JP4611845B2 - Semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置に係り、特に、放熱部材を備えた半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device provided with a heat dissipation member.

半導体装置のように、構成部材に発熱体を有する回路部品として、例えば、特許文献1に示されるものがある。特許文献1に記載の回路部品は、増幅素子等の発熱体の放熱を行うヒートシンクを備えている。発熱体を放熱用ヒートシンク上に実装するときは、伝熱用ペースト材を介して実装している。
上記構成より、発熱体の温度が上昇したときに、伝熱用ペーストを介して発熱体の熱を良好に放出することができる。
特開2004−158814号公報(第4頁、図3)
As a circuit component having a heating element as a constituent member like a semiconductor device, for example, there is one disclosed in Patent Document 1. The circuit component described in Patent Document 1 includes a heat sink that radiates heat from a heating element such as an amplification element. When the heating element is mounted on the heat sink for heat dissipation, it is mounted via a heat transfer paste material.
With the above configuration, when the temperature of the heating element rises, the heat of the heating element can be released well through the heat transfer paste.
JP 2004-158814 A (page 4, FIG. 3)

特許文献1の回路部品では、放熱用ヒートシンクと発熱体間で絶縁を図る場合には、伝熱用ペーストを絶縁物としているが、このように、単に伝熱用ペーストを介在させただけでは良好な絶縁状態を保つことができないという問題があった。
特許文献1には、放熱用ヒートシンクと発熱体間でアース接続が電気的特性に影響がある場合には、伝熱用ペースト材を薄く塗布することにより絶縁効果を低減することが可能であると記載されており、このことからも、伝熱用ペースト材の厚さによって絶縁効果が左右されるものであり、確実に絶縁を図るためには不十分であった。
或いは、回路部品を放熱部材に取り付ける際に、回路部品に予め設けられた孔にネジを挿通することにより放熱部材に固定することも行われていた。この場合は、回路部品と放熱部材の絶縁は樹脂シート等を用いて行われていた。
上記構成によれば、回路部品と放熱部材との絶縁を確実に図ることができるが、回路部品の取り付けにおいて、ドライバなどの工具を用いて行うため手間がかかるとともに、ネジを使用するために部品点数が増加し、またネジ孔のタップ処理が必要であり、コストが上昇するという問題があった。
In the circuit component of Patent Document 1, when insulation is performed between the heat sink for heat dissipation and the heating element, the heat transfer paste is used as an insulator, but as described above, it is good only by interposing the heat transfer paste. There was a problem that it was not possible to maintain a proper insulation state.
In Patent Document 1, when the ground connection between the heat sink for heat dissipation and the heating element affects the electrical characteristics, it is possible to reduce the insulation effect by thinly applying the heat transfer paste material. Therefore, the insulation effect is influenced by the thickness of the heat transfer paste material, and this is insufficient to ensure insulation.
Or when attaching a circuit component to a heat radiating member, fixing to the heat radiating member by inserting a screw in the hole previously provided in the circuit component was also performed. In this case, the insulation between the circuit component and the heat radiating member has been performed using a resin sheet or the like.
According to the above configuration, the circuit component and the heat radiating member can be reliably insulated. However, it takes time to install the circuit component using a tool such as a screwdriver, and the component is used for using the screw. There is a problem in that the number of points increases and tapping of the screw holes is necessary, which increases the cost.

本発明の目的は、上記課題に鑑み、半導体素子の放熱を行う構造を備えているとともに、半導体素子と放熱部材との絶縁を簡単且つ確実に図ることが可能な半導体装置を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a semiconductor device that has a structure for radiating heat from a semiconductor element and that can easily and reliably insulate a semiconductor element and a heat radiating member. .

前記課題は、本発明によれば、半導体素子モールド部に導電性を有する板状部材が設けられた半導体素子と、放熱部材とを接合してなる半導体装置であって、前記放熱部材は前記半導体素子モールド部を位置決めして配置するための位置決め部と、前記板状部材と前記放熱部材との間に隙間を形成する前記半導体素子モールド部に形成された突起からなる隙間形成部と、を備え、前記隙間に配設された絶縁性材料を介して前記板状部材と前記放熱部材とが絶縁状態で接合されることにより解決される。 According to the present invention, the object is a semiconductor device in which a semiconductor element in which a conductive plate-like member is provided in a semiconductor element mold part and a heat radiating member are joined, wherein the heat radiating member is the semiconductor A positioning part for positioning and arranging the element mold part, and a gap forming part made of a protrusion formed on the semiconductor element mold part that forms a gap between the plate-like member and the heat radiating member. , and the heat radiation member and the plate member via the disposed an insulating material in the gap is solved by, to be joined in an insulated state.

