JP4629485B2 - Book with non-contact IC tag - Google Patents

Book with non-contact IC tag Download PDF

Info

Publication number
JP4629485B2
JP4629485B2 JP2005127446A JP2005127446A JP4629485B2 JP 4629485 B2 JP4629485 B2 JP 4629485B2 JP 2005127446 A JP2005127446 A JP 2005127446A JP 2005127446 A JP2005127446 A JP 2005127446A JP 4629485 B2 JP4629485 B2 JP 4629485B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cover
vapor deposition
tag
book
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2005127446A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006305745A (en
Inventor
岳志 飯原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2005127446A priority Critical patent/JP4629485B2/en
Publication of JP2006305745A publication Critical patent/JP2006305745A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4629485B2 publication Critical patent/JP4629485B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

この発明は非接触ICタグ付き本に関する。詳しくは、表紙、裏表紙、カバー表紙または綴じ込み用紙に金属蒸着層を含む図柄を有し、内部に非接触ICタグを有する本において、当該金属蒸着層が海・島構造であって蒸着面が絶縁性を有する非接触ICタグ付き本に関する。   The present invention relates to a book with a non-contact IC tag. Specifically, in a book having a metal vapor deposition layer on the front cover, back cover, cover cover or binding paper and having a non-contact IC tag inside, the metal vapor deposition layer has a sea / island structure and the vapor deposition surface is The present invention relates to a book with an insulating non-contact IC tag.

非接触ICタグは、情報を記録して保持し非接触で外部装置と交信して情報交換できるので、商品の品質管理、在庫管理等の目的に多用されるようになってきている。
書籍、雑誌等の出版物においても同様であって、在庫管理や返品管理、万引き防止の効果と合わせて、図書館における貸し出し処理にも利用できることから全面的に早期に非接触ICタグを導入することが求められている。
Non-contact IC tags can be used to record and hold information and exchange information by communicating with external devices in a non-contact manner.
The same applies to publications such as books and magazines. In addition to the effects of inventory management, return management and shoplifting prevention, it can also be used for lending processing in libraries, so contactless IC tags should be fully introduced at an early stage. Is required.

書籍、雑誌等の本に非接触ICタグを取り付ける場合の一つの問題点として、本の表紙、裏表紙、カバー表紙または綴じ込み用紙に金属蒸着層を含む図柄を採用した場合に、金属蒸着層が導電性を有するため、書籍、雑誌等の内部にある非接触ICタグとリーダライタ間の通信を阻害する問題がある。冊子の内部に金属蒸着層を有する綴じ込み広告用紙等が挿入された場合も同様である。これは、非接触型ICタグを金属材料からなる物体や金属製容器に装着した場合にも生じる問題である。通信阻害の原因は、非接触ICタグ送受信用の電磁波によって生成する交流磁界により金属蒸着層内に渦電流が発生し、この渦電流が送受信用の磁束に反発する磁束を生成し、それによって送受信用の磁束が減衰し、送受信が困難になることに起因すると考えられている。蒸着層が文字や細線等の狭い面積の場合は障害にならないが、広い面積の場合は障害が顕著になる。   One problem with attaching non-contact IC tags to books such as books and magazines is that when a pattern containing a metal vapor deposition layer is used on the cover, back cover, cover cover or binding paper of the book, the metal vapor deposition layer Since it has conductivity, there is a problem of hindering communication between a non-contact IC tag and a reader / writer inside a book, a magazine, or the like. The same applies when a bound advertisement sheet having a metal vapor deposition layer is inserted into the booklet. This is a problem that occurs even when the non-contact type IC tag is mounted on an object made of a metal material or a metal container. The cause of the communication hindrance is that an eddy current is generated in the metal deposition layer due to an alternating magnetic field generated by electromagnetic waves for non-contact IC tag transmission / reception, and this eddy current generates a magnetic flux repelling the transmission / reception magnetic flux, thereby transmitting / receiving It is considered that the magnetic flux for use is attenuated and transmission / reception becomes difficult. When the deposited layer has a narrow area such as letters or fine lines, it does not become an obstacle, but when the deposited layer has a large area, the obstacle becomes remarkable.

多量の出版物の中で金属蒸着層を有する図柄の書籍、雑誌等の本は現時点では限定されているが、一部でも読み取り不具合を生じる場合には、非接触ICタグ管理システム全体の信頼性が低下する。また、このような金属蒸着は印刷では表現できない金属光沢感を持つので今後も採用される傾向が増大すると考えられる。
一部の「本」にでも非接触交信不可能なものが存在すると、システム全体の有用性が低下し、また、データの欠損や間違いを生じて信頼性が無くなるという問題を生じる。金属蒸着絵柄のある「本」のみを除外して扱いできないことは明らかである。
Although books such as books and magazines with metal-deposited layers among a large number of publications are limited at present, the reliability of the entire non-contact IC tag management system should be read even if some of them are defective. Decreases. Moreover, since such metal vapor deposition has a metallic luster that cannot be expressed by printing, it is considered that the tendency to be employed will increase in the future.
If some "books" cannot be contacted, there is a problem that the usefulness of the entire system is reduced, and data is lost or mistaken and reliability is lost. It is clear that it cannot be handled except for “books” with metal-deposited patterns.

