子数６〜１０、好ましくは６〜８のアリール基である。Ｒ13及びＲ14は、特に水素原子であることが好ましい。
R 13 and R 14 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom; a halogen atom; an optionally halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms; (R 20 ) 2 , —SR 20 , —OSi (R 20 ) 3 , —Si (R 20 ) 3 or —P (R 20 ) 2 groups. R 20 is a halogen atom, preferably a chlorine atom; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms; or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably 6 to 8 carbon atoms. R 13 and R 14 are particularly preferably hydrogen atoms.
Ｒ15及びＲ16は、水素原子が含まれないことを除きＲ13及びＲ14と同じであって、互いに同じでも異なっていてもよく、好ましくは同じである。Ｒ15及びＲ16は、好ましくはハロゲン化されていてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、トリフルオロメチル等が挙げられ、特にメチルが好ましい。
上記一般式（３）において、Ｒ17は次の群から選ばれる。
R 15 and R 16 are the same as R 13 and R 14 except that they do not contain a hydrogen atom, and may be the same or different from each other, preferably the same. R 15 and R 16 are preferably an optionally halogenated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, trifluoromethyl and the like. Particularly preferred is methyl.
In the general formula (3), R 17 is selected from the following group.
＝ＢＲ21、＝ＡｌＲ21、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−Ｏ−、−Ｓ−、＝ＳＯ、＝ＳＯ2、＝Ｎ
Ｒ21、＝ＣＯ、＝ＰＲ21、＝Ｐ（Ｏ）Ｒ21など。Ｍ2はケイ素、ゲルマニウムまたは錫、
好ましくはケイ素またはゲルマニウムである。ここで、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子；ハロゲン原子；炭素原子数１〜１０のアルキル基；炭素原子数１〜１０のフルオロアルキル基；炭素原子数６〜１０のアリール基；炭素原子数６〜１０のフルオロアリール基；炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；炭素原子数２〜１０のアルケニル基；炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基；炭素原子数８〜４０のアリールアルケニル基；または炭素原子数７〜４０のアルキルアリール基である。「Ｒ21とＲ22」または「Ｒ21とＲ23」とは、それぞれそれらが結合する原子と一緒になって環を形成してもよい。また、Ｒ17は、＝ＣＲ21Ｒ22、＝ＳｉＲ21Ｒ22、＝ＧｅＲ21Ｒ22、−Ｏ−、−Ｓ−、＝ＳＯ、＝ＰＲ21または＝Ｐ（Ｏ）Ｒ21であることが好ましい。Ｒ18及びＲ19は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ21と同じものが挙げられる。ｍ及びｎは互いに同一でも異なっていてもよく、それぞれ０、１または２、好ましくは０または１であり、ｍ＋ｎは０、１または２、好ましくは０または１である。
= BR 21 , = AlR 21 , -Ge-, -Sn-, -O-, -S-, = SO, = SO 2 , = N
R 21 , = CO, = PR 21 , = P (O) R 21 and the like. M 2 is silicon, germanium or tin,
Silicon or germanium is preferred. Here, R 21 , R 22 and R 23 may be the same or different from each other, and are hydrogen atom; halogen atom; alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms; carbon atom An aryl group having 6 to 10 carbon atoms; a fluoroaryl group having 6 to 10 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms; an arylalkyl group having 7 to 40 carbon atoms; An arylalkenyl group having 8 to 40 carbon atoms; or an alkylaryl group having 7 to 40 carbon atoms. “R 21 and R 22 ” or “R 21 and R 23 ” may form a ring together with the atoms to which they are bonded. R 17 may be = CR 21 R 22 , = SiR 21 R 22 , = GeR 21 R 22 , -O-, -S-, = SO, = PR 21 or = P (O) R 21. preferable. R 18 and R 19 may be the same as or different from each other, and examples thereof include the same as R 21 . m and n may be the same or different and are each 0, 1 or 2, preferably 0 or 1, and m + n is 0, 1 or 2, preferably 0 or 1.
上記一般式（３）で表されるメタロセン化合物の例としては、次の化合物が挙げられる。ｒａｃ−エチレン（２−メチル−１−インデニル）2−ジルコニウム−ジクロライド、
ｒａｃ−ジメチルシリレン（２−メチル−１−インデニル）2−ジルコニウム−ジクロラ
イドなど。これらのメタロセン化合物は、例えば、特開平４−２６８３０７号公報に記載の方法で製造することができる。
Examples of the metallocene compound represented by the general formula (3) include the following compounds. rac-ethylene (2-methyl-1-indenyl) 2 -zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene (2-methyl-1-indenyl) 2 -zirconium dichloride and the like. These metallocene compounds can be produced, for example, by the method described in JP-A-4-268307.
＜メタロセン化合物の例−３＞
また、メタロセン化合物としては、下記一般式（４）で表されるメタロセン化合物を用いることもできる。
<Example 3 of metallocene compound>
Moreover, as a metallocene compound, the metallocene compound represented by following General formula (4) can also be used.
式（４）中、Ｍ3は、周期表第４族の遷移金属原子を示し、具体的にはチタニウム、ジル
コニウム、ハフニウムなどである。Ｒ24及びＲ25は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基を示す。Ｒ24は炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エチルまたはプロピルの炭素原子数１〜３のアルキル基であることが好ましい。Ｒ25は水素原子または炭化水素基が好ましく、特に水素原子、またはメチル、エチルもしくはプロピルの炭素原子数１〜３のアルキル基であることが好ましい。Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を示す。これらの中では水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基であることが好ましい。Ｒ26とＲ27、Ｒ27とＲ28、Ｒ28とＲ29のうち少なくとも１組は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、単環の芳香族環を形成していてもよい。また芳香族環を形成する基以外に、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基が２個以上ある場合には、これらが互いに結合して環状になっていてもよい。なおＲ29が芳香族基以外の置換基である場合、水素原子であることが好ましい。Ｘ1及
びＸ2は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜
２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素原子含有基またはイオウ原子含有基を示すＹは、炭素原子数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素原子数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＲ30−、−
Ｐ(Ｒ30)−、−Ｐ(Ｏ)(Ｒ30)−、−ＢＲ30−または−ＡｌＲ30−（ただし、Ｒ30は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基）を示す。
In Formula (4), M 3 represents a transition metal atom of Group 4 of the periodic table, and specifically, titanium, zirconium, hafnium, and the like. R 24 and R 25 may be the same or different and are each a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a silicon-containing group, oxygen A containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group or a phosphorus-containing group; R 24 is preferably a hydrocarbon group, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl or propyl. R 25 is preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group, particularly preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl or propyl. R 26 , R 27 , R 28 and R 29 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogenated hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms. Indicates a group. Among these, a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a halogenated hydrocarbon group is preferable. At least one of R 26 and R 27 , R 27 and R 28 , and R 28 and R 29 may form a monocyclic aromatic ring together with the carbon atoms to which they are bonded. Good. When there are two or more hydrocarbon groups or halogenated hydrocarbon groups other than the group forming the aromatic ring, they may be bonded to each other to form a ring. When R 29 is a substituent other than an aromatic group, it is preferably a hydrogen atom. X 1 and X 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon atom number of 1 to
Y representing 20 hydrocarbon group, halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, oxygen atom-containing group or sulfur atom-containing group is a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, the number of carbon atoms 1-20 divalent halogenated hydrocarbon groups, divalent silicon-containing groups, divalent germanium-containing groups, divalent tin-containing groups, -O-, -CO-, -S-, -SO-, -SO 2 -, - NR 30 - , -
P (R 30) -, - P (O) (R 30) -, - BR 30 - or -AlR 30 - (provided that, R 30 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, A halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms).
式（４）において、Ｒ26とＲ27、Ｒ27とＲ28、Ｒ28とＲ29のうち少なくとも１組が互いに結合して形成する単環の芳香族環を含み、Ｍ3に配位する配位子としては、次式で表さ
れるものなどが挙げられる。
In the formula (4), at least one pair of R 26 and R 27 , R 27 and R 28 , R 28 and R 29 is bonded to each other, and is coordinated to M 3 Examples of the ligand include those represented by the following formula.
（式中、Ｙは前式に示したものと同じである。）
＜メタロセン化合物の例−４＞
メタロセン化合物としては、また下記一般式（５）で表されるメタロセン化合物を用いることもできる。
(In the formula, Y is the same as that shown in the previous formula.)
<Example 4 of metallocene compound>
As the metallocene compound, a metallocene compound represented by the following general formula (5) can also be used.
式（５）中、Ｍ3、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は、上記一般式（４）と同じ
である。Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29のうち、Ｒ26を含む２個の基がアルキル基であることが好ましく、Ｒ26とＲ28、またはＲ28とＲ29がアルキル基であることが好ましい。このアルキル基は、２級または３級アルキル基であることが好ましい。またこのアルキル基は、ハロゲン原子、ケイ素含有基で置換されていてもよく、ハロゲン原子、ケイ素含有基としては、Ｒ24、Ｒ25で例示した置換基が挙げられる。Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29のうち、アルキル基以外の基は、水素原子であることが好ましい。またＲ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は、これらから選ばれる２種の基が互いに結合して芳香族環以外の単環あるいは多環を形成していてもよい。ハロゲン原子としては、上記Ｒ24及びＲ25と同様のものが挙げられる。Ｘ1、Ｘ2及びＹとしては、上記と同様のものが挙げられる。
In the formula (5), M 3 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 and R 29 are the same as those in the general formula (4). Of R 26 , R 27 , R 28 and R 29 , two groups including R 26 are preferably alkyl groups, and R 26 and R 28 , or R 28 and R 29 are alkyl groups. preferable. This alkyl group is preferably a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group may be substituted with a halogen atom or a silicon-containing group. Examples of the halogen atom and silicon-containing group include the substituents exemplified for R 24 and R 25 . Of R 26 , R 27 , R 28 and R 29 , the group other than the alkyl group is preferably a hydrogen atom. R 26 , R 27 , R 28, and R 29 may form a monocyclic ring or a polycyclic ring other than an aromatic ring by combining two groups selected from these groups. Examples of the halogen atom are the same as those described above for R 24 and R 25 . Examples of X 1 , X 2 and Y are the same as those described above.
上記一般式（５）で表されるメタロセン化合物の具体的な例を次に示す。ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（４,７−ジメチル−１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、ｒ
ａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２,４,７−トリメチル−１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２,４,６−トリメチル−１−インデニル）ジルコニウムジクロリドなど。
Specific examples of the metallocene compound represented by the general formula (5) are shown below. rac-dimethylsilylene-bis (4,7-dimethyl-1-indenyl) zirconium dichloride, r
ac-dimethylsilylene-bis (2,4,7-trimethyl-1-indenyl) zirconium dichloride, rac-dimethylsilylene-bis (2,4,6-trimethyl-1-indenyl) zirconium dichloride, and the like.
これらの化合物において、ジルコニウム金属を、チタニウム金属、ハフニウム金属に置換えた遷移金属化合物を用いることもできる。遷移金属化合物は、通常ラセミ体として用いられるが、Ｒ型またはＳ型を用いることもできる。 In these compounds, transition metal compounds in which zirconium metal is replaced with titanium metal or hafnium metal can also be used. The transition metal compound is usually used as a racemate, but can also be used in the R-type or S-type.
＜メタロセン化合物の例−５＞
メタロセン化合物として、下記一般式（６）で表されるメタロセン化合物を使用することもできる。
<Examples of metallocene compounds-5>
As the metallocene compound, a metallocene compound represented by the following general formula (6) can also be used.
式（６）中、Ｍ3、Ｒ24、Ｘ1、Ｘ2及びＹは、上記一般式（４）と同じである。Ｒ24は炭
化水素基であることが好ましく、特にメチル、エチル、プロピルまたはブチルの炭素原子
数１〜４のアルキル基であることが好ましい。Ｒ25は、炭素原子数６〜１６のアリール基を示す。Ｒ25はフェニル、ナフチルであることが好ましい。アリール基は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基で置換されていてもよい。Ｘ1及びＸ2としては、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基であることが好ましい。
In the formula (6), M 3 , R 24 , X 1 , X 2 and Y are the same as those in the general formula (4). R 24 is preferably a hydrocarbon group, particularly preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl or butyl. R 25 represents an aryl group having 6 to 16 carbon atoms. R 25 is preferably phenyl or naphthyl. The aryl group may be substituted with a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. X 1 and X 2 are preferably a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
上記一般式（６）で表されるメタロセン化合物の具体的な例を次に示す。ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（４−フェニル−１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２−メチル−４−フェニル−１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２−メチル−４−（α−ナフチル）−１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２−メチル−４−（β−ナフチル）−１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２−メチル−４−（１−アントリル）−１−インデニル）ジルコニウムジクロリドなど。またこれら化合物において、ジルコニウム金属をチタニウム金属またはハフニウム金属に置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。 Specific examples of the metallocene compound represented by the general formula (6) are shown below. rac-dimethylsilylene-bis (4-phenyl-1-indenyl) zirconium dichloride, rac-dimethylsilylene-bis (2-methyl-4-phenyl-1-indenyl) zirconium dichloride, rac-dimethylsilylene-bis (2-methyl) -4- (α-naphthyl) -1-indenyl) zirconium dichloride, rac-dimethylsilylene-bis (2-methyl-4- (β-naphthyl) -1-indenyl) zirconium dichloride, rac-dimethylsilylene-bis (2 -Methyl-4- (1-anthryl) -1-indenyl) zirconium dichloride and the like. In these compounds, transition metal compounds in which zirconium metal is replaced with titanium metal or hafnium metal can also be used.
＜メタロセン化合物の例−６＞
またメタロセン化合物として、下記一般式（７）で表されるメタロセン化合物を用いることもできる。
ＬaＭ4Ｘ3 2 …（７）
ここで、Ｍ4は周期表第４族またはランタニド系列の金属である。Ｌaは非局在化π結合基の誘導体であり、金属Ｍ4活性サイトに拘束幾何形状を付与している基である。Ｘ3は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数２０以下の炭化水素基、２０以下のケイ素を含有するシリル基または２０以下のゲルマニウムを含有するゲルミル基である。
この化合物の中では、次式（８）で示される化合物が好ましい。
<Examples of metallocene compounds-6>
As the metallocene compound, a metallocene compound represented by the following general formula (7) can also be used.
LaM 4 X 3 2 (7)
Here, M 4 is a periodic table group 4 or lanthanide series metal. La is a derivative of a delocalized π bond group, and is a group imparting a constraining geometry to the metal M 4 active site. X 3 may be the same or different from each other, and is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, a silyl group containing 20 or less silicon, or a germanyl group containing 20 or less germanium.
Among these compounds, a compound represented by the following formula (8) is preferable.
式（８）中、Ｍ4は、チタン、ジルコニウムまたはハフニウムである。Ｘ3は上記一般式（７）で説明したものと同様である。ＣｐはＭ4にπ結合しており、かつ置換基Ｚを有する
置換シクロペンタジエニル基である。Ｚは酸素、イオウ、ホウ素または周期表第４族の元素（例えばケイ素、ゲルマニウムまたは錫）である。Ｙは窒素、リン、酸素またはイオウを含む配位子であり、ＺとＹとで縮合環を形成していてもよい。このような式（８）で表されるメタロセン化合物の具体的な例を次に示す。（ジメチル(ｔ−ブチルアミド)(テト
ラメチル−η5−シクロペンタジエニル)シラン）チタンジクロリド、（(ｔ−ブチルアミ
ド)(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)−１,２−エタンジイル）チタンジクロ
リドなど。またこのメタロセン化合物において、チタンをジルコニウムまたはハフニウムに置き換えた化合物を挙げることもできる。
In the formula (8), M 4 is titanium, zirconium or hafnium. X 3 is the same as that described in the general formula (7). Cp is a substituted cyclopentadienyl group having a π bond to M 4 and having a substituent Z. Z is oxygen, sulfur, boron or an element belonging to Group 4 of the periodic table (for example, silicon, germanium or tin). Y is a ligand containing nitrogen, phosphorus, oxygen or sulfur, and Z and Y may form a condensed ring. Specific examples of the metallocene compound represented by the formula (8) are shown below. (Dimethyl (t-butylamide) (tetramethyl-η 5 -cyclopentadienyl) silane) titanium dichloride, ((t-butylamide) (tetramethyl-η 5 -cyclopentadienyl) -1,2-ethanediyl) titanium Dichloride etc. In the metallocene compound, a compound in which titanium is replaced with zirconium or hafnium can be exemplified.
＜メタロセン化合物の例−７＞
またメタロセン化合物としては、下記一般式（９）で表されるメタロセン化合物を使用することもできる。
<Examples of metallocene compounds-7>
Moreover, as a metallocene compound, the metallocene compound represented by following General formula (9) can also be used.
