JP4635717B2 - ワークの保持方法および保持装置 - Google Patents
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Description
ワーク(2)に対し操作を行なう対ワーク操作工程(C)の前に、ワーク(2)をチャックするチャック工程(B)と、
対ワーク操作工程(C)の後に、ワーク(2)をアンチャックするアンチャック工程(D)とを備え、
チャック工程(B)では、ワーク(2)に接するように吸着室(18)を配置する配置工程と、ノズル(14)に加圧ガスを流通してノズル(14)に連通する吸着室(18)内のガスを吸引し、ワーク(2)を吸着するために吸着室(18)内を負圧状態とする負圧状態形成工程とを同時に行なって、ワーク(2)をチャックし、
アンチャック工程(D)では、吸着室(18)内の負圧状態を解除して、ワーク(2)をアンチャックするワークの保持方法であって、
アンチャック工程(D)では、ノズル(14)の下流側に設けた加圧ガスの排気室(31)内に加圧ガスをノズル(14)を介さずに導入して排気室(31)を昇圧することにより、排気室(31)から加圧ガスを、負圧状態形成工程にてノズル(14)に流通される加圧ガスとともに吸着室(18)内に供給して、アンチャックすることを特徴としている。
また、請求項2に記載の発明の保持方法では、アンチャック工程(D)では、ノズル(14)に供給する加圧ガスを、負圧状態形成工程のときにノズル(14)に供給していた加圧ガスよりも昇圧させることを特徴としている。
これによると、吸着室(18)内の負圧状態を加圧により速やかに解除して、ワーク(2)をアンチャックすることができる。したがって、アンチャック工程(D)に要する時間を短縮し、ワーク(2)の着脱時間をより一層短縮することができる。
また、請求項3に記載の発明の保持方法では、アンチャック工程(D)では、ノズル(14)に加圧ガスを供給する装置(90)と、加圧ガスをノズル(14)を介さずに排気室(31)に供給する装置とが、同一の装置である。
加圧ガスを噴出するノズル(14)と、
ノズル(14)内と連通するとともに、ワーク(2)をチャックするときにワーク(2)に接するように配置する吸着室(18)と、
ノズル(14)に加圧ガスを供給する第1の加圧ガス供給手段(90)と、
ノズル(14)の下流側に設けられ、ノズル(14)を通過した加圧ガスが排出される排気室(31)と、
加圧ガスをノズル(14)を介さずに排気室(31)に供給する第2の加圧ガス供給手段と、を備え、
第2の加圧ガス供給手段から排気室(31)に加圧ガスを導入して排気室(31)を昇圧することにより、第2の加圧ガス供給手段から供給される加圧ガスをノズル(14)を介して吸着室(18)に供給すると共に、第1の加圧ガス供給手段(90)から供給される加圧ガスをもノズル(14)を介して吸着室(18)に供給して、吸着室(18)にチャックされたワーク(2)をアンチャックすることを特徴としている。
また、請求項9に記載の発明の保持装置では、吸着室(18)にチャックされたワーク(2)をアンチャックする際、第1の加圧ガス供給手段(90)の圧力を昇圧させることを特徴としている。
これによると、吸着室(18)内の負圧状態を加圧により速やかに解除して、ワーク(2)をアンチャックすることができる。したがって、ワーク(2)の着脱時間をより一層短縮することができる。
また、請求項10に記載の発明の保持装置では、第1の加圧ガス供給手段(90)および第2の加圧ガス供給手段は、同一の装置であることを特徴としている。
また、請求項11に記載の発明の保持装置では、吸着室(18)内を大気圧以上に加圧する加圧手段(22、23)を備えることを特徴としている。
これによると、吸着室(18)内の負圧状態を加圧手段(22、23)により速やかに解除して、ワーク(2)をアンチャックすることができる。したがって、ワーク(2)の着脱時間を一層短縮することができる。
昇圧手段(22、23)は、排気室(31)から外部への加圧ガスの排出路(22、32)の断面積を調節する排出路断面積調節手段(23)を備え、
排出路断面積調節手段(23)が排出路断面積を減少させて排気室(31)内の圧力を上昇することを特徴としている。
上記一実施形態では、ワーク着脱時間短縮のために、チャック工程の前から吸着室18内に負圧状態を形成し、チャック工程において吸着室18内が所定圧以下になったときに移動工程に移行し、アンチャック工程で吸着室18内を大気圧以上に加圧していたが、これらを全て採用するものでなく、少なくともいずれかを採用するものであれば、ワークの着脱時間を短縮する効果を得ることができる。
10 チャック(保持装置)
12 導入通路
13 エゼクタ部(エゼクタ)
14 ノズル
16 圧力センサ(圧力検出手段)
18 吸着室(減圧室)
21 カバー
22 排出口(排出路の一部、加圧手段の一部、加圧ガス導入手段の一部、圧力近似手段の一部、昇圧手段の一部)
