JP4634063B2 - Black conductive mesh fabric and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、ガラス板、透明樹脂板と積層され、テレビジョン、コンピュータ、プラズマディスプレイなどの電子表示機器の前面フィルタとして用いられる、電子表示機器から放射される電磁波を遮蔽し、且つ、電子表示機器画面に防眩性を与える黒色導電性メッシュ織物、およびその製造方法に関するものである。 The present invention is laminated with a glass plate and a transparent resin plate, and is used as a front filter of an electronic display device such as a television, a computer, or a plasma display, shields electromagnetic waves radiated from the electronic display device, and electronic display device The present invention relates to a black conductive mesh fabric that imparts antiglare properties to a screen, and a method for producing the same.
黒色導電性メッシュ織物は、繊維表面に金属被膜を有するメッシュ織物または金属繊維メッシュ織物の金属表面を黒色化することによって製造される。 The black conductive mesh fabric is produced by blackening the mesh fabric having a metal coating on the fiber surface or the metal surface of the metal fiber mesh fabric.
金属を黒色化する方法としては、（１）特許文献１に記載のように、銅被膜を有する物品を高温の酸化性アルカリ溶液に浸漬し、銅の表面に黒色酸化銅を形成させる方法、（２）特許文献２に記載のように、銅層を有する物品を、硫化物イオンを含有する水溶液に浸漬し、銅の表面に黒色硫化銅を形成させる方法、（３）特許文献３に記載のように、金属層を有する物品を、カーボンなどの黒色微粒子を含有するカチオン性懸濁液に浸漬し、金属層を有する物品を陰極として黒色微粒子を電気的に積層させる方法、（４）特許文献４に記載のように、亜鉛系合金層を有する物品に黒色クロメート処理を行う方法、（５）特許文献５に記載のように、金属被膜を有する物品を、ニッケルイオン、錫イオンを含有するめっき液に浸漬し、金属被膜を有する物品を陰極として黒色ニッケル錫合金めっきを電気的に析出させる方法、（６）特許文献６に記載のように、金属層を有する物品を、ニッケルイオン、亜鉛イオン、および硫黄含有化合物を含有するめっき液に浸漬し、金属層を有する物品を陰極として黒色ニッケル亜鉛合金めっきを電気的に析出させる方法、（７）特許文献７に記載のように、無電解めっきのための前処理が施された物品を、ニッケルイオン、亜鉛イオン、還元剤、および硫黄含有化合物を含有する無電解めっき液に浸漬し、黒色ニッケル亜鉛めっきを無電解的に析出させる方法などがある。 As a method of blackening a metal, (1) as described in Patent Document 1, an article having a copper coating is immersed in a high-temperature oxidizing alkaline solution to form black copper oxide on the surface of copper ( 2) A method in which an article having a copper layer is immersed in an aqueous solution containing sulfide ions to form black copper sulfide on the surface of copper as described in Patent Document 2, and (3) described in Patent Document 3. Thus, an article having a metal layer is immersed in a cationic suspension containing black fine particles such as carbon, and the black fine particles are electrically laminated using the article having the metal layer as a cathode, (4) Patent Document 4. A method of performing black chromate treatment on an article having a zinc-based alloy layer as described in No. 4, and (5) an article having a metal film as described in Patent Document 5, which contains nickel ions and tin ions. Immerse in liquid and coat metal A method of electrically depositing black nickel-tin alloy plating using an article having a cathode as a cathode, and (6) an article having a metal layer as described in Patent Document 6, containing nickel ions, zinc ions, and a sulfur-containing compound (7) A method of electrically depositing black nickel zinc alloy plating using an article having a metal layer as a cathode, and pretreatment for electroless plating as described in Patent Document 7 There is a method of immersing the article in an electroless plating solution containing nickel ions, zinc ions, a reducing agent, and a sulfur-containing compound to deposit black nickel zinc plating electrolessly.
しかしながら、上記の方法には、以下の問題点があった。（１）、（２）の場合、形成される黒色酸化銅や黒色硫化銅は導電性がないため十分な表面導電性が得られない、かつ黒色酸化銅や黒色硫化銅の針状結晶がもろいため耐磨耗性が低い。（３）の場合、黒色微粒子の導電性が不十分であるため十分な表面導電性が得られない。（４）の場合、黒色クロメート処理液に６価クロムが含まれるため廃液処理が困難である。（５）の場合、ニッケル錫合金めっきの黒色度が不十分である。（６）の場合、ニッケル亜鉛合金めっきの亜鉛含有率が極端に高いため、湿熱環境下において白錆が発生する。（７）の場合、十分な黒色度を有するニッケル亜鉛めっきを達成するためには、高温で長時間のめっき処理が必要で、生産性の面で不利である。 However, the above method has the following problems. In the case of (1) and (2), since the formed black copper oxide and black copper sulfide are not conductive, sufficient surface conductivity cannot be obtained, and the needle-like crystals of black copper oxide and black copper sulfide are brittle. Therefore, wear resistance is low. In the case of (3), since the conductivity of the black fine particles is insufficient, sufficient surface conductivity cannot be obtained. In the case of (4), waste liquid treatment is difficult because hexavalent chromium is contained in the black chromate treatment solution. In the case of (5), the blackness of the nickel tin alloy plating is insufficient. In the case of (6), since the zinc content of the nickel zinc alloy plating is extremely high, white rust is generated in a humid heat environment. In the case of (7), in order to achieve nickel-zinc plating having sufficient blackness, a long-time plating process is required at a high temperature, which is disadvantageous in terms of productivity.
本発明の目的は、表面導電性、黒色度、湿熱耐久性、防眩性に優れ、電子表示機器用の電磁波遮蔽材として適する黒色導電性メッシュ織物を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a black conductive mesh fabric that is excellent in surface conductivity, blackness, wet heat durability, and antiglare properties and is suitable as an electromagnetic shielding material for electronic display devices.
本発明は、第１に、表面に第１の微細凹凸をもつ導電性金属層を有する長繊維糸条からなるメッシュ織物の表面にニッケル亜鉛めっきによって第１の微細凹凸よりさらに微細な凹凸をもつ黒色導電性金属被膜が形成されていることを特徴とする黒色導電性メッシュ織物である。 The present invention has the first, the first more fine irregularities than the first microscopic irregularities of nickel galvanized surface of the mesh fabric made of long fiber yarn having a conductive metal layer having a fine uneven surface A black conductive mesh fabric in which a black conductive metal film is formed.
本発明は、第２に、導電性金属層を有する長繊維糸条からなるメッシュ織物の表面に第１の微細凹凸を形成し、第１の微細凹凸上にニッケル亜鉛めっきによって第１の微細凹凸よりさらに微細な凹凸をもつ黒色導電性金属被膜を形成することを特徴とする黒色導電性メッシュ織物の製造方法である。 Secondly, according to the present invention, first fine irregularities are formed on the surface of a mesh fabric made of long fiber yarns having a conductive metal layer, and the first fine irregularities are formed on the first fine irregularities by nickel zinc plating. It is a method for producing a black conductive mesh fabric, wherein a black conductive metal film having finer unevenness is formed.