式（９）中、Ｍ3は周期表第４族の遷移金属原子であり、具体的には、チタニウム、ジル
コニウムまたはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。Ｒ31は互いに同一でも異なっていてもよく、そのうち少なくとも１個が炭素原子数１１〜２０のアリール基、炭素原子数１２〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数１３〜４０のアリールアルケニル基、炭素原子数１２〜４０のアルキルアリール基またはケイ素含有基であるか、またはＲ31で示される基のうち隣接する少なくとも２個の基が、それらの結合する炭素原子とともに、単数または複数の芳香族環または脂肪族環を形成している。この場合、Ｒ31により形成される環は、Ｒ31が結合する炭素原子を含んで全体として炭素原子数が４〜２０である。アリール基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アルキルアリール基及び芳香族環、脂肪族環を形成しているＲ31以外のＲ31は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基またはケイ素含有基である。Ｒ32は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数８〜４０のアリールアルケニル基、炭素原子数７〜４０のアルキルアリール基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基である。また、Ｒ32で示される基のうち隣接する少なくとも２個の基が、それらの結合する炭素原子とともに、単数または複数の芳香族環または脂肪族環を形成していてもよい。この場合、Ｒ32により形成される環は、Ｒ32が結合する炭素原子を含んで全体として炭素原子数が４〜２０であり、芳香族環、脂肪族環を形成しているＲ32以外のＲ32は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基またはケイ素含有基である。なお、Ｒ32で示される２個の基が、単数または複数の芳香族環または脂肪族環を形成して構成される基にはフルオレニル基が次式のような構造になる態様も含まれる。
In formula (9), M 3 is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table, specifically titanium, zirconium or hafnium, preferably zirconium. R 31 may be the same as or different from each other, and at least one of them is an aryl group having 11 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 12 to 40 carbon atoms, an arylalkenyl group having 13 to 40 carbon atoms, carbon An alkylaryl group having 12 to 40 atoms or a silicon-containing group, or at least two adjacent groups among the groups represented by R 31 , together with the carbon atoms to which they are bonded, one or more aromatic rings Or an aliphatic ring is formed. In this case, the ring formed by R 31, it is 4 to 20 carbon atoms in all including carbon atoms to which R 31 is bonded. Aryl group, arylalkyl group, arylalkenyl group, an alkylaryl group and an aromatic ring, R 31 other than R 31 that forms an aliphatic ring is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Or a silicon-containing group. R 32 may be the same as or different from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a carbon atom. An arylalkyl group having 7 to 40 carbon atoms, an arylalkenyl group having 8 to 40 carbon atoms, an alkylaryl group having 7 to 40 carbon atoms, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group or a phosphorus-containing group It is. Further, at least two adjacent groups among the groups represented by R 32 may form one or more aromatic rings or aliphatic rings together with the carbon atoms to which they are bonded. In this case, the ring formed by R 32 has 4 to 20 carbon atoms in all including carbon atoms to which R 32 is bonded, an aromatic ring, except R 32 that forms an aliphatic ring R 32 is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a silicon-containing group. The group in which the two groups represented by R 32 form one or more aromatic rings or aliphatic rings includes an embodiment in which the fluorenyl group has a structure represented by the following formula.
Ｒ32は、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、特に水素原子またはメチル、エチル、プロピルの炭素原子数１〜３の炭化水素基であることが好ましい。このような置換基としてＲ32を有するフルオレニル基としては、２,７−ジアルキル−フルオレニル基
が好適な例として挙げられ、この場合の２,７−ジアルキルのアルキル基としては、炭素
原子数１〜５のアルキル基が挙げられる。また、Ｒ31とＲ32は、互いに同一でも異なって
いてもよい。Ｒ33及びＲ34は互いに同一でも異なっていてもよく、上記と同様の水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数８〜４０のアリールアルケニル基、炭素原子数７〜４０のアルキルアリール基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基である。これらのうち、Ｒ33及びＲ34は、少なくとも一方が炭素原子数１〜３のアルキル基であることが好ましい。Ｘ1及びＸ2は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基もしくは窒素含有基、またはＸ1とＸ2とから形成された共役ジエン残基である。Ｘ1とＸ2とから形成された共役ジエン残基としては、１,３−ブタジエン、２,４−ヘキサジエン、１−フェニル−１,３−ペンタジエン、１,４−ジフェニルブタジエンの残基が好ましく、これらの残基はさらに炭素原子数１〜１０の炭化水素基で置換されていてもよい。Ｘ1及びＸ2としては、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基またはイオウ含有基であることが好ましい。Ｙは、炭素原子数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素原子数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｎ
Ｒ35−、−Ｐ(Ｒ35)−、−Ｐ(Ｏ)(Ｒ35)−、−ＢＲ35−または−ＡｌＲ35−（ただし、Ｒ35は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基）を示す。これらの２価の基のうちでも、−Ｙ−の最短連結部が１個または２個の原子で構成されているものが好ましい。また、Ｒ35は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。Ｙは、炭素原子数１〜５の２価の炭化水素基、２価のケイ素含有基または２価のゲルマニウム含有基であることが好ましく、２価のケイ素含有基であることがより好ましく、アルキルシリレン、アルキルアリールシリレンまたはアリールシリレンであることが特に好ましい。
R 32 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl or propyl. A suitable example of such a fluorenyl group having R 32 as a substituent is a 2,7-dialkyl-fluorenyl group. In this case, the 2,7-dialkyl alkyl group includes 1 to 1 carbon atoms. 5 alkyl groups. R 31 and R 32 may be the same as or different from each other. R 33 and R 34 may be the same as or different from each other, and are the same hydrogen atom, halogen atom, alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms. 10 alkenyl groups, arylalkyl groups having 7 to 40 carbon atoms, arylalkenyl groups having 8 to 40 carbon atoms, alkylaryl groups having 7 to 40 carbon atoms, silicon-containing groups, oxygen-containing groups, sulfur-containing groups, A nitrogen-containing group or a phosphorus-containing group. Of these, at least one of R 33 and R 34 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. X 1 and X 2 may be the same or different and are each a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group, sulfur A conjugated diene residue formed from a containing group or a nitrogen-containing group, or X 1 and X 2 . As the conjugated diene residue formed from X 1 and X 2 , residues of 1,3-butadiene, 2,4-hexadiene, 1-phenyl-1,3-pentadiene and 1,4-diphenylbutadiene are preferable. These residues may be further substituted with a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. X 1 and X 2 are preferably a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a sulfur-containing group. Y is a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent silicon-containing group, a divalent germanium-containing group, a divalent Tin-containing group, —O—, —CO—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —N
R 35 -, - P (R 35) -, - P (O) (R 35) -, - BR 35 - or -AlR 35 - (provided that, R 35 is a hydrogen atom, a halogen atom, carbon atom 20 And a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms). Among these divalent groups, those in which the shortest linking portion of -Y- is composed of one or two atoms are preferable. R 35 is a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Y is preferably a divalent hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a divalent silicon-containing group or a divalent germanium-containing group, more preferably a divalent silicon-containing group. Particularly preferred is silylene, alkylarylsilylene or arylsilylene.
＜メタロセン化合物の例−８＞
またメタロセン化合物としては、下記一般式（１０）で表されるメタロセン化合物を用いることもできる。
<Examples of metallocene compounds-8>
As the metallocene compound, a metallocene compound represented by the following general formula (10) can also be used.
式（１０）中、Ｍ3は周期表第４族の遷移金属原子であり、具体的にはチタニウム、ジル
コニウムまたはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。Ｒ36は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基である。なお、上記アルキル基及
びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｒ36はこれらのうち、アルキル基、アリール基または水素原子であることが好ましく、特にメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピルの炭素原子数１〜３の炭化水素基、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチルなどのアリール基または水素原子であることが好ましい。Ｒ37は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数８〜４０のアリールアルケニル基、炭素原子数７〜４０のアルキルアリール基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基である。なお、上記アルキル基、アリール基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アルキルアリール基は、ハロゲンが置換していてもよい。Ｒ37はこれらのうち、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、特に水素原子またはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルの炭素原子数１〜４の炭化水素基であることが好ましい。また、上記Ｒ36とＲ37は、互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ38及びＲ39は、いずれか一方が炭素原子数１〜５のアルキル基であり、他方は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基である。これらのうち、Ｒ38及びＲ39は、いずれか一方がメチル、エチル、プロピルなどの炭素原子数１〜３のアルキル基であり、他方は水素原子であることが好ましい。Ｘ1及びＸ2は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基もしくは窒素含有基、またはＸ1とＸ2とから形成された共役ジエン残基である。これらのうち、ハロゲン原子または炭素原子数１〜２０の炭化水素基であることが好ましい。Ｙは、炭素原子数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素原子数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＲ40−、−Ｐ(Ｒ40)−、
−Ｐ(Ｏ)(Ｒ40)−、−ＢＲ40−または−ＡｌＲ40−（ただし、Ｒ40は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基）を示す。これらのうちＹは、炭素原子数１〜５の２価の炭化水素基、２価のケイ素含有基または２価のゲルマニウム含有基であることが好ましく、２価のケイ素含有基であることがより好ましく、アルキルシリレン、アルキルアリールシリレンまたはアリールシリレンであることが特に好ましい。
In formula (10), M 3 is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table, specifically titanium, zirconium or hafnium, preferably zirconium. R 36 may be the same as or different from each other, and includes a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and silicon-containing Group, oxygen-containing group, sulfur-containing group, nitrogen-containing group or phosphorus-containing group. The alkyl group and alkenyl group may be substituted with a halogen atom. Of these, R 36 is preferably an alkyl group, an aryl group or a hydrogen atom, particularly a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl and i-propyl, phenyl, α-naphthyl. And an aryl group such as β-naphthyl or a hydrogen atom. R 37 may be the same or different from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a carbon atom. An arylalkyl group having 7 to 40 carbon atoms, an arylalkenyl group having 8 to 40 carbon atoms, an alkylaryl group having 7 to 40 carbon atoms, a silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group or a phosphorus-containing group It is. Note that the alkyl group, aryl group, alkenyl group, arylalkyl group, arylalkenyl group, and alkylaryl group may be substituted with halogen. Of these, R 37 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, tert-butyl. A hydrogen group is preferred. R 36 and R 37 may be the same as or different from each other. One of R 38 and R 39 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and the other is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. A silicon-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a nitrogen-containing group or a phosphorus-containing group. Among these, it is preferable that any one of R 38 and R 39 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl, and propyl, and the other is a hydrogen atom. X 1 and X 2 may be the same or different and are each a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group, sulfur A conjugated diene residue formed from a containing group or a nitrogen-containing group, or X 1 and X 2 . Among these, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferable. Y is a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent silicon-containing group, a divalent germanium-containing group, a divalent tin-containing group, -O -, - CO -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NR 40 -, - P (R 40) -,
—P (O) (R 40 ) —, —BR 40 — or —AlR 40 — (wherein R 40 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a group having 1 to 20 carbon atoms. A halogenated hydrocarbon group). Among these, Y is preferably a divalent hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a divalent silicon-containing group, or a divalent germanium-containing group, and more preferably a divalent silicon-containing group. An alkylsilylene, an alkylarylsilylene or an arylsilylene is particularly preferable.
＜メタロセン化合物の例−９＞
またメタロセン化合物としては、下記一般式（１１）で表されるメタロセン化合物を用いることもできる。
<Examples of metallocene compounds-9>
Further, as the metallocene compound, a metallocene compound represented by the following general formula (11) can also be used.
式（１１）において、Yは炭素、ケイ素、ゲルマニウムおよびスズ原子から選ばれ、MはＴｉ、ＺｒまたはＨｆであり、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12
は水素、炭化水素基、ケイ素含有基から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていてもよく、R5からR12までの隣接した置換基は互いに結合して環を形成してもよく、R13、R14は炭化
水素基およびケイ素含有基から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていてもよく、R13およ
びR14が互いに結合して環を形成してもよい。Qはハロゲン、炭化水素基、アニオン配位子または孤立電子対で配位可能な中性配位子から同一または異なる組合せで選んでもよく、ｊは１〜４の整数である。）
以下、本発明に関わる架橋メタロセン化合物の化学構造上の特徴であるシクロペンタジエニル基、フルオレニル基、架橋部、およびその他特徴について順次説明した後に、これらの特徴を併せ持つ好ましい架橋メタロセン化合物を説明する。
In the formula (11), Y is selected from carbon, silicon, germanium and tin atoms, M is Ti, Zr or Hf, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12
Are selected from hydrogen, a hydrocarbon group, and a silicon-containing group, and may be the same or different, and adjacent substituents from R 5 to R 12 may be bonded to each other to form a ring, R 13 , R 14 is selected from a hydrocarbon group and a silicon-containing group, and may be the same or different, and R 13 and R 14 may be bonded to each other to form a ring. Q may be selected from a halogen, a hydrocarbon group, an anionic ligand, or a neutral ligand capable of coordinating with a lone electron pair in the same or different combination, and j is an integer of 1 to 4. )
Hereinafter, after describing sequentially the cyclopentadienyl group, the fluorenyl group, the crosslinked part, and other characteristics that are the chemical structure characteristics of the bridged metallocene compound according to the present invention, a preferable bridged metallocene compound having these characteristics will be described. .
シクロペンタジエニル基
シクロペンタジエニル基は置換されていてもいなくてもよい。置換されていてもいなくてもよいシクロペンタジエニル基とは、上記一般式（１１）におけるシクロペンタジエニル基部分が保有するR1、R2、R3およびR4が全て水素原子であるか、またはR1、R2、R3およびR4の内のいずれか一つ以上が炭化水素基(f1)、好ましくは総炭素数1から20の炭化水素基(f1')、またはケイ素含有基(f2)、好ましくは総炭素数1から20のケイ素含有基(f2')で置換されたシクロペンタジエニル基であることを意味する。R1、R2、R3およびR4の内の二つ以上が置換されている場合は、それらの置換基は相互に同一でも異なっていてもよい。また、総炭素数1から20の炭化水素基とは、炭素および水素のみから構成されるアルキル、ア
ルケニル、アルキニル、アリール基である。この中には、隣接する任意の二つの水素原子が同時に置換されて脂環族あるいは芳香族環を形成しているものも含む。総炭素数1から20の炭化水素基(f1')としては、炭素および水素のみから構成されるアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール基以外に、これらの炭素に直結した水素原子の一部がハロゲン原子、酸素含有基、窒素含有基、ケイ素含有基で置換されたヘテロ原子含有炭化水素基や、隣接する任意の二つの水素原子が脂環族を形成しているものも含む。このような基(f1')
としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、アリル(allyl)基、n-ブチル基、n-ペン
チル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デカニル基などの直鎖状炭化水素基；イソプロピル基、t-ブチル基、アミル基、3-メチルペンチル基、1,1-ジエチルプロピル基、1,1-ジメチルブチル基、1-メチル-1-プロピルブチル基、1,1-プロ
ピルブチル基、1,1-ジメチル-2-メチルプロピル基、1-メチル-1-イソプロピル-2-メチル
プロピル基などの分岐状炭化水素基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの環状飽和炭化水素基
；フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基などの環状不飽和炭化水素基およびこれらの核アルキル置換体；ベンジル基、クミル基などのアリール基の置換した飽和炭化水素基; メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基N-メチルアミノ基、トリフルオロメチル基、トリブロモメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基などのヘテロ原子含有炭化水素基を挙げることができる。
ケイ素含有基(f2)とは、例えば、シクロペンタジエニル基の環炭素がケイ素原子と直接共有結合している基であり、具体的にはアルキルシリル基やアリールシリル基である。総炭素数1から20のケイ素含有基(f2')としては、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基等を例示することができる。
Cyclopentadienyl group The cyclopentadienyl group may or may not be substituted. The cyclopentadienyl group which may or may not be substituted means that R 1 , R 2 , R 3 and R 4 possessed by the cyclopentadienyl group moiety in the general formula (11) are all hydrogen atoms. Or any one or more of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrocarbon group (f1), preferably a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms (f1 ′), or silicon-containing It means a cyclopentadienyl group substituted by a group (f2), preferably a silicon-containing group (f2 ′) having a total carbon number of 1 to 20. When two or more of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are substituted, these substituents may be the same as or different from each other. Further, the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in total is an alkyl, alkenyl, alkynyl, or aryl group composed of only carbon and hydrogen. These include those in which any two adjacent hydrogen atoms are simultaneously substituted to form an alicyclic or aromatic ring. The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in total (f1 ′) includes, in addition to alkyl, alkenyl, alkynyl and aryl groups composed only of carbon and hydrogen, some of the hydrogen atoms directly connected to these carbon atoms are halogen atoms. , An oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a heteroatom-containing hydrocarbon group substituted with a silicon-containing group, or a group in which any two adjacent hydrogen atoms form an alicyclic group. Such a group (f1 ')
As, methyl group, ethyl group, n-propyl group, allyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, linear hydrocarbon group such as n-decanyl group; isopropyl group, t-butyl group, amyl group, 3-methylpentyl group, 1,1-diethylpropyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1-methyl- Branched hydrocarbon groups such as 1-propylbutyl group, 1,1-propylbutyl group, 1,1-dimethyl-2-methylpropyl group, 1-methyl-1-isopropyl-2-methylpropyl group; cyclopentyl group, Cyclic saturated hydrocarbon groups such as cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, norbornyl group, adamantyl group; cyclic unsaturated hydrocarbon groups such as phenyl group, naphthyl group, biphenyl group, phenanthryl group, anthracenyl group and their nuclei Alkyl substitution A saturated hydrocarbon group substituted with an aryl group such as benzyl group or cumyl group; methoxy group, ethoxy group, phenoxy group, N-methylamino group, trifluoromethyl group, tribromomethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl And a heteroatom-containing hydrocarbon group such as a group.