そこで、金属蒸着絵柄を使用しながら、かつ非接触ICタグとリーダライタ間の通信を阻害しない方策が求められる。ところで、従来から特許文献1〜特許文献4のように、金属蒸着に海・島構造を利用した先行技術が存在している。海・島構造(島構造、島状、アイランド状ともいわれる)とは、蒸着金属を微小の島とする蒸着法であり、このものは蒸着面が絶縁性であることが知られている。しかし、これらの先行文献に、海・島構造の蒸着層を非接触ICタグに利用することについて提案したものはない。
なお、海・島構造の生成等について記載した技術書として、非特許文献1、非特許文献2等がある。
Therefore, there is a demand for a measure that does not hinder communication between the non-contact IC tag and the reader / writer while using the metal vapor-deposited pattern. By the way, the prior art which utilized the sea and island structure for metal vapor deposition conventionally exists like patent document 1-patent document 4. The sea / island structure (also referred to as island structure, island shape, or island shape) is a vapor deposition method using vapor deposition metal as a small island, and it is known that the vapor deposition surface is insulative. However, none of these prior documents proposes to use a sea-island structure deposition layer for a non-contact IC tag.
Note that there are Non-Patent Document 1, Non-Patent Document 2, and the like as technical books describing generation of sea / island structures and the like.

特開昭62−174189号公報JP-A-62-174189 特開昭63−157858号公報JP-A 63-157858 特開昭63−249688号公報JP 63-249688 A 特開平4−141497号公報JP-A-4-141497 「薄膜工学ハンドブック」(オーム社) 日本学術振興会薄膜第131委員会編集(昭和47年発行) 第1章真空蒸着法(I−93〜I−95)"Thin Film Engineering Handbook" (Ohm) edited by Japan Society for the Promotion of Science Thin Film No. 131 Committee (published in 1972) Chapter 1 Vacuum Deposition (I-93 to I-95) 「薄膜」(培風館)[吉田貞史著]1990年6月発行 第1章真空蒸着法(ページ14〜16)“Thin Film” (Baifukan) [Sadafumi Yoshida] Published June 1990 Chapter 1 Vacuum Deposition (Pages 14-16)

そこで、本発明は書籍、雑誌等の本において金属蒸着を施した美麗な図柄を確保しながら、非接触ICタグを利用できるようにすることを、上記海・島構造により蒸着面を絶縁性にして解決できることを着想し、鋭意研究の結果、本発明の完成に至ったものである。   Therefore, the present invention makes it possible to use a non-contact IC tag while ensuring a beautiful pattern with metal vapor deposition on books such as books and magazines. As a result of intensive research, the present invention has been completed.

上記課題を解決する本発明の要旨は、表紙、裏表紙、カバー表紙または綴じ込み用紙に金属蒸着層を含む図柄を有し、本の内部に非接触ICタグを有する本において、当該金属蒸着層が海・島構造であって絶縁性を有し、前記金属蒸着層の海・島構造が、転写箔の基材フィルムに形成した蒸着層をフォトエッチングにより海・島構造化し、当該海・島構造の蒸着層を表紙、裏表紙、カバー表紙または綴じ込み用紙に転写したものであることを特徴とする非接触ICタグ付き本、にある。 The gist of the present invention that solves the above problems is that the front cover, the back cover, the cover cover, or the binding paper has a pattern including a metal vapor deposition layer, and the book has a non-contact IC tag inside the book. a sea-island structure have a insulative, the sea-island structure of the metal deposition layer, a vapor deposition layer formed on the substrate film of the transfer foil sea islands structured by photo-etching, the sea-island structure A book with a non-contact IC tag , wherein the deposited layer is transferred to a front cover, a back cover, a cover cover, or a binding sheet .

上記非接触ICタグ付き本において、金属蒸着層がアルミニュウム(Al)、銀(Ag)、錫(Sn)、亜鉛(Zn)、錫−アルミ(Sn−Al)合金、錫−珪素(Sn−Si)合金の蒸着層である、ようにすることができる。
In the book with a non-contact IC tag, the metal deposition layer is made of aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), zinc (Zn), tin-aluminum (Sn-Al) alloy, tin-silicon (Sn-Si). ) It can be a deposited layer of alloy.

また、金属蒸着層の海・島構造が、島サイズ20nm〜1μm、島間の間隔10nm〜500nmである、ようにすれば、適切な絶縁層を形成する。   Further, if the sea / island structure of the metal vapor deposition layer is such that the island size is 20 nm to 1 μm and the distance between the islands is 10 nm to 500 nm, an appropriate insulating layer is formed.