本発明の黒色導電性メッシュ織物における上記の微細凹凸の深さは０．１〜１μｍであることが好ましく、メッシュ織物の導電性金属層をエッチング処理または凹凸めっき処理することで好ましく形成される。 The depth of the fine unevenness in the black conductive mesh fabric of the present invention is preferably 0.1 to 1 μm, and is preferably formed by etching or uneven plating treatment of the conductive metal layer of the mesh fabric.
また上記の微細凹凸上に設ける黒色導電性金属被膜はさらに微細な表面状態の黒色導電性金属被膜からなることが好ましく、黒色導電性金属を無電解めっきすることによって好ましく形成される。 Moreover, it is preferable that the black conductive metal film provided on the fine irregularities is composed of a black conductive metal film having a finer surface state, and is preferably formed by electroless plating of the black conductive metal.
本発明の黒色導電性メッシュ織物は表面導電性、黒色度、湿熱耐久性、防眩性に優れており、電子表示機器用の電磁波遮蔽材として好適に用いられる。 The black conductive mesh fabric of the present invention is excellent in surface conductivity, blackness, wet heat durability, and antiglare properties, and is suitably used as an electromagnetic shielding material for electronic display devices.
本発明においてメッシュ織物とは、衣料用などに通常用いられる織物に比べ、糸条間隔が大きく、光透過性のものをいう。織物が遮光性であると、電子表示機器の前面フィルタに適用することができない。可視光透過率は５０〜８０％であることが好ましく、より好ましくは５５〜７５％である。可視光透過率が５０％未満であると画面が暗く認識しにくくなり、また、可視光透過率が８０％を越えると、製織及び加工性が悪くなる。 In the present invention, the mesh fabric refers to a fabric having a large thread interval and light transmittance as compared with a fabric that is usually used for clothing. If the fabric is light-shielding, it cannot be applied to the front filter of an electronic display device. The visible light transmittance is preferably 50 to 80%, more preferably 55 to 75%. If the visible light transmittance is less than 50%, the screen is dark and difficult to recognize, and if the visible light transmittance exceeds 80%, weaving and workability deteriorate.
メッシュ織物の組織としては、特に限定されるものでなく、平織り、朱子織り、綾織りなどを挙げることができる。なかでも、平織りは、経糸と緯糸が１本ずつ交互に交錯し合うので、経糸と緯糸の交点における拘束力が高く、形態安定性が増し、取り扱いに優れるので、好ましく用いられる。 The structure of the mesh fabric is not particularly limited, and examples thereof include plain weave, satin weave, and twill weave. Of these, plain weave is preferably used because warps and wefts are alternately crossed one by one, so that the binding force at the intersection of the warp and weft is high, the form stability is increased, and the handling is excellent.
メッシュ織物を構成する糸条は、毛羽などの発生をおさえるために、長繊維（フィラメント）からなる糸条であることが要求される。その形態は、モノフィラメント糸条やマルチフィラメント糸条のいずれであってもよく、特に限定されない。 The yarn constituting the mesh fabric is required to be a yarn composed of long fibers (filaments) in order to suppress generation of fluff and the like. The form may be either a monofilament yarn or a multifilament yarn, and is not particularly limited.
繊維素材は、長繊維糸条をなし得るものであれば特に限定されるものでなく、合成繊維、半合成繊維、再生繊維、無機繊維、金属繊維など特に限定されない。また、天然の長繊維である絹を用いることもできる。なかでも加工性や耐久性を考慮すると、合成繊維が好ましく用いられる。合成繊維として具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系繊維、ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド系繊維、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系繊維、ポリアクリロニトリル系繊維、ポリビニルアルコール系繊維、ポリウレタン系繊維、ポリ塩化ビニル系繊維などを挙げることができ、これらが２種類以上組み合わされていてもよい。本発明では、ポリエステル系繊維またはポリアミド系繊維がより好ましく用いられる。 The fiber material is not particularly limited as long as it can form a long fiber yarn, and is not particularly limited, such as synthetic fiber, semi-synthetic fiber, regenerated fiber, inorganic fiber, and metal fiber. Moreover, silk which is a natural long fiber can also be used. Of these, synthetic fibers are preferably used in consideration of processability and durability. Specific examples of synthetic fibers include polyester fibers such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamide fibers such as nylon 6 and nylon 66, polyolefin fibers such as polyethylene and polypropylene, polyacrylonitrile fibers, polyvinyl alcohol fibers, Examples thereof include polyurethane fibers and polyvinyl chloride fibers, and two or more of these may be combined. In the present invention, polyester fibers or polyamide fibers are more preferably used.
上記、長繊維糸条の線径（直径）は２０〜５０μｍであることが好ましく、糸密度は、経糸密度、緯糸密度とも５０〜３００本／インチであることが好ましい。 The filament diameter (diameter) of the long fiber yarn is preferably 20 to 50 μm, and the yarn density is preferably 50 to 300 yarns / inch for both the warp density and the weft density.
長繊維糸条の線径が２０μｍ未満であると、製織が困難で加工性が悪くなる。線径が５０μｍを越えると、画面のモワレが発生しやすくなる。より好ましい線径は２０〜４０μｍである。線径が２０〜５０μｍである長繊維糸条の繊度は、その繊維素材によっても異なるが、通常４〜３０ｄｔｅｘ（デシテックス）に相当する。 When the filament diameter of the long fiber yarn is less than 20 μm, weaving is difficult and workability is deteriorated. If the wire diameter exceeds 50 μm, moire of the screen tends to occur. A more preferable wire diameter is 20 to 40 μm. Although the fineness of the long fiber yarn having a wire diameter of 20 to 50 μm varies depending on the fiber material, it usually corresponds to 4 to 30 dtex (decitex).
また、糸密度が５０本／インチ未満であると、十分な電磁波遮蔽効果が得られない。糸密度が３００本／インチを越えると、可視光透過率が低下し、前面フィルタとして電子表示機器画面の前面に用いたとき画面が暗くなる。より好ましい糸密度は１００〜２００本／インチである。 Further, when the yarn density is less than 50 / inch, a sufficient electromagnetic wave shielding effect cannot be obtained. When the yarn density exceeds 300 yarns / inch, the visible light transmittance decreases, and the screen becomes dark when used as a front filter on the front surface of the electronic display device screen. A more preferable yarn density is 100 to 200 yarns / inch.
長繊維糸条の線径、および糸密度が上記の数値範囲内にあるとき、糸条間に形成される孔１個あたりの面積は、通常、３６００〜１０００００μｍ２であり、開口率は通常５０〜８０％である。 When the filament diameter of the long fiber yarn and the yarn density are within the above numerical range, the area per hole formed between the yarns is usually 3600 to 100,000 μm 2 and the aperture ratio is usually 50. ~ 80%.