The silicon-containing group (f2) is, for example, a group in which a ring carbon of a cyclopentadienyl group is directly covalently bonded to a silicon atom, and specifically an alkylsilyl group or an arylsilyl group. Examples of the silicon-containing group (f2 ′) having a total carbon number of 1 to 20 include a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group.
フルオレニル基
フルオレニル基は置換されていてもいなくてもよい。置換されていてもいなくてもよいフルオレニル基とは、上記一般式（１１）におけるフルオレニル基部分が保有するR5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12が全て水素原子であるか、またはR5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12の内のいずれか一つ以上が炭化水素基(f1)、好ましくは総炭素数1から20の炭化水素基(f1')、またはケイ素含有基(f2)、好ましくは総炭素数1から20のケイ素含
有基(f2')で置換されたフルオレニル基であることを意味する。R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12の内の二つ以上が置換されている場合は、それらの置換基は相互に同一でも異なっていてもよい。また、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12は、隣接する基
が互いに結合して環を形成していてもよい。触媒のその製造上の容易性からR6とR11、お
よびR7とR10が相互に同一であるものが好んで使用される。
炭化水素基(f1)の好ましい基は、前記した総炭素数1から20の炭化水素基(f1')であり、ケイ素含有基(f2)の好ましい例は、前記した総炭素数1から20のケイ素含有基(f2')である。
Fluorenyl group The fluorenyl group may or may not be substituted. The fluorenyl group which may or may not be substituted is R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 possessed by the fluorenyl group moiety in the general formula (11). Are all hydrogen atoms, or at least one of R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 is a hydrocarbon group (f1), preferably Means a fluorenyl group substituted with a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms (f1 ′) or a silicon-containing group (f2), preferably a silicon-containing group having 1 to 20 carbon atoms (f2 ′) To do. When two or more of R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are substituted, the substituents may be the same or different from each other. Good. Further, R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring. In view of the ease of production of the catalyst, those in which R 6 and R 11 and R 7 and R 10 are the same are preferably used.
A preferred group of the hydrocarbon group (f1) is the above-described hydrocarbon group (f1 ′) having a total carbon number of 1 to 20, and a preferable example of the silicon-containing group (f2) is the above-described total number of carbon atoms of 1 to 20. It is a silicon-containing group (f2 ′).
共有結合架橋
シクロペンタジエニル基とフルオレニル基を結ぶ結合の主鎖部は、炭素、ケイ素、ゲルマニウムおよびスズ原子を一つ含有する2価の共有結合架橋である。本発明の高温溶液重合
において重要な点は、共有結合架橋部の架橋原子Yが、相互に同一でも異なっていてもよ
いR13とR14を有することである。炭化水素基(f1)の好ましい基は、前記した総炭素数1か
ら20の炭化水素基(f1')であり、ケイ素含有基(f2)の好ましい例は、前記した総炭素数1から20のケイ素含有基(f2')である。
Covalent bond bridge The main chain part of the bond connecting the cyclopentadienyl group and the fluorenyl group is a divalent covalent bond containing one carbon, silicon, germanium and tin atom. The important point in the high-temperature solution polymerization of the present invention is that the bridging atom Y of the covalent bond bridging portion has R 13 and R 14 which may be the same or different from each other. A preferred group of the hydrocarbon group (f1) is the above-described hydrocarbon group (f1 ′) having a total carbon number of 1 to 20, and a preferable example of the silicon-containing group (f2) is the above-described total number of carbon atoms of 1 to 20. It is a silicon-containing group (f2 ′).
架橋メタロセン化合物のその他の特徴
前記一般式（１１）において、Qはハロゲン、炭素数が1〜10の炭化水素基、または炭素数が10以下の中性、共役または非共役ジエン、アニオン配位子または孤立電子対で配位可能な中性配位子から同一または異なる組み合わせで選ばれる。ハロゲンの具体例としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素であり、炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、1,1-ジエチルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1,1,2,2-テトラメチルプロ
ピル、sec-ブチル、tert-ブチル、1,1-ジメチルブチル、1,1,3-トリメチルブチル、ネオ
ペンチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシル、1-メチル-1-シクロヘキシル等が挙
げられる。炭素数が10以下の中性、共役または非共役ジエンの具体例としては、s-シス-
またはs-トランス-η4-1,3-ブタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,4-ジフェニル-1,3-ブタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-3-メチル-1,3-ペンタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,4-ジベンジル-1,3-ブタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-2,4-ヘキサジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,3-ペンタジエン、s-シス-またはs-ト
ランス-η4-1,4-ジトリル-1,3-ブタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,4-ビス(ト
リメチルシリル)-1,3-ブタジエン等が挙げられる。アニオン配位子の具体例としては、メトキシ、tert-ブトキシ、フェノキシ等のアルコキシ基、アセテート、ベンゾエート等の
カルボキシレート基、メシレート、トシレート等のスルホネート基等が挙げられる。孤立
電子対で配位可能な中性配位子の具体例としては、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィンなどの有機リン化合物、またはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン等のエーテル類が挙げられる。jは1〜4の整数であり、jが2以上の時は、Qは互いに同一でも異なっていてもよい。
Other characteristics of the bridged metallocene compound In the general formula (11), Q is halogen, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a neutral, conjugated or nonconjugated diene having 10 or less carbon atoms, They are selected from the same or different combinations from anionic ligands or neutral ligands that can coordinate with a lone pair of electrons. Specific examples of the halogen are fluorine, chlorine, bromine and iodine, and specific examples of the hydrocarbon group are methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, 2-methylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, 2, 2-dimethylpropyl, 1,1-diethylpropyl, 1-ethyl-1-methylpropyl, 1,1,2,2-tetramethylpropyl, sec-butyl, tert-butyl, 1,1-dimethylbutyl, 1, Examples include 1,3-trimethylbutyl, neopentyl, cyclohexylmethyl, cyclohexyl, 1-methyl-1-cyclohexyl and the like. Specific examples of neutral, conjugated or non-conjugated dienes having 10 or less carbon atoms include s-cis-
Or s- trans eta 4 -1,3-butadiene, s- cis - or s- trans eta 4-1,4-diphenyl-1,3-butadiene, s- cis - or s- trans eta 4 - 3-methyl-1,3-pentadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -1,4-dibenzyl-1,3-butadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -2,4- Hexadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -1,3-pentadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -1,4-ditolyl-1,3-butadiene, s-cis- or s -Trans-η 4 -1,4-bis (trimethylsilyl) -1,3-butadiene and the like. Specific examples of the anionic ligand include alkoxy groups such as methoxy, tert-butoxy and phenoxy, carboxylate groups such as acetate and benzoate, and sulfonate groups such as mesylate and tosylate. Specific examples of neutral ligands that can be coordinated by a lone pair include organophosphorus compounds such as trimethylphosphine, triethylphosphine, triphenylphosphine, diphenylmethylphosphine, tetrahydrofuran, diethyl ether, dioxane, 1,2- And ethers such as dimethoxyethane. j is an integer of 1 to 4, and when j is 2 or more, Qs may be the same or different from each other.
＜メタロセン化合物の例−１０＞
またメタロセン化合物としては、下記一般式（１２）で表されるメタロセン化合物を用いることもできる。
<Example of metallocene compound-10>
Moreover, as a metallocene compound, the metallocene compound represented by the following general formula (12) can also be used.
式中、R1、R2、R3、R 4、R 5、R 6、R 7、R 8、R 9、R 10、R 11、R 12、R 13、R 14は水素、炭化水素基、ケイ素含有基から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていてもよく、R 1からR 14までの隣接した置換基は互いに結合して環を形成してもよく、ＭはＴｉ、Ｚｒ
またはＨｆであり、Ｙは第１４族原子であり、Ｑはハロゲン、炭化水素基、炭素数が１０以下の中性、共役または非共役ジエン、アニオン配位子、および孤立電子対で配位可能な中性配位子からなる群から同一または異なる組合せで選ばれ、ｎは２〜４の整数、ｊは１〜４の整数である。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 are hydrogen or a hydrocarbon group Selected from silicon-containing groups, which may be the same or different, and adjacent substituents from R 1 to R 14 may be bonded to each other to form a ring, and M represents Ti, Zr
Or Hf, Y is a Group 14 atom, Q can be coordinated by halogen, hydrocarbon group, neutral having 10 or less carbon atoms, conjugated or non-conjugated diene, anionic ligand, and lone pair of electrons Selected from the group consisting of neutral ligands in the same or different combinations, n is an integer of 2 to 4, and j is an integer of 1 to 4.
上記一般式（１２）において、炭化水素基としては、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアリールアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、または炭素数７〜２０のアルキルアリール基であり、１つ以上の環構造を含んでいてもよい。 In the general formula (12), the hydrocarbon group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or 7 to 20 carbon atoms. And may contain one or more ring structures.
その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、1,1-ジエチルプロピル、1-エチル-1-
メチルプロピル、1,1,2,2-テトラメチルプロピル、sec-ブチル、tert-ブチル、1,1-ジメ
チルブチル、1,1,3-トリメチルブチル、ネオペンチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシル、1-メチル-1-シクロヘキシル、1-アダマンチル、2-アダマンチル、2-メチル-2-アダマンチル、メンチル、ノルボルニル、ベンジル、2-フェニルエチル、1-テトラヒドロナフチル、1-メチル-1-テトラヒドロナフチル、フェニル、ナフチル、トリル等が挙げられ
る。
Specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, 2-methylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, 2,2-dimethylpropyl, 1,1-diethylpropyl, 1-ethyl-1-
Methylpropyl, 1,1,2,2-tetramethylpropyl, sec-butyl, tert-butyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,1,3-trimethylbutyl, neopentyl, cyclohexylmethyl, cyclohexyl, 1-methyl- 1-cyclohexyl, 1-adamantyl, 2-adamantyl, 2-methyl-2-adamantyl, menthyl, norbornyl, benzyl, 2-phenylethyl, 1-tetrahydronaphthyl, 1-methyl-1-tetrahydronaphthyl, phenyl, naphthyl, tolyl Etc.
上記一般式（１２）において、ケイ素含有炭化水素基としては、好ましくはケイ素数１〜４、炭素数３〜２０のアルキルまたはアリールシリル基であり、その具体例としては、トリメチルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、トリフェニルシリル等が挙げられる。 In the general formula (12), the silicon-containing hydrocarbon group is preferably an alkyl or arylsilyl group having 1 to 4 silicon atoms and 3 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include trimethylsilyl and tert-butyldimethyl. Examples thereof include silyl and triphenylsilyl.
本発明において、上記一般式（１２）のＲ1からＲ14は水素、炭化水素基、ケイ素含有
炭化水素基から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていてもよい。好ましい炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基の具体例としては、上記と同様のものを挙げることができる。
In the present invention, R 1 to R 14 in the general formula (12) are selected from hydrogen, a hydrocarbon group, and a silicon-containing hydrocarbon group, and may be the same or different. Specific examples of preferred hydrocarbon groups and silicon-containing hydrocarbon groups include the same as those described above.
上記一般式（１２）のシクロペンタジエニル環上のR 1からR 14までの隣接した置換基
は、互いに結合して環を形成してもよい。
一般式（１２）のMは、周期律表第４族元素、すなわちジルコニウム、チタンまたはハ
フニウムであり、好ましくはジルコニウムである。
The adjacent substituents from R 1 to R 14 on the cyclopentadienyl ring of the general formula (12) may be bonded to each other to form a ring.
M in the general formula (12) is a group 4 element of the periodic table, that is, zirconium, titanium or hafnium, preferably zirconium.
Yは第１４族原子であり、好ましくは炭素原子または珪素原子である。ｎは２〜４の整
数であり、好ましくは２または３、特に好ましくは２である。
Qはハロゲン、炭化水素基、炭素数が１０以下の中性、共役または非共役ジエン、アニ
オン配位子および孤立電子対で配位可能な中性配位子からなる群から同一または異なる組み合わせで選ばれる。Qが炭化水素基であるとき、より好ましくは炭素数が１〜１０の炭
化水素基である。
Y is a Group 14 atom, preferably a carbon atom or a silicon atom. n is an integer of 2 to 4, preferably 2 or 3, particularly preferably 2.
Q is the same or different combination from the group consisting of halogen, hydrocarbon group, neutral having 10 or less carbon atoms, conjugated or non-conjugated diene, anionic ligand and neutral ligand capable of coordinating with a lone pair. To be elected. When Q is a hydrocarbon group, it is more preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
ハロゲンの具体例としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素であり、炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、1,1-ジエチルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピ
ル、1,1,2,2-テトラメチルプロピル、sec-ブチル、tert-ブチル、1,1-ジメチルブチル、1,1,3-トリメチルブチル、ネオペンチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシル、1-メ
チル-1-シクロヘキシル等が挙げられる。炭素数が１０以下の中性、共役または非共役ジ
エンの具体例としては、s-シス-またはs-トランス-η4-1,3-ブタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,4-ジフェニル-1,3-ブタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-3-メチ
ル-1,3-ペンタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,4-ジベンジル-1,3-ブタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-2,4-ヘキサジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,3-ペンタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,4-ジトリル-1,3-ブタジエン、s-シス-またはs-トランス-η4-1,4-ビス（トリメチルシリル）-1,3-ブタジエン等が挙げられる。アニオン配位子の具体例としては、メトキシ、tert-ブトキシ、フェノキシ等のアルコキシ基
、アセテート、ベンゾエート等のカルボキシレート基、メシレート、トシレート等のスルホネート基等が挙げられる。孤立電子対で配位可能な中性配位子の具体例としては、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィンなどの有機リン化合物、またはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、１、２−ジメトキシエタン等のエーテル類が挙げられる。ｊが２以上の整数である場合は、複数のＱは同一でも異なっていてもよい。
Specific examples of the halogen are fluorine, chlorine, bromine and iodine, and specific examples of the hydrocarbon group are methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, 2-methylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, 2, 2-dimethylpropyl, 1,1-diethylpropyl, 1-ethyl-1-methylpropyl, 1,1,2,2-tetramethylpropyl, sec-butyl, tert-butyl, 1,1-dimethylbutyl, 1, Examples include 1,3-trimethylbutyl, neopentyl, cyclohexylmethyl, cyclohexyl, 1-methyl-1-cyclohexyl and the like. Neutral having 10 or less carbon atoms, and specific examples of the conjugated or non-conjugated dienes, s- cis - or s- trans eta 4-1,3-butadiene, s- cis - or s- trans eta 4 - 1,4-diphenyl-1,3-butadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -3-methyl-1,3-pentadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -1,4- Dibenzyl-1,3-butadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -2,4-hexadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -1,3-pentadiene, s-cis- or s -Trans-η 4 -1,4-ditolyl-1,3-butadiene, s-cis- or s-trans-η 4 -1,4-bis (trimethylsilyl) -1,3-butadiene and the like. Specific examples of the anionic ligand include alkoxy groups such as methoxy, tert-butoxy and phenoxy, carboxylate groups such as acetate and benzoate, and sulfonate groups such as mesylate and tosylate. Specific examples of the neutral ligand that can coordinate with a lone electron pair include organic phosphorus compounds such as trimethylphosphine, triethylphosphine, triphenylphosphine, and diphenylmethylphosphine, or tetrahydrofuran, diethyl ether, dioxane, 1,2- And ethers such as dimethoxyethane. When j is an integer greater than or equal to 2, several Q may be the same or different.