このように本発明の半導体装置によれば、半導体素子モールド部と、外部配線に電気的に接続するための端子となる導電性を有する板状部材と、放熱部材とを備え、前記板状部材を介して半導体素子モールド部に発生する熱が放熱部材へと放出される。
本発明では、放熱部材に半導体素子モールド部の位置決め部が形成されており、半導体素子モールド部は位置決め部に配設されて、適正位置に設けられる。
また、放熱部材は板状部材と前記放熱部材との間に隙間を形成する隙間形成部を有し、板状部材と放熱部材との間に隙間が形成されるように構成されている。
したがって、隙間に接着剤を配することにより、板状部材と放熱部材との間で絶縁状態を保つことが可能となる。
本発明の構成によれば、導電性を有する板状部材は放熱部材に直接接することなく、段差部との間に隙間を有して配設されるので、この隙間に常に一定量の接着剤を所定厚さで配することができ、板状部材と放熱部材との絶縁を確実に図ることが可能となる。
本発明では、板状部材と段差部との間の隙間に接着剤を充填するので、製品によってばらつくことなく、所定厚さの接着剤を配することが可能となる。
また、半導体素子を放熱部材に取り付ける際に、ネジ等を用いずに、接着剤を用いて簡単に取り付けることができるので、生産性を向上させ、また部品点数や加工工数を抑えてコストを低減することが可能となる。
As described above, according to the semiconductor device of the present invention, the plate-like member includes the semiconductor element mold portion, the conductive plate-like member serving as a terminal for electrical connection to the external wiring, and the heat dissipation member. The heat generated in the semiconductor element mold part is released to the heat dissipation member.
In this invention, the positioning part of the semiconductor element mold part is formed in the heat radiating member, and the semiconductor element mold part is disposed in the positioning part and provided at an appropriate position.
Moreover, the heat radiating member has a gap forming portion that forms a gap between the plate-like member and the heat radiating member, and is configured such that a gap is formed between the plate-like member and the heat radiating member.
Therefore, by disposing the adhesive in the gap, it is possible to maintain an insulating state between the plate-like member and the heat dissipation member.
According to the configuration of the present invention, since the conductive plate-like member is disposed with a gap between the stepped portion without directly contacting the heat radiating member, a constant amount of adhesive is always provided in the gap. Can be arranged with a predetermined thickness, and insulation between the plate-like member and the heat radiating member can be reliably achieved.
In the present invention, since the adhesive is filled in the gap between the plate-like member and the stepped portion, the adhesive having a predetermined thickness can be provided without variation depending on the product.
Also, when attaching a semiconductor element to a heat dissipation member, it can be easily attached using an adhesive without using screws, etc., improving productivity and reducing costs by reducing the number of parts and processing steps It becomes possible to do.

また、上記隙間形成部により、板状部材が放熱部材から離間して配設され、放熱部材との間に一定の隙間を確保することができる。Moreover, a plate-shaped member is spaced apart from a heat radiating member by the said clearance gap formation part, and a fixed clearance gap can be ensured between heat radiating members.

また前記位置決め部は、半導体素子モールド部の側面と位置決め部の側面とが係合可能となるように、前記半導体素子モールド部に形成された突起の高さを調整するように構成すると好適である。In addition, it is preferable that the positioning portion is configured to adjust the height of the protrusion formed on the semiconductor element mold portion so that the side surface of the semiconductor element mold portion and the side surface of the positioning portion can be engaged with each other. .