本発明において、導電性金属層を有する長繊維糸状からなるメッシュ織物とは、上記合成繊維、半合成繊維、再生繊維、無機繊維、または天然繊維からなる長繊維糸条を用いて構成されるメッシュ織物の繊維表面に金属被膜を形成したメッシュ織物（以下、金属被覆メッシュ織物と称する）、または金属繊維からなる長繊維糸条を用いて構成されるメッシュ織物（以下、金属繊維メッシュ織物と称する）をいう。 In the present invention, the mesh fabric composed of long fiber yarns having a conductive metal layer is a mesh composed of long fiber yarns composed of the synthetic fibers, semi-synthetic fibers, regenerated fibers, inorganic fibers, or natural fibers. A mesh fabric (hereinafter referred to as a metal-coated mesh fabric) in which a metal film is formed on the fiber surface of the fabric, or a mesh fabric (hereinafter referred to as a metal fiber mesh fabric) configured using long fiber yarns made of metal fibers. Say.
金属被膜の形成に用いられる金属、および金属繊維の原料となる金属は、導電性、電磁波シールド性を有するものであれば特に限定されることはなく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、クロムなどを用いることができるが、コスト、加工性、シールド性の点から銅が好ましい。 The metal used for forming the metal coating and the metal used as the raw material for the metal fiber are not particularly limited as long as they have conductivity and electromagnetic shielding properties. For example, gold, silver, copper, nickel, chromium However, copper is preferable from the viewpoints of cost, workability, and shielding properties.
メッシュ織物の繊維表面に金属被膜を形成するには、蒸着法、スパッタリング法、電気めっき法、無電解めっき法など従来公知の方法を採用することができる。なかでも、形成される被膜の均一性、および生産性を考慮すると、無電解めっき法、或いは無電解めっき法と電気めっき法の併用が好ましい。 In order to form a metal film on the fiber surface of the mesh fabric, a conventionally known method such as a vapor deposition method, a sputtering method, an electroplating method, or an electroless plating method can be employed. Among these, in consideration of the uniformity of the formed film and productivity, the electroless plating method or the combined use of the electroless plating method and the electroplating method is preferable.
メッシュ織物の繊維表面に形成される金属被膜の定着を確実にするためには、予め、繊維表面に付着している糊剤、油剤、ゴミなどの不純物を、精練により除去しておくことが好ましい。精練は従来公知の方法を採用することができ、特に限定されない。 In order to ensure the fixing of the metal film formed on the fiber surface of the mesh fabric, it is preferable to remove impurities such as glue, oil, dust, etc. adhering to the fiber surface in advance by scouring. . For the scouring, a conventionally known method can be adopted and is not particularly limited.
さらに、表面電位の調整や、精練後に残留している油剤の除去を目的に、コンディショニングが行なわれる。コンディショニングは従来公知の方法を採用することができ、特に限定されない。例えば、表面電位の調整には、カチオン性界面活性剤が用いられ、アニオン性の触媒の吸着を促進している。また、油剤の除去には、非イオン性界面活性剤が用いられる。 Furthermore, conditioning is performed for the purpose of adjusting the surface potential and removing the oil remaining after scouring. Conditioning can adopt a conventionally known method, and is not particularly limited. For example, a cationic surfactant is used to adjust the surface potential and promotes adsorption of an anionic catalyst. A nonionic surfactant is used for removing the oil agent.
無電解めっきは、周知のように、触媒を付与した後、化学めっきすることにより行なわれる。触媒を付与するには、塩化錫溶液による感受性化の後、塩化パラジウム溶液による活性化を行う方法、錫パラジウムコロイドによる一液性触媒を付与した後、コロイド表面層の錫イオンを除去し触媒として有効なパラジウムを露出させる方法など、特に限定されない。次いで、金属塩、還元剤、緩衝剤、ｐＨ調整剤などからなる化学めっき浴で処理して、金属を析出させる。 As is well known, electroless plating is performed by chemical plating after applying a catalyst. To apply the catalyst, after sensitization with a tin chloride solution, activation with a palladium chloride solution, after applying a one-part catalyst with a colloidal tin palladium colloid, the tin ions on the colloid surface layer are removed and used as a catalyst. The method for exposing effective palladium is not particularly limited. Next, the metal is deposited by treatment with a chemical plating bath comprising a metal salt, a reducing agent, a buffering agent, a pH adjusting agent and the like.
本発明の黒色導電性メッシュ織物は、上記金属被覆メッシュ織物、または金属繊維メッシュ織物の金属表面に微細凹凸が形成され、該凹凸上にさらに黒色導電性金属被膜が形成された構成を有するものである。金属被覆メッシュ織物、または金属繊維メッシュ織物の金属表面に微細凹凸が形成されることにより、該メッシュ織物が積層されたテレビジョン、コンピュータ、プラズマディスプレイなどの画面に光が入射したとき、その反射光が乱反射光となり、ディスプレイへ防眩性を与えることができる。また、微細凹凸上にさらに黒色導電性金属被膜が形成されることにより、黒色導電性メッシュ織物の黒色度がアップし、画面の色再現域をアップすることができる。 The black conductive mesh fabric of the present invention has a structure in which fine irregularities are formed on the metal surface of the metal-coated mesh fabric or metal fiber mesh fabric, and a black conductive metal film is further formed on the irregularities. is there. When fine light is formed on the metal surface of a metal-coated mesh fabric or metal fiber mesh fabric, when light enters the screen of a television, computer, plasma display, etc. on which the mesh fabric is laminated, the reflected light is reflected. Becomes irregular reflection light and can give the display an antiglare property. Further, by forming a black conductive metal film on the fine irregularities, the blackness of the black conductive mesh fabric can be increased and the color reproduction range of the screen can be increased.
黒色導電性金属被膜の表面状態は、先に形成された微細凹凸よりも、さらに微細な凹凸状（微粒子状）であることが好ましく、このように形成されることにより、乱反射がより一層促進され、防眩性に有効である。 The surface state of the black conductive metal film is preferably finer unevenness (particulate) than the previously formed fine unevenness, and by forming in this way, irregular reflection is further promoted. It is effective for anti-glare property.
金属被覆メッシュ織物、または金属繊維メッシュ織物の金属表面に形成される微細凹凸の深さは、０．１〜１μｍであることが好ましい。深さが０．１μｍ未満であると、十分な乱反射性能が得られず、画面へ防眩性を与えることができない。深さが１μｍを越えると、金属被膜の強度が低下し、耐摩耗性が低下する。より好ましい深さは０.２〜０.８μｍである。 It is preferable that the depth of the fine unevenness formed on the metal surface of the metal-coated mesh fabric or the metal fiber mesh fabric is 0.1 to 1 μm. If the depth is less than 0.1 μm, sufficient irregular reflection performance cannot be obtained, and the screen cannot be provided with antiglare properties. When the depth exceeds 1 μm, the strength of the metal coating is lowered and the wear resistance is lowered. A more preferable depth is 0.2 to 0.8 μm.