式（１２）において、Yは２〜４の複数個存在するが、複数のYは相互に同一であっても異なっていてもよい。Yに結合する複数のR13及び複数のR14は、それぞれ相互に同一であ
っても異なっていてもよい。例えば同一のYに結合する複数のR13が相互に異なっていてもよいし、異なるYに結合する複数のR13が相互に同一であってもよい。また、R13もしくはR14同士が環を形成していてもよい。
In the formula (12), there are a plurality of Ys of 2 to 4, but the Ys may be the same as or different from each other. The plurality of R 13 and the plurality of R 14 bonded to Y may be the same as or different from each other. For example, a plurality of R 13 bonded to the same Y may be different from each other, or a plurality of R 13 bonded to different Y may be the same as each other. R 13 or R 14 may form a ring.
式（１２）で表される第４族遷移金属化合物の好ましい例として、下記式（１３）で表される化合物を挙げることができる。 Preferable examples of the Group 4 transition metal compound represented by the formula (12) include a compound represented by the following formula (13).
式（１３）中、R 1、R 2、R 3、R 4、R 5、R 6、R 7、R 8、R 9、R 10、R 11、R 12は
水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていてもよく、R 13、R 14、R 15、R 16は水素原子または炭化水素基であり、nは１〜３の整数であり
、n＝１のときは前記R 1からR 16は同時に水素原子ではなく、それぞれ同一でも異なっていてもよい。R 5からR 12までの隣接した置換基は互いに結合して環を形成してもよく、R
13とR 15は互いに結合して環を形成してもよく、またR 13とR 15は互いに結合して環を
形成すると同時にR 14とR 16は互いに結合して環を形成してもよく、Y1およびY2は第１４族原子であり相互に同一でも異なっていてもよく、MはＴｉ、ＺｒまたはＨｆであり、Qはハロゲン、炭化水素基、アニオン配位子または孤立電子対で配位可能な中性配位子から同一または異なる組合せで選んでもよく、ｊは１〜４の整数である。
このようなメタロセン化合物の例−９、１０のような化合物は特開２００４−１７５７０７号公報ＷＯ２００１／０２７１２４、ＷＯ２００４／０２９０６２、ＷＯ２００４／０８３２６５等に挙げられている。
In formula (13), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 are hydrogen atoms, hydrocarbon groups, silicon R 13 , R 14 , R 15 , and R 16 are each a hydrogen atom or a hydrocarbon group, n is an integer of 1 to 3, and n = 1 In some cases, R 1 to R 16 are not hydrogen atoms and may be the same or different. Adjacent substituents from R 5 to R 12 may combine with each other to form a ring, and R
13 and R 15 may be bonded to each other to form a ring, and R 13 and R 15 may be bonded to each other to form a ring, and at the same time, R 14 and R 16 may be bonded to each other to form a ring. , Y 1 and Y 2 are group 14 atoms which may be the same or different from each other, M is Ti, Zr or Hf, Q is a halogen, a hydrocarbon group, an anionic ligand or a lone pair of electrons You may choose from the neutral ligand which can be coordinated by the same or different combination, and j is an integer of 1-4.
Examples of such metallocene compounds such as Examples-9 and 10 are listed in JP-A No. 2004-175707, WO2001 / 027124, WO2004 / 029062, WO2004 / 083265, and the like.
以上に説明したメタロセン化合物は、単独であるいは２種以上組み合せて用いられる。またメタロセン化合物は、炭化水素またはハロゲン化炭化水素などに希釈して用いてもよい。
触媒成分は、（Ａ）前記で表される架橋メタロセン化合物、並びに（Ｂ）(b-1) 有機アルミニウムオキシ化合物、(b-2) 前記架橋メタロセン化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物、および(b-3)有機アルミニウム化合物から選ばれる少なくても１種の化合
物から構成される。
The metallocene compounds described above are used alone or in combination of two or more. The metallocene compound may be diluted with a hydrocarbon or a halogenated hydrocarbon.
The catalyst component comprises (A) the bridged metallocene compound represented above, and (B) (b-1) an organoaluminum oxy compound, (b-2) reacts with the bridged metallocene compound (A) to form an ion pair. And at least one compound selected from (b-3) organoaluminum compounds.
以下、（Ｂ）成分について具体的に説明する。
＜(b-1) 有機アルミニウムオキシ化合物＞
本発明で用いられる(b-1) 有機アルミニウムオキシ化合物は、従来公知のアルミノキサンをそのまま使用できる。具体的には、下記一般式（１４）
Hereinafter, the component (B) will be specifically described.
<(B-1) Organoaluminum oxy compound>
As the (b-1) organoaluminum oxy compound used in the present invention, a conventionally known aluminoxane can be used as it is. Specifically, the following general formula (14)
および／または一般式（１５） And / or general formula (15)
（ここで、Rは炭素数1〜10の炭化水素基、nは2以上の整数を示す。）で代表される化合物を挙げることができ、特にRがメチル基であるメチルアルミノキサンでnが3以上、好まし
くは10以上のものが利用される。これらアルミノキサン類に若干の有機アルミニウム化合物が混入していても差し支えない。本発明の高温溶液重合において特徴的な性質は、特開平2-78687号公報に例示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合
物をも適用できることである。また、特開平2-167305号公報に記載されている有機アルミニウムオキシ化合物、特開平2-24701号公報、特開平3-103407号公報に記載されている二
種類以上のアルキル基を有するアルミノキサンなども好適に利用できる。なお、本発明の高温溶液重合で用いられる「ベンゼン不溶性の」有機アルミニウムオキシ化合物とは、60℃のベンゼンに溶解するAl成分がAl原子換算で通常10%以下、好ましくは5%以下、特に好
ましくは2%以下であり、ベンゼンに対して不溶性または難溶性であることをいう。
(Wherein R represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 2 or more). In particular, R is a methylaluminoxane in which methyl is a methyl group, and n is 3 More preferably, 10 or more are used. These aluminoxanes may be mixed with some organoaluminum compounds. A characteristic property in the high temperature solution polymerization of the present invention is that a benzene-insoluble organoaluminum oxy compound as exemplified in JP-A-2-78687 can also be applied. In addition, organoaluminum oxy compounds described in JP-A-2-167305, aluminoxanes having two or more kinds of alkyl groups described in JP-A-2-24701, and JP-A-3-103407, etc. It can be suitably used. The “benzene-insoluble” organoaluminum oxy compound used in the high-temperature solution polymerization of the present invention means that the Al component dissolved in benzene at 60 ° C. is usually 10% or less, preferably 5% or less, particularly preferably 5% or less. Is 2% or less, and is insoluble or hardly soluble in benzene.
また、本発明で用いられる有機アルミニウムオキシ化合物としては下記（１６）のような修飾メチルアルミノキサン等も挙げられる。 Examples of the organoaluminum oxy compound used in the present invention include modified methylaluminoxane as shown in the following (16).
（ここで、Rは炭素数1〜10の炭化水素基、m,nは2以上の整数を示す。）
この修飾メチルアルミノキサンはトリメチルアルミニウムとトリメチルアルミニウム以外のアルキルアルミニウムを用いて調製されるものである。このような化合物[V]は一般にMMAOと呼ばれている。このようなMMAOはUS4960878およびUS5041584で挙げられている方法
で調製することが出来る。また、東ソー・ファインケム社等からもトリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムを用いて調製したRがイソブチル基であるものがMMAOやTMAOといった名称で商業生産されている。このようなMMAOは各種溶媒への溶解性および保
存安定性を改良したアルミノキサンであり、具体的には上記（１４）、（１５）のようなベンゼンに対して不溶性または難溶性のものとは違い、脂肪族炭化水素や脂環族炭化水素に溶解するものである。
(Here, R represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and m and n represent an integer of 2 or more.)
This modified methylaluminoxane is prepared using trimethylaluminum and an alkylaluminum other than trimethylaluminum. Such a compound [V] is generally called MMAO. Such MMAO can be prepared by the methods listed in US4960878 and US5041584. In addition, Tosoh Finechem Co., Ltd., etc., which are prepared using trimethylaluminum and triisobutylaluminum and whose R is an isobutyl group, are commercially produced under the names MMAO and TMAO. Such MMAO is an aluminoxane having improved solubility in various solvents and storage stability, and specifically, it is different from those insoluble or hardly soluble in benzene such as the above (14) and (15). It is soluble in aliphatic hydrocarbons and alicyclic hydrocarbons.
さらに、本発明で用いられる有機アルミニウムオキシ化合物としては、下記一般式(１
７)で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物を挙げることもできる。
Further, the organoaluminum oxy compound used in the present invention includes the following general formula (1
An organoaluminum oxy compound containing boron represented by 7) can also be mentioned.
（式中、Rcは炭素原子数が1〜10の炭化水素基を示す。Rdは、互いに同一でも異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1〜10の炭化水素基を示す。）
＜(b-2) 架橋メタロセン化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物＞
架橋メタロセン化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物(b-2)（以下、「イオン性化合物」と略称する場合がある。）としては、特開平1-501950号公報、特開平1-502036号公報、特開平3-179005号公報、特開平3-179006号公報、特開平3-207703号公報、特開平3-207704号公報、USP5321106号などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物などを挙げることができる。さらに、ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物も挙げることができる。
(In the formula, R c represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. R d may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms. Group.)
<(B-2) Compound that reacts with bridged metallocene compound (A) to form an ion pair>
Examples of the compound (b-2) that reacts with the bridged metallocene compound (A) to form an ion pair (hereinafter sometimes abbreviated as “ionic compound”) include JP-A-1-501950, Lewis acids and ionic properties described in 1-502036, JP-A-3-17905, JP-A-3-179006, JP-A-3-207703, JP-A-3-207704, USP5321106, etc. Examples thereof include compounds, borane compounds and carborane compounds. Furthermore, heteropoly compounds and isopoly compounds can also be mentioned.
本発明において、好ましく採用されるイオン性化合物は下記一般式（１８）で表される化合物である。 In the present invention, the ionic compound preferably employed is a compound represented by the following general formula (18).
式中、Re+としては、H+、カルベニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウ
ムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオンなどが挙げられる。Rf〜Riは、互いに同一でも異なっていてもよく、有機基、好ましくはアリール基である。
In the formula, R e + includes H + , carbenium cation, oxonium cation, ammonium cation, phosphonium cation, cycloheptyltrienyl cation, ferrocenium cation having a transition metal, and the like. R f to R i may be the same as or different from each other, and are organic groups, preferably aryl groups.
前記カルベニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルカルベニウムカチオン、トリス(メチルフェニル)カルベニウムカチオン、トリス(ジメチルフェニル)カルベニウムカチオンなどの三置換カルベニウムカチオンなどが挙げられる。 Specific examples of the carbenium cation include trisubstituted carbenium cations such as triphenylcarbenium cation, tris (methylphenyl) carbenium cation, and tris (dimethylphenyl) carbenium cation.
前記アンモニウムカチオンとして具体的には、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリ(n-プロピル)アンモニウムカチオン、トリイソプロピルアンモニウムカチオン、トリ(n-ブチル)アンモニウムカチオン、トリイソブチルアンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニウムカチオン、N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオンなどのN,N-ジアルキルアニリニウムカチオン、ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオンなどのジアルキルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。 Specific examples of the ammonium cation include trialkylammonium cations such as trimethylammonium cation, triethylammonium cation, tri (n-propyl) ammonium cation, triisopropylammonium cation, tri (n-butyl) ammonium cation, and triisobutylammonium cation. N, N-dimethylanilinium cation, N, N-diethylanilinium cation, N, N-2,4,6-pentamethylanilinium cation, etc., N, N-dialkylanilinium cation, diisopropylammonium cation, dicyclohexyl And dialkyl ammonium cations such as ammonium cations.
前記ホスホニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリス(メチルフェニル)ホスホニウムカチオン、トリス(ジメチルフェニル)ホスホニウムカチオンなどのトリアリールホスホニウムカチオンなどが挙げられる。 Specific examples of the phosphonium cation include triarylphosphonium cations such as triphenylphosphonium cation, tris (methylphenyl) phosphonium cation, and tris (dimethylphenyl) phosphonium cation.
上記のうち、Re+としては、カルベニウムカチオン、アンモニウムカチオンなどが好ま
しく、特にトリフェニルカルベニウムカチオン、N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオンが好ましい。
Of these, Re e + is preferably a carbenium cation, an ammonium cation or the like, and particularly preferably a triphenylcarbenium cation, an N, N-dimethylanilinium cation or an N, N-diethylanilinium cation.
カルベニウム塩として具体的には、トリフェニルカルベニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス(3,5-ジトリフルオロメチルフェニル)ボレート、トリス(4-メ
チルフェニル)カルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(3,5-ジメチルフェニル)カルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどを挙
げることができる。
Specific examples of the carbenium salt include triphenylcarbenium tetraphenylborate, triphenylcarbeniumtetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylcarbeniumtetrakis (3,5-ditrifluoromethylphenyl) borate, tris (4-methyl And phenyl) carbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and tris (3,5-dimethylphenyl) carbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate.
アンモニウム塩としては、トリアルキル置換アンモニウム塩、N,N-ジアルキルアニリニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩などを挙げることができる。
トリアルキル置換アンモニウム塩として具体的には、たとえばトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ(n-
ブチル)アンモニウムテトラフェニルボレート、トリメチルアンモニウムテトラキス(p-トリル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラキス(o-トリル)ボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリエチルアンモニウム
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス(
ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス(2,4-ジメチルフェニル)ボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(3,5-ジメチルフェニル)ボ
レート、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(4-トリフルオロメチルフェニル)ボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(3,5-ジトリフルオロメチルフェニル)ボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(o-トリル)ボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムテトラフェニルボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムテトラキス(p-トリル)ボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムテトラキス(o-トリル)ボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムテトラキス(2,4-ジメチルフェニル)ボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムテトラキス(3,5-ジメチルフェニル)ボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムテトラキス(4-トリフルオロメチルフェニル)ボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムテトラキス(3,5-ジトリフルオロメチルフェニル)ボレート、ジオクタデシルメチルアンモニウムなどが挙げられる。
Examples of ammonium salts include trialkyl-substituted ammonium salts, N, N-dialkylanilinium salts, dialkylammonium salts, and the like.
Specific examples of the trialkyl-substituted ammonium salt include triethylammonium tetraphenylborate, tripropylammonium tetraphenylborate, tri (n-
Butyl) ammonium tetraphenylborate, trimethylammonium tetrakis (p-tolyl) borate, trimethylammonium tetrakis (o-tolyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triethylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) Borate, tripropylammonium tetrakis (
Pentafluorophenyl) borate, tripropylammonium tetrakis (2,4-dimethylphenyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (3,5-dimethylphenyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (4-tri Fluoromethylphenyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (3,5-ditrifluoromethylphenyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (o-tolyl) borate, dioctadecylmethylammonium tetraphenylborate, di Octadecylmethylammonium tetrakis (p-tolyl) borate, dioctadecylmethylammonium tetrakis (o-tolyl) borate, dioctadecylmethylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dioctadecylmethylammonium tetrakis (2,4-dimethyl) Tilphenyl) borate, dioctadecylmethylammonium tetrakis (3,5-dimethylphenyl) borate, dioctadecylmethylammonium tetrakis (4-trifluoromethylphenyl) borate, dioctadecylmethylammonium tetrakis (3,5-ditrifluoromethylphenyl) borate And dioctadecylmethylammonium.
N,N-ジアルキルアニリニウム塩として具体的には、たとえばN,N-ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、 N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、 N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(3,5-ジトリフルオロメチルフェニ
ル)ボレート、N,N-ジエチルアニリニウムテトラフェニルボレート、N,N-ジエチルアニリ
ニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、 N,N-ジエチルアニリニウムテト
ラキス(3,5-ジトリフルオロメチルフェニル)ボレート、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレートなどが挙げられる。
Specific examples of N, N-dialkylanilinium salts include N, N-dimethylanilinium tetraphenylborate, N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-dimethylanilinium tetrakis ( 3,5-ditrifluoromethylphenyl) borate, N, N-diethylanilinium tetraphenylborate, N, N-diethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-diethylanilinium tetrakis (3,5- Ditrifluoromethylphenyl) borate, N, N-2,4,6-pentamethylanilinium tetraphenylborate, N, N-2,4,6-pentamethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, etc. .
ジアルキルアンモニウム塩として具体的には、たとえばジ(1-プロピル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラフェニルボレートなどが挙げられる。 Specific examples of the dialkylammonium salt include di (1-propyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and dicyclohexylammonium tetraphenylborate.
その他、本出願人によって開示（特開2004-51676号公報）されているイオン性化合物も制限無く使用が可能である。
尚、上記のようなイオン性化合物(b-2)は、2種以上混合して用いることができる。
In addition, ionic compounds disclosed by the present applicant (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-51676) can also be used without limitation.
The ionic compound (b-2) as described above can be used as a mixture of two or more.