本発明の非接触ICタグ付き本では、金属蒸着を使用した美麗な図柄を表紙、裏表紙、カバー表紙、綴じ込み用紙等に使用しながら、非接触ICタグを通信阻害なく利用できるので、非接触ICタグによる管理システムの信頼性を高めることができる。
本発明の非接触ICタグ付き本では、非接触ICタグ管理システムを採用することにより、書籍、雑誌の金属蒸着を制限するデザイン上の制約をなくすることができる。
In the book with a non-contact IC tag of the present invention, the non-contact IC tag can be used without any communication obstruction while using a beautiful design using metal vapor deposition on the front cover, back cover, cover cover, binding paper, etc. The reliability of the management system using IC tags can be increased.
In the book with a non-contact IC tag according to the present invention, by adopting a non-contact IC tag management system, it is possible to eliminate design restrictions that limit metal deposition of books and magazines.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図1は、本発明の非接触ICタグ付き本を示す図、図2は、海・島構造を説明する図、である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a view showing a book with a non-contact IC tag according to the present invention, and FIG. 2 is a view for explaining a sea / island structure.

本発明の非接触ICタグ付き本1は、図1のように、本1の表紙11を見開いた内部に非接触ICタグ2が装着されている。ただし、非接触ICタグ2の装着位置は表紙を見開いた部分に限らず裏表紙の内面であっても良く、奥付け部分に装着するものであってもよい。良く知られるように、非接触ICタグ2と外部リーダライタの間に交信を妨げる金属体や金属膜が無ければ本の内部であっても交信可能だからである。   As shown in FIG. 1, the book 1 with a non-contact IC tag according to the present invention has a non-contact IC tag 2 mounted inside the cover 11 of the book 1. However, the mounting position of the non-contact IC tag 2 is not limited to the portion where the cover is widened, and may be the inner surface of the back cover, or may be mounted on the back portion. As is well known, communication is possible even inside a book if there is no metal body or metal film that prevents communication between the non-contact IC tag 2 and the external reader / writer.

本発明の非接触ICタグ付き本1では、表紙、裏表紙、カバー表紙または綴じ込み用紙に金属蒸着層4を含む図柄を有することを特徴とする。カバー表紙(不図示)は、本1の外面全体を保護する被覆体で表紙、裏表紙の全体を覆って保護する形態にされている。
したがって、金属蒸着層4を含む図柄はカバー表紙にあっても良く、カバー表紙と表紙、裏表紙または綴じ込み用紙の双方にあっても構わない。通常、このような金属蒸着層4を含む図柄が、非接触ICタグ2と外部リーダライタ5の間に存在すると、金属蒸着層4は薄層であるが金属膜であるため読み取り用の電波を遮蔽して交信が不可能になることが知られている。
The book 1 with a non-contact IC tag according to the present invention is characterized in that the front cover, the back cover, the cover cover, or the binding paper has a pattern including the metal vapor deposition layer 4. The cover cover (not shown) is configured to cover and protect the entire front cover and back cover with a covering that protects the entire outer surface of the book 1.
Therefore, the pattern including the metal vapor deposition layer 4 may be on the cover cover, and may be on both the cover cover and the front cover, the back cover, or the binding paper. Normally, when such a pattern including the metal vapor deposition layer 4 exists between the non-contact IC tag 2 and the external reader / writer 5, the metal vapor deposition layer 4 is a thin layer but is a metal film, so that radio waves for reading are transmitted. It is known that communication is impossible due to shielding.

図2は、海・島構造を説明する図である。図2(A)は、従来から知られている海・島構造で蒸着材料や蒸着条件等の選定により形成できるものである。金属蒸着層4には微小な島4aと島間の間隙4bからなる蒸着層が形成されている。図2(A)のような海・島構造は、表紙、カバー用紙等に直接蒸着しても形成でき、または一旦転写フィルムに蒸着してから、表紙、カバー用紙等に転写しても形成できる。いずれの場合も直接蒸着により形成された蒸着層なので、島形状等は不定不均一のものである。
このような島4aの平均島サイズは20nm〜1μm、島間間隙4bの平均は10nm〜500nm程度が好ましい。島サイズが20nmより小さいと金属光沢がなくなり十分な装飾効果が得られない。1μm以上では導電性になってしまう。
FIG. 2 is a diagram illustrating the sea / island structure. FIG. 2A shows a conventionally known sea / island structure that can be formed by selecting a vapor deposition material, vapor deposition conditions, and the like. The metal vapor deposition layer 4 is formed with a vapor deposition layer comprising minute islands 4a and gaps 4b between the islands. The sea / island structure as shown in FIG. 2A can be formed by directly depositing on the cover, cover paper, etc., or once deposited on the transfer film and then transferred to the cover, cover paper, etc. . In any case, since the deposited layer is formed by direct deposition, the island shape and the like are indefinite and non-uniform.
The average island size of such islands 4a is preferably 20 nm to 1 μm, and the average of the inter-island gaps 4b is preferably about 10 nm to 500 nm. If the island size is smaller than 20 nm, the metallic luster is lost and a sufficient decoration effect cannot be obtained. If it is 1 μm or more, it becomes conductive.

