JP4634354B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
また、トラック間距離が近づくために、磁気記録装置は極めて高精度のトラックサーボ技術を要求されると同時に、記録を幅広く実行し、再生は隣接トラックからの影響をできるだけ排除するために記録時よりも狭く実行する方法が一般的に用いられている。この方法ではトラック間の影響を最小限に抑えることができる反面、再生出力を十分得ることが困難であり、そのために十分なSNRを確保することがむずかしいという問題がある。
ディスクリートトラック媒体の一例として、表面に凹凸パターンを形成した非磁性基板に磁気記録媒体を形成して、物理的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成してなる磁気記録媒体が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため熱揺らぎの影響が出にくく、隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされている。
この特許文献5には磁性層上の磁気トラック間領域以外の領域にはマスクを設け、イオン等の照射を行っているが、マスクとしてSOGは記載されていない。
イオン注入によるマスクとして、有機レジストあるいは、媒体表面に金属あるいはSiO2などの酸化物層を被覆し、これを有機レジストを用いて加工した歯ハードマスクなどが用いられる。
しかしながら、これらのマスクでは以下の点で問題がある。
有機レジストでは、イオン注入に用いる高エネルギーのイオンの衝撃に対して、密度が小さいため、十分な遮蔽効果が得られない。また、結合が弱く、イオンとの衝突により容易に飛散してしまい、十分な耐性(エッチング耐性)を付与できない。
(2)原子を照射する際のSOG膜中のSi−O結合を、SOG膜中の全体の結合に対して70%以上含むことを特徴とする上記(1)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(4)凹凸形状を転写する直前のSOG膜中のSi−O結合を、SOG膜中の全体の結合に対して10%〜30%の範囲内で含むことを特徴とする上(3)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(5)レジストを部分的に除去または薄くする工程を、塗布したレジストの表面を部分的にエッチングすることにより行うこと特徴とする上記(1)または(2)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(7)レジストの除去または薄くした部分の幅を100nm以下、厚い部分の幅を200nm以下とすることを特徴とする上記(1)〜(6)の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(8)注入する原子が、B,P,Si,F,H,C,In,Bi,Kr,Ar,Xe,W,As,Ge,Mo,Snからなる群から選ばれた何れか一種以上の原子であることを特徴とする上記(1)〜(7)の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(10)磁性層の厚さが3〜20nmであることを特徴とする上記(1)〜(9)の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
この中で本発明は、磁気的に分離した磁気記録パターンが、磁気記録トラック及びサーボ信号パターンである、いわゆる、ディスクリート型磁気記録媒体に適用するのが、その製造における簡便性から好ましい。
本発明を、ディスクリート型磁気記録媒体を例にして説明する。
記録密度を高めるため、磁気的パターンを有する磁性層3の磁性部幅Wは200nm以下、非磁性部幅Lは100nm以下とすることが好ましい。従ってトラックピッチP(=W+L)は300nm以下の範囲で、記録密度を高めるためにはできるだけ狭くする。このようにするにはレジストの厚い方の幅は上記Wと等しく200nm以下とし、薄い方の幅は上記Lと等しく100nm以下にして原子を注入すればよい。
例えば、面内磁気記録媒体用の磁気記録層としては、非磁性のCrMo下地層と強磁性のCoCrPtTa磁性層からなる積層構造が利用できる。
本発明では、この磁気記録層に、磁気的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成する。この工程は、磁気記録層を設ける工程の直後に行っても良いが、磁気記録層の表面に保護膜層5を設けた後で潤滑層を設ける前に行っても良い。
保護膜層5としては、炭素(C)、水素化炭素(HxC)、窒素化炭素(CN)、アルモファスカーボン、炭化珪素(SiC)等の炭素質層やSiO2、Zr2O3、TiNなど、通常用いられる保護膜層材料を用いることができる。また、保護膜層が2層以上の層から構成されていてもよい。
保護膜層の上には潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられ、通常1〜4nmの厚さで潤滑層を形成する。
本発明では、例えば磁性層として70Co−5Cr−15Pt−10SiO2合金、保護層としてCarbonを成膜する。その後、保護層の表面にレジストを塗布しフォトリソグラフィー技術を用いて磁気的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号パターンを形成する。
磁性層に部分的に原子を注入する工程において、磁性層で原子を注入しない箇所のみにレジストを残し、原子を注入する箇所のレジストを完全に除去して原子を注入すると、原子は効率良く磁性層に注入されるが、これにより磁性層がダメージを受けたり、エッチングされる問題が生ずる場合がある。レジストを完全に除去して原子を注入する方法も例えば保護層がエッチングにより完全に除去されてしまう前に注入を終了させる、あるいは予め減少を見越して十分厚く形成するなど、工夫すれば可能であるが、好ましくは磁性層で、原子を注入する箇所のレジストを完全には除去せず、膜厚を薄くして残すのがよい。これにより、磁性層等の原子を注入した箇所のダメージを著しく緩和でき、該箇所の磁性層の非磁性化や非晶質化を達成すると共に、該箇所の表面平滑性も維持できることができる。
本発明では、磁気記録トラック及びサーボ信号パターン部を磁気的に分離する非磁性部を、すでに成膜された磁性層に原子を注入し磁性層を非磁性化することにより形成し、ディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造することを特徴とする。このような方法を用いてディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造することにより、磁気トラック間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減させることにより磁気記録の際の書きにじみをなくし、高い面記録密度の磁気記録媒体を提供することが可能となる。これは、磁性層に原子を注入することにより、磁性層が非磁性の材料に変化したり、磁性層の結晶構造が変化することにより磁性層が磁性を失ったり、また後述するように、磁性層が非晶質化してその磁性を失うためである。
