JP4617174B2 - 有機材料膜の形成方法 - Google Patents
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従って、従来のようにしてシランカップリング剤が塗布された基板に、ポリ尿素蒸着重合膜を形成し、沸騰水に入れると、シランカップリング剤が浸透しなかった微小なホールや溝の部分の膜が簡単に剥離してしまうという問題があった。
これに対して、気相を利用したシランカップリング剤により基材表面を処理する方法が、特許文献3において提案されている。
しかしながら、同文献に開示される方法では、デシケータ内を13Pa程度にしか減圧しないため、シランカップリング剤蒸気の平均自由工程が小さくなり、基材表面が複雑になればなるほど吸着時間がかかるという問題があり、また、シランカップリング剤と基材とを同じデシケータ内に収容して、100℃近い温度で加熱するようにしているために、基材温度が100℃近くに上昇し、シランカップリング剤の吸着率が低下してしまうという問題があった。このため、同文献において提案される方法では、基材表面にシランカップリング剤を吸着させるために、24時間もの時間が必要とされていた。
即ち、本発明の有機材料膜の形成方法は、請求項1に記載の通り、無機材料により構成される基材表面を、オゾンガスで前記基材表面を洗浄してから、真空雰囲気下においてシランカップリング剤蒸気に晒し、その後、前記基材表面に有機材料膜を形成することを特徴とする。
また、請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載の有機材料膜の形成方法を、真空雰囲気を破らずに行うことを特徴とする。
また、請求項3に記載の本発明は、請求項1又は2に記載の有機材料膜の形成方法において、前記有機材料膜は、ポリイミド、ポリ尿素、ポリアミド及びポリウレタンのうちのいずれかであり、蒸着重合法により形成されることを特徴とする。
前記基材は、少なくとも表面が無機材料により構成されるもので、シリコンウェーハー、スライドガラス、石英等を使用することができる。この基材表面に、オゾンガスを、例えば、酸素プラズマや酸素雰囲気中への紫外線の照射等により発生させて晒す等して酸化処理をすることができる。尚、オゾンガスを晒す場合の条件としては、基材表面の有機汚染物質を洗浄できる程度であれば特に制限はないが、例えば、流量20L/minで2分間程度とすることができる。
前記基材表面は、真空雰囲気下において、シランカップリング剤蒸気に晒されることにより、シランカップリング剤を吸着することになる。シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランが挙げられ、その他種々の有機珪素化合物を使用することができる。
前記基材表面に、シランカップリング剤の蒸気を晒す真空雰囲気下とは、10-1Pa以下に減圧された雰囲気をいう。10-1Paを超えると、シランカップリング剤蒸気の平均自由工程が短くなり、基材表面に微少なホールや溝へのシランカップリング剤の吸着率が低下するからである。
前記シランカップリング剤は、マントルヒーター等により加熱することにより、80〜100℃で蒸気化することができる。尚、シランカップリング剤の蒸発温度は、80〜90℃とすることが好ましい。シランカップリング蒸気の凝縮を防ぐために、蒸発源から基材までの配管構成は、蒸発温度以上に保持する必要がある。従来技術のようにシランカップリング剤の蒸発温度を100℃まで高めた場合には、配管設定温度もそれに合わせて高めることになり、バルブシート面を傷める惧れがある。本発明のように蒸発温度を80〜90℃と設定することによりバルブシート面を保護することができる効果がある。
また、前記基材表面に形成されるシランカップリング剤による層は、単層であることが好ましく、その厚さは、1nm〜3nmとすることが好ましい。1nm未満であると、有機材料膜の密着性を確保するのに不十分であり、3nmを超えると、基材表面に微少なホールや溝がある場合には、シランカップリング剤が前記微少なホールや溝に吸着されず、有機材料膜の密着性が低下するからである。
図1は、本発明の有機材料膜の形成方法に使用する装置11の構成図を示すものである。
図1に示すように、真空排気系1に排気バルブ2を介して接続された真空チャンバー3内には、基材ホルダー4により基材5が保持され、基材5の下方には、原料モノマーを蒸発させるための蒸発源容器6,7が設けられている。尚、各容器6,7は、図示しないが、ヒーター及び熱電対により、原料モノマーの蒸発量を制御できるようになっている。各容器6,7と、基材5との間にはシャッター8が設けられ、このシャッター8により基材5に形成される有機材料膜の膜厚を調整することができるようになっている。また、真空チャンバー3には、それぞれのバルブ9,10を介して、オゾンガスとシランカップリング剤蒸気とを導入できるようになっている。
次に、上記装置11を使用して有機材料膜を形成する方法について説明する。
基材5として、10cm角のガラス板を基材ホルダー4に保持し、真空チャンバー3内を真空排気系1により、10-4Paまで排気した後、排気バルブ2を閉じ、オゾン発生器により発生させたオゾンガスを、バルブ9を開いて流量20L/minで、真空チャンバー3内に導入した。2分経過後、バルブ9を閉じてオゾンの導入を停止した。次に、排気バルブ2を開いて真空排気系1により真空チャンバー3内を10-4Paまで排気してから排気バルブ2を閉じ、γ−アミノプロピルトリエトキシシランを80℃に加熱して蒸気化したものを、バルブ10を介して、真空チャンバー3内が1Paとなるまで導入し、2分間経過後にバルブ10を閉じて導入を停止した。
次に、排気バルブ2を開いた後に、真空チャンバー3内を再び10-4Paまで排気し、排気バルブ2を閉じた後、蒸発源容器6に4,4'−ジフェニルメタンジイソシアナートを、蒸発源容器7には4,4'−ジアミノジフェニルメタンを充填し、シャッター9を閉じた状態で真空チャンバー3内の雰囲気ガスの全圧が5×10-4Pa以下になるまで、真空排気系1により排気し、次いで、蒸発源容器6,7のヒーターを制御して加熱し、シャッター8を30分間開放して基材3の表面に厚さ0.5μmのポリ尿素膜を形成した。
そして、蒸着重合終了後に、真空チャンバー3から基材5を取り出して、大気熱処理炉により、130℃の温度で10分間熱処理を行った。
オゾンガスの導入を除いた以外は、実施例1と同じ処理を行うことにより基材表面にポリ尿素膜を形成した。
オゾンガス及びシランカップリング剤蒸気の導入を除いた以外は、実施例1と同じ処理を行うことにより基材表面にポリ尿素膜を形成した。
この結果から、本実施例により形成されたポリ尿素膜は、極めて密着性が高いことがわかった。
2 排気バルブ
3 真空チャンバー
4 基材ホルダー
5 基材
6 蒸発源容器
7 蒸発源容器
8 シャッター
9 バルブ
10 バルブ
11 有機材料膜形成装置
Claims (3)
- 無機材料により構成される基材表面を、オゾンガスで前記基材表面を洗浄してから、真空雰囲気下においてシランカップリング剤蒸気に晒し、その後、前記基材表面に有機材料膜を形成することを特徴とする有機材料膜の形成方法。
- 請求項1に記載の有機材料膜の形成方法を、真空雰囲気を破らずに行うことを特徴とする有機材料膜の形成方法。
- 前記有機材料膜は、ポリイミド、ポリ尿素、ポリアミド及びポリウレタンのうちのいずれかであり、蒸着重合法により形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機材料膜の形成方法。
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