JP4590528B2 - グロープラズマ発生装置及びグロープラズマ発生方法 - Google Patents
グロープラズマ発生装置及びグロープラズマ発生方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4590528B2 JP4590528B2 JP2008504972A JP2008504972A JP4590528B2 JP 4590528 B2 JP4590528 B2 JP 4590528B2 JP 2008504972 A JP2008504972 A JP 2008504972A JP 2008504972 A JP2008504972 A JP 2008504972A JP 4590528 B2 JP4590528 B2 JP 4590528B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- container
- glow plasma
- atmospheric gas
- distance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/48—Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
- H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
- H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
- H05H1/2465—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated by inductive coupling, e.g. using coiled electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/4608—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2245/00—Applications of plasma devices
- H05H2245/10—Treatment of gases
- H05H2245/15—Ambient air; Ozonisers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2245/00—Applications of plasma devices
- H05H2245/30—Medical applications
- H05H2245/36—Sterilisation of objects, liquids, volumes or surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
前記貯留部の少なくとも一部は誘電体で構成された誘電部分であり、
前記第1電極と前記第2電極との間には、前記雰囲気ガスの少なくとも一部と前記貯留部の前記誘電部分とが介在しており、
前記雰囲気ガスの前記少なくとも一部の前記第1電極の側と前記第2電極の側との間の距離が、部分的に異なっている、グロープラズマ発生装置を提供する。
前記第1電極は、前記貯留部の前記第1部分の少なくとも一部を覆うように設けられており、
前記第2電極は、前記貯留部の前記第2部分の少なくとも一部を覆うように設けられており、
前記第1電極と前記第2電極との間には、前記雰囲気ガスの前記少なくとも一部と前記貯留部の前記第1部分と前記第2部分とが介在しており、
前記貯留部の前記第1部分と前記貯留部の前記第2部分との間の距離が、部分的に異なるように設けられている、第1態様のグロープラズマ発生装置を提供する。
前記第1電極と前記第2電極との間には、前記雰囲気ガスの前記少なくとも一部と前記貯留部の前記誘電部分とが介在しており、
前記貯留部の前記誘電部分と前記第2電極の側との間の距離が、部分的に異なっている、第1態様のグロープラズマ発生装置を提供する。
前記第1電極は、前記貯留部の前記区画壁の外部側に設けられており、
前記第2電極は、前記貯留部の前記区画壁の内部側に設けられている、第3態様のグロープラズマ発生装置を提供する。
前記グロープラズマ発生装置は、
雰囲気ガスを貯留するように構成された貯留部と第1電極と第2電極とを備え、
前記貯留部の少なくとも一部は誘電体で構成された誘電部分であり、
前記第1電極と前記第2電極との間には、前記雰囲気ガスの少なくとも一部と前記貯留部の前記誘電部分とが介在しており、
前記雰囲気ガスの前記少なくとも一部の前記第1電極の側と前記第2電極の側との間の距離が、部分的に異なっており、
前記グロープラズマ発生方法は、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加することによって、前記第1電極の側と前記第2電極の側との間で放電を発生する放電発生ステップを包含する、グロープラズマ発生方法を提供する。
Claims (11)
- 雰囲気ガスを貯留するように構成された貯留部と第1電極と第2電極とを備え、前記第1電極と第2電極との間で誘電体バリア放電を生じさせるグロープラズマ発生装置であって、
前記貯留部の少なくとも一部は誘電体で構成された誘電部分であり、
前記第1電極と前記第2電極との間には、前記雰囲気ガスの少なくとも一部と前記貯留部の前記誘電部分とが介在しており、
前記第1電極の側と前記第2電極の側との間の前記雰囲気ガスの前記少なくとも一部が介在している距離が、部分的に異なっている、グロープラズマ発生装置。 - 前記貯留部の誘電部分は、第1部分と第2部分を有しており、