黒色導電性メッシュ織物の黒色度は、Ｘ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系におけるＹ１０値を指標として表すことができる。ここでＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系とは、国際証明委員会（Coｍｍission Internationale de l’Eclairage）で１９６４年に採択した等色関数x１０（λ）、y１０（λ）、z１０（λ）に基づく３色表色系であり、Ｙ１０値は以下の式によって求められる。 The blackness of the black conductive mesh fabric can be expressed using the Y 10 value in the X 10 Y 10 Z 10 color system as an index. Here, the X 10 Y 10 Z 10 color system is the color matching functions x 10 (λ), y 10 (λ), z 10 (adopted in 1964 by the International Certification Committee (Eclairage)). a 3 Irohyo color system based on lambda), Y 10 value is determined by the following equation.
本発明においてＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系におけるＹ１０値は３以下であることが好ましく、より好ましくは２以下、さらに好ましくは０に限りなく近いことである。Ｙ１０値が３を越えると、灰色を帯びるようになり、黒色度が不十分になる。Ｙ１０値０は完全無反射体、例えばブラックホールでのみ達成することができ、現実的には存在しない。 In the present invention, the Y 10 value in the X 10 Y 10 Z 10 color system is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and still more preferably close to 0. When the Y 10 value exceeds 3, the color becomes gray and the blackness becomes insufficient. A Y 10 value of 0 can only be achieved with a completely non-reflecting material, such as a black hole, and does not exist in practice.
本発明の黒色導電性メッシュ織物は、金属被覆メッシュ織物、または金属繊維メッシュ織物の金属表面に微細凹凸を形成し、該凹凸上にさらに黒色導電性金属被膜を形成することにより製造することができる。 The black conductive mesh fabric of the present invention can be produced by forming fine irregularities on the metal surface of a metal-coated mesh fabric or metal fiber mesh fabric, and further forming a black conductive metal film on the irregularities. .
より具体的には、金属被覆メッシュ織物、または金属繊維メッシュ織物の金属表面をエッチング処理、あるいは凹凸めっき処理することにより、表面に０．１〜１μｍの深さを有する微細凹凸を形成する。次いで、微細凹凸の上に、さらに黒色導電性金属被膜を、めっき処理により形成する。 More specifically, fine irregularities having a depth of 0.1 to 1 μm are formed on the surface of the metal-coated mesh fabric or the metal fiber mesh fabric by etching or irregular plating. Next, a black conductive metal film is further formed on the fine irregularities by plating.
本発明におけるエッチング処理は、従来公知の方法で実施することができ、金属層の種類によって適宜決定することができる。例えば、金属が銅の場合、亜塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリウムからなる混合溶液に浸漬することにより実施することができる。 The etching treatment in the present invention can be performed by a conventionally known method and can be appropriately determined depending on the type of the metal layer. For example, when a metal is copper, it can implement by immersing in the mixed solution which consists of sodium chlorite and sodium hydroxide.
エッチング液に含まれる亜塩素酸ナトリウムの濃度は、５〜１５％が好ましく、８〜１２％がより好ましい。亜塩素酸ナトリウムの濃度が５％未満であると、十分な深さを有する微細凹凸が形成されない。一方、亜塩素酸ナトリウムの濃度が１５％を越えると、金属層の厚みが激しく減少し導電性が低下する。 The concentration of sodium chlorite contained in the etching solution is preferably 5 to 15%, more preferably 8 to 12%. If the concentration of sodium chlorite is less than 5%, fine irregularities having a sufficient depth are not formed. On the other hand, when the concentration of sodium chlorite exceeds 15%, the thickness of the metal layer is drastically reduced and the conductivity is lowered.
エッチング液に含まれる水酸化ナトリウムの濃度は、１〜５％が好ましく、２〜３％がより好ましい。水酸化ナトリウムの濃度が１％未満であると、十分な深さを有する微細凹凸が形成されない。一方、水酸化ナトリウムの濃度が５％を越えると、金属層の厚みが激しく減少し導電性が低下する。 The concentration of sodium hydroxide contained in the etching solution is preferably 1 to 5%, more preferably 2 to 3%. When the concentration of sodium hydroxide is less than 1%, fine irregularities having a sufficient depth are not formed. On the other hand, when the concentration of sodium hydroxide exceeds 5%, the thickness of the metal layer is drastically reduced and the conductivity is lowered.
エッチング処理における浸漬時間、温度は、微細凹凸の深さを考慮して適宜決定することができるが、好ましくは、浸漬時間が３０〜３００秒（より好ましくは６０〜２００秒）であり、温度が５０〜９０℃（より好ましくは６０〜８０℃）である。浸漬時間が３０秒未満であると十分な深さを有する微細凹凸が形成されない。一方、浸漬時間が３００秒を越えると金属層の厚みが激しく減少し導電性が低下する。温度が５０℃未満であると十分な深さを有する微細凹凸が形成されない。一方、温度が９０℃を越えると金属層の厚みが激しく減少し導電性が低下する。 The immersion time and temperature in the etching treatment can be appropriately determined in consideration of the depth of fine irregularities, but the immersion time is preferably 30 to 300 seconds (more preferably 60 to 200 seconds), and the temperature is 50 to 90 ° C (more preferably 60 to 80 ° C). If the immersion time is less than 30 seconds, fine irregularities having a sufficient depth are not formed. On the other hand, when the immersion time exceeds 300 seconds, the thickness of the metal layer is drastically reduced and the conductivity is lowered. If the temperature is less than 50 ° C., fine irregularities having a sufficient depth are not formed. On the other hand, when the temperature exceeds 90 ° C., the thickness of the metal layer is drastically reduced and the conductivity is lowered.
こうして銅被膜の表面がエッチングされ微細凹凸が形成されるが、その表層には導電性のない酸化銅が存在するため、１〜１０％の塩酸でこれを溶解除去する。 In this way, the surface of the copper coating is etched to form fine irregularities, but the surface layer contains non-conductive copper oxide, which is dissolved and removed with 1 to 10% hydrochloric acid.
また、金属がニッケルの場合のエッチング処理としては、塩化銅二水和物５〜１５％、塩酸１％からなる、温度２０〜５０℃の混合溶液に１〜６０秒間浸漬することにより実施することができる。 Etching treatment when the metal is nickel is performed by immersing in a mixed solution of 5 to 15% copper chloride dihydrate and 1% hydrochloric acid at a temperature of 20 to 50 ° C. for 1 to 60 seconds. Can do.
