JP4630886B2 - インプリントリソグラフィ - Google Patents
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Description
Claims (26)
- 基板に転写層を設け、
前記転写層にインプリント可能な媒体の層を設け、
前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするためにマスタインプリントテンプレートを前記インプリント可能な媒体に接触させ、
前記マスタインプリントテンプレートの上から前記インプリント可能な媒体を化学線で露光することによって、前記インプリント可能な媒体を重合し、
インプリントされたパターンが前記基板に転写されるように、得られたポリマ層、前記転写層および前記基板をエッチングし、それにより前記基板が前記マスタインプリントテンプレートに設けられたパターンの逆であるパターンを担持するインプリントテンプレートになる、
インプリントテンプレートを作成する方法。 - 前記転写層が金属である、請求項1に記載の方法。
- 前記転写層がクロム、アルミまたはニッケルである、請求項2に記載の方法。
- 前記基板が石英または融解石英である、請求項1に記載の方法。
- 前記インプリント可能な媒体が塩素化モノマを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ポリマ層が指向性ブレークスルーエッチングを使用してエッチングされる、請求項1に記載の方法。
- 前記転写層が指向性エッチングを使用してエッチングされる、請求項6に記載の方法。
- 前記指向性エッチングが反応性イオンエッチングである、請求項7に記載の方法。
- 前記基板が指向性エッチングを使用してエッチングされる、請求項7に記載の方法。
- 前記指向性エッチングが反応性イオンエッチングである、請求項9に記載の方法。
- 前記転写層がウェットエッチングを使用して前記基板から剥離される、請求項9に記載の方法。
- レジストの層またはプライマ分子の単層が前記転写層と前記インプリント可能な媒体との間に設けられる、請求項1に記載の方法。
- 前記ポリマ層をエッチングした後で、前記転写層をエッチングする前に、指向性転写エッチングを使用して前記レジストをエッチングする、請求項12に記載の方法。
- 基板に転写層を設け、
前記転写層にインプリント可能な媒体の層を設け、
前記インプリント可能な媒体にパターンをインプリントするためにマスタインプリントテンプレートを前記インプリント可能な媒体に接触させ、
前記マスタインプリントテンプレートの上から前記インプリント可能な媒体を化学線で露光することによって、前記インプリント可能な媒体を重合し、
得られたパターン化されたポリマ層にケイ素リッチな層を設け、
前記ケイ素リッチな層を化学線で露光することによって、前記ケイ素リッチな層を重合し、
インプリントされたパターンが前記基板に転写されるように、得られた重合したケイ素リッチな層、前記ポリマ層、前記転写層および前記基板をエッチングし、それにより前記基板が前記マスタインプリントテンプレートのパターンに対応するパターンを担持するインプリントテンプレートになる、
インプリントテンプレートを作成する方法。 - 前記転写層が金属である、請求項14に記載の方法。
- 前記転写層がクロム、アルミまたはニッケルである、請求項15に記載の方法。
- 前記基板が石英または融解石英である、請求項14に記載の方法。
- 前記重合したケイ素リッチな層が指向性ブレークスルーエッチングを使用してエッチングされる、請求項14に記載の方法。
- 前記ポリマ層が指向性ブレークスルーエッチングを使用してエッチングされる、請求項18に記載の方法。
- 前記転写層が指向性エッチングを使用してエッチングされる、請求項19に記載の方法。
- 前記指向性エッチングが反応性イオンエッチングである、請求項20に記載の方法。
- 前記基板がそれから指向性エッチングを使用してエッチングされる、請求項20に記載の方法。
- 前記指向性エッチングが反応性イオンエッチングである、請求項22に記載の方法。
- 前記転写層がウェットエッチングを使用して前記基板から剥離される、請求項22に記載の方法。
- レジストの層またはプライマ分子の単層が前記転写層と前記インプリント可能な媒体との間に設けられる、請求項14に記載の方法。
- 前記ポリマ層をエッチングした後で、前記転写層をエッチングする前に、指向性転写エッチングを使用して前記レジストをエッチングする、請求項25に記載の方法。
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