本発明の放熱部材を備えた半導体装置は、半導体素子モールド部に導電性を有する板状部材が設けられており、この板状部材を介して放熱を効果的に行うことが可能である。さらに半導体素子モールド部及び板状部材が放熱部材上に設けられており、半導体素子モールド部が発する熱を好適に放出することが可能である。
このとき、放熱部材に半導体素子モールド部の位置決め部と、板状部材と放熱部材との間に隙間を形成する隙間形成部が設けられており、この隙間に非導電性接着剤等の接着性材料が配設される。
以上の構成により、半導体素子を放熱部材上の適切な位置に配設することが可能となる。また、板状部材と段差部との間の隙間に、常に所定量の接着剤が配設されることとなり、板状部材と段差部との絶縁を確実に図ることが可能となる。
また、半導体素子を放熱部材に取り付ける際に、ネジ等を用いずに、接着剤を用いて簡単に取り付けることができるので、生産性の向上、さらにコスト低減を図ることが可能となる。
The semiconductor device provided with the heat radiating member of the present invention is provided with a conductive plate-like member in the semiconductor element mold portion, and heat can be effectively radiated through this plate-like member. Furthermore, the semiconductor element mold part and the plate-like member are provided on the heat dissipation member, and it is possible to suitably release the heat generated by the semiconductor element mold part.
At this time, a positioning part of the semiconductor element mold part and a gap forming part for forming a gap between the plate-like member and the heat radiating member are provided in the heat radiating member, and an adhesive property such as a nonconductive adhesive is provided in the gap. Material is disposed.
With the above configuration, the semiconductor element can be disposed at an appropriate position on the heat dissipation member. In addition, a predetermined amount of adhesive is always provided in the gap between the plate-like member and the stepped portion, and insulation between the plate-like member and the stepped portion can be reliably achieved.
Further, when the semiconductor element is attached to the heat radiating member, it can be easily attached using an adhesive without using a screw or the like, so that it is possible to improve productivity and reduce costs.

以下、本発明の一実施形態について、図を参照して説明する。なお、以下に説明する構成、手順等は、本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨に沿って各種改変することができることは勿論である。
図1及び図2は本発明の一実施形態に係るものであり、図1は放熱部材を備えた半導体装置を示す断面図、図2は放熱部材を備えた半導体装置を示す分解斜視図である。
以下に本発明の放熱部材を備えた半導体装置の一実施形態について説明する。本発明の一実施形態に係る放熱部材を備えた半導体装置1は、例えば乗用自動車や電気自動車に搭載されるものであり、図1及び図2に示すように、半導体素子10と、放熱部材としてのヒートシンク20と、を主要構成要素としている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the configurations, procedures, and the like described below do not limit the present invention, and various modifications can be made according to the spirit of the present invention.
1 and 2 relate to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a semiconductor device provided with a heat radiating member, and FIG. 2 is an exploded perspective view showing the semiconductor device provided with a heat radiating member. .
Hereinafter, an embodiment of a semiconductor device provided with a heat dissipation member of the present invention will be described. A semiconductor device 1 including a heat dissipation member according to an embodiment of the present invention is mounted, for example, in a passenger car or an electric vehicle. As shown in FIGS. 1 and 2, as a semiconductor element 10 and a heat dissipation member, The heat sink 20 is a main component.

本例の半導体素子10は、半導体素子モールド部11と、端子12とを備えており、さらに、導電性を有する板状部材として、金属板からなる活電部13を備えて構成されている。
半導体素子モールド部11は、半導体チップ等が絶縁性モールド樹脂により封止されたパッケージであり、端子12は半導体素子モールド部11から起立して設けられている。
活電部13は、半導体素子モールド部11の裏面側に設けられている。
活電部13は、半導体素子モールド部11を外部配線に電気的に接続するための端子としての機能と、半導体素子モールド部11が発する熱を放熱する機能とを有しており、例えば銅、鉄、ニッケル、アルミニウム等から形成されている。
なお、活電部13としては金属板に限らず、導電性を有する部材であれば良く、他に導電性セラミック板や導電性樹脂板等を用いることが可能である。
上記構成において、半導体素子モールド部11を駆動・制御する信号が端子12に入力される。そして、出力信号が活電部13を通ってモータ等の機器に送られる。
活電部13は放熱板を兼用しており、半導体素子モールド部11で発生した熱は、活電部13を通って、ヒートシンク20で放熱される。
The semiconductor element 10 of this example includes a semiconductor element mold part 11 and a terminal 12, and further includes a live part 13 made of a metal plate as a conductive plate member.
The semiconductor element mold part 11 is a package in which a semiconductor chip or the like is sealed with an insulating mold resin, and the terminals 12 are provided upright from the semiconductor element mold part 11.
The live part 13 is provided on the back side of the semiconductor element mold part 11.
The live part 13 has a function as a terminal for electrically connecting the semiconductor element mold part 11 to an external wiring, and a function of radiating heat generated by the semiconductor element mold part 11, such as copper, It is made of iron, nickel, aluminum or the like.
The live part 13 is not limited to a metal plate but may be any member having conductivity, and a conductive ceramic plate, a conductive resin plate, or the like can be used.
In the above configuration, a signal for driving and controlling the semiconductor element mold part 11 is input to the terminal 12. Then, the output signal is sent to a device such as a motor through the live part 13.
The live part 13 also serves as a heat sink, and the heat generated in the semiconductor element mold part 11 is radiated by the heat sink 20 through the live part 13.