このような海・島構造は蒸着原子の核の生成や成長、島どうしの合体等複雑な条件が絡み合って成膜される。蒸着金属材料、蒸着速度、他の蒸着条件の選定により島サイズや島間隙の設定は不可能ではないが、かなり複雑な制御が必要であり材料が限定される。
一般に融点の低い金属や貴金属は制御が比較的容易であり、錫(Sn)、亜鉛(Zn)、錫−アルミニュウム(Sn−Al)合金、錫−珪素(Sn−Si)合金が用いられるが、中でも錫(Sn)は特に容易である。
Such a sea / island structure is formed by entanglement of complicated conditions such as the generation and growth of nuclei of vapor deposition atoms and coalescence of islands. Although it is not impossible to set the island size and the island gap by selecting the vapor deposition metal material, the vapor deposition rate, and other vapor deposition conditions, quite complicated control is required and the material is limited.
In general, metals having low melting points and noble metals are relatively easy to control, and tin (Sn), zinc (Zn), tin-aluminum (Sn-Al) alloys, tin-silicon (Sn-Si) alloys are used. Of these, tin (Sn) is particularly easy.

図2(B)は、規則的な島形状であるが、連続的な層として形成した蒸着膜をフォトエッチングにより規則的な島形状と島間隙に形成したものである。このような海・島構造は紙基材に蒸着した場合にはフォトエッチングできないので、プラスチックフィルムに形成した層をエッチングし、転写フィルムとしてから紙基材に転写する。
このような形状の場合も、島4aの平均島サイズは、20nm〜1μm、島間隙4bは10nm〜500nmが好ましい。島サイズが20nmより小さいと金属光沢がなくなり十分な装飾効果が得られない。1μm以上では導電性になってしまうのも同様である。
FIG. 2B shows a regular island shape, but a deposited film formed as a continuous layer is formed into a regular island shape and an island gap by photoetching. Such a sea / island structure cannot be photo-etched when deposited on a paper substrate, so the layer formed on the plastic film is etched to form a transfer film and then transferred to the paper substrate.
Even in such a shape, the average island size of the islands 4a is preferably 20 nm to 1 μm, and the island gap 4b is preferably 10 nm to 500 nm. If the island size is smaller than 20 nm, the metallic luster is lost and a sufficient decoration effect cannot be obtained. The same is true if the thickness is 1 μm or more.

連続的な蒸着層の場合は、蒸着条件の制限が少ないので蒸着材料も幅広く選択できる。通常、用いられる材料としては、アルミニュウム(Al)、銀(Ag)、錫(Sn)、亜鉛(Zn)、錫−アルミ(Sn−Al)合金、錫−珪素(Sn−Si)合金が好ましく用いられる。中でもアルミニュウムが一般的に用いられ金属光沢も優れたものとなる。   In the case of a continuous vapor deposition layer, there are few restrictions on vapor deposition conditions, so a wide range of vapor deposition materials can be selected. Usually, as a material used, aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), zinc (Zn), a tin-aluminum (Sn-Al) alloy, a tin-silicon (Sn-Si) alloy is preferably used. It is done. Among them, aluminum is generally used and the metallic luster is excellent.

フォトエッチングによる方法のほか、リフトオフ法による方法等がある。蒸着時のマスキング法では微細な島構造の形成は困難と考えられる。フォトエッチングの場合、サブミクロンまでのサイズにまでエッチングできるので、上記島サイズや島間の間隙の再現は可能である。島4aの形状は図(B)のように規則的な形状ではなく、モアレの発生しないような不定形状、ランダム形状に設計することも可能である。   In addition to the photoetching method, there is a liftoff method. It is considered difficult to form a fine island structure by the masking method during vapor deposition. In the case of photoetching, etching can be performed to a size up to submicron, so that the island size and the gap between the islands can be reproduced. The shape of the island 4a is not a regular shape as shown in FIG. 5B, but can be designed to be an indefinite shape or a random shape so that moire does not occur.

次に、本発明のICタグ付き本の製造方法について説明する。
本の表紙等が紙材料である場合は、直接蒸着することも行われるが、紙の直接蒸着には以下のように種々の問題があることが知られている。
Next, the manufacturing method of the book with an IC tag of the present invention will be described.
When the cover of a book is a paper material, direct vapor deposition is also performed, but it is known that the direct vapor deposition of paper has various problems as follows.

