JP4644492B2 - 電子デバイスの二次加工に保護層を用いる方法 - Google Patents
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Description
ポリマー中のモノマーの少なくとも50モル%が
よりなる群から選択される構造を含んでなるポリマーを含んでなるポジティブ光画像形成性保護層で電子デバイス構造を被覆すること
を含んでなる電子デバイスの製造方法である。
nが0〜4であり、
R1が水素または低級アルキルであり、R2が低級アルキルであり、R3およびR4が独立して水素または低級アルキルであり、ここで低級アルキルの定義が1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を含み、かつR1とR2、またはR1とR3もしくはR4のいずれか、またはR2とR3もしくはR4のいずれかを結合させると、5員環、6員環または7員環を形成する)
によって表現することが可能である。
1−エトキシエチルメタクリレート(またはアクリレート)、
1−ブトキシエチルメタクリレート(またはアクリレート)、
1−エトキシ−l−プロピルメタクリレート(またはアクリレート)、
テトラヒドロピラニルメタクリレート(またはアクリレート)、
テトラヒドロピラニルp−ビニルベンゾエート、
1−エトキシ−l−プロピルp−ビニルベンゾエート,4−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)ベンジルメタクリレート(またはアクリレート)、
4−(1−ブトキシエトキシ)ベンジルメタクリレート(またはアクリレート)
である。
によって表現することが可能である。
t−ブチルメタクリレート(またはアクリレート)、
ネオペンチルメタクリレート(またはアクリレート)、
1−ビシクロ{2,2,2}オクチルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体、
1−ビシクロ{2,2,1}ヘプチルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体、
1−ビシクロ{2,1,1}ヘキシルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体、
1−ビシクロ{1,1,1}ペンチルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体、
1−アダマンチルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体
である。
37/100の重合度(D.P.)および28,600の数平均分子量(Mn)を有する1.5gのポリ(エトキシトリエチレングリコールメタクリレート−b−t−ブチルメタクリレート)を用いた。これに0.5gの「シラキュア(Cyracure)」(登録商標)UVI−6976(ダウ・ケミカル(Dow Chemical))および0.002gのクアンティキュア(Quanticure)ITX(アルドリッチ(Aldrich))を添加した。すべての添加物を4mlの2−ブタノン中の透明溶液に溶解させた。2ミルのドクターブレードを用いて、溶液を「マイラー(MYLAR)」(登録商標)(デラウェア州ウィルミントンのデュポン(DuPont(Wilmington,DE)))フィルム上にキャスティングし、放置して10分にわたり空気乾燥させた。その後、フィルムを30分間にわたり熱対流炉で100℃で乾燥させた。乾燥フィルムを2.5×2.5cmの正方形に切断した。フィルムを以下の手順により処理し、各工程後に検査した。
ポリ(エトキシトリエチレングリコールアセテート−ランダム−t−ブチルメタクリレートのコポリマー0.183g(70:30モノマーモル比、Mn=10,400および多分散性PD=2.8)、t−ブチルメタクリレートのDP=5のホモポリマー0.045グラム、0.081グラムの「シラキュア(Cyracure)」(登録商標)UVI−6976(ダウ・ケミカル(Dow Chemical))および0.13ミリグラムの「クアンティキュア(Quanticure)」ITX(アルドリッチ(Aldrich))および0.13mgの2,3−ジアザビシクロ[3.2.2]ノン−2−エン,1,4,4−トリメチル−,2,3,−ジオキシド(TAOBN)(コネチカット州06615のP.O.スタットフォードのハンフォード・リサーチ(Hampford Research,Inc.(P.O.Stratford,CT,06615)))を0.424グラムのPGMEA中の透明溶液に溶解させた。2ミルのドクターブレードを用いて、溶液をガラス板上にキャスティングし、10分にわたり空気乾燥させた。その後、フィルムをホットプレート上で70℃で2分にわたり乾燥させた。フィルムに20マイクロメートルのフォトマスクを用いて約600mJ/cm2ブロードバンドUV線を照射し、その後、ホットプレート上で120℃で2分にわたり熱処理した。画像形成部分を0.5%炭酸ナトリウム溶液に浸漬することにより現像した。フィルムを脱イオン水で1分にわたり洗浄し、その後、ホットプレート上で70℃で1分にわたり乾燥させた。残りのフィルムに600mJ/cm2をあふれ照射し、その後、120℃で2分にわたり熱処理した。残りのフィルムを0.5%炭酸ナトリウム溶液で洗い流すことができた。