ヒートシンク20は、熱伝導性に優れたアルミニウムからなり、ダイカスト成形により形成されている。ヒートシンク20は、半導体素子10から発生した熱を、外部へ放熱するように構成されている。
ヒートシンク20は、半導体素子10から発生した熱を空気中へ拡散させて空冷するものである。
ヒートシンク20は多数のフィン21を備えており、これにより表面積が大きく確保されている。
図2は、半導体素子10とヒートシンク20とが組み付けられていない状態を示すものである。半導体素子10とヒートシンク20の組み付け時には、ヒートシンク20の載置部23に、半導体素子10が配設されて組み付けられる。
The heat sink 20 is made of aluminum having excellent thermal conductivity, and is formed by die casting. The heat sink 20 is configured to radiate heat generated from the semiconductor element 10 to the outside.
The heat sink 20 is for air cooling by diffusing heat generated from the semiconductor element 10 into the air.
The heat sink 20 includes a large number of fins 21, thereby ensuring a large surface area.
FIG. 2 shows a state where the semiconductor element 10 and the heat sink 20 are not assembled. When the semiconductor element 10 and the heat sink 20 are assembled, the semiconductor element 10 is disposed and assembled on the mounting portion 23 of the heat sink 20.

ヒートシンク20には、半導体装置1の載置部23として、半導体素子モールド部11の位置決め部24と、この位置決め部24よりも低く形成された段差部25が設けられている。
位置決め部24は、ヒートシンク20の上面22を基準面としたときに、上面22よりも低い凹部として形成されている。
位置決め部24は、半導体素子モールド部11の載置面24aと、この載置面24aとヒートシンク20の上面22との間に位置する側面24bとを備えている。
半導体素子モールド部11を位置決め部24に配設するときは、半導体素子モールド部11の側面11aを、位置決め部24の側面24bに係合させて配設させる。
位置決め部24が設けられていることにより、半導体素子モールド部11の位置を速やかに決定することが可能となる。
段差部25は、位置決め部24よりも一段低く形成されている。また、段差部25は、活電部13がヒートシンク20に接触しないように、活電部13よりも大きい面積が確保されている。
活電部13は半導体素子モールド部11の裏面に面一に設けられているので、段差部25が存在することにより、図1に示すように、半導体素子10の活電部13とヒートシンク20との間に、隙間26が形成される。すなわち、本例では段差部25が隙間形成部に相当する。
隙間26には非導電性接着剤27或いは樹脂が充填される。このようにして、活電部13はヒートシンク20に直接接することなく、隙間26に充填された非導電性接着材27により、ヒートシンク20と電気的に絶縁される。
The heat sink 20 is provided with a positioning part 24 of the semiconductor element mold part 11 and a step part 25 formed lower than the positioning part 24 as the mounting part 23 of the semiconductor device 1.
The positioning portion 24 is formed as a recess that is lower than the upper surface 22 when the upper surface 22 of the heat sink 20 is used as a reference surface.
The positioning unit 24 includes a mounting surface 24 a of the semiconductor element mold unit 11 and a side surface 24 b positioned between the mounting surface 24 a and the upper surface 22 of the heat sink 20.
When the semiconductor element mold part 11 is disposed on the positioning part 24, the side surface 11 a of the semiconductor element mold part 11 is engaged with the side surface 24 b of the positioning part 24.
By providing the positioning portion 24, the position of the semiconductor element mold portion 11 can be quickly determined.
The step portion 25 is formed one step lower than the positioning portion 24. Further, the step portion 25 has a larger area than the live part 13 so that the live part 13 does not contact the heat sink 20.
Since the live part 13 is provided flush with the back surface of the semiconductor element mold part 11, the presence of the step part 25 causes the live part 13, the heat sink 20, and the heat sink 20, as shown in FIG. A gap 26 is formed between the two. That is, in this example, the step portion 25 corresponds to a gap forming portion.
The gap 26 is filled with a non-conductive adhesive 27 or resin. In this way, the live part 13 is electrically insulated from the heat sink 20 by the non-conductive adhesive 27 filled in the gap 26 without directly contacting the heat sink 20.