(1)紙に含まれている水分により蒸着時に真空度が上がらないため、コンデンサーペーパのように水分の少ない特殊紙を除いては紙に処理を施す必要があり、プラスチックフィルムのようにそのままでは蒸着できない。
(2)通常の紙の場合、蒸着する前に紙を乾燥する必要があるが長時間を要するので大幅なコストアップになる。また、乾燥すると、紙本来の性質が失われるので、蒸着後に水分量を調整する必要が生じる。
(3)紙表面は粗であり、蒸着粒子が紙層内に入り込んでしまうので、蒸着前に紙表面に目止めコートを施す必要が生じる。
(4)蒸着機1バッチ当たり多数量のプラスチックフィルムに蒸着できるが、紙の場合、紙の厚さが前記プラスチックフィルムの厚さの数ないし数十倍あるため、蒸着機1バッチ当たり少量ずつしか処理することができず、能率の大幅低下を余儀なくされる。
(1) Since the degree of vacuum does not increase at the time of vapor deposition due to moisture contained in the paper, it is necessary to treat the paper except for special paper with little moisture such as condenser paper. Vapor deposition is not possible.
(2) In the case of ordinary paper, it is necessary to dry the paper before vapor deposition. However, since it takes a long time, the cost is greatly increased. Moreover, since the original properties of paper are lost when dried, it is necessary to adjust the amount of water after vapor deposition.
(3) Since the paper surface is rough and vapor deposition particles enter the paper layer, it is necessary to apply a sealing coat to the paper surface before vapor deposition.
(4) Vapor deposition can be deposited on a large number of plastic films per batch, but in the case of paper, the thickness of the paper is several to several tens of times the thickness of the plastic film. It cannot be processed and the efficiency is greatly reduced.

しかし、近年、蒸着装置や蒸着方法の進化、材料の改善に伴い、紙材料に対する直接蒸着もかなりの量が行われている。蒸着層をプラスチックフィルムに形成し、別室の蒸着室内で接着剤の付いた紙基材にインラインで転写する方法等も行われている。そこで、本発明では、直接蒸着の場合と転写フィルムを用いて間接的に蒸着層を紙材料に形成する場合の双方を前提とするものである。
すなわち、請求項1記載の発明は、直接蒸着の場合と転写の場合の双方を含み、請求項2と請求項3記載の発明は、転写による方法に関するものである。転写の場合も転写フィルムに直接、海・島構造の蒸着を行う場合と、一旦転写フィルムに連続膜の蒸着を行ってから、フォトエッチングして微細な海・島構造化する場合とがある。
However, in recent years, with the evolution of vapor deposition apparatuses and vapor deposition methods and improvement of materials, a considerable amount of direct vapor deposition on paper materials has been performed. There is also a method in which a vapor deposition layer is formed on a plastic film and transferred inline to a paper substrate with an adhesive in a separate vapor deposition chamber. Therefore, the present invention is premised on both direct vapor deposition and indirectly forming a vapor deposition layer on a paper material using a transfer film.
That is, the invention described in claim 1 includes both the case of direct vapor deposition and the case of transfer, and the invention described in claim 2 and claim 3 relates to a method by transfer. In the case of transfer, there are a case where the sea / island structure is directly deposited on the transfer film and a case where a continuous film is once deposited on the transfer film and then a photo-etching is performed to form a fine sea / island structure.

紙に直接蒸着する場合は、基材の前処理→乾燥→真空蒸着→後処理→加湿→蒸着製品→印刷→裁断、の工程を行う。基材の前処理とは、目止めコートを行うことである。
紙基材としては、コート紙、アート紙、上質紙、グラシン紙等が用いられる。
蒸着製品は、蒸着層の厚みは30nm〜100nm程度とする。緊密な層ではないので、7μmのアルミ箔と比較して1/1500から1/150の使用量にできる利点がある。また、それによって、アルミ箔同等の光輝性が得られる。海・島構造蒸着の場合には錫(Sn)、亜鉛(Zn)、錫−アルミ(Sn−Al)合金、錫−珪素(Sn−Si)合金を使用できるが、錫が好ましく用いられ、アルミニュウムと同等の光輝効果が得られるものである。
When directly vapor-depositing on paper, the following steps are performed: substrate pretreatment → drying → vacuum deposition → post treatment → humidification → deposition product → printing → cutting. The pretreatment of the base material is to perform a sealing coat.
As the paper substrate, coated paper, art paper, high-quality paper, glassine paper and the like are used.
In the vapor deposition product, the thickness of the vapor deposition layer is about 30 nm to 100 nm. Since it is not a close layer, there is an advantage that the amount used can be 1/1500 to 1/150 compared with 7 μm aluminum foil. Thereby, the same brightness as the aluminum foil can be obtained. In the case of sea / island structure deposition, tin (Sn), zinc (Zn), tin-aluminum (Sn-Al) alloy, tin-silicon (Sn-Si) alloy can be used, but tin is preferably used, and aluminum The same glitter effect can be obtained.