＜(b-3) 有機アルミニウム化合物＞
オレフィン重合触媒を形成する（b-3）有機アルミニウム化合物としては、例えば下記
一般式[X]で表される有機アルミニウム化合物、下記一般式（１９）で表される第1族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物などを挙げることができる。
Ra mAl(ORb)nHpXq------ （１９）
（式中、RaおよびRbは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が1〜15、好
ましくは1〜4の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0＜m≦3、nは0≦n＜3、pは0≦p＜3、qは0≦q＜3の数であり、かつm＋n＋p＋q=3である。）で表される有機アルミ
ニウム化合物。このような化合物の具体例として、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリn-ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウムなどのトリn-アルキルアルミニウム；トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリtert-ブチルアルミニウム、
トリ2-メチルブチルアルミニウム、トリ3-メチルヘキシルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム；トリシクロヘキシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム；トリフェニルアルミニウム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム；ジイソプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイドライド；一般式(i-C4H9)xAly(C5H10)z（式中、x、y、zは正
の数であり、z≦2xである。）
などで表されるイソプレニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム；イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド；エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；一般式Ra 2.5Al(ORb)0.5などで表される平均組成を有する部
分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド)などのアルキルアルミニウムアリーロキシド；ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド；エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；エチルアルミニウムジクロリドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド；エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム；エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどを挙げることができる。
M2AlRa 4 -----------（２０）
（式中、M2はLi、NaまたはKを示し、Raは炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の炭化水素基を示す。）
で表される周期律表第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物。このような化合物としては、LiAl(C2H5)4、LiAl(C7H15)4などを例示することができる。
<(B-3) Organoaluminum compound>
Examples of the organoaluminum compound that forms the olefin polymerization catalyst (b-3) include, for example, an organoaluminum compound represented by the following general formula [X], a group 1 metal represented by the following general formula (19), and aluminum. Examples thereof include complex alkylated products.
R a m Al (OR b ) n H p X q ------ (19)
(In the formula, R a and R b may be the same or different from each other, each represents a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, X represents a halogen atom, and m represents 0. <M ≦ 3, n is 0 ≦ n <3, p is a number of 0 ≦ p <3, q is a number of 0 ≦ q <3, and m + n + p + q = 3). Specific examples of such compounds include tri-n-alkylaluminums such as trimethylaluminum, triethylaluminum, tri-n-butylaluminum, trihexylaluminum, trioctylaluminum; triisopropylaluminum, triisobutylaluminum, trisec-butylaluminum, Tri-tert-butylaluminum,
Tri-branched alkylaluminums such as tri-2-methylbutylaluminum, tri-3-methylhexylaluminum, tri-2-ethylhexylaluminum; tricycloalkylaluminums such as tricyclohexylaluminum and tricyclooctylaluminum; triphenylaluminum, tritolylaluminum, etc. triaryl aluminum; diisopropyl aluminum hydride, dialkylaluminum hydride such as diisobutylaluminum hydride; formula (iC 4 H 9) x Al y (C 5 H 10) z ( wherein, x, y, z are positive numbers Yes, z ≦ 2x.)
Alkenyl aluminum such as isoprenylaluminum represented by the following: alkylaluminum alkoxide such as isobutylaluminum methoxide and isobutylaluminum ethoxide; dialkylaluminum alkoxide such as dimethylaluminum methoxide, diethylaluminum ethoxide and dibutylaluminum butoxide; Alkyl aluminum sesquialkoxides such as ethoxide and butylaluminum sesquibutoxide; partially alkoxylated alkylaluminums having an average composition represented by the general formula R a 2.5 Al (OR b ) 0.5 and the like; diethylaluminum phenoxide and diethylaluminum Alkyl aluminum aryloxides such as (2,6-di-t-butyl-4-methylphenoxide); dimethylal Dialkylaluminum halides such as nium chloride, diethylaluminum chloride, dibutylaluminum chloride, diethylaluminum bromide, diisobutylaluminum chloride; alkylaluminum sesquichlorides such as ethylaluminum sesquichloride, butylaluminum sesquichloride, ethylaluminum sesquibromide; Partially halogenated alkylaluminums such as alkylaluminum dihalides; Dialkylaluminum hydrides such as diethylaluminum hydride and dibutylaluminum hydride; Alkyaluminum dihydrides such as ethylaluminum dihydride and propylaluminum dihydride and other partially Hydrogenated alk Aluminum; ethylaluminum ethoxy chloride, butyl aluminum butoxide cycloalkyl chloride, etc. partially alkoxylated and halogenated alkylaluminum such as ethylaluminum ethoxy bromide and the like.
M 2 AlR a 4 ----------- (20)
(In the formula, M 2 represents Li, Na or K, and R a represents a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms.)
A complex alkylated product of a group 1 metal and aluminum in the periodic table represented by: Examples of such a compound include LiAl (C 2 H 5 ) 4 and LiAl (C 7 H 15 ) 4 .
また、上記一般式(２０)で表される化合物に類似する化合物も使用することができ、例えば窒素原子を介して2以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を
挙げることができる。このような化合物として具体的には、(C2H5)2AlN(C2H5)Al(C2H5)2
などを挙げることができる。
A compound similar to the compound represented by the general formula (20) can also be used, and examples thereof include an organoaluminum compound in which two or more aluminum compounds are bonded through a nitrogen atom. Specifically, as such a compound, (C 2 H 5 ) 2 AlN (C 2 H 5 ) Al (C 2 H 5 ) 2
And so on.
入手容易性の点から、（ｂ−３）有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが好んで用いられる。
＜重合＞
本発明で用いられるポリエチレンワックスは、上記メタロセン系触媒の存在下に、エチレンを通常液相で単独重合するか、またはエチレンおよびα−オレフィンを共重合させることにより得られる。重合の際には、各成分の使用法、添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。
From the viewpoint of availability, trimethylaluminum and triisobutylaluminum are preferably used as the (b-3) organoaluminum compound.
<Polymerization>
The polyethylene wax used in the present invention can be obtained by homopolymerizing ethylene in a normal liquid phase or copolymerizing ethylene and an α-olefin in the presence of the metallocene catalyst. In the polymerization, the method of using each component and the order of addition are arbitrarily selected, and the following methods are exemplified.
[q1] 成分(A)を単独で重合器に添加する方法。
[q2] 成分(A)および成分(B)を任意の順序で重合器に添加する方法。
上記[q2]の方法においては、各触媒成分の少なくとも2つ以上は予め接触されていても
よい。この際、一般に炭化水素溶媒が用いられるが、α−オレフィンを溶媒として用いてもよい。なお、ここで用いる各モノマーは、前述した通りである。
[q1] A method of adding the component (A) alone to the polymerization vessel.
[q2] A method of adding the component (A) and the component (B) to the polymerization vessel in an arbitrary order.
In the method [q2], at least two or more of the catalyst components may be in contact with each other in advance. At this time, a hydrocarbon solvent is generally used, but an α-olefin may be used as a solvent. The monomers used here are as described above.
重合方法は、ポリエチレンワックスがヘキサン等の溶媒中に粒子として存在する状態で重合する懸濁重合、溶媒を用いないで重合する気相重合、そして１４０℃以上の重合温度で、ポリエチレンワックスが溶剤と共存または単独で溶融した状態で重合する溶液重合が可能であり、その中でも溶液重合が経済性と品質の両面で好ましい。 The polymerization methods include suspension polymerization in which polyethylene wax is polymerized in the presence of particles in a solvent such as hexane, gas phase polymerization in which no solvent is used, and at a polymerization temperature of 140 ° C. or higher, polyethylene wax is mixed with the solvent. Solution polymerization that polymerizes in the coexistence or melted state is possible, and among these, solution polymerization is preferable in terms of both economy and quality.
重合反応は、バッチ法あるいは連続法いずれの方法で行ってもよい。重合をバッチ法で実施するに際しては、前記の触媒成分は次に説明する濃度下で用いられる。
上記のようなオレフィン重合用触媒を用いて、オレフィンの重合を行うに際して、成分（Ａ）は，反応容積1リットル当り、通常10-9〜10-1モル、好ましくは10-8〜10-2モルに
なるような量で用いられる。
The polymerization reaction may be performed by either a batch method or a continuous method. When the polymerization is carried out by a batch method, the above catalyst components are used in the concentrations described below.
When the olefin polymerization is carried out using the olefin polymerization catalyst as described above, the component (A) is usually 10 −9 to 10 −1 mol, preferably 10 −8 to 10 −2 mol per liter of reaction volume. It is used in such an amount that it becomes a mole.
成分（ｂ−１）は、成分（ｂ−１）と、成分（Ａ）中の全遷移金属原子(M)とのモル比
〔（ｂ−１）／Ｍ〕が通常０．０１〜５，０００、好ましくは０．０５〜２，０００となるような量で用いられる。成分（ｂ−２）は、成分（ｂ−２）中のイオン性化合物と、成分(A)中の全遷移金属(M)とのモル比〔（ｂ−２）／Ｍ〕が、通常０．０１〜５，０００、好ましくは１〜２，０００となるような量で用いられる。成分（ｂ−３）は、成分（ｂ−３）と、成分（Ａ）中の遷移金属原子(M)とのモル比〔（ｂ−３）／Ｍ〕が、通常１〜１
００００、好ましくは１〜５０００となるような量で用いられる。
Component (b-1) has a molar ratio [(b-1) / M] of component (b-1) to all transition metal atoms (M) in component (A) of usually 0.01 to 5, 000, preferably 0.05 to 2,000. In the component (b-2), the molar ratio [(b-2) / M] of the ionic compound in the component (b-2) and the total transition metal (M) in the component (A) is usually 0. 0.01 to 5,000, preferably 1 to 2,000. The component (b-3) has a molar ratio [(b-3) / M] of the component (b-3) and the transition metal atom (M) in the component (A) of usually 1-1.
The amount used is 0000, preferably 1 to 5000.
重合反応は、温度が通常、ワックス１０ｇをフィルター上にセットして、−２０〜＋２００℃、好ましくは５０〜１８０℃、さらに好ましくは７０〜１８０℃で、圧力が通常、０を超えて７．８ＭＰａ（８０ｋｇｆ／ｃｍ2、ゲージ圧）以下、好ましくは０を超えて
４．９ＭＰａ（５０ｋｇｆ／ｃｍ2、ゲージ圧）以下の条件下に行われる。
In the polymerization reaction, the temperature is usually 10 g of wax set on a filter, -20 to + 200 ° C., preferably 50 to 180 ° C., more preferably 70 to 180 ° C., and the pressure usually exceeds 0. It is performed under conditions of 8 MPa (80 kgf / cm 2 , gauge pressure) or less, preferably more than 0 and 4.9 MPa (50 kgf / cm 2 , gauge pressure) or less.
重合に際して、エチレンおよび必要に応じて用いられるα−オレフィンは、前記した特定組成のポリエチレンワックスが得られるような量割合で重合系に供給される。また重合に際しては、水素などの分子量調節剤を添加することもできる。 In the polymerization, ethylene and the α-olefin used as necessary are supplied to the polymerization system in such a proportion that the polyethylene wax having the specific composition described above can be obtained. In the polymerization, a molecular weight regulator such as hydrogen can be added.
このようにして重合させると、生成した重合体は通常これを含む重合液として得られるので、常法により処理するとポリエチレンワックスが得られる。
本発明においては、特に＜メタロセン化合物の例−１＞で示したメタロセン化合物を含む触媒の使用が好ましい。
When polymerized in this manner, the produced polymer is usually obtained as a polymerization solution containing the polymer, so that polyethylene wax can be obtained by processing in a conventional manner.
In the present invention, it is particularly preferable to use a catalyst containing the metallocene compound shown in <Example 1 of metallocene compound>.
このような触媒を用いると上述した特性を有するポリエチレンワックスが容易に得られる。
本発明のポリエチレンワックスの形状は特に制限はないが、通常、ペレット状、または
タブレット状の粒子である。
〔その他成分〕
本発明では、上記ポリエチレンとポリエチレンワックスとに加えて、さらに必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤等の安定剤、金属石鹸、充填剤、難燃剤等の添加剤を原料に加えて使用してもよい。
When such a catalyst is used, a polyethylene wax having the above-described characteristics can be easily obtained.
The shape of the polyethylene wax of the present invention is not particularly limited, but is usually a pellet-like or tablet-like particle.
[Other ingredients]
In the present invention, in addition to the polyethylene and the polyethylene wax, additives such as antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, metal soaps, fillers, flame retardants, and the like are further used as necessary. May be used in addition to.
上記安定剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、フォスファイト系化合物、チオエーテル系化合物などの酸化防止剤；
ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物などの紫外線吸収剤；
ヒンダードアミン系化合物などの光安定剤が挙げられる。
Examples of the stabilizer include antioxidants such as hindered phenol compounds, phosphite compounds, and thioether compounds;
UV absorbers such as benzotriazole compounds and benzophenone compounds;
Examples thereof include light stabilizers such as hindered amine compounds.
上記金属石鹸としては、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸亜鉛などのステアリン酸塩等が挙げられる。
上記充填剤としては、炭酸カルシウム、酸化チタン、硫酸バリウム、タルク、クレー、カーボンブラックなどが挙げられる。
Examples of the metal soap include stearates such as magnesium stearate, calcium stearate, barium stearate, and zinc stearate.
Examples of the filler include calcium carbonate, titanium oxide, barium sulfate, talc, clay, and carbon black.
上記難燃剤としては、デガブロムジフェニルエーテル、オクタブロムジフェニルエーテル等のハロゲン化ジフェニルエーテル、ハロゲン化ポリカーボネイトなどのハロゲン化合物；三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、ピロアンチモン酸ソーダ、水酸化アルミニウムなどの無機化合物；リン系化合物などが挙げられる。 Examples of the flame retardant include halogen compounds such as halogenated diphenyl ether and halogenated polycarbonate such as degabromo diphenyl ether and octabromo diphenyl ether; antimony trioxide, antimony tetraoxide, antimony pentoxide, sodium pyroantimonate, aluminum hydroxide, etc. Inorganic compounds; phosphorus compounds and the like.
また、ドリップ防止のため難燃助剤としてはテトラフルオロエチレン等の化合物を添加することができる。
上記抗菌剤、防カビ剤としては、イミダゾール系化合物、チアゾール系化合物、ニトリル系化合物、ハロアルキル系化合物、ピリジン系化合物などの有機化合物；
銀、銀系化合物、亜鉛系化合物、銅系化合物、チタン系化合物などの無機物質、無機化合物などが挙げられる。
これら化合物のなかでも、熱的に安定で性能の高い銀、銀系化合物が好ましい。
Moreover, a compound such as tetrafluoroethylene can be added as a flame retardant aid for preventing drip.
Examples of the antibacterial and antifungal agents include organic compounds such as imidazole compounds, thiazole compounds, nitrile compounds, haloalkyl compounds, and pyridine compounds;
Examples include inorganic substances such as silver, silver compounds, zinc compounds, copper compounds, and titanium compounds, and inorganic compounds.
Among these compounds, thermally stable silver and silver-based compounds are preferable.
上記銀系化合物としては、銀錯体、脂肪酸、リン酸等銀塩を挙げることができる。
銀および銀系化合物を抗菌剤、防カビ剤として用いる場合には、これら物質はゼオライト、シリカゲル、リン酸ジルコニウム、リン酸カルシュウム、ハイドロタルサイト、ヒドロキシアパタイト、ケイ酸カルシウムなどの多孔性構造体に担持させて使用する場合もある。
その他添加剤としては、着色剤、可塑剤、老化防止剤、着色剤、可塑剤、オイルなどが挙げられる。
As said silver type compound, silver salts, such as a silver complex, a fatty acid, and phosphoric acid, can be mentioned.
When silver and silver-based compounds are used as antibacterial and antifungal agents, these substances can be used in porous structures such as zeolite, silica gel, zirconium phosphate, calcium phosphate, hydrotalcite, hydroxyapatite, and calcium silicate. In some cases, it is used while being supported.
Examples of other additives include colorants, plasticizers, anti-aging agents, colorants, plasticizers, and oils.
〔原料組成比〕
本発明の原料として用いる、ポリプロピレンとオレフィン系熱可塑性エラストマーとの重量比は、ポリプロピレンとオレフィン系エラストマーとの合計量１００重量％を基準として、ポリプロピレンを５５〜９５重量％の範囲、オレフィン系熱可塑性エラストマーを５〜４５重量％の範囲である。
[Raw material composition ratio]
The weight ratio of polypropylene and olefinic thermoplastic elastomer used as a raw material of the present invention is in the range of 55 to 95% by weight of polypropylene based on the total amount of polypropylene and olefinic elastomer of 100% by weight, and olefinic thermoplastic. The elastomer is in the range of 5 to 45% by weight.