本発明における凹凸めっき処理は、従来公知の方法で実施することができ、その方法は特に限定されないが、０．１〜１μｍの深さの凹凸を形成し易いという理由により、電気めっきが好ましく採用される。用いる金属も特に限定されないが、黒色金属が析出されるという理由により、ニッケル亜鉛合金が好ましく用いられる。 The uneven plating treatment in the present invention can be carried out by a conventionally known method, and the method is not particularly limited, but electroplating is preferably employed because it is easy to form unevenness with a depth of 0.1 to 1 μm. Is done. Although the metal to be used is not particularly limited, a nickel zinc alloy is preferably used because black metal is deposited.
電気ニッケル亜鉛合金凹凸めっき処理は、ニッケルイオン、亜鉛イオン、錯化剤からなる混合溶液に、金属被覆メッシュ織物、または金属繊維メッシュ織物を浸漬し、メッシュ織物を陰極、ニッケル板を陽極として、電気めっきすることにより実施することができる。 Electrical nickel-zinc alloy uneven plating treatment is performed by immersing a metal-coated mesh fabric or metal fiber mesh fabric in a mixed solution of nickel ions, zinc ions, and a complexing agent, using the mesh fabric as the cathode and the nickel plate as the anode. It can be carried out by plating.
電気めっき液に含まれるニッケルイオンは、例えば、塩化ニッケル、酢酸ニッケル、クエン酸ニッケル、硫酸ニッケル、硫酸ニッケルアンモニウムなどを溶解することにより作製することができる。これらの化合物は１種または２種以上含まれていても良い。ニッケルイオンの濃度は、５〜６０ｇ／Ｌが好ましく、１０〜４０ｇ／Ｌがより好ましい。ニッケルイオンの濃度が５ｇ／Ｌ未満であると、めっき被膜が正常に形成されないし、かつ十分な凹凸を有するめっき被膜が形成されない。一方、ニッケルイオンの濃度が６０ｇ／Ｌを越えても特に問題はないが、リール ｔｏ リール方式による導電性メッシュの連続めっきを行った場合、液の持ち出しによる生産コストのアップにつながる。 The nickel ions contained in the electroplating solution can be produced by, for example, dissolving nickel chloride, nickel acetate, nickel citrate, nickel sulfate, nickel ammonium sulfate and the like. These compounds may be contained alone or in combination. The concentration of nickel ions is preferably 5 to 60 g / L, and more preferably 10 to 40 g / L. When the nickel ion concentration is less than 5 g / L, the plating film is not formed normally, and a plating film having sufficient unevenness is not formed. On the other hand, even if the nickel ion concentration exceeds 60 g / L, there is no particular problem. However, when continuous plating of the conductive mesh by the reel-to-reel method is performed, the production cost is increased by taking out the liquid.
電気めっき液に含まれる亜鉛イオンは、例えば、塩化亜鉛、塩化亜鉛アンモニウム、硫酸亜鉛などを溶解することにより作製することができる。これらの化合物は１種または２種以上含まれていても良い。亜鉛イオンの濃度は、５〜５０ｇ／Ｌが好ましく、１０〜２０ｇ／Ｌがより好ましい。亜鉛イオンの濃度が５ｇ／Ｌ未満であると、めっき被膜が正常に形成されないし、かつ十分な凹凸を有するめっき被膜が形成されない。一方、亜鉛イオンの濃度が６０ｇ／Ｌを越えても特に問題はないが、リール ｔｏ リール方式による導電性メッシュの連続めっきを行った場合、液の持ち出しによる生産コストのアップにつながる。 The zinc ions contained in the electroplating solution can be produced by, for example, dissolving zinc chloride, zinc ammonium chloride, zinc sulfate and the like. These compounds may be contained alone or in combination. The concentration of zinc ions is preferably 5 to 50 g / L, and more preferably 10 to 20 g / L. When the zinc ion concentration is less than 5 g / L, the plating film is not formed normally, and a plating film having sufficient unevenness is not formed. On the other hand, even if the zinc ion concentration exceeds 60 g / L, there is no particular problem. However, when continuous plating of the conductive mesh by the reel-to-reel method is performed, the production cost is increased by taking out the liquid.
電気めっき液に含まれる錯化剤は、例えば、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、酪酸、酢酸、蟻酸、酒石酸などのカルボン酸類、およびその塩、あるいはアンモニア、エチレンジアミン、エチレンジアミン四酢酸などのアミン類、およびその塩を挙げることができる。 Complexing agents contained in the electroplating solution include, for example, carboxylic acids such as citric acid, succinic acid, malic acid, butyric acid, acetic acid, formic acid, tartaric acid, and salts thereof, or amines such as ammonia, ethylenediamine, ethylenediaminetetraacetic acid, etc. And salts thereof.
錯化剤の濃度は、１〜５０ｇ／Ｌが好ましく、５〜２０ｇ／Ｌがより好ましい。錯化剤の濃度が１ｇ／Ｌ未満であると、めっき液の安定性が低下し、かつ耐摩耗性が低下する。錯化剤の濃度が５０ｇ／Ｌを越えると十分な凹凸を有するめっき被膜が形成されない。 The concentration of the complexing agent is preferably 1 to 50 g / L, and more preferably 5 to 20 g / L. When the concentration of the complexing agent is less than 1 g / L, the stability of the plating solution is lowered and the wear resistance is lowered. If the concentration of the complexing agent exceeds 50 g / L, a plating film having sufficient unevenness cannot be formed.
電気めっきにおける浸漬時間、温度、陰極電流密度は、黒色めっきの色相、膜厚を考慮して適宜決定することができる。好ましくは、浸漬時間が１０〜６００秒（より好ましくは３０〜２００秒）であり、温度が１０〜８０℃（より好ましくは１５〜５０℃）であり、陰極電流密度が０．１〜２Ａ／ｄｍ２（より好ましくは０．３〜１Ａ／ｄｍ２）である。 The immersion time, temperature, and cathode current density in electroplating can be appropriately determined in consideration of the hue and film thickness of black plating. Preferably, the immersion time is 10 to 600 seconds (more preferably 30 to 200 seconds), the temperature is 10 to 80 ° C. (more preferably 15 to 50 ° C.), and the cathode current density is 0.1 to 2 A / second. dm 2 (more preferably 0.3 to 1 A / dm 2 ).
浸漬時間が１０秒未満であると十分な凹凸を有するめっき被膜が形成されない。一方、浸漬時間が６００秒を越えると十分な密着性を有するめっき被膜が得られない。温度が１０℃未満であると金属イオンの溶解度が減少し、限界電流密度が低下する。一方、温度が８０℃を越えるとめっきムラになる。陰極電流密度は０.１Ａ／ｄｍ２未満であると十分な凹凸を有するめっき被膜が得られないし、めっきに時間がかかる。一方、陰極電流密度が２Ａ／ｄｍ２を越えると、限界電流密度を越え、水素が発生する。 If the immersion time is less than 10 seconds, a plating film having sufficient unevenness cannot be formed. On the other hand, when the immersion time exceeds 600 seconds, a plating film having sufficient adhesion cannot be obtained. If the temperature is less than 10 ° C., the solubility of metal ions is reduced, and the limiting current density is lowered. On the other hand, when the temperature exceeds 80 ° C., plating unevenness occurs. When the cathode current density is less than 0.1 A / dm 2 , a plating film having sufficient unevenness cannot be obtained, and it takes time for plating. On the other hand, when the cathode current density exceeds 2 A / dm 2 , the limit current density is exceeded and hydrogen is generated.