海・島構造をフォトエッチングにより形成する場合は、海・島構造でない通常の蒸着をプラスチックフィルム面に対して行う。フィルムとしては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のフィルムを使用できる。この場合の蒸着材料は幅広く各種のものを使用でき、アルミニュウム(Al)、錫、亜鉛、錫−アルミ合金、錫−珪素合金、銀、金、等の蒸着が可能であるが、アルミニュウムが最も一般的に用いられている。着色蒸着も可能であって、顔料や染料の着色剤を先に蒸着しておき、当該蒸着面にアルミ蒸着することで、着色メタリック感を表現できる。   When the sea / island structure is formed by photoetching, normal vapor deposition without the sea / island structure is performed on the plastic film surface. As the film, polypropylene, polyethylene, polyethylene terephthalate (PET) or the like can be used. Various deposition materials can be used in this case, and aluminum (Al), tin, zinc, tin-aluminum alloy, tin-silicon alloy, silver, gold, etc. can be deposited, but aluminum is the most common. Has been used. Colored vapor deposition is also possible, and a colored metallic feeling can be expressed by vapor-depositing a pigment or a dye colorant in advance and then depositing aluminum on the vapor deposition surface.

アルミニュウム(融点660°C)の場合は1400°C以上に加熱して蒸発させ厚さ100nm以下の薄膜を形成する。このようにして形成した蒸着膜をフォトエッチングして微小の海・島構造を形成する。フォトエッチングの場合は、島間間隙を一定に維持して島サイズを必要なサイズにすることができる。   In the case of aluminum (melting point: 660 ° C.), it is heated to 1400 ° C. or higher and evaporated to form a thin film having a thickness of 100 nm or less. The deposited film thus formed is photo-etched to form a minute sea / island structure. In the case of photo-etching, the island size can be set to a required size by keeping the inter-island gap constant.

海・島構造の蒸着膜をホットスタンピング箔のようにして使用する場合は、PETフィルムのような材料に剥離層を形成してから、アルミ蒸着を行い、海・島構造にエッチングしてから、表面に熱溶融性接着剤を塗布した形態とするのが好ましい。ホットスタンピング箔の転写は、熱板に図柄に応じた刻印を設け、刻印と転写紙面との間に当該箔を挿入して行うことができる。刻印を用いない転写方法も可能である。すなわち、転写する紙側に接着剤をパターン状に塗布しておいて、加圧ローラ間を通過させて蒸着層を転写させる方法であってもよい。   When using a sea-island structure vapor deposition film like a hot stamping foil, after forming a release layer on a material such as a PET film, aluminum deposition is performed, and then etching into the sea-island structure, A form in which a hot-melt adhesive is applied to the surface is preferable. The transfer of the hot stamping foil can be performed by providing a stamp on the hot plate according to the design and inserting the foil between the stamp and the transfer paper surface. A transfer method that does not use a stamp is also possible. That is, a method may be used in which an adhesive is applied in a pattern on the paper side to be transferred, and the vapor deposition layer is transferred by passing between pressure rollers.

コート紙(90kg/46判 )に錫(Sn;融点232°C)を海・島構造になるように全面に真空蒸着した後、必要な絵柄をオフセット印刷した。この蒸着紙をカバー表紙として書籍の表紙と裏表紙の全体をカバーする用途に用いた。なお、蒸着面の島サイズ4aは約800nm、島間隙4bは約400nm、厚みは80nm程度であった。
この書籍1の奥付け部分に非接触ICタグ(大日本印刷株式会社製「Accuwave(商標)」(13.56MHz)2を粘着剤を用いて貼着した。当該非接触ICタグ2は、厚み38μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム面に、厚み25μmのアルミ箔をドライラミネートし、当該アルミ箔を、外形450mm×760mmのコイル(6ターン)状アンテナパターンにフォトエッチングし、コイルの両端にICチップを装着し、表面を紙基材で被覆したものである。
Tin (Sn; melting point: 232 ° C.) was vacuum-deposited on the entire surface of the coated paper (90 kg / 46 size) so as to have a sea / island structure, and then a necessary pattern was offset printed. This vapor-deposited paper was used as a cover cover to cover the entire front and back cover of the book. The island size 4a on the vapor deposition surface was about 800 nm, the island gap 4b was about 400 nm, and the thickness was about 80 nm.
A non-contact IC tag ("Accumave (trademark)" (13.56 MHz) 2 manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.) 2 was attached to the back of the book 1 using an adhesive. A 25 μm thick aluminum foil is dry-laminated on a 38 μm polyethylene terephthalate (PET) film surface, the aluminum foil is photo-etched into a coil (6-turn) antenna pattern having an outer diameter of 450 mm × 760 mm, and IC chips are formed on both ends of the coil. And the surface is coated with a paper base material.