上記重量比は、好ましくは、ポリプロピレンとオレフィン系エラストマーとの合計量１００重量％を基準として、ポリプロピレンの含有量が６０〜９０重量％の範囲、オレフィン系エラストマーの含有量が１０〜４０重量％の範囲であり、より好ましくは、ポリプロピレンの含有量が７０〜９０重量％の範囲、オレフィン系エラストマーの含有長が１０〜３０重量％の範囲である。 The weight ratio is preferably such that the polypropylene content is in the range of 60 to 90% by weight and the olefin elastomer content is in the range of 10 to 40% by weight, based on the total amount of polypropylene and olefin elastomer of 100% by weight. More preferably, the polypropylene content is in the range of 70 to 90% by weight and the olefin elastomer content is in the range of 10 to 30% by weight.
ポリプロピレンとオレフィン系エラストマーとの含有割合が上記範囲にある場合には、
耐衝撃性と透明性のバランスに優れた成形体を得ることができる。
本発明の原料として用いる、上述したポリプロピレンとオレフィン系エラストマーとからなる樹脂混合物とポリエチレンワックスとの組成比は、上記樹脂成分１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部の範囲である。上記組成比は、好ましくは１〜５重量部の範囲である。
When the content ratio of polypropylene and olefin elastomer is in the above range,
A molded article having an excellent balance between impact resistance and transparency can be obtained.
The composition ratio of the above-mentioned resin mixture composed of polypropylene and olefin elastomer and polyethylene wax used as the raw material of the present invention is in the range of 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component. The composition ratio is preferably in the range of 1 to 5 parts by weight.
上記範囲の組成比で、ポリプロピレンとオレフィン系エラストマーとからなる樹脂混合物に対してポリエチレンワックスを用いた場合には、射出成形時の流動性の改良効果が大きく成形性が良好であり、しかも成形速度がより一層向上して生産性が向上する傾向にある。さらに、ポリプロピレンとオレフィン系エラストマーから形成されりポリプロピレン樹脂組成物が本来有する力学特性がより損なわれない傾向にある。また、ポリエチレンワックスを添加せずに射出成形する場合と比較して、より低い成形温度で成形可能となり、冷却時間が短縮される場合もある。さらに、成形温度を低くすることにより、樹脂の熱劣化を抑制し、樹脂強度の低下を抑制するだけでなく、樹脂の焼け焦げや黒点を抑制することができる場合もある。 When polyethylene wax is used for a resin mixture composed of polypropylene and an olefin elastomer at a composition ratio in the above range, the effect of improving fluidity during injection molding is great and the moldability is good, and the molding speed is high. However, there is a tendency for productivity to improve. Furthermore, it is formed from polypropylene and an olefin-based elastomer and tends to be less impaired in the mechanical properties inherent to the polypropylene resin composition. In addition, as compared with the case of injection molding without adding polyethylene wax, molding can be performed at a lower molding temperature, and the cooling time may be shortened. Furthermore, by lowering the molding temperature, it is possible not only to suppress the thermal deterioration of the resin and the resin strength, but also to suppress the scorching and black spots of the resin.
〔射出成形〕
本発明の成形体の製造方法では、上記原料を、射出成形する。
射出成形の方法については、特に制限はない。射出成形は、通常、ホッパーから添加した、ポリプロピレン、オレフィン系エラストマー、ポリエチレンワックス等の原料を加熱シリンダ内で溶融混練し、この溶融混練した物を射出装置により金型内に充填し、金型内の樹脂組成物を冷却・固化した後、金型内から成形品を取り出す。
〔injection molding〕
In the method for producing a molded article of the present invention, the raw material is injection molded.
There is no particular limitation on the method of injection molding. Injection molding is usually performed by melting and kneading raw materials such as polypropylene, olefinic elastomer, and polyethylene wax added from a hopper in a heating cylinder, and filling the melted and kneaded material into a mold by an injection device. After cooling and solidifying the resin composition, the molded product is taken out from the mold.
ポリエチレンおよびポリエチレンワックスは、上記射出装置に供給する前に予め混合（予備混合）してもよいし、射出装置に供給された樹脂にポリエチレンワックスを供給（例えばサイドフィード）して混合してもよい。上記いずれの場合にも、射出時にはポリプロピレン、オレフィン系エラストマー、およびポリエチレンワックスの混合物が形成される。予備混合方法は特に限定されず、溶融混合でもドライブレンドでもよい。ドライブレンドに用いる装置としては、ヘンシェルミキサーなどの高速ミキサー、タンブラーなどが挙げられる。溶融混練に用いる装置としては、プラストミル、ニーダー、ロールミキサー、バンバリーミキサー、ブラベンダー、１軸押出機、２軸押出機などが挙げられる。 Polyethylene and polyethylene wax may be mixed in advance (preliminary mixing) before being supplied to the injection device, or may be mixed by supplying polyethylene wax to the resin supplied to the injection device (for example, side feed). . In any of the above cases, upon injection, a mixture of polypropylene, olefinic elastomer, and polyethylene wax is formed. The premixing method is not particularly limited, and may be melt mixing or dry blending. Examples of the apparatus used for dry blending include a high speed mixer such as a Henschel mixer, a tumbler, and the like. Examples of the apparatus used for melt kneading include a plast mill, a kneader, a roll mixer, a Banbury mixer, a Brabender, a single screw extruder, a twin screw extruder, and the like.
上記射出成形の際の射出成形温度としては、通常１８０〜３００℃の範囲、好ましくは１８０〜２５０℃の範囲である。
また、射出圧力は通常４０〜１５０ＭＰａの範囲、好ましくは５０〜８０ＭＰａの範囲であり、金型温度は通常２０〜８０℃の範囲、好ましくは３０〜６０℃の範囲である。
The injection molding temperature during the injection molding is usually in the range of 180 to 300 ° C, preferably in the range of 180 to 250 ° C.
The injection pressure is usually in the range of 40 to 150 MPa, preferably 50 to 80 MPa, and the mold temperature is usually in the range of 20 to 80 ° C., preferably in the range of 30 to 60 ° C.
このようにして、建築資材、自動車部品、工業機械部品、電気・電子部品等に用いることができる成形体が得られる。 In this way, a molded body that can be used for building materials, automobile parts, industrial machine parts, electrical / electronic parts, and the like is obtained.
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
以下の実施例においてポリエチレンワックスの物性は次のようにして測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples.
In the following examples, the physical properties of polyethylene wax were measured as follows.
（数平均分子量（Ｍｎ））
数平均分子量（Ｍｎ）は、ＧＰＣ測定から求めたものである。測定は以下の条件で行った。また、数平均分子量（Ｍｎ）は、市販の単分散標準ポリスチレンを用いて検量線を作成し下記の換算法に基づいて分子量を求めた。
装置 ： ゲル浸透クロマトグラフＡｌｌｉａｎｃｅ ＧＰＣ２０００型（Ｗａｔｅｒｓ
社製）
溶剤 ： ｏ−ジクロロベンゼン
カラム： ＴＳＫｇｅｌカラム（東ソー社製）×４
流速 ： １．０ ｍｌ／分
試料 ： ０．１５ｍｇ／ｍＬ ｏ−ジクロロベンゼン溶液
温度 ： １４０℃
分子量換算 ： ＰＥ換算／汎用較正法
(Number average molecular weight (Mn))
The number average molecular weight (Mn) is obtained from GPC measurement. The measurement was performed under the following conditions. Moreover, the number average molecular weight (Mn) calculated | required the molecular weight based on the following conversion method, creating a calibration curve using the commercially available monodisperse standard polystyrene.
Apparatus: Gel permeation chromatograph Alliance GPC2000 (Waters
(Made by company)
Solvent: o-dichlorobenzene column: TSKgel column (manufactured by Tosoh Corporation) x 4
Flow rate: 1.0 ml / min Sample: 0.15 mg / mL o-dichlorobenzene solution temperature: 140 ° C.
Molecular weight conversion: PE conversion / General calibration method
なお、汎用較正の計算には、以下に示すＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋ粘度式の係数を用いた。
ポリスチレン（ＰＳ）の係数 ： ＫＰＳ＝１．３８×１０-4， ａＰＳ＝０．７０
ポリエチレン（ＰＥ）の係数 ： ＫＰＥ＝５．０６×１０-4， ａＰＥ＝０．７０
（A値、B値）
上述したＧＰＣの測定結果より、分子量１，０００以下の成分の割合を重量％で求め、Ａ値とした。また、ＧＰＣの測定結果より、分子量２０,０００以上の成分の割合を重量
％で求め、Ｂ値とした。
In addition, the coefficient of the Mark-Houwink viscosity formula shown below was used for calculation of general-purpose calibration.
Coefficient of polystyrene (PS): KPS = 1.38 × 10 −4 , aPS = 0.70
Coefficient of polyethylene (PE): KPE = 0.06 × 10 −4 , aPE = 0.70
(A value, B value)
From the GPC measurement results described above, the proportion of components having a molecular weight of 1,000 or less was determined by weight%, and was designated as A value. Further, from the measurement result of GPC, the ratio of the component having a molecular weight of 20,000 or more was determined by weight%, and the B value was obtained.
（溶融粘度）
ブルックフィールド粘度計を用いて１４０℃で測定した。
（密度）
ＪＩＳ Ｋ７１１２の密度勾配法に従って測定した。
(Melt viscosity)
Measurements were made at 140 ° C. using a Brookfield viscometer.
(density)
It was measured according to the density gradient method of JIS K7112.
（融点）
示差走査型熱量計（ＤＳＣ）〔ＤＳＣ−２０（セイコー電子工業社製）〕を用いて測定した。まず測定試料を、一旦２００℃まで昇温して、５分間保持した後、直ちに室温まで冷却した。この試料約１０ｍｇを−２０℃から２００℃の温度範囲で、昇温速度１０℃／分の条件でＤＳＣ測定した。測定結果から得られたカーブの吸熱ピークの値を融点とした。
(Melting point)
It measured using the differential scanning calorimeter (DSC) [DSC-20 (made by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.)]. First, the measurement sample was once heated to 200 ° C. and held for 5 minutes, and then immediately cooled to room temperature. About 10 mg of this sample was subjected to DSC measurement in the temperature range from −20 ° C. to 200 ° C. under the temperature rising rate of 10 ° C./min. The endothermic peak value of the curve obtained from the measurement results was taken as the melting point.
（結晶化温度）
結晶化温度（Ｔｃ、℃）は、ＡＳＴＭ Ｄ ３４１７‐７５に準拠して、降温速度２℃
／ｍｉｎの条件で測定した。
(Crystallization temperature)
The crystallization temperature (Tc, ° C.) is 2 ° C. in accordance with ASTM D 3417-75.
/ Min.
以下の実施例においてポリプロピレンの物性は次のようにして測定した。
（ＭＩ）
ＪＩＳ Ｋ７２１０に従って２３０℃、試験荷重２１．１８Ｎの条件で測定した。
In the following examples, the physical properties of polypropylene were measured as follows.
(MI)
According to JIS K7210, it measured on 230 degreeC and the conditions of the test load of 21.18N.
（密度）
ＪＩＳ Ｋ７１１２の密度勾配法に従って測定した。
以下の実施例においてオレフィン系エラストマーの物性は次のようにして測定した。
(density)
It was measured according to the density gradient method of JIS K7112.
In the following examples, the physical properties of olefin elastomers were measured as follows.
（ＭＩ）
エチレン・α−オレフィンランダム共重合体の場合：
ＪＩＳ Ｋ７２１０に従って１９０℃、試験荷重２１．１８Ｎの条件で測定した。
(MI)
For ethylene / α-olefin random copolymer:
The measurement was performed in accordance with JIS K7210 at 190 ° C. and a test load of 21.18 N.
プロピレン・α−オレフィンランダム共重合体の場合：
ＪＩＳ Ｋ７２１０に従って２３０℃、試験荷重２１．１８Ｎの条件で測定した。
（密度）
ＪＩＳ Ｋ７１１２の密度勾配法に従って測定した。
For propylene / α-olefin random copolymer:
According to JIS K7210, it measured on 230 degreeC and the conditions of the test load of 21.18N.
(density)
It was measured according to the density gradient method of JIS K7112.
（ポリエチレンワックス（１）の合成）
メタロセン触媒を用いて、次のようにしてポリエチレンワックス（１）を合成した。
充分に窒素置換し、２５℃に保持した内容積２Ｌのステンレス製オートクレーブにヘキサン７７０ｍｌおよびプロピレン１１５ｇを装入した。次いで、系内の温度を１５０℃に昇温した後、トリイソブチルアルミニウムを０．３ミリモル、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを０．０４ミリモル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドを０．０００５ミリモル、エチレンで圧入することにより重合を開始した。その後、エチレンのみを連続的に供給することにより全圧を３．０ＭＰａ（ゲージ圧）に保ち、１５５℃で３０分間重合を行った。
(Synthesis of polyethylene wax (1))
Polyethylene wax (1) was synthesized using a metallocene catalyst as follows.
770 ml of hexane and 115 g of propylene were charged into a 2 L stainless steel autoclave sufficiently purged with nitrogen and kept at 25 ° C. Subsequently, after raising the temperature in the system to 150 ° C., 0.3 mmol of triisobutylaluminum, 0.04 mmol of dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride were added. Polymerization was initiated by press-fitting with 0.0005 mmol ethylene. Thereafter, by continuously supplying only ethylene, the total pressure was kept at 3.0 MPa (gauge pressure), and polymerization was carried out at 155 ° C. for 30 minutes.
少量のエタノールを系内に添加することにより重合を停止した後、未反応のエチレンをパージした。得られたポリマー溶液を、１００℃減圧下で一晩乾燥してポリエチレンワックス（１）４６ｇを得た。得られたポリエチレンワックス（１）は、数平均分子量（Ｍｎ）が８００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１,５００、溶融粘度が４０mＰａ・ｓ、密度が８９７ｋｇ／ｍ3であり、融点が７８．８℃であった。また、Ａ値が３１．７重量％、Ｂ値
が０．０１重量％であった。結果を表１に示す。
After stopping the polymerization by adding a small amount of ethanol into the system, unreacted ethylene was purged. The obtained polymer solution was dried overnight at 100 ° C. under reduced pressure to obtain 46 g of polyethylene wax (1). The obtained polyethylene wax (1) has a number average molecular weight (Mn) of 800, a weight average molecular weight (Mw) of 1,500, a melt viscosity of 40 mPa · s, a density of 897 kg / m 3 , and a melting point of 78. It was 8 ° C. Moreover, A value was 31.7 weight% and B value was 0.01 weight%. The results are shown in Table 1.
（ポリエチレンワックス（２）の合成）
メタロセン触媒を用いて、次のようにしてポリエチレンワックス（２）を合成した。
充分に窒素置換し、２５℃に保持した内容積２Ｌのステンレス製オートクレーブにヘキサン７００ｍｌおよびプロピレン１５０ｇを装入した。次いで、系内の温度を１４０℃に昇温した後、トリイソブチルアルミニウムを０．３ミリモル、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを０．０４ミリモル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドを０．０００２ミリモル、エチレンで圧入することにより重合を開始した。その後、エチレンのみを連続的に供給することにより全圧を３．０ＭＰａ（ゲージ圧）に保ち、１４０℃で３０分間重合を行った。
(Synthesis of polyethylene wax (2))
Polyethylene wax (2) was synthesized as follows using a metallocene catalyst.
A stainless steel autoclave having an internal volume of 2 L, sufficiently purged with nitrogen and kept at 25 ° C., was charged with 700 ml of hexane and 150 g of propylene. Next, after raising the temperature in the system to 140 ° C., 0.3 mmol of triisobutylaluminum, 0.04 mmol of dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride were added. Polymerization was initiated by press-fitting with 0.0002 mmol ethylene. Thereafter, only ethylene was continuously supplied to keep the total pressure at 3.0 MPa (gauge pressure), and polymerization was performed at 140 ° C. for 30 minutes.
少量のエタノールを系内に添加することにより重合を停止した後、未反応のエチレンをパージした。得られたポリマー溶液を、１００℃減圧下で一晩乾燥してポリエチレンワックス（２）４０ｇを得た。得られたポリエチレンワックス（２）は、数平均分子量（Ｍｎ）が２，５００、重量平均分子量（Ｍｗ）が７,０００、溶融粘度が６００mＰａ・ｓ、密度が８８０ｋｇ／ｍ3であり、融点が６８．２℃であった。また、Ａ値が７．０重量％、
Ｂ値が４．１重量％であった。結果を表１に示す。
After stopping the polymerization by adding a small amount of ethanol into the system, unreacted ethylene was purged. The obtained polymer solution was dried overnight at 100 ° C. under reduced pressure to obtain 40 g of polyethylene wax (2). The obtained polyethylene wax (2) has a number average molecular weight (Mn) of 2,500, a weight average molecular weight (Mw) of 7,000, a melt viscosity of 600 mPa · s, a density of 880 kg / m 3 , and a melting point. It was 68.2 ° C. Moreover, A value is 7.0 weight%,
The B value was 4.1% by weight. The results are shown in Table 1.