23 開閉弁(排出口の開閉手段、加圧手段の一部、加圧ガス導入手段の一部、圧力近似手段の一部、昇圧手段の一部)
31 排気室
32 噴出口(排出路の一部)
90 コンプレッサ(加圧ガス供給手段)
B チャック工程
C 移動工程(対ワーク操作工程)
D アンチャック工程
Claims (15)
- ワーク(2)に対し操作を行なう対ワーク操作工程(C)の前に、前記ワーク(2)をチャックするチャック工程(B)と、
前記対ワーク操作工程(C)の後に、前記ワーク(2)をアンチャックするアンチャック工程(D)とを備え、
前記チャック工程(B)では、前記ワーク(2)に接するように吸着室(18)を配置する配置工程と、ノズル(14)に加圧ガスを流通して前記ノズル(14)に連通する前記吸着室(18)内のガスを吸引し、前記ワーク(2)を吸着するために前記吸着室(18)内を負圧状態とする負圧状態形成工程とを同時に行なって、前記ワーク(2)をチャックし、
前記アンチャック工程(D)では、前記吸着室(18)内の負圧状態を解除して、前記ワーク(2)をアンチャックするワークの保持方法であって、
前記アンチャック工程(D)では、前記ノズル(14)の下流側に設けた前記加圧ガスの排気室(31)内に前記加圧ガスを前記ノズル(14)を介さずに導入して前記排気室(31)を昇圧することにより、前記排気室(31)から前記加圧ガスを、前記負圧状態形成工程にて前記ノズル(14)に流通される加圧ガスとともに前記吸着室(18)内に供給して、アンチャックすることを特徴とするワークの保持方法。 - 前記アンチャック工程(D)では、前記ノズル(14)に供給する加圧ガスを、前記負圧状態形成工程のときに前記ノズル(14)に供給していた加圧ガスよりも昇圧させることを特徴とする請求項1に記載のワークの保持方法。
- 前記アンチャック工程(D)では、前記ノズル(14)に前記加圧ガスを供給する装置(90)と、加圧ガスを前記ノズル(14)を介さずに前記排気室(31)に供給する装置とが、同一の装置であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のワークの保持方法。
- 前記アンチャック工程(D)では、前記吸着室(18)内に前記加圧ガスを導入して、前記吸着室(18)内を大気圧以上に加圧することを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載のワークの保持方法。
- 前記アンチャック工程(D)では、前記ノズル(14)より上流側における前記加圧ガスの圧力と前記ノズル(14)より下流側における前記加圧ガスの圧力とを近似させ、前記ノズル(14)から前記吸着室(18)内に前記加圧ガスを導入することを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載のワークの保持方法。
- 前記アンチャック工程(D)では、前記ノズル(14)の下流側に設けた前記加圧ガスの排気室(31)内の圧力を上昇して、前記ノズル(14)より上流側における前記加圧ガスの圧力と前記ノズル(14)より下流側における前記加圧ガスの圧力とを近似させることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1つに記載のワークの保持方法。
- 前記アンチャック工程(D)では、前記加圧ガスを前記ノズル(14)を介さずに導入して前記排気室(31)を昇圧するとともに、前記排気室(31)から外部への前記加圧ガスの排出路断面積を減少して、前記排気室(31)内の圧力を上昇させることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1つに記載のワークの保持方法。
- 加圧ガスを噴出するノズル(14)と、
前記ノズル(14)内と連通するとともに、ワーク(2)をチャックするときに前記ワーク(2)に接するように配置する吸着室(18)と、
前記ノズル(14)に前記加圧ガスを供給する第1の加圧ガス供給手段(90)と、
前記ノズル(14)の下流側に設けられ、前記ノズル(14)を通過した前記加圧ガスが排出される排気室(31)と、
加圧ガスを前記ノズル(14)を介さずに前記排気室(31)に供給する第2の加圧ガス供給手段と、を備え、
前記第2の加圧ガス供給手段から前記排気室(31)に前記加圧ガスを導入して前記排気室(31)を昇圧することにより、前記第2の加圧ガス供給手段から供給される加圧ガスを前記ノズル(14)を介して前記吸着室(18)に供給すると共に、前記第1の加圧ガス供給手段(90)から供給される前記加圧ガスをも前記ノズル(14)を介して前記吸着室(18)に供給して、前記吸着室(18)にチャックされたワーク(2)をアンチャックすることを特徴とするワークの保持装置。 - 前記吸着室(18)にチャックされたワーク(2)をアンチャックする際、前記第1の加圧ガス供給手段(90)の圧力を昇圧させることを特徴とする請求項8に記載のワークの保持装置。