<転写フィルムの製造>
40μm厚のPETフィルム(東レ株式会社製「ルミラー」)の片面に、酢酪酸セルローズ系のプライマーコートを施した後、アルミニュウムを厚み80nmの連続層になるように真空蒸着した。その後、不規則な海・島構造からなるフォトマスクパターンを露光してレジスト膜を形成し、さらに、当該レジスト膜によりアルミ蒸着膜をエッチングして水洗し、島サイズ4aが約1μm、島間隙4bが約500nmの海・島構造のアルミ蒸着層を有する転写フィルムが得られた。
<Manufacture of transfer film>
One side of a 40 μm thick PET film (“Lumirror” manufactured by Toray Industries, Inc.) was coated with cellulose acetate butyrate-based primer coat, and then aluminum was vacuum-deposited into a continuous layer having a thickness of 80 nm. Thereafter, a photomask pattern having an irregular sea / island structure is exposed to form a resist film, and the aluminum deposited film is etched and washed with the resist film. The island size 4a is about 1 μm, and the island gap 4b. A transfer film having an aluminum vapor deposition layer having a sea / island structure of about 500 nm was obtained.

この転写フィルムの蒸着面と、ウレタン樹脂系接着剤を部分的に塗布した絵柄印刷済みのコート紙(110kg/46判 )と、を圧着してからPETフィルムを剥離すると、接着剤の塗布形状にアルミ蒸着層が転写したコート紙が得られた。このコート紙を雑誌の表紙11に使用し、見返し部分に実施例1と同一の非接触ICタグ2を粘着剤を用いて貼着した。   When the PET film is peeled off after the vapor-deposited surface of the transfer film and the coated paper (110 kg / 46 size) on which the urethane resin adhesive has been partially applied are pressed, the adhesive application shape is obtained. Coated paper onto which the aluminum deposition layer was transferred was obtained. This coated paper was used for the cover 11 of a magazine, and the same non-contact IC tag 2 as that in Example 1 was attached to the facing portion using an adhesive.

実施例1と実施例2の非接触ICタグ付き本1に対して、本から5cm離れた位置から非接触ICタグに対する書き込み読み取り試験をICタグリーダライタ(株式会社ウェルトキャット製「RCT−200−01」(13.56MHz))5を使用して行ったところ、いずれも支障なく書き込み読み取りできることが確認された。本の表裏を反転してICタグリーダライタ5に面する側が逆になるようにしても結果は同じであった。
なお、実施例1のカバー表紙と実施例2の表紙の蒸着層の表面抵抗率を測定したところ、双方共に107Ω/□以上であって絶縁性を有することが確認された。
For the book 1 with the non-contact IC tag of Example 1 and Example 2, a writing / reading test for the non-contact IC tag was performed from a position 5 cm away from the book. (13.56 MHz)) 5, it was confirmed that both could be written and read without any trouble. The result was the same even if the front and back sides of the book were reversed so that the side facing the IC tag reader / writer 5 was reversed.
In addition, when the surface resistivity of the vapor deposition layer of the cover cover of Example 1 and the cover of Example 2 was measured, it was confirmed that both were 10 7 Ω / □ or more and had insulating properties.

本発明の非接触ICタグ付き本を示す図である。It is a figure which shows the book with a non-contact IC tag of this invention. 海・島構造を説明する図である。It is a figure explaining a sea and an island structure.

符号の説明Explanation of symbols

1 本、書籍
2 非接触ICタグ
3 ICチップ
4 金属蒸着層
5 リーダライタ

1 book, 2 book contactless IC tag 3 IC chip 4 metal deposition layer 5 reader / writer

Claims (3)

表紙、裏表紙、カバー表紙または綴じ込み用紙に金属蒸着層を含む図柄を有し、本の内部に非接触ICタグを有する本において、当該金属蒸着層が海・島構造であって絶縁性を有し、
前記金属蒸着層の海・島構造が、転写箔の基材フィルムに形成した蒸着層をフォトエッチングにより海・島構造化し、当該海・島構造の蒸着層を表紙、裏表紙、カバー表紙または綴じ込み用紙に転写したものであることを特徴とする非接触ICタグ付き本。
In a book that has a design that includes a metal vapor deposition layer on the front cover, back cover, cover cover, or binding paper and that has a non-contact IC tag inside the book, the metal vapor deposition layer has a sea / island structure and has an insulating property. And
The sea-island structure of the metal vapor-deposited layer is formed into a sea-island structure by photoetching the vapor-deposited layer formed on the base film of the transfer foil, and the sea-island-structured vapor-deposited layer is covered on the front cover, back cover, cover cover or binding. A book with a non-contact IC tag , which has been transferred to paper .
金属蒸着層の海・島構造が、島サイズ20nm〜1μm、島間の間隔10nm〜500nmであることを特徴とする請求項1記載の非接触ICタグ付き本。 Water island structure of the metal deposition layer, an island size 20Nm~1myuemu, the non-contact IC tag with the claim 1 Symbol placement be an interval 10nm~500nm between the islands. 金属蒸着層がアルミニュウム(Al)、銀(Ag)、錫(Sn)、亜鉛(Zn)、錫−アルミ(Sn−Al)合金、錫−珪素(Sn−Si)合金の蒸着層であることを特徴とする請求項1または請求項記載の非接触ICタグ付き本。 The metal deposition layer is a deposition layer of aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), zinc (Zn), tin-aluminum (Sn-Al) alloy, tin-silicon (Sn-Si) alloy. The book with a non-contact IC tag according to claim 1 or 2 , wherein the book has a contactless IC tag.
JP2005127446A 2005-04-26 2005-04-26 Book with non-contact IC tag Active JP4629485B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005127446A JP4629485B2 (en) 2005-04-26 2005-04-26 Book with non-contact IC tag