エッチング処理、あるいは凹凸めっき単独では十分な黒色度を有する導電性メッシュ織物が得られない。そこでさらに黒色めっき処理を行い、Ｘ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系におけるＹ１０値が３以下の黒色導電性メッシュ織物を作製する。 A conductive mesh fabric having sufficient blackness cannot be obtained by etching treatment or uneven plating alone. Therefore, black plating treatment is further performed to produce a black conductive mesh fabric having a Y 10 value of 3 or less in the X 10 Y 10 Z 10 color system.
本発明における黒色めっき処理は、従来公知の方法で実施することができ、その方法は特に限定されないが、十分な黒色度を得やすいという理由により、無電解ニッケル亜鉛合金めっきが好ましく採用される。 The black plating treatment in the present invention can be carried out by a conventionally known method, and the method is not particularly limited, but electroless nickel zinc alloy plating is preferably employed because it is easy to obtain sufficient blackness.
無電解ニッケル亜鉛合金めっき処理は、ニッケルイオン、亜鉛イオン、還元剤、錯化剤、ｐＨ調整剤からなる混合溶液に、エッチング処理、あるいは凹凸めっき処理されたメッシュ織物を浸漬することにより実施することができる。 Electroless nickel zinc alloy plating treatment should be performed by immersing the mesh fabric that has been subjected to etching treatment or uneven plating treatment in a mixed solution consisting of nickel ions, zinc ions, a reducing agent, a complexing agent, and a pH adjusting agent. Can do.
無電解めっき液に含まれるニッケルイオンは、例えば、塩化ニッケル、酢酸ニッケル、クエン酸ニッケル、硫酸ニッケル、硫酸ニッケルアンモニウムなどを溶解することにより作製することができる。これらの化合物は１種または２種以上含まれていてもよい。ニッケルイオンの濃度は、１〜１０ｇ／Ｌが好ましく、２〜６ｇ／Ｌがより好ましい。ニッケルイオンの濃度が１ｇ／Ｌ未満であると、めっき被膜が正常に形成されない。一方、ニッケルイオンの濃度が１０ｇ／Ｌを越えると、めっき液の安定性が低下し、めっき槽壁への析出が発生する。 The nickel ions contained in the electroless plating solution can be produced, for example, by dissolving nickel chloride, nickel acetate, nickel citrate, nickel sulfate, nickel ammonium sulfate, and the like. One or more of these compounds may be contained. The concentration of nickel ions is preferably 1 to 10 g / L, and more preferably 2 to 6 g / L. When the nickel ion concentration is less than 1 g / L, the plating film is not formed normally. On the other hand, when the concentration of nickel ions exceeds 10 g / L, the stability of the plating solution is lowered and precipitation on the plating tank wall occurs.
無電解めっき液に含まれる亜鉛イオンは、例えば、塩化亜鉛、塩化亜鉛アンモニウム、硫酸亜鉛などを溶解することにより作製することができる。これらの化合物は１種または２種以上含まれていてもよい。亜鉛イオンの濃度は、０.２〜５ｇ／Ｌが好ましく、０.６〜２.５ｇ／Ｌがより好ましい。亜鉛イオンの濃度が０．２ｇ／Ｌ未満であると、めっき被膜が正常に形成されないし、十分な黒色度が得られない。一方、亜鉛イオンの濃度が５ｇ／Ｌを越えると、めっき液の安定性が低下してめっき槽壁への析出が発生するし、めっきの色相が茶色になる。 Zinc ions contained in the electroless plating solution can be produced by, for example, dissolving zinc chloride, zinc ammonium chloride, zinc sulfate, or the like. One or more of these compounds may be contained. The concentration of zinc ions is preferably 0.2 to 5 g / L, and more preferably 0.6 to 2.5 g / L. When the concentration of zinc ions is less than 0.2 g / L, the plating film is not formed normally and sufficient blackness cannot be obtained. On the other hand, when the concentration of zinc ions exceeds 5 g / L, the stability of the plating solution is reduced, precipitation on the plating tank wall occurs, and the plating hue turns brown.
無電解めっき液に含まれる還元剤は、例えば、次亜りん酸ナトリウム、次亜りん酸カリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ジメチルアミノボラン、ジエチルアミノボラン、ヒドラジンなどを挙げることができる。これらの化合物は１種または２種以上含まれていてもよい。還元剤の濃度は、０.１〜１００ｇ／Ｌが好ましく、１０〜４０ｇ／Ｌがより好ましい。還元剤の濃度が０．１ｇ／Ｌ未満であると、十分な黒色度を有するめっき被膜が得られない。一方、還元剤の濃度が１００ｇ／Ｌを越えると、めっき浴が不安定になり、分解したり、槽内析出が発生したりする。 Examples of the reducing agent contained in the electroless plating solution include sodium hypophosphite, potassium hypophosphite, sodium borohydride, potassium borohydride, dimethylaminoborane, diethylaminoborane, hydrazine and the like. One or more of these compounds may be contained. The concentration of the reducing agent is preferably from 0.1 to 100 g / L, more preferably from 10 to 40 g / L. When the concentration of the reducing agent is less than 0.1 g / L, a plating film having sufficient blackness cannot be obtained. On the other hand, if the concentration of the reducing agent exceeds 100 g / L, the plating bath becomes unstable and decomposes or precipitation in the tank occurs.
無電解めっき液に含まれる錯化剤は、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、コハク酸、マロン酸、マレイン酸、グリコール酸、乳酸、サリチル酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリシンなどのカルボン酸類、およびその塩、あるいはアンモニア、エチレンジアミン、エチレンジアミン四酢酸などのアミン類、およびその塩を挙げることができる。錯化剤の濃度は、１〜２００ｇ／Ｌが好ましく、１０〜４０ｇ／Ｌがより好ましい。錯化剤の濃度が１ｇ／Ｌ未満であると、液の安定性が低下し、槽壁への析出が発生する。一方、錯化剤の濃度が２００ｇ／Ｌを越えると、金属イオンの還元に要する活性化エネルギーが増大し、析出速度が低下する。 Complexing agents contained in the electroless plating solution include, for example, carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, succinic acid, malonic acid, maleic acid, glycolic acid, lactic acid, salicylic acid, tartaric acid, citric acid, malic acid, and glycine. And amines such as ammonia, ethylenediamine, and ethylenediaminetetraacetic acid, and salts thereof. The concentration of the complexing agent is preferably 1 to 200 g / L, more preferably 10 to 40 g / L. When the concentration of the complexing agent is less than 1 g / L, the stability of the liquid is lowered and precipitation on the tank wall occurs. On the other hand, if the concentration of the complexing agent exceeds 200 g / L, the activation energy required for reduction of the metal ions increases and the deposition rate decreases.