- 前記第1の加圧ガス供給手段(90)および前記第2の加圧ガス供給手段は、同一の装置であることを特徴とする請求項8または請求項9に記載のワークの保持装置。
- 前記吸着室(18)内を大気圧以上に加圧する加圧手段(22、23)を備えることを特徴とする請求項8ないし請求項10のいずれか1つに記載のワークの保持装置。
- 前記加圧手段(22、23)は、前記吸着室(18)内に前記加圧ガスを導入する加圧ガス導入手段(22、23)であることを特徴とする請求項11に記載のワークの保持装置。
- 前記加圧ガス導入手段(22、23)は、前記ノズル(14)より上流側における前記加圧ガスの圧力と前記ノズル(14)より下流側における前記加圧ガスの圧力とを近似させる圧力近似手段(22、23)を有することを特徴とする請求項12に記載のワークの保持装置。
- 前記圧力近似手段(22、23)は、前記排気室(31)内の圧力を上昇する昇圧手段(22、23)であることを特徴とする請求項13に記載のワークの保持装置。
- 前記昇圧手段(22、23)は、前記排気室(31)から外部への前記加圧ガスの排出路(22、32)の断面積を調節する排出路断面積調節手段(23)を備え、
前記排出路断面積調節手段(23)が前記排出路断面積を減少させて前記排気室(31)内の圧力を上昇することを特徴とする請求項14に記載のワークの保持装置。
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JP4635717B2 (ja) * | 2005-05-24 | 2011-02-23 | 株式会社デンソー | ワークの保持方法および保持装置 |
EP2095134B1 (en) | 2006-10-20 | 2017-02-22 | FEI Company | Method and apparatus for sample extraction and handling |
US8134124B2 (en) | 2006-10-20 | 2012-03-13 | Fei Company | Method for creating S/tem sample and sample structure |
CN103077911A (zh) * | 2008-08-28 | 2013-05-01 | 东京应化工业株式会社 | 涂敷装置 |
FR2950556B1 (fr) * | 2009-09-29 | 2011-09-23 | Thibaut | Procede de montage et dispositif de bridage d'une piece a travailler sur une table de travail |
JP5411651B2 (ja) * | 2009-10-14 | 2014-02-12 | 株式会社妙徳 | 吸着ユニット |
KR101056705B1 (ko) * | 2011-05-09 | 2011-08-12 | 한국뉴매틱(주) | 진공 그리퍼 장치 |
JP2015508302A (ja) * | 2011-12-23 | 2015-03-19 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | ポータブルメディカルデバイスを固定するためのポータブルコネクタ |
JP5843226B2 (ja) * | 2012-08-28 | 2016-01-13 | 日産自動車株式会社 | オイルシールの圧入装置 |
CN103887221B (zh) * | 2012-12-20 | 2016-09-28 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 一种晶片升降销装置 |
GB2509182A (en) | 2012-12-21 | 2014-06-25 | Xerex Ab | Vacuum ejector with multi-nozzle drive stage and booster |
GB2509184A (en) | 2012-12-21 | 2014-06-25 | Xerex Ab | Multi-stage vacuum ejector with moulded nozzle having integral valve elements |
US10753373B2 (en) | 2012-12-21 | 2020-08-25 | Piab Aktiebolag | Vacuum ejector nozzle with elliptical diverging section |
GB2509183A (en) | 2012-12-21 | 2014-06-25 | Xerex Ab | Vacuum ejector with tripped diverging exit flow nozzle |
KR101591242B1 (ko) * | 2014-04-07 | 2016-02-03 | 나승옥 | 워크 배출장치 |
