JP4628037B2 - 水処理用の環境応力亀裂の防止方法 - Google Patents
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(1) 下記一般式:
(R 1 R 2 R 3 R 4 )P + X −
(式中、R1、R2及びR3は、同一又は異なり、未置換又はヒドロキシ基で置換された炭素数1〜4個を有するアルキル基、R4は、ヒドロキシメチル基又は炭素数1〜18個を有するアルキル基を、X−は、塩素イオン、臭素イオン又は有機酸イオンを示す)にて表されるホスホニウム塩と、ウレイド基又はグアニジン基を含有する化合物とを含有する環境応力亀裂発生回避能を有する水処理用のホスホニウム塩製剤を使用することを特徴とする熱可塑性プラスチックの環境応力亀裂防止方法。
(2) 熱可塑性プラスチックが塩化ビニル樹脂である、(1)項に記載の環境応力亀裂防止方法。
(3) (1)項記載のホスホニウム塩がテトラ(n−ブチル)ホスホニウムクロリド、トリ(n−ブチル)n−ドデシルホスホニウムクロリド、トリ(n−ブチル)n−テトラデシルホスホニウムクロリド又はトリ(n−ブチル)n−ヘキサデシルホスホニウムクロリドである(1)項又は(2)項記載の環境応力亀裂防止方法。
(4) (1)項記載のウレイド基又はグアニジン基を含有する化合物が尿素、グアニジン塩、ビグアニド塩又はジメチルヒダントインである(1)項〜(3)項のいずれか1項に記載の環境応力亀裂防止方法。
(5) (1)項又は(4)項記載のウレイド基又はグアニジン基を含有する化合物がポリ(ヘキサメチレングアニド)塩又はポリ(ヘキサメチレンビグアニド)塩である(1)項〜(4)項のいずれか1項に記載の環境応力亀裂防止方法の各方法を提供する。
化合物1 テトラ(n−ブチル)ホスホニウムクロリド、
化合物2 テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムクロリド、
化合物3 トリ(n−ブチル)n−ドデシルホスホニウムクロリド、
化合物4 トリ(n−ブチル)n−テトラデシルホスホニウムクロリド、
化合物5 トリ(n−ブチル)n−ヘキサデシルホスホニウムクロリド、
化合物6 トリス(3−ヒドロキシプロピル)n−ヘキサデシルホスホニウムク
ロリド
化合物B グアニジン塩酸塩、
化合物C ポリ(ヘキサメチレングアニド)塩酸塩
化合物D ポリ(ヘキサメチレンビグアニド)塩酸塩
化合物E ビス(p−クロロフェニルビグアニド)ヘキサン二塩酸塩
化合物F ビス(p−クロロフェニルビグアニド)ヘキサン二酢酸塩
化合物G ビス(p−クロロフェニルビグアニド)ヘキサン二グルコン酸塩
化合物H 1,1−イミノジ(オクタメチレン)ジグアニジウム三酢酸
化合物J 5,5−ジメチルヒダントイン
ウレイド基又はグアニジン基を含有する化合物を併用することで、熱可塑性プラスチックに環境応力亀裂が生じるのを回避することができる。
化合物1;10%(質量以下同様である。)、化合物A;5%及び水;85%を混合し製剤を得た。
製剤例2
化合物1;15%、化合物B;5%及び水;80%を混合し製剤を得た。
製剤例3
化合物1;10%、化合物C;2.5%及び水;87.5%を混合し製剤を得た。
塩化ビニル樹脂に応力を加えた状態でホスホニウム塩及び既存の設備環境応力亀裂防止剤を接触させ、その影響を調査した。
硬質塩化ビニル樹脂試験片として、サングラスチックの樹脂板(PVC透明、1000×2000×4mm、コード番号8144E)を80×10×4mmに切断したもの中央部の最大応力の発生する面に、ホスホニウム塩(化合物5;10%含有)に所定のウレイド基又はグアニジン基を含有する化合物を配合して20μ1付け、セロテープ(登録商標)で密着させた。次いで、硬質塩化ビニル樹脂試験片のほぼ両端の下部に支持台として、円柱を配置させ、中央部に圧力を加える応力亀裂試験器具を用いて撓みを生じさせ、50℃の恒温槽中で24時間放置した後、亀裂の発生の有無を肉眼で判別した。結果を表1に示す。
++:亀裂が多数認められる。
+:亀裂が認められる。
±:亀裂が僅かに認められる。
−:亀裂が認められない。
Claims (5)
- 下記一般式:
(R 1 R 2 R 3 R 4 )P + X −
(式中、R1、R2及びR3は、同一又は異なり、未置換又はヒドロキシ基で置換された炭素数1〜4個を有するアルキル基、R4は、ヒドロキシメチル基又は炭素数1〜18個を有するアルキル基を、X−は、塩素イオン、臭素イオン又は有機酸イオンを示す)にて表されるホスホニウム塩と、ウレイド基又はグアニジン基を含有する化合物とを含有する環境応力亀裂発生回避能を有する水処理用のホスホニウム塩製剤を使用することを特徴とする熱可塑性プラスチックの環境応力亀裂防止方法。 - 熱可塑性プラスチックが塩化ビニル樹脂である、請求項1に記載の環境応力亀裂防止方法。
- ホスホニウム塩がテトラ(n−ブチル)ホスホニウムクロリド、トリ(n−ブチル)n−ドデシルホスホニウムクロリド、トリ(n−ブチル)n−テトラデシルホスホニウムクロリド又はトリ(n−ブチル)n−ヘキサデシルホスホニウムクロリドである請求項1又は請求項2記載の環境応力亀裂防止方法。
- ウレイド基又はグアニジン基を含有する化合物が尿素、グアニジン塩、ビグアニド塩又はジメチルヒダントインである請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の環境応力亀裂防止方法。
- ウレイド基又はグアニジン基を含有する化合物がポリ(ヘキサメチレングアニド)塩又はポリ(ヘキサメチレンビグアニド)塩である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の環境応力亀裂防止方法。
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