なお、半導体素子モールド部11の位置決め部24の載置面24aにも、非導電性接着剤27を塗布し、半導体素子モールド部11が載置面24aに固定されるようにしても良い。しかし、半導体素子モールド部11は、絶縁性樹脂でパッケージされており、既に絶縁されているので、載置面24aの非導電性接着剤27については塗布しても、塗布しなくても、どちらでもよい。
半導体素子10とヒートシンク20との組み付け状態を図1において説明する。図示されているように、半導体素子モールド部11はヒートシンク20の載置面24aに配設される。このとき、半導体素子モールド部11の側面11aは、位置決め部24の側面24bに係合されて位置決めされる。
活電部13は段差部25に位置し、活電部13と段差部25との間には隙間26が形成され、この隙間26に非導電性接着剤27が介在している。
以上のようにして、確実にヒートシンク20と半導体素子10を絶縁し、かつ、ヒートシンク20に対して半導体素子10の位置決めを簡単に行うことが可能となる。
半導体素子モールド部11から発せられた熱は、活電部13及び非導電性接着剤27を介して、ヒートシンク20に放熱される。
なお、本例では、活電部13が半導体素子モールド部11の裏面に面一に設けられた例を示したが、これに限らず、活電部13が半導体素子モールド部11の底面よりも上方に位置する構成であっても、或いは、活電部13が半導体素子モールド部11の底面よりも下方に位置する構成であっても良い。
活電部13が半導体素子モールド部11の底面よりも下方に位置する場合は、段差部25と活電部13との間の隙間26が確保されるように、段差部25の深さを調整する。
Note that the non-conductive adhesive 27 may be applied to the mounting surface 24a of the positioning unit 24 of the semiconductor element mold unit 11 so that the semiconductor element mold unit 11 is fixed to the mounting surface 24a. However, since the semiconductor element mold part 11 is packaged with an insulating resin and is already insulated, the non-conductive adhesive 27 on the mounting surface 24a may be applied or not applied. But you can.
The assembled state of the semiconductor element 10 and the heat sink 20 will be described with reference to FIG. As illustrated, the semiconductor element mold part 11 is disposed on the mounting surface 24 a of the heat sink 20. At this time, the side surface 11 a of the semiconductor element mold part 11 is engaged with the side surface 24 b of the positioning part 24 and positioned.
The live part 13 is located in the step part 25, and a gap 26 is formed between the live part 13 and the step part 25, and a non-conductive adhesive 27 is interposed in this gap 26.
As described above, the heat sink 20 and the semiconductor element 10 can be reliably insulated, and the semiconductor element 10 can be easily positioned with respect to the heat sink 20.
The heat generated from the semiconductor element mold part 11 is radiated to the heat sink 20 via the live part 13 and the nonconductive adhesive 27.
In addition, in this example, although the live part 13 was provided in the back surface of the semiconductor element mold part 11 flush, the example which provided the live part 13 from the bottom face of the semiconductor element mold part 11 is not restricted to this. Even if it is the structure located above, the structure in which the live part 13 is located below the bottom face of the semiconductor element mold part 11 may be sufficient.
When the live part 13 is positioned below the bottom surface of the semiconductor element mold part 11, the depth of the step part 25 is adjusted so that a gap 26 between the step part 25 and the live part 13 is secured. To do.

図3乃至図7は、他の実施例に係る半導体装置1の構成を示す説明図である。各実施例において、前記実施例と同一部材には、同一符号を付してその説明を省略する。
図3は他の実施例に係るヒートシンク20を示すものである。図3では半導体素子10の図示は省略している。
本例のヒートシンク20には、半導体素子モールド部11を位置決めするための、位置決め用凸部28が設けられている。この位置決め用凸部28に囲まれた領域が、半導体素子モールド部11の位置決め部24とされる。
位置決め用凸部28は、ヒートシンク20の上面22から突出して設けられている。
位置決め用凸部28は、側面28aを備えており、この側面28aが半導体素子モールド部11の側面11aに係合する。
本例の位置決め用凸部28は、半導体素子モールド部11の側面11aに連続して当接する凸条部として形成されている。
本例では、半導体素子モールド部11の位置決め部24はヒートシンク20の上面22に面一に形成されている。
3 to 7 are explanatory diagrams showing the configuration of the semiconductor device 1 according to another embodiment. In each embodiment, the same members as those in the previous embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
FIG. 3 shows a heat sink 20 according to another embodiment. In FIG. 3, illustration of the semiconductor element 10 is omitted.
The heat sink 20 of this example is provided with a positioning convex portion 28 for positioning the semiconductor element mold portion 11. A region surrounded by the positioning protrusions 28 is the positioning portion 24 of the semiconductor element mold portion 11.
The positioning convex portion 28 is provided so as to protrude from the upper surface 22 of the heat sink 20.
The positioning convex portion 28 includes a side surface 28 a, and the side surface 28 a engages with the side surface 11 a of the semiconductor element mold portion 11.
The positioning convex portion 28 of this example is formed as a convex strip portion that continuously contacts the side surface 11 a of the semiconductor element mold portion 11.
In this example, the positioning portion 24 of the semiconductor element mold portion 11 is formed flush with the upper surface 22 of the heat sink 20.