GB201418117D0 (en) | 2014-10-13 | 2014-11-26 | Xerex Ab | Handling device for foodstuff |
CA3171409A1 (en) | 2021-03-02 | 2022-09-09 | Benjamin LOTHSCHUTZ | Laser part retention system and method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4985478U (ja) * | 1972-11-17 | 1974-07-24 | ||
JPH042787Y2 (ja) * | 1986-11-08 | 1992-01-30 | ||
JPH0426229Y2 (ja) * | 1986-10-30 | 1992-06-24 | ||
JP2001054886A (ja) * | 1999-08-16 | 2001-02-27 | Koganei Corp | 吸着搬送方法および吸着搬送装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0798315B2 (ja) * | 1987-08-28 | 1995-10-25 | 日本電装株式会社 | 吸着式チャック装置 |
JP2658552B2 (ja) * | 1990-10-25 | 1997-09-30 | トヨタ自動車株式会社 | スラストメタル組付装置 |
JPH0983193A (ja) * | 1995-09-13 | 1997-03-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品実装機の部品吸着ヘッド |
DE29916197U1 (de) * | 1999-09-15 | 2000-03-23 | Ristau Harald | Schraub- und dübellose Befestigung in Form eines Vakuumsystems mit integrierter Gerätehalterung |
US6437868B1 (en) * | 1999-10-28 | 2002-08-20 | Agere Systems Guardian Corp. | In-situ automated contactless thickness measurement for wafer thinning |
DE60102569T2 (de) * | 2000-02-22 | 2004-09-30 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Saugdüse zum ansaugen von bauelementen |
JP2001260065A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-25 | Advantest Corp | 部品保持装置 |
JP4505822B2 (ja) * | 2003-04-24 | 2010-07-21 | 株式会社ニコン | 研磨装置、研磨方法及び研磨装置を用いたデバイス製造方法 |
US7059045B2 (en) * | 2003-12-04 | 2006-06-13 | Intel Corporation | Method for handling integrated circuit die |
JP4635717B2 (ja) * | 2005-05-24 | 2011-02-23 | 株式会社デンソー | ワークの保持方法および保持装置 |
-
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4985478U (ja) * | 1972-11-17 | 1974-07-24 | ||
JPH0426229Y2 (ja) * | 1986-10-30 | 1992-06-24 | ||
JPH042787Y2 (ja) * | 1986-11-08 | 1992-01-30 | ||
JP2001054886A (ja) * | 1999-08-16 | 2001-02-27 | Koganei Corp | 吸着搬送方法および吸着搬送装置 |
Also Published As
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---|---|
US7603767B2 (en) | 2009-10-20 |
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US20060284357A1 (en) | 2006-12-21 |
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