（ポリエチレンワックス（３）の合成）
メタロセン触媒を用いて、次のようにしてポリエチレンワックス（２）を合成した。
充分に窒素置換し、２５℃に保持した内容積２Ｌのステンレス製オートクレーブにヘキサン９２０ｍｌおよびプロピレン５０ｇを装入した。次いで、系内の温度を１５０℃に昇温した後、トリイソブチルアルミニウムを０．３ミリモル、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを０．０４ミリモル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドを０．０００２ミリモル、エチレンで圧入することにより重合を開始した。その後、エチレンのみを連続的に供給することにより全圧を３．０ＭＰａ（ゲージ圧）に保ち、１５０℃で３０分間重合を行った。
(Synthesis of polyethylene wax (3))
Polyethylene wax (2) was synthesized as follows using a metallocene catalyst.
920 ml of hexane and 50 g of propylene were charged into a 2 L stainless steel autoclave sufficiently purged with nitrogen and kept at 25 ° C. Subsequently, after raising the temperature in the system to 150 ° C., 0.3 mmol of triisobutylaluminum, 0.04 mmol of dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride were added. Polymerization was initiated by press-fitting with 0.0002 mmol ethylene. Thereafter, only ethylene was continuously supplied to keep the total pressure at 3.0 MPa (gauge pressure), and polymerization was performed at 150 ° C. for 30 minutes.
少量のエタノールを系内に添加することにより重合を停止した後、未反応のエチレンをパージした。得られたポリマー溶液を、１００℃減圧下で一晩乾燥してポリエチレンワックス（２）４０ｇを得た。得られたポリエチレンワックス（３）は、数平均分子量（Ｍｎ）が３，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が８,２００、溶融粘度が１，０００mＰａ・ｓ、密度が９３２ｋｇ／ｍ3であり、融点が１０５．０℃であった。また、Ａ値が４．６重
量％、Ｂ値が６．７重量％であった。結果を表１に示す。
本発明で用いたポリエチレンワックスの物性を表１にまとめる。
After stopping the polymerization by adding a small amount of ethanol into the system, unreacted ethylene was purged. The obtained polymer solution was dried overnight at 100 ° C. under reduced pressure to obtain 40 g of polyethylene wax (2). The obtained polyethylene wax (3) has a number average molecular weight (Mn) of 3,000, a weight average molecular weight (Mw) of 8,200, a melt viscosity of 1,000 mPa · s, and a density of 932 kg / m 3 , The melting point was 105.0 ° C. Moreover, A value was 4.6 weight% and B value was 6.7 weight%. The results are shown in Table 1.
Table 1 summarizes the physical properties of the polyethylene wax used in the present invention.
成形体の物性は以下のように評価した。
（離型性）
後述する実施例に記載する射出成形機で平板（縦１１０ｍｍ×横１２０ｍｍ×厚み２ｍｍ）を射出成形し、所定時間金型を冷却した後、金型内の成形品を突き出しピンで押し出し、このときの離型性を、下記基準で判定した。
○：成形品が、抵抗なく離型し、変形しないもの。
×：成形品が、金型への張り付き等により離型抵抗が大きく、変形するもの。
The physical properties of the molded body were evaluated as follows.
(Releasability)
A flat plate (110 mm long x 120 mm wide x 2 mm thick) is injection-molded by an injection molding machine described in the examples to be described later, the mold is cooled for a predetermined time, and then the molded product in the mold is pushed out by a protruding pin. The releasability of was determined according to the following criteria.
○: The molded product is released without resistance and does not deform.
X: A molded product is deformed due to a large release resistance due to sticking to a mold or the like.
（フローマーク）
後述する実施例に記載する射出成形機で平板（縦１１０ｍｍ×横１２０ｍｍ×厚み２ｍｍ）を射出成形し、フローマークを観察した。
○：フローマークなし
×：フローマークあり
（引張降伏応力）
後述する実施例に記載する射出条件で試験片（1ＢＡ形試験片）を作製し、ＪＩＳ Ｋ
７１６１に準拠して、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎで引張降伏応力を測定した。
(Flow mark)
A flat plate (length 110 mm × width 120 mm × thickness 2 mm) was injection-molded with an injection molding machine described in Examples described later, and flow marks were observed.
○: No flow mark ×: With flow mark (Tensile yield stress)
A test piece (1BA type test piece) was prepared under the injection conditions described in the examples described later, and JIS K
Based on 7161, the tensile yield stress was measured at a tensile speed of 50 mm / min.
（曲げ弾性率、曲げ強度）
後述する実施例に記載する射出条件で試験片を作製し、ＪＩＳ Ｋ７１７１に準拠して、支点間距離４８ｍｍ、試験速度５．０ｍｍ／ｍｉｎで曲げ弾性率及び曲げ強度を測定した。
(Bending elastic modulus, bending strength)
Test pieces were produced under the injection conditions described in the examples described later, and the flexural modulus and bending strength were measured at a fulcrum distance of 48 mm and a test speed of 5.0 mm / min in accordance with JIS K7171.
（荷重たわみ温度）
後述する実施例に記載する射出条件でエッジワイズ試験片（試験片：長さ１２５ｍｍ、幅１２．５ｍｍ、厚さ３．２ｍｍ）を作製し、ＪＩＳ Ｋ７１９１エッジワイズ法に準拠して、荷重条件Ｂ法０.４５MＰａ、支点間距離１００ｍｍで荷重たわみ温度を測定した。
(Load deflection temperature)
An edgewise test piece (test piece: 125 mm in length, 12.5 mm in width, 3.2 mm in thickness) was produced under the injection conditions described in the examples described later, and load condition B in accordance with JIS K7191 edgewise method. The deflection temperature under load was measured by a method of 0.45 MPa and a distance between fulcrums of 100 mm.
（耐衝撃性）
後述する実施例に記載する射出条件で試験片（ノッチ付きタイプ１号Ａ試験片）を作製し、ＪＩＳ Ｋ７１１０に準拠して、アイゾット衝撃値を測定した。
とした。
(Impact resistance)
A test piece (type 1A test piece with a notch) was produced under the injection conditions described in the examples described later, and the Izod impact value was measured in accordance with JIS K7110.
It was.
〔実施例１〕
ポリプロピレン樹脂（プライムポリプロ Ｊ７０４ＵＧ；（株）プライムポリマー社製プロピレンブロックコポリマー、密度＝９１０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ＝５.０ｇ／１０ｍｉｎ）８０質量部、エチレン／α−オレフィンランダム共重合体〔オレフィン系エラストマー〕（タフマーＡ１０５０；三井化学（株）、密度＝８６０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ＝１．
２ｇ／１０ｍｉｎ（１９０℃、試験荷重２１．１８Ｎ））２０質量部、メタロセン系ポリエチレンワックス（エクセレックス３０２００ＢＴ；三井化学（株）社製、密度：９１３（ｋｇ／ｍ3）、Ｍｎ＝２，０００、Ａ値＝９．３（重量％）、Ｂ値＝２．２（重量％）
、溶融粘度＝３００（ｍＰａ・ｓ））２質量部を混合した。次いで、射出成形機（東芝機械社製ＩＳ５５ＥＰＮｉ１．５Ａ）のシリンダー温度を１９０℃、金型温度を４０℃に設定して、得られた混合物を射出成形機に添加し、（一次）射出圧力４０ＭＰａ、射出速度：８０ｍｍ／ｓｅｃ、射出時間１０秒、金型冷却時間１５秒の条件で射出成形を行った。結果を表２に示す。
[Example 1]
Polypropylene resin (Prime Polypro J704UG; Propylene Block Co., Ltd., Prime Polymer Co., Ltd., density = 910 (kg / m 3 ), MI = 5.0 g / 10 min) 80 parts by mass, ethylene / α-olefin random copolymer [ Olefin-based elastomer] (Tuffmer A1050; Mitsui Chemicals, Inc., density = 860 (kg / m 3 ), MI = 1.
2 g / 10 min (190 ° C., test load 21.18 N)) 20 parts by mass, metallocene polyethylene wax (Excellex 30200BT; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., density: 913 (kg / m 3 ), Mn = 2,000 , A value = 9.3 (% by weight), B value = 2.2 (% by weight)
2 parts by mass of melt viscosity = 300 (mPa · s) were mixed. Next, the cylinder temperature of the injection molding machine (IS55EPNi1.5A manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) was set to 190 ° C., the mold temperature was set to 40 ° C., and the resulting mixture was added to the injection molding machine, and the (primary) injection pressure was 40 MPa. The injection speed was 80 mm / sec, the injection time was 10 seconds, and the mold cooling time was 15 seconds. The results are shown in Table 2.
〔実施例２〕
ポリエチレンワックスをメタロセン系ポリエチレンワックス（エクセレックス４８０７０ＢＴ；三井化学（株）社製、密度＝９０２（ｋｇ／ｍ3）、Ｍｎ＝３，４００、Ａ値＝
４．７（重量％）、Ｂ値＝８．７（重量％）、溶融粘度＝１，３５０（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例１と同様の方法で射出成形を行った。結果を表２に示す。
[Example 2]
Polyethylene wax is a metallocene polyethylene wax (Excellex 48070BT; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., density = 902 (kg / m 3 ), Mn = 3,400, A value =
Injection molding was performed in the same manner as in Example 1 except that 4.7 (wt%), B value = 8.7 (wt%), and melt viscosity = 1,350 (mPa · s). The results are shown in Table 2.
〔実施例３〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（１）（密度＝８９７（ｋｇ／ｍ3）、
Ｍｎ＝８００、Ａ値＝２３．５（重量％）、Ｂ値＝０．０１（重量％）、溶融粘度＝４０（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例１と同様の方法で射出成形を行った。結果を表２に示す。
Example 3
Polyethylene wax (1) (density = 897 (kg / m 3 )),
Injection was performed in the same manner as in Example 1 except that Mn = 800, A value = 23.5 (% by weight), B value = 0.01 (% by weight), and melt viscosity = 40 (mPa · s). Molding was performed. The results are shown in Table 2.
〔実施例４〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（２）（密度＝８８０（ｋｇ／ｍ3）、
Ｍｎ＝２，５００、Ａ値＝７．０（重量％）、Ｂ値＝４．１（重量％）、溶融粘度＝６００（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例１と同様の方法で射出成形を行った。結果を表２に示す。
Example 4
Polyethylene wax to polyethylene wax (2) (density = 880 (kg / m 3 )),
The same method as in Example 1 except that Mn = 2500, A value = 7.0 (% by weight), B value = 4.1 (% by weight), and melt viscosity = 600 (mPa · s). The injection molding was performed. The results are shown in Table 2.
〔実施例５〕
メタロセン系ポリエチレンワックス（エクセレックス４８０７０ＢＴ；三井化学（株）社製）の添加量を１質量部に変更した以外は実施例１と同様の方法で射出成形を行った。結果を表２に示す。
Example 5
Injection molding was performed in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the metallocene polyethylene wax (Excellex 48070BT; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was changed to 1 part by mass. The results are shown in Table 2.
〔実施例６〕
メタロセン系ポリエチレンワックス（エクセレックス４８０７０ＢＴ；三井化学（株）社製）の添加量を５質量部に変更した以外は実施例１と同様の方法で射出成形を行った。結果を表２に示す。
Example 6
Injection molding was performed in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of metallocene polyethylene wax (Excellex 48070BT; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was changed to 5 parts by mass. The results are shown in Table 2.
〔比較例１〕
ポリプロピレン樹脂（プライムポリプロ Ｊ７０４ＵＧ；（株）プライムポリマー社製プロピレンブロックコポリマー、密度＝９１０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ＝５.０ｇ／１０ｍｉｎ）８０質量部、およびエチレン／α−オレフィンランダム共重合体〔オレフィン系エラストマー〕（タフマーＡ１０５０；三井化学（株）、密度＝８６０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ
＝１．２ｇ／１０ｍｉｎ（１９０℃、試験荷重２１．１８Ｎ））２０質量部を混合した。次いで、射出成形機（東芝機械社製ＩＳ５５ＥＰＮｉ１．５Ａ）のシリンダー温度を２１０℃、金型温度を４０℃に設定して、得られた混合物を射出成形機に添加し、（一次）射出圧力４０ＭＰａ、射出速度：８０ｍｍ／ｓｅｃ、射出時間１０秒、金型冷却時間２０秒の条件で射出成形を行った。結果を表２に示す。
[Comparative Example 1]
Polypropylene resin (Prime Polypro J704UG; Propylene block copolymer manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., density = 910 (kg / m 3 ), MI = 5.0 g / 10 min) 80 parts by mass, and ethylene / α-olefin random copolymer [Olefin-based elastomer] (Tuffmer A1050; Mitsui Chemicals, Inc., density = 860 (kg / m 3 ), MI
= 1.2 g / 10 min (190 ° C., test load 21.18 N)) 20 parts by mass were mixed. Next, the cylinder temperature of the injection molding machine (IS55EPNi1.5A manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) was set to 210 ° C., the mold temperature was set to 40 ° C., and the resulting mixture was added to the injection molding machine, and the (primary) injection pressure was 40 MPa. The injection speed was 80 mm / sec, the injection time was 10 seconds, and the mold cooling time was 20 seconds. The results are shown in Table 2.
〔比較例２〕
ポリプロピレン樹脂（プライムポリプロ Ｊ７０４ＵＧ；（株）プライムポリマー社製プロピレンブロックコポリマー、密度＝９１０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ＝５.０ｇ／１０ｍｉｎ）８０質量部、およびエチレン／α−オレフィンランダム共重合体〔オレフィン系エラストマー〕（タフマーＡ１０５０；三井化学（株）、密度＝８６０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ
＝１．２ｇ／１０ｍｉｎ（１９０℃、試験荷重２１．１８Ｎ））２０質量部を混合した。次いで、得られた混合物を、射出成形機（東芝機械社製ＩＳ５５ＥＰＮｉ１．５Ａ）のシリンダー温度を１９０℃、金型温度を４０℃に設定して、得られた混合物を射出成形機に添加し、（一次）射出圧力４０ＭＰａ、射出速度：８０ｍｍ／ｓｅｃ、射出時間１０秒、金型冷却時間１５秒の条件で射出成形を行おうとした。しかし、成形体を得ることはできなかった。
[Comparative Example 2]
Polypropylene resin (Prime Polypro J704UG; Propylene block copolymer manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., density = 910 (kg / m 3 ), MI = 5.0 g / 10 min) 80 parts by mass, and ethylene / α-olefin random copolymer [Olefin-based elastomer] (Tuffmer A1050; Mitsui Chemicals, Inc., density = 860 (kg / m 3 ), MI
= 1.2 g / 10 min (190 ° C., test load 21.18 N)) 20 parts by mass were mixed. Next, the obtained mixture is set to 190 ° C. and the mold temperature is set to 40 ° C. of the injection molding machine (IS55EPNi1.5A manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.), and the obtained mixture is added to the injection molding machine. (Primary) Injection molding was performed under the conditions of an injection pressure of 40 MPa, an injection speed of 80 mm / sec, an injection time of 10 seconds, and a mold cooling time of 15 seconds. However, a molded body could not be obtained.
〔比較例３〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（３）（密度＝９３２（ｋｇ／ｍ3）、
Ｍｎ＝３，０００、Ａ値＝４．６（重量％）、Ｂ値＝６．７（重量％）、溶融粘度＝１０００（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例１と同様の方法で射出成形を行った。結果を表２に示す。比較例１のワックスを添加しないポリエチレン樹脂組成物と比較すると、
引張降伏応力、曲げ弾性率、曲げ強度のいずれもが低下しており、アイゾット衝撃値も低下をしている。
[Comparative Example 3]
Polyethylene wax (3) (density = 932 (kg / m 3 )),
The same method as in Example 1 except that Mn = 3,000, A value = 4.6 (% by weight), B value = 6.7 (% by weight), and melt viscosity = 1000 (mPa · s). The injection molding was performed. The results are shown in Table 2. When compared with the polyethylene resin composition to which no wax is added in Comparative Example 1,
The tensile yield stress, the flexural modulus, and the bending strength are all decreased, and the Izod impact value is also decreased.