さらに本発明では、磁気記録トラック及びサーボ信号パターン部を磁気的に分離する非磁性部を、すでに成膜された磁性層に、磁性層の厚さ方向に均一に原子を注入し磁性層を非晶質化することにより形成することを特徴とする。
このような方法を用いてディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造することにより、磁気トラック間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減させることにより磁気記録の際の書きにじみをなくし、高い面記録密度の磁気記録媒体を提供することが可能となる。
また本発明では、磁性層への原子の注入を、磁性層の上に保護膜を形成した後に行うのが好ましい。このような工程を採用することにより、原子注入を行った後に、保護膜を形成する必要がなくなり、製造工程が簡便になり、生産性の向上および磁気記録媒体の製造工程における汚染の低減の効果が得られる。なお、本発明では、磁性層の形成後、保護膜の形成前でも、原子の注入を行い、磁性層に気記録トラック及びサーボ信号パターン部を磁気的に分離する非磁性部を形成することも可能である。
前記のプロセスで用いられるスタンパーは、例えば、金属プレートに電子線描画などの方法を用いて微細なトラックパターンを形成したものが使用でき、材料としてはプロセスに耐えうる硬度、耐久性が要求される。たとえばNiなどが使用できるが、前述の目的に合致するものであれば材料は問わない。スタンパーには、通常のデータを記録するトラックの他にバーストパターン、グレイコードパターン、プリアンブルパターンといったサーボ信号のパターンも形成する。
磁気記録媒体の各層のうち、保護膜層3以外の形成には一般的に成膜方法として使用されるRFスパッタリング法やDCスパッタリング法などの使用が可能である。
一方、保護膜層の形成は、一般的にはDiamond Like Carbonの薄膜をP−CVDなどを用いて成膜する方法が行われるが特に限定されるものではない。
(実施例1)
HD用ガラス基板をセットした真空チャンバをあらかじめ1.0×10-5Pa以下に真空排気した。ここで使用したガラス基板はLi2Si2O5、Al2O3−K2O、Al2O3−K2O、MgO−P2O5、Sb2O3−ZnOを構成成分とする結晶化ガラスを材質とし、外径65mm、内径20mm、平均表面粗さ(Ra)は2オングストロームである。
その後、SOGを更に加熱硬化させ、SOGに含まれるSi−O結合を、SOGに含まれる全体の結合に対して80%まで高めた。加熱硬化後の凸部のレジストの厚さは150nm、凹部のレジストの厚さは30nmであった。
この後、イオンビーム法により、Ar+原子を打ち込んだ。イオンビームによる注入量、加速電圧などの条件は表1のようにした。得られた磁気記録媒体は図1に示すもので、磁性層の幅Wは100nm、非磁性層の幅Lは100nmである。
なお、イオンビームの注入量、加速電圧の条件は、予備実験であらかじめ設定する必要がある。また、磁性層が非磁性化する条件、磁性層が非晶質化する条件も、あらかじめ、X線回折測定、電子線回折測定等により設定しておく必要がある。
実施例の磁気記録媒体についてグライドアバランチ特性を評価した。評価には、グライドライト社製50%スライダーヘッドをもちい、ソニーテクトロ社製DS4100装置にて測定した。測定結果を表1にしめす。実施例の磁気記録媒体はグライドアバランチが低くヘッド浮上特性が良好であることがわかる。
2 軟磁性層および中間層
3 磁気記録層
4 非磁性化層
5 保護層
11 媒体駆動部
27 磁気ヘッド
28 ヘッド駆動部
29 記録再生信号系
30 磁気記録媒体
Claims (10)
- 非磁性基板上に磁性層および炭素保護膜層を有し、その磁性層に部分的に原子を注入し、磁性層の原子を注入した箇所を非磁性化または非晶質化することにより、磁気的に分離した磁気記録パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法であって、磁性層に部分的に原子を注入する工程が、磁性層を形成した後に該磁性層の表面に炭素保護膜層を形成し、該炭素保護膜層の表面にレジストとしてSOG(スピン・オン・グラス)膜を塗布し、そのレジストを部分的に除去または膜厚を薄くし、その表面に原子を照射することにより、レジストを除去または薄くした箇所を通して磁性層に部分的に原子を注入する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 原子を照射する際のSOG膜中のSi−O結合を、SOG膜中の全体の結合に対して70%以上含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- レジストを部分的に除去または薄くする工程を、塗布したレジストの表面に、凹凸形状を表面に形成したスタンプを用いて、その凹凸形状をレジスト表面に転写することにより行うこと特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 凹凸形状を転写する直前のSOG膜中のSi−O結合を、SOG膜中の全体の結合に対して10%〜30%の範囲内で含むことを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- レジストを部分的に除去または薄くする工程を、塗布したレジストの表面を部分的にエッチングすることにより行うこと特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 部分的に除去または薄くした箇所のレジストの厚さが、0nm〜150nmの範囲内であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- レジストの除去または薄くした部分の幅を100nm以下、厚い部分の幅を200nm以下とすることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 注入する原子が、B,P,Si,F,H,C,In,Bi,Kr,Ar,Xe,W,As,Ge,Mo,Snからなる群から選ばれた何れか一種以上の原子であることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 注入する原子が、Kr、または、Si原子であることを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 磁性層の厚さが3〜20nmであることを特徴とする請求項1〜9の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
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