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005127446A JP4629485B2 (en) 2005-04-26 2005-04-26 Book with non-contact IC tag

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006305745A JP2006305745A (en) 2006-11-09
JP4629485B2 true JP4629485B2 (en) 2011-02-09

Family

ID=37473215

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005127446A Active JP4629485B2 (en) 2005-04-26 2005-04-26 Book with non-contact IC tag

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4629485B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100797627B1 (en) * 2006-09-01 2008-01-24 주식회사 이엠따블유안테나 A method of antistatic deposition on components of mobile phone
KR100967763B1 (en) * 2008-05-22 2010-07-05 한국조폐공사 The note book which the cover is augmented
JP6036105B2 (en) * 2012-09-27 2016-11-30 大日本印刷株式会社 Magnetic concealment card with metallic luster layer
JP2016206838A (en) * 2015-04-20 2016-12-08 日本板硝子環境アメニティ株式会社 Book management system and reservation shelf system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63249688A (en) * 1987-04-03 1988-10-17 Reiko Co Ltd Transfer material
JPH03175093A (en) * 1989-08-25 1991-07-30 Dainippon Printing Co Ltd Magnetic layer concealing card and its manufacture
JPH11353442A (en) * 1998-06-11 1999-12-24 Toppan Printing Co Ltd Noncontact type ic card containing reversible thermal recording layer
JP2004118600A (en) * 2002-09-27 2004-04-15 Dainippon Printing Co Ltd Book information management system using noncontact ic tag

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63249688A (en) * 1987-04-03 1988-10-17 Reiko Co Ltd Transfer material
JPH03175093A (en) * 1989-08-25 1991-07-30 Dainippon Printing Co Ltd Magnetic layer concealing card and its manufacture
JPH11353442A (en) * 1998-06-11 1999-12-24 Toppan Printing Co Ltd Noncontact type ic card containing reversible thermal recording layer
JP2004118600A (en) * 2002-09-27 2004-04-15 Dainippon Printing Co Ltd Book information management system using noncontact ic tag

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006305745A (en) 2006-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7651033B2 (en) Noncontract IC tag with non-conductive metal film
TW497121B (en) Document with integrated electronic circuit
MXPA03009959A (en) Selective metal removal process for metallized retro-reflective and holographic films and radio frequency devices made therewith.
JP4629485B2 (en) Book with non-contact IC tag
US8342402B2 (en) RFID electronic label
JP2002042076A (en) Non-contact data carrier and booklet therewith
JP2008226070A (en) Non-contact ic tag with insulating metallic glossy layer
CN104541316A (en) Electromagnetic shielding label
US20190283483A1 (en) Composite laminate assembly used to form plural individual cards and method of manufacturing the same
CA2526081A1 (en) Fabrication process for a non-contact ticket and ticket obtained from such a process
JP4848758B2 (en) Non-contact IC tag with insulating metal layer
US20040011876A1 (en) Identity card
EP3357686B1 (en) Metal decorative product
US11645490B2 (en) Method for manufacturing personalized chipless radiofrequency identification (“RFID”) devices
JP2008186353A (en) Antenna for ic tag
US20070256773A1 (en) Cool transfer wireless RF identification label
JP2010055467A (en) Rfid label with optical function
AU2010210070B2 (en) Micro-relief structures
JP5862037B2 (en) Brittle RFID label
JP3324188B2 (en) Hologram card
JP6036105B2 (en) Magnetic concealment card with metallic luster layer
JP2001011794A (en) Thread for preventing counterfeit and paper for preventing counterfeit by using the same
US7337973B2 (en) Identity card
JP5569347B2 (en) RFID label
JP4893018B2 (en) Non-contact IC tag with insulating metallic luster layer

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080117

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100730

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100810

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101012

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101102

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4629485

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150