〔比較例４〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（ハイワックス４２０Ｐ；三井化学社製、密度＝９３０（ｋｇ／ｍ3）、Ｍｎ＝２，０００、Ａ値＝８．３（重量％）、Ｂ値＝６
．２（重量％）、溶融粘度＝７００（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例１と同様の方法で射出成形を行った。結果を表２に示す。比較例１のワックスを添加しないポリエチレン樹脂組成物と比較すると、引張降伏応力、曲げ弾性率、曲げ強度のいずれもが低下しており、荷重たわみ温度、アイゾット衝撃値も低下をしている。また、離形性も悪化しており、成形性にも優れない。
[Comparative Example 4]
Polyethylene wax is polyethylene wax (High Wax 420P; manufactured by Mitsui Chemicals, density = 930 (kg / m 3 ), Mn = 2,000, A value = 8.3 (% by weight), B value = 6
. 2 (% by weight), melt viscosity = 700 (mPa · s)). The results are shown in Table 2. Compared with the polyethylene resin composition to which no wax is added in Comparative Example 1, all of the tensile yield stress, the flexural modulus, and the flexural strength are reduced, and the deflection temperature under load and the Izod impact value are also reduced. Moreover, the mold release property is also deteriorated and the moldability is not excellent.
〔比較例５〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（Ａ−Ｃ６；ハネウェル社製、密度＝９１３（ｋｇ／ｍ3）、Ｍｎ＝１，８００、Ａ値＝６．５（重量％）、Ｂ値＝３．３（重量
％）、溶融粘度＝４２０（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例１と同様の方法で射出成形を行った。結果を表２に示す。比較例１のワックスを添加しないポリエチレン樹脂組成物と比較すると、引張降伏応力、曲げ弾性率、曲げ強度のいずれもが低下しており、荷重たわみ温度、アイゾット衝撃値も低下をしている。
[Comparative Example 5]
Polyethylene wax is polyethylene wax (A-C6; manufactured by Honeywell, density = 913 (kg / m 3 ), Mn = 1,800, A value = 6.5 (wt%), B value = 3.3 (wt%) ), And melt viscosity = 420 (mPa · s)), except that the injection molding was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2. Compared with the polyethylene resin composition to which no wax is added in Comparative Example 1, all of the tensile yield stress, the flexural modulus, and the flexural strength are reduced, and the deflection temperature under load and the Izod impact value are also reduced.
〔実施例７〕
ポリプロピレン樹脂（プライムポリプロ Ｊ７０４ＵＧ；（株）プライムポリマー社製プロピレンブロックコポリマー、密度＝９１０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ＝５.０ｇ／１０ｍｉｎ）８０質量部、プロピレン／α−オレフィンランダム共重合体〔オレフィン系エラストマー〕（タフマーＸＭ７０７０；三井化学（株）、密度＝９００（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ＝
７．０ｇ／１０ｍｉｎ（２３０℃、試験荷重２１．１８Ｎ））２０質量部、メタロセン系ポリエチレンワックス（エクセレックス３０２００ＢＴ；三井化学（株）社製、密度：９１３（ｋｇ／ｍ3）、Ｍｎ＝２，０００、Ａ値＝９．３（重量％）、Ｂ値＝２．２（重量
％）、溶融粘度＝３００（ｍＰａ・ｓ））２質量部を混合した。次いで、射出成形機（東芝機械社製ＩＳ５５ＥＰＮｉ１．５Ａ）のシリンダー温度を１９０℃、金型温度を４０℃に設定して、得られた混合物を射出成形機に添加し、（一次）射出圧力４０ＭＰａ、射出速度：８０ｍｍ／ｓｅｃ、射出時間１０秒、金型冷却時間１５秒の条件で射出成形を行った。結果を表３に示す。
Example 7
Polypropylene resin (Prime Polypro J704UG; Propylene Block Copolymer manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., density = 910 (kg / m 3 ), MI = 5.0 g / 10 min) 80 parts by mass, propylene / α-olefin random copolymer [ Olefin Elastomer] (Toughmer XM7070; Mitsui Chemicals, Inc., density = 900 (kg / m 3 ), MI =
7.0 g / 10 min (230 ° C., test load 21.18 N)) 20 parts by mass, metallocene polyethylene wax (Excellex 30200BT; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., density: 913 (kg / m 3 ), Mn = 2 2,000, A value = 9.3 (% by weight), B value = 2.2 (% by weight), melt viscosity = 300 (mPa · s)) 2 parts by mass were mixed. Next, the cylinder temperature of the injection molding machine (IS55EPNi1.5A manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) was set to 190 ° C., the mold temperature was set to 40 ° C., and the resulting mixture was added to the injection molding machine, and the (primary) injection pressure was 40 MPa. The injection speed was 80 mm / sec, the injection time was 10 seconds, and the mold cooling time was 15 seconds. The results are shown in Table 3.
〔実施例８〕
ポリエチレンワックスをメタロセン系ポリエチレンワックス（エクセレックス４８０７０ＢＴ；三井化学（株）社製、密度＝９０２（ｋｇ／ｍ3）、Ｍｎ＝３，４００、Ａ値＝
４．７（重量％）、Ｂ値＝８．７（重量％）、溶融粘度＝１，３５０（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例７と同様の方法で射出成形を行った。結果を表３に示す。
Example 8
Polyethylene wax is a metallocene polyethylene wax (Excellex 48070BT; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., density = 902 (kg / m 3 ), Mn = 3,400, A value =
Injection molding was performed in the same manner as in Example 7 except that 4.7 (wt%), B value = 8.7 (wt%), and melt viscosity = 1,350 (mPa · s). The results are shown in Table 3.
〔実施例９〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（１）（密度＝８９７（ｋｇ／ｍ3）、
Ｍｎ＝８００、Ａ値＝２３．５（重量％）、Ｂ値＝０．０１（重量％）、溶融粘度＝４０（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例７と同様の方法で射出成形を行った。結果を表３に示す。
Example 9
Polyethylene wax (1) (density = 897 (kg / m 3 )),
Injection was performed in the same manner as in Example 7, except that Mn = 800, A value = 23.5 (% by weight), B value = 0.01 (% by weight), and melt viscosity = 40 (mPa · s). Molding was performed. The results are shown in Table 3.
〔実施例１０〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（２）（密度＝８８０（ｋｇ／ｍ3）、
Ｍｎ＝２，５００、Ａ値＝７．０（重量％）、Ｂ値＝４．１（重量％）、溶融粘度＝６００（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例７と同様の方法で射出成形を行った。結果を表３に示す。
Example 10
Polyethylene wax to polyethylene wax (2) (density = 880 (kg / m 3 )),
The same method as in Example 7 except that Mn = 2500, A value = 7.0 (wt%), B value = 4.1 (wt%), melt viscosity = 600 (mPa · s)) The injection molding was performed. The results are shown in Table 3.
〔実施例１１〕
メタロセン系ポリエチレンワックス（エクセレックス４８０７０ＢＴ；三井化学（株）社製）の添加量を１質量部に変更した以外は実施例７と同様の方法で射出成形を行った。結果を表３に示す。
Example 11
Injection molding was performed in the same manner as in Example 7 except that the amount of metallocene polyethylene wax (Excellex 48070BT; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was changed to 1 part by mass. The results are shown in Table 3.
〔実施例１２〕
メタロセン系ポリエチレンワックス（エクセレックス４８０７０ＢＴ；三井化学（株）社製）の添加量を５質量部に変更した以外は実施例７と同様の方法で射出成形を行った。結果を表３に示す。
Example 12
Injection molding was performed in the same manner as in Example 7 except that the amount of metallocene polyethylene wax (Excellex 48070BT; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was changed to 5 parts by mass. The results are shown in Table 3.
〔比較例６〕
ポリプロピレン樹脂（プライムポリプロ Ｊ７０４ＵＧ；（株）プライムポリマー社製プロピレンブロックコポリマー、密度＝９１０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ＝５.０ｇ／１０ｍｉｎ）８０質量部、およびプロピレン／α−オレフィンランダム共重合体〔オレフィン系エラストマー〕（タフマーＸＭ７０７０；三井化学（株）、密度＝９００（ｋｇ／ｍ3）、
ＭＩ＝７．０ｇ／１０ｍｉｎ（２３０℃、試験荷重２１．１８Ｎ））２０質量部を混合した。次いで、射出成形機（東芝機械社製ＩＳ５５ＥＰＮｉ１．５Ａ）のシリンダー温度を２１０℃、金型温度を４０℃に設定して、得られた混合物を射出成形機に添加し、（一次）射出圧力４０ＭＰａ、射出速度：８０ｍｍ／ｓｅｃ、射出時間１０秒、金型冷却時間２
０秒の条件で射出成形を行った。結果を表３に示す。
[Comparative Example 6]
Polypropylene resin (Prime Polypro J704UG; Propylene block copolymer manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., density = 910 (kg / m 3 ), MI = 5.0 g / 10 min) 80 parts by mass, and propylene / α-olefin random copolymer [Olefin-based elastomer] (Toughmer XM7070; Mitsui Chemicals, Inc., density = 900 (kg / m 3 ),
MI = 7.0g / 10min (230 degreeC, test load 21.18N)) 20 mass parts was mixed. Next, the cylinder temperature of the injection molding machine (IS55EPNi1.5A manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) was set to 210 ° C., the mold temperature was set to 40 ° C., and the resulting mixture was added to the injection molding machine, and the (primary) injection pressure was 40 MPa. Injection speed: 80 mm / sec, injection time 10 seconds, mold cooling time 2
Injection molding was performed under the condition of 0 seconds. The results are shown in Table 3.
〔比較例７〕
ポリプロピレン樹脂（プライムポリプロ Ｊ７０４ＵＧ；（株）プライムポリマー社製プロピレンブロックコポリマー、密度＝９１０（ｋｇ／ｍ3）、ＭＩ＝５.０ｇ／１０ｍｉｎ）８０質量部、およびプロピレン／α−オレフィンランダム共重合体〔オレフィン系エラストマー〕（タフマーＸＭ７０７０；三井化学（株）、密度＝９００（ｋｇ／ｍ3）、
ＭＩ＝７．０ｇ／１０ｍｉｎ（２３０℃、試験荷重２１．１８Ｎ））２０質量部を混合した。次いで、得られた混合物を、射出成形機（東芝機械社製ＩＳ５５ＥＰＮｉ１．５Ａ）のシリンダー温度を１９０℃、金型温度を４０℃に設定して、得られた混合物を射出成形機に添加し、（一次）射出圧力４０ＭＰａ、射出速度：８０ｍｍ／ｓｅｃ、射出時間１０秒、金型冷却時間１５秒の条件で射出成形を行おうとした。しかし、成形体を得ることはできなかった。
[Comparative Example 7]
Polypropylene resin (Prime Polypro J704UG; Propylene block copolymer manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., density = 910 (kg / m 3 ), MI = 5.0 g / 10 min) 80 parts by mass, and propylene / α-olefin random copolymer [Olefin-based elastomer] (Toughmer XM7070; Mitsui Chemicals, Inc., density = 900 (kg / m 3 ),
MI = 7.0g / 10min (230 degreeC, test load 21.18N)) 20 mass parts was mixed. Next, the obtained mixture is set to 190 ° C. and the mold temperature is set to 40 ° C. of the injection molding machine (IS55EPNi1.5A manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.), and the obtained mixture is added to the injection molding machine. (Primary) Injection molding was performed under the conditions of an injection pressure of 40 MPa, an injection speed of 80 mm / sec, an injection time of 10 seconds, and a mold cooling time of 15 seconds. However, a molded body could not be obtained.
〔比較例８〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（３）（密度＝９３２（ｋｇ／ｍ3）、
Ｍｎ＝３，０００、Ａ値＝４．６（重量％）、Ｂ値＝６．７（重量％）、溶融粘度＝１０００（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例７と同様の方法で射出成形を行った。結果を表３に示す。比較例６のワックスを添加しないポリエチレン樹脂組成物と比較すると、引張降伏応力、曲げ弾性率、曲げ強度のいずれもが低下しており、荷重たわみ温度、アイゾット衝撃値も低下している。
[Comparative Example 8]
Polyethylene wax (3) (density = 932 (kg / m 3 )),
Mn = 3,000, A value = 4.6 (wt%), B value = 6.7 (wt%), melt viscosity = 1000 (mPa · s)) The injection molding was performed. The results are shown in Table 3. When compared with the polyethylene resin composition to which no wax is added in Comparative Example 6, all of the tensile yield stress, the flexural modulus, and the flexural strength are reduced, and the deflection temperature under load and the Izod impact value are also reduced.
〔比較例９〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（ハイワックス４２０Ｐ；三井化学社製、密度＝９３０（ｋｇ／ｍ3）、Ｍｎ＝２，０００、Ａ値＝８．３（重量％）、Ｂ値＝６
．２（重量％）、溶融粘度＝７００（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例７と同様の方法で射出成形を行った。結果を表３に示す。比較例６のワックスを添加しないポリエチレン樹脂組成物と比較すると、引張降伏応力、曲げ弾性率、曲げ強度のいずれもが低下しており、荷重たわみ温度、アイゾット衝撃値も低下している。また、離形性も悪化しており、成形性にも優れない。
[Comparative Example 9]
Polyethylene wax is polyethylene wax (High Wax 420P; manufactured by Mitsui Chemicals, density = 930 (kg / m 3 ), Mn = 2,000, A value = 8.3 (% by weight), B value = 6
. 2 (% by weight), melt viscosity = 700 (mPa · s)). The results are shown in Table 3. When compared with the polyethylene resin composition to which no wax is added in Comparative Example 6, all of the tensile yield stress, the flexural modulus, and the flexural strength are reduced, and the deflection temperature under load and the Izod impact value are also reduced. Moreover, the mold release property is also deteriorated and the moldability is not excellent.
〔比較例１０〕
ポリエチレンワックスをポリエチレンワックス（Ａ−Ｃ６；ハネウェル社製、密度＝９１３（ｋｇ／ｍ3）、Ｍｎ＝１，８００、Ａ値＝６．５（重量％）、Ｂ値＝３．３（重量
％）、溶融粘度＝４２０（ｍＰａ・ｓ））に変更した以外は実施例７と同様の方法で射出成形を行った。結果を表３に示す。比較例６のワックスを添加しないポリエチレン樹脂組成物と比較すると、引張降伏応力、曲げ弾性率、曲げ強度のいずれもが低下しており、荷重たわみ温度、アイゾット衝撃値も低下している。
[Comparative Example 10]
Polyethylene wax is polyethylene wax (A-C6; manufactured by Honeywell, density = 913 (kg / m 3 ), Mn = 1,800, A value = 6.5 (wt%), B value = 3.3 (wt%) ) And melt viscosity = 420 (mPa · s)), except that the injection molding was performed in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 3. When compared with the polyethylene resin composition to which no wax is added in Comparative Example 6, all of the tensile yield stress, the flexural modulus, and the flexural strength are reduced, and the deflection temperature under load and the Izod impact value are also reduced.
Claims (2)
マトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリエチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が５００〜４,０００の範囲にあり、かつ下記式（Ｉ）で表される関係を満たすポリエチレンワッ
クス０．０１〜１０重量部を添加した原料混合物を、射出成形することにより成形体を製造する方法。
Ｂ≦０．００７５×Ｋ ・・・（Ｉ）
（上記式（Ｉ）中、Ｂは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した場合の、上記ポリエチレンワックス中のポリエチレン換算の分子量が２０，０００以上となる成分の含有割合（重量％）であり、Ｋは上記ポリエチレンワックスの１４０℃における溶融粘度（ｍＰａ・ｓ）である。） Based on 100% by weight of the total amount of polypropylene and olefinic elastomer, 100 parts by weight of resin mixture containing polypropylene in the range of 55 to 95% by weight and olefinic elastomer in the range of 5 to 45% by weight The density measured according to the density gradient tube method is in the range of 880 to 920 (kg / m 3 ), and the number average molecular weight (Mn) in terms of polyethylene measured by gel permeation chromatography (GPC) is 500 to 4,000. A method for producing a molded body by injection molding a raw material mixture to which 0.01 to 10 parts by weight of a polyethylene wax that is in the range and satisfies the relationship represented by the following formula (I) is added.
B ≦ 0.0075 × K (I)
(In the above formula (I), B is a content ratio (% by weight) of a component having a polyethylene conversion molecular weight of 20,000 or more in the polyethylene wax when measured by gel permeation chromatography, and K Is the melt viscosity (mPa · s) of the polyethylene wax at 140 ° C.)
Ａ≦２３０×Ｋ(-0.537) ・・・（ＩＩ）
（上記式（ＩＩ）中、Ａは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した場合の、上記ポリエチレンワックス中のポリエチレン換算の分子量が１，０００以下となる成分の含有割合（重量％）であり、Ｋは上記ポリエチレンワックスの１４０℃における溶融粘度（ｍＰａ・ｓ）である。） The method for producing a molded article by injection molding according to claim 1, wherein the polyethylene wax further satisfies a relationship represented by the following formula (II).
A ≦ 230 × K (-0.537) (II)
(In the above formula (II), A is a content ratio (% by weight) of a component in which the molecular weight in terms of polyethylene in the polyethylene wax is 1,000 or less when measured by gel permeation chromatography, and K Is the melt viscosity (mPa · s) of the polyethylene wax at 140 ° C.)
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