なお、上記錯化剤は、ｐＨ緩衝剤としても作用し得るものである。 The complexing agent can also act as a pH buffer.
無電解めっき液に含まれるｐＨ調整剤は、例えば、硫酸、塩酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアを挙げることができる。無電解めっき液のｐＨは７〜１１が好ましく、８〜１０がより好ましい。ｐＨが７未満であると、無電解反応が進行せず、十分な黒色度を有するめっき被膜が得られない。一方、ｐＨが１１を越えると、めっき液が分解したり、槽内析出が発生したりする。 Examples of the pH adjuster contained in the electroless plating solution include sulfuric acid, hydrochloric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and ammonia. The pH of the electroless plating solution is preferably 7 to 11, and more preferably 8 to 10. When the pH is less than 7, the electroless reaction does not proceed and a plating film having sufficient blackness cannot be obtained. On the other hand, when the pH exceeds 11, the plating solution is decomposed or precipitation in the tank occurs.
無電解めっきにおける浸漬時間、温度は、黒色めっきの色相、膜厚を考慮して適宜決定することができるが、好ましくは浸漬時間が１０〜６００秒（より好ましくは３０〜２００秒）であり、温度が３０〜８０℃（より好ましくは４０〜６０℃）である。浸漬時間が１０秒未満であると、十分な黒色度を有するめっき被膜が得られない。一方、浸漬時間が６００秒を越えると、めっき膜厚が厚くなり、テレビジョン、コンピュータ、プラズマディスプレイなどの前面フィルタとして使用したときの光透過率が低下する。温度が３０℃未満であると、無電解反応が進行せず、十分な黒色度を有するめっき被膜が得られない。一方、めっき温度が８０℃を越えるとめっき液が分解したり、槽内析出が発生したりする。 The immersion time and temperature in electroless plating can be appropriately determined in consideration of the hue and film thickness of black plating, but the immersion time is preferably 10 to 600 seconds (more preferably 30 to 200 seconds), The temperature is 30 to 80 ° C. (more preferably 40 to 60 ° C.). When the immersion time is less than 10 seconds, a plating film having sufficient blackness cannot be obtained. On the other hand, when the immersion time exceeds 600 seconds, the plating film thickness is increased, and the light transmittance when used as a front filter for a television, a computer, a plasma display or the like is lowered. When the temperature is less than 30 ° C., the electroless reaction does not proceed and a plating film having sufficient blackness cannot be obtained. On the other hand, when the plating temperature exceeds 80 ° C., the plating solution is decomposed or precipitation in the bath occurs.
以下、本発明を実施例により説明する。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples.
実施例１：
１００×１００ｃｍ２のポリエステルメッシュ（ポリエチレンテレフタレート製モノフィラメント糸条、線径３０μｍ、糸密度１３５本／インチ、可視光透過率７０％）を常法により精練、熱処理（プレセット）後、表１に示すコンディショニング、触媒付与、活性化を行い、次いで表２に示す無電解銅めっき処理を行った。
Example 1:
100 × 100 cm 2 polyester mesh (polyethylene terephthalate monofilament yarn, wire diameter of 30 μm, yarn density of 135 yarns / inch, visible light transmittance of 70%) is scoured and heat-treated (preset) by a conventional method, and then shown in Table 1. Conditioning, catalyst application, and activation were performed, and then the electroless copper plating treatment shown in Table 2 was performed.
さらに表３に示すエッチング処理を行った。形成された微細凹凸の深さは０.７μｍであった。さらに１ｍｏｌ／Ｌ塩酸に３０秒間浸漬して酸化銅を溶解除去後、表４に示す無電解ニッケル亜鉛めっき処理を行った。なお、無電解ニッケル亜鉛めっき処理を行う際には、めっき核づけのために、陰極電流密度０．５Ａ／ｄｍ２の電流を３０秒間印加した。 Furthermore, the etching process shown in Table 3 was performed. The depth of the formed fine irregularities was 0.7 μm. Further, after immersion in 1 mol / L hydrochloric acid for 30 seconds to dissolve and remove copper oxide, electroless nickel zinc plating treatment shown in Table 4 was performed. In addition, when performing the electroless nickel zinc plating process, a current having a cathode current density of 0.5 A / dm 2 was applied for 30 seconds for plating nucleation.
実施例２：
１００×１００ｃｍ２のポリエステルメッシュ（ポリエチレンテレフタレート製モノフィラメント糸条、線径３０μｍ、糸密度１３５本／インチ、可視光透過率７０％）を常法により精練、熱処理（プレセット）後、表１に示すコンディショニング、触媒付与、活性化を行い、次いで表２に示す無電解銅めっき処理を行った。
Example 2:
100 × 100 cm 2 polyester mesh (polyethylene terephthalate monofilament yarn, wire diameter of 30 μm, yarn density of 135 yarns / inch, visible light transmittance of 70%) is scoured and heat-treated (preset) by a conventional method, and then shown in Table 1. Conditioning, catalyst application, and activation were performed, and then the electroless copper plating treatment shown in Table 2 was performed.
さらに表５に示す電気ニッケル亜鉛めっき処理を行った。陽極にはニッケル板を使用した。形成された微細凹凸の深さは０.５μｍであった。さらに表６に示す無電解ニッケル亜鉛めっき処理を行った。 Furthermore, the electro nickel zinc plating process shown in Table 5 was performed. A nickel plate was used for the anode. The depth of the formed fine irregularities was 0.5 μm. Furthermore, the electroless nickel zinc plating process shown in Table 6 was performed.
実施例３：
１００×１００ｃｍ２のポリエステルメッシュ（ポリエチレンテレフタレート製モノフィラメント糸条、線径３０μｍ、糸密度１３５本／インチ、可視光透過率７０％）を常法により精練、熱処理（プレセット）後、表１に示すコンディショニング、触媒付与、活性化を行い、次いで表２に示す無電解銅めっき処理を行った。
Example 3:
100 × 100 cm 2 polyester mesh (polyethylene terephthalate monofilament yarn, wire diameter of 30 μm, yarn density of 135 yarns / inch, visible light transmittance of 70%) is scoured and heat-treated (preset) by a conventional method, and then shown in Table 1. Conditioning, catalyst application, and activation were performed, and then the electroless copper plating treatment shown in Table 2 was performed.
さらに表７に示す電気亜鉛めっき処理を行った。陽極には亜鉛板を使用した。形成された微細凹凸の深さは０.０５μｍであった。さらに表４に示す無電解ニッケル亜鉛めっき処理を行った。 Furthermore, the electrogalvanization process shown in Table 7 was performed. A zinc plate was used for the anode. The depth of the formed fine irregularities was 0.05 μm. Furthermore, the electroless nickel zinc plating process shown in Table 4 was performed.