ヒートシンク20には、位置決め部24よりも低く形成された段差部25が設けられている。
段差部25には活電部13が位置する。段差部25は、活電部13との間に隙間26が生ずるように形成される。本例では、この段差部25が隙間形成部に相当する。
隙間26には非導電性接着剤27或いは樹脂が充填され、活電部13とヒートシンク20とが電気的に絶縁される。
The heat sink 20 is provided with a step portion 25 formed lower than the positioning portion 24.
The live part 13 is located at the step part 25. The step part 25 is formed so that a gap 26 is formed between the step part 25 and the live part 13. In this example, the step portion 25 corresponds to a gap forming portion.
The gap 26 is filled with a non-conductive adhesive 27 or resin, and the live part 13 and the heat sink 20 are electrically insulated.

図4はさらに他の実施例に係るヒートシンク20を示すものである。
本例のヒートシンク20には、半導体素子モールド部11を位置決めするための、位置決め用突起29が設けられている。この位置決め用突起29に囲まれた領域が、すなわち図中鎖線で囲んだ領域が、半導体素子モールド部11の位置決め部24とされる。
位置決め用突起29は、断面円形の円柱形であり、ヒートシンク20の上面22から突出して設けられている。
本例では4つの位置決め用突起29が設けられており、この4つの位置決め用突起29に、半導体素子モールド部11の側面11aが係合する。
半導体素子モールド部11は四点で位置決め用突起29に係合し、位置決め用突起29により適正位置に位置決めされる。
なお、本例では位置決め用突起29が4つ設けられた構成を示したが、4つに限らず、半導体素子モールド部11の位置決めが可能であれば、位置決め用突起29の数はいくつであっても良い。
また、位置決め用突起29の形状を断面円形のものとして示したが、形状についてもこれに限らず、断面楕円形、断面矩形、断面多角形など、他の形状であっても良い。
例えば、図5に示すように、断面矩形の位置決め用突起29を2箇所に設けた構成であっても良い。このような構成でも、2つの位置決め用突起29の両方に半導体素子モールド部11が係合するように配設することで、半導体素子モールド部11の位置決めをすることが可能である。
FIG. 4 shows a heat sink 20 according to still another embodiment.
The heat sink 20 of this example is provided with positioning protrusions 29 for positioning the semiconductor element mold part 11. A region surrounded by the positioning protrusions 29, that is, a region surrounded by a chain line in the figure is the positioning portion 24 of the semiconductor element mold portion 11.
The positioning protrusion 29 has a circular column shape with a circular cross section, and is provided so as to protrude from the upper surface 22 of the heat sink 20.
In this example, four positioning protrusions 29 are provided, and the side surface 11 a of the semiconductor element mold portion 11 is engaged with the four positioning protrusions 29.
The semiconductor element mold part 11 is engaged with the positioning protrusion 29 at four points, and is positioned at an appropriate position by the positioning protrusion 29.
In this example, a configuration in which four positioning protrusions 29 are provided is shown. However, the number is not limited to four, and the number of positioning protrusions 29 may be any number as long as the semiconductor element mold part 11 can be positioned. May be.
Moreover, although the shape of the positioning protrusion 29 is shown as that having a circular cross section, the shape is not limited to this, and may be other shapes such as an elliptical cross section, a rectangular cross section, and a polygonal cross section.
For example, as shown in FIG. 5, a configuration in which positioning protrusions 29 having a rectangular cross section are provided at two locations may be employed. Even in such a configuration, the semiconductor element mold part 11 can be positioned by disposing the semiconductor element mold part 11 so as to be engaged with both of the two positioning protrusions 29.