ポリ(エトキシトリエチレングリコールアクリレート−random−t−ブチルメタクリレート)のコポリマー0.183グラム(70:30モノマーモル比、Mn=10,400)、t−ブチルメタクリレートのDP=5のホモポリマー0.045グラム、0.081グラムの「シラキュア(Cyracure)」(登録商標)UVI−6976(ダウ・ケミカル(Dow Chemical))および0.13ミリグラムの「クアンティキュア(Quanticure)」ITX(アルドリッチ(Aldrich))および0.02gのBHTを0.424グラムのPGMEA中の透明溶液に溶解させた。2ミルのドクターブレードを用いて、溶液をガラス板上にキャスティングし、10分にわたり空気乾燥させた。その後、フィルムをホットプレート上で70℃で2分にわたり乾燥させた。フィルムに20マイクロメートルのフォトマスクを用いて約600mJ/cm2ブロードバンドUV線を照射し、その後、ホットプレート上で120℃で2分にわたり熱処理した。画像形成部分を0.5%炭酸ナトリウム溶液に浸漬することにより現像した。フィルムを脱イオン水で1分にわたり洗浄し、その後、ホットプレート上で70℃で1分にわたり乾燥させた。残りのフィルムに600mJ/cm2をあふれ照射し、その後、120℃で2分にわたり熱処理した。残りのフィルムを0.5%炭酸ナトリウム溶液で洗い流すことができた。
ポリ(メチルメタクリレート−random−メタクリル酸−random−t−ブチルメタクリレート)のコポリマー1.097グラム(50:50:100のモノマーモル比、Mn=70,000、PD=3.1)、t−ブチルメタクリレートのDP=5のホモポリマー0.272グラム、0.485グラムの「シラキュア(Cyracure)」(登録商標)UVI−6976および0.08グラムの「クアンティキュア(Quanticure)」ITX(アルドリッチ(Aldrich))および0.08gのTAOBNを2.564グラムのPGMEA中の透明溶液に溶解させた。2ミルのドクターブレードを用いて、溶液をガラス板上にキャスティングし、10分にわたり空気乾燥させた。その後、フィルムをホットプレート上で70℃で2分にわたり乾燥させた。フィルムに20マイクロメートルのフォトマスクを用いて約1500mJ/cm2ブロードバンドUV線を照射し、その後、ホットプレート上で120℃で2分にわたり熱処理した。画像形成部分を0.5%炭酸ナトリウム溶液に浸漬することにより現像した。
Claims (3)
- 導電性を有する基板を含む電子デバイスを製造する方法であって、
(a) 前記基板の第1の表面に対して、その上に保護層を形成するための光重合性保護層組成物を付着させる工程であって、前記保護層組成物は重合単位としてモノマーを含むポリマーから本質的に構成され、該ポリマー中のモノマーの少なくとも50モル%は、下記の群(I)〜(IV)、
(IV) (I)、(II)および/または(III)の混合物
から選択される構造を含む工程と;
(b) マスクを通して保護層に光照射する工程と;
(c) 前記デバイスを加熱する工程と;
(d) 前記保護層を現像液と接触させて、工程(b)において前記保護層組成物の光非照射部分を除去し、パターン状の保護層を形成する工程と;
(e) パターン状の保護層に光照射する工程と;
(f) 前記デバイスを加熱する工程と;
(g) パターン状の保護層に対してペースト組成物を付着させる工程と;
(h) 前記デバイスに対して、前記基板の第2の表面から光照射して、前記ペースト組成物中にパターンを形成する工程と;
(i) 前記ペースト組成物および前記パターン状の保護層を現像液と接触させて、(1)工程(h)において前記ペースト組成物の光非照射部分および(2)前記パターン状の保護層を除去する工程と
を含むことを特徴とする方法。 - 前記ポリマーが、重合単位として、1−エトキシエチルメタクリレート、1−エトキシエチルアクリレート、1−ブトキシエチルメタクリレート、1−ブトキシエチルアクリレート、1−エトキシ−1−プロピルメタクリレート、1−エトキシ−1−プロピルアクリレート、テトラヒドロピラニルメタクリレート、テトラヒドロピラニルアクリレート、テトラヒドロピラニルp−ビニルベンゾエート、1−エトキシ−1−プロピルp−ビニルベンゾエート、4−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)ベンジルメタクリレート、4−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)ベンジルアクリレート、4−(1−ブトキシエトキシ)ベンジルメタクリレート、4−(1−ブトキシエトキシ)ベンジルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、ネオペンチルメタクリレート、ネオペンチルアクリレート、1−ビシクロ{2,2,2}オクチルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体、1−ビシクロ{2,2,1}ヘプチルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体、1−ビシクロ{2,1,1}ヘキシルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体、1−ビシクロ{1,1,1}ペンチルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体、ならびに1−アダマンチルメタクリレート(またはアクリレート)およびそれらの誘導体よりなる群から選択されるモノマーを含んでなる請求項1に記載の方法。
- 前記ペースト組成物がカーボンナノチューブを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
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