比較例１：
１００×１００ｃｍ２のポリエステルメッシュ（ポリエチレンテレフタレート製モノフィラメント糸条、線径３０μｍ、糸密度１３５本／インチ、可視光透過率７０％）を常法により精練、熱処理（プレセット）後、表１に示すコンディショニング、触媒付与、活性化を行い、次いで表２に示す無電解銅めっき処理を行った。
Comparative Example 1:
100 × 100 cm 2 polyester mesh (polyethylene terephthalate monofilament yarn, wire diameter of 30 μm, yarn density of 135 yarns / inch, visible light transmittance of 70%) is scoured and heat-treated (preset) by a conventional method, and then shown in Table 1. Conditioning, catalyst application, and activation were performed, and then the electroless copper plating treatment shown in Table 2 was performed.
さらに表３に示すエッチング処理を行った。形成された微細凹凸の深さは０.７μｍであった。 Furthermore, the etching process shown in Table 3 was performed. The depth of the formed fine irregularities was 0.7 μm.
比較例２：
１００×１００ｃｍ２のポリエステルメッシュ（ポリエチレンテレフタレート製モノフィラメント糸条、線径３０μｍ、糸密度１３５本／インチ、可視光透過率７０％）を常法により精練、熱処理（プレセット）後、表１に示すコンディショニング、触媒付与、活性化を行い、次いで表２に示す無電解銅めっき処理を行った。
Comparative Example 2:
100 × 100 cm 2 polyester mesh (polyethylene terephthalate monofilament yarn, wire diameter of 30 μm, yarn density of 135 yarns / inch, visible light transmittance of 70%) is scoured and heat-treated (preset) by a conventional method, and then shown in Table 1. Conditioning, catalyst application, and activation were performed, and then the electroless copper plating treatment shown in Table 2 was performed.
さらに表５に示す電気ニッケル亜鉛めっき処理を行った。陽極にはニッケル板を使用した。形成された微細凹凸の深さは０.５μｍであった。 Furthermore, the electro nickel zinc plating process shown in Table 5 was performed. A nickel plate was used for the anode. The depth of the formed fine irregularities was 0.5 μm.
実施例１、２、３および比較例１、２の方法で作製した黒色導電性メッシュ織物の表面導電性、およびＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系におけるＹ１０値、および湿熱環境下における白錆発生状況を、表８に示す。表面導電性は、黒色導電性メッシュの表面抵抗値を低抵抗計ロレスターＥＰ ＭＣＰ−Ｔ３６０（三菱化学株式会社製）で１００回測定し、導通性を確認できた割合により評価した。また、Ｘ１０Ｙ１０Ｚ１０表色系におけるＹ１０値は、分光色測計（Ｇｒｅｔａｇ Ｍａｃｂｅｔｈ製Ｃｏｌｏｒ−Ｅｙｅ ３０００）により測定した。また、湿熱環境下における白錆発生状況は、６０℃、９０％の湿熱環境下に１０００時間静置したときの状態により判断した。 Surface conductivity of the black conductive mesh fabric produced by the methods of Examples 1, 2, 3 and Comparative Examples 1 and 2, Y 10 value in the X 10 Y 10 Z 10 color system, and white rust in a wet heat environment Table 8 shows the occurrence status. The surface conductivity was evaluated by measuring the surface resistance value of the black conductive mesh 100 times with a low resistance meter Lorester EP MCP-T360 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and evaluating the ratio by which the conductivity was confirmed. Further, the Y 10 value in the X 10 Y 10 Z 10 color system was measured with a spectrocolorimeter (Color-Eye 3000 manufactured by Gretag Macbeth). Moreover, the white rust generation | occurrence | production condition in a humid heat environment was judged by the state when it left still for 1000 hours in a 60 degreeC and 90% humid heat environment.
実施例１、２の方法で作製した黒色導電性メッシュ織物は、十分な表面導電性、および黒色度を有し、湿熱環境下における白錆発生もなかった。また、実施例３の方法で作製した黒色導電性メッシュ織物は、微細凹凸の深さが０.１μｍ以下であったため、十分な乱反射性能が得られず、Ｙ１０値が実施例１、２に比較し若干大きくなった。比較例１の方法で作製した黒色導電性メッシュ織物は、十分な黒色度を有したものの、表面が酸化銅で覆われているため、十分な表面導電性が得られなかった。また、比較例２の方法で作製した黒色導電性メッシュ織物は、十分な表面導電性を有したものの、めっき被膜がグレー色であり、十分な黒色度が得られなかった。また白錆も発生した。 The black conductive mesh fabrics produced by the methods of Examples 1 and 2 had sufficient surface conductivity and blackness, and no white rust was generated in a humid heat environment. Furthermore, the black conductive mesh fabric manufactured by the method of Example 3, since the depth of the fine unevenness was 0.1μm or less, sufficient diffuse reflection performance is obtained, the Y 10 value Example 1 It was slightly larger than the comparison. Although the black conductive mesh fabric produced by the method of Comparative Example 1 had sufficient blackness, the surface was covered with copper oxide, so that sufficient surface conductivity was not obtained. Moreover, although the black electroconductive mesh fabric produced with the method of the comparative example 2 had sufficient surface conductivity, the plating film was a gray color and sufficient blackness was not obtained. White rust was also generated.
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Families Citing this family (5)
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6190500A (en) * | 1984-10-09 | 1986-05-08 | 株式会社クラレ | Electromagnetic wave shielding/transmitting filter and manufacture thereof |
| JPS6289898A (en) * | 1985-10-15 | 1987-04-24 | C-Ren Kk | Method for working fiber fabric |
| JPH0320383U (en) * | 1989-07-11 | 1991-02-27 | ||
| JPH07235220A (en) * | 1993-12-28 | 1995-09-05 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Transparent conductive substrate and its manufacture |
| JPH0949085A (en) * | 1995-08-09 | 1997-02-18 | Nippon Kanizen Kk | Composition of electroless black plating bath and formation of coating film |
| JP2003025470A (en) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Seiren Co Ltd | Conductive mesh fabric and its production method |
-
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6190500A (en) * | 1984-10-09 | 1986-05-08 | 株式会社クラレ | Electromagnetic wave shielding/transmitting filter and manufacture thereof |
| JPS6289898A (en) * | 1985-10-15 | 1987-04-24 | C-Ren Kk | Method for working fiber fabric |
| JPH0320383U (en) * | 1989-07-11 | 1991-02-27 | ||
| JPH07235220A (en) * | 1993-12-28 | 1995-09-05 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Transparent conductive substrate and its manufacture |
| JPH0949085A (en) * | 1995-08-09 | 1997-02-18 | Nippon Kanizen Kk | Composition of electroless black plating bath and formation of coating film |
| JP2003025470A (en) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Seiren Co Ltd | Conductive mesh fabric and its production method |
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