ヒートシンク20には、位置決め部24よりも低く形成された段差部25が設けられている。
段差部25には活電部13が位置される。段差部25は、活電部13との間に隙間26が生ずるように形成される。本例では、この段差部25が隙間形成部に相当する。
隙間26には非導電性接着剤27或いは樹脂が充填され、活電部13とヒートシンク20とが電気的に絶縁される。
なお、図3乃至図5の実施例において、位置決め用凸部28,位置決め用突起29はヒートシンク20に一体に形成されている構成であっても、別部材として形成された位置決め用凸部28,位置決め用突起29を後付けで取り付けた構成であっても良い。
The heat sink 20 is provided with a step portion 25 formed lower than the positioning portion 24.
The live part 13 is located at the step part 25. The step part 25 is formed so that a gap 26 is formed between the step part 25 and the live part 13. In this example, the step portion 25 corresponds to a gap forming portion.
The gap 26 is filled with a non-conductive adhesive 27 or resin, and the live part 13 and the heat sink 20 are electrically insulated.
3 to 5, the positioning projection 28 and the positioning projection 29 are formed integrally with the heat sink 20, but the positioning projection 28, which is formed as a separate member, A configuration in which the positioning projection 29 is attached later may be used.

図6及び図7はさらに他の実施例に係る半導体装置1を示すものである。
図6は本例の半導体装置1を構成する半導体素子10を示すものである。
本例の半導体素子10は、半導体素子モールド部11と、端子12と、活電部13とを備えて構成されている。
そして、図6及び図7に示すように、本例の半導体素子モールド部11の底面側には、複数の突起14が形成されている。
この突起14により、半導体素子モールド部11をヒートシンク20に配設したときに、半導体素子モールド部11をヒートシンク20から離間させ、結果として、活電部13をヒートシンク20から離間させることが可能となる。
半導体素子モールド部11に複数の突起14を設けることにより、図7に示すように、半導体素子10をヒートシンク20に配設したときに、半導体素子モールド部11とヒートシンク20との間、および活電部13とヒートシンク20との間に隙間26が形成される。
すなわち、本例では、突起14が、活電部13とヒートシンク20との間に隙間26を形成する隙間形成部に相当する。
この隙間26に非導電性接着剤27を介在させて、活電部13とヒートシンク20とを電気的に絶縁させる。
図6及び図7に示す半導体素子モールド部11の位置決めについては、図1乃至図5に示す位置決め部24を設けることにより、同様に行うことができる。
なお、図6及び図7に示す半導体素子モールド部11は、突起14が設けられている分だけ高さがあるので、図1及び図2に示す位置決め部24を形成する場合は、半導体素子モールド部11の側面11aと、位置決め部24の側面24bが係合可能となるように、位置決め部24の深さを調整すると良い。
また、図3乃至図5に示す位置決め用凸部28または位置決め用突起29を形成する場合は、半導体素子モールド部11が係合可能となるように、位置決め用凸部28,位置決め用突起29の高さを調整すると良い。
6 and 7 show a semiconductor device 1 according to another embodiment.
FIG. 6 shows a semiconductor element 10 constituting the semiconductor device 1 of this example.
The semiconductor element 10 of this example includes a semiconductor element mold part 11, a terminal 12, and a live part 13.
6 and 7, a plurality of protrusions 14 are formed on the bottom surface side of the semiconductor element mold portion 11 of this example.
By this protrusion 14, when the semiconductor element mold part 11 is disposed on the heat sink 20, the semiconductor element mold part 11 can be separated from the heat sink 20, and as a result, the live part 13 can be separated from the heat sink 20. .
By providing a plurality of protrusions 14 on the semiconductor element mold part 11, when the semiconductor element 10 is disposed on the heat sink 20, as shown in FIG. A gap 26 is formed between the portion 13 and the heat sink 20.
That is, in this example, the protrusion 14 corresponds to a gap forming part that forms a gap 26 between the live part 13 and the heat sink 20.
The live part 13 and the heat sink 20 are electrically insulated by interposing a non-conductive adhesive 27 in the gap 26.
The positioning of the semiconductor element mold part 11 shown in FIGS. 6 and 7 can be similarly performed by providing the positioning part 24 shown in FIGS.
Since the semiconductor element mold part 11 shown in FIGS. 6 and 7 has a height corresponding to the height of the protrusions 14, the semiconductor element mold 11 is formed when the positioning part 24 shown in FIGS. 1 and 2 is formed. The depth of the positioning portion 24 may be adjusted so that the side surface 11a of the portion 11 and the side surface 24b of the positioning portion 24 can be engaged.
Further, when forming the positioning convex portion 28 or the positioning projection 29 shown in FIGS. 3 to 5, the positioning convex portion 28 and the positioning projection 29 are arranged so that the semiconductor element mold portion 11 can be engaged. Adjust the height.

いずれの位置決め部24を設けた場合であっても、図6及び図7に示す半導体装置1によれば、活電部13を位置させるための段差部25を設けなくても、半導体素子モールド部11に設けられた突起14により、活電部13とヒートシンク20との間に隙間26を形成することが可能となる。
したがって、隙間26に非導電性接着剤27を介在させることにより、活電部13とヒートシンク20とを電気的に絶縁させることが可能となる。
Regardless of which positioning part 24 is provided, according to the semiconductor device 1 shown in FIGS. 6 and 7, the semiconductor element mold part can be provided without providing the step part 25 for positioning the live part 13. 11 can form a gap 26 between the live part 13 and the heat sink 20.
Therefore, the live part 13 and the heat sink 20 can be electrically insulated by interposing the non-conductive adhesive 27 in the gap 26.

本発明の一実施形態に係る半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る半導体装置の分解斜視図である。1 is an exploded perspective view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 他の実施例に係る半導体装置を構成する放熱部材の説明図である。It is explanatory drawing of the heat radiating member which comprises the semiconductor device which concerns on another Example. 他の実施例に係る半導体装置を構成する放熱部材の説明図である。It is explanatory drawing of the heat radiating member which comprises the semiconductor device which concerns on another Example. 他の実施例に係る半導体装置を構成する放熱部材の説明図である。It is explanatory drawing of the heat radiating member which comprises the semiconductor device which concerns on another Example. 他の実施例に係る半導体装置を構成する半導体素子の説明図である。It is explanatory drawing of the semiconductor element which comprises the semiconductor device which concerns on another Example. 図6の半導体素子を備えた半導体装置の側面図である。It is a side view of the semiconductor device provided with the semiconductor element of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1‥半導体装置、10‥半導体素子、11‥半導体素子モールド部、11a‥側面、12‥端子、13‥活電部、14‥突起、20‥ヒートシンク、21‥フィン、22‥上面、23‥載置部、24‥位置決め部、24a‥載置面、24b‥側面、25‥段差部、26‥隙間、27‥非導電性接着剤、28‥位置決め用凸部、28a‥側面、29‥位置決め用突起 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor device, 10 ... Semiconductor element, 11 ... Semiconductor element mold part, 11a ... Side, 12 ... Terminal, 13 ... Active part, 14 ... Protrusion, 20 ... Heat sink, 21 ... Fin, 22 ... Upper surface, 23 ... 24, positioning portion, 24a, mounting surface, 24b, side surface, 25, stepped portion, 26, gap, 27, non-conductive adhesive, 28, convex portion for positioning, 28a, side surface, 29, for positioning Protrusion

Claims (2)

半導体素子モールド部に導電性を有する板状部材が設けられた半導体素子と、放熱部材とを接合してなる半導体装置であって、
前記放熱部材は前記半導体素子モールド部を位置決めして配置するための位置決め部と、
前記板状部材と前記放熱部材との間に隙間を形成する前記半導体素子モールド部に形成された突起からなる隙間形成部と、を備え、
前記隙間に配設された絶縁性材料を介して前記板状部材と前記放熱部材とが絶縁状態で接合されることを特徴とする半導体装置。
A semiconductor device in which a semiconductor element having a conductive plate-like member provided in a semiconductor element mold part and a heat dissipation member are joined,
The heat dissipating member is a positioning part for positioning and arranging the semiconductor element mold part,
A gap forming portion formed of a protrusion formed on the semiconductor element mold portion that forms a gap between the plate-like member and the heat dissipation member,
The semiconductor device, wherein the plate member and the heat radiating member are joined in an insulating state via an insulating material disposed in the gap.
前記位置決め部は、半導体素子モールド部の側面と位置決め部の側面とが係合可能となるように、前記半導体素子モールド部に形成された突起の高さを調整することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 2. The height of a protrusion formed on the semiconductor element mold portion is adjusted so that the side surface of the semiconductor element mold portion and the side surface of the positioning portion can be engaged with each other. A semiconductor device according to 1.
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