前記第1電極は、前記貯留部の前記第1部分の少なくとも一部を覆うように設けられており、
前記第2電極は、前記貯留部の前記第2部分の少なくとも一部を覆うように設けられており、
前記第1電極と前記第2電極との間には、前記雰囲気ガスの前記少なくとも一部と前記貯留部の前記第1部分と前記第2部分とが介在しており、
前記貯留部の前記第1部分と前記貯留部の前記第2部分との間の距離が、部分的に異なるように設けられている、請求項1に記載のグロープラズマ発生装置。 - 前記第1電極は、前記貯留部の前記誘電部分を覆うように設けられており、
前記第1電極と前記第2電極との間には、前記雰囲気ガスの前記少なくとも一部と前記貯留部の前記誘電部分とが介在しており、
前記貯留部の前記誘電部分と前記第2電極の側との間の距離が、部分的に異なっている、請求項1に記載のグロープラズマ発生装置。 - 前記貯留部は、前記雰囲気ガスを貯留する内部と前記雰囲気ガスを貯留しない外部とを画定する区画壁を有し、
前記第1電極は、前記貯留部の前記区画壁の外部側に設けられており、
前記第2電極は、前記貯留部の前記区画壁の内部側に設けられている、請求項3に記載のグロープラズマ発生装置。 - 前記第2電極が前記貯留部の前記内部の中心から偏心した位置に設けられている、請求項4に記載のグロープラズマ発生装置。
- 前記第2電極は螺旋状である、請求項4に記載のグロープラズマ発生装置。
- 前記第2電極は、前記貯留部の前記区画壁の内部側面に接触している、請求項4に記載のグロープラズマ発生装置。
- 前記第1電極の側と前記第2電極の側との間の距離が、連続的に分布するように、部分的に異なっている、請求項1に記載のグロープラズマ発生装置。
- 前記第1電極の側と前記第2電極の側との間の距離が、離散的に分布するように、部分的に異なっている、請求項1に記載のグロープラズマ発生装置。
- 前記貯留部は、液体を貯留するように構成されている、請求項4に記載のグロープラズマ発生装置。
- グロープラズマ発生装置によってグロープラズマを発生する方法であって、
前記グロープラズマ発生装置は、
雰囲気ガスを貯留するように構成された貯留部と第1電極と第2電極とを備え、
前記貯留部の少なくとも一部は誘電体で構成された誘電部分であり、
前記第1電極と前記第2電極との間には、前記雰囲気ガスの少なくとも一部と前記貯留部の前記誘電部分とが介在しており、
前記雰囲気ガスの前記少なくとも一部の前記第1電極の側と前記第2電極の側との間の距離が、部分的に異なっており、
前記グロープラズマ発生方法は、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加することによって、前記第1電極の側と前記第2電極の側との間で放電を発生する放電発生ステップを包含する、グロープラズマ発生方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006059721 | 2006-03-06 | ||
JP2006059721 | 2006-03-06 | ||
PCT/JP2006/317652 WO2007105330A1 (ja) | 2006-03-06 | 2006-09-06 | グロープラズマ発生装置及びグロープラズマ発生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007105330A1 JPWO2007105330A1 (ja) | 2009-07-30 |
JP4590528B2 true JP4590528B2 (ja) | 2010-12-01 |
Family
ID=38509177
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008504972A Active JP4590528B2 (ja) | 2006-03-06 | 2006-09-06 | グロープラズマ発生装置及びグロープラズマ発生方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4590528B2 (ja) |
WO (1) | WO2007105330A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4947302B2 (ja) * | 2007-07-19 | 2012-06-06 | Toto株式会社 | 放電装置及び放電方法 |
EP2474352A4 (en) | 2009-09-03 | 2015-05-06 | Univ Osaka | METHOD AND DEVICE FOR SUPPLYING IONES TO A LIQUID, AND A STERILIZATION METHOD AND DEVICE |
US9023214B2 (en) * | 2010-02-10 | 2015-05-05 | Aic, Llc | Method and apparatus for applying plasma particles to a liquid and use for disinfecting water |
JP5870279B2 (ja) * | 2010-07-21 | 2016-02-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ発生装置とラジカル生成方法、それらを用いた洗浄浄化装置および電器機器 |
JP6605797B2 (ja) * | 2014-10-15 | 2019-11-13 | 株式会社栗田製作所 | 流体中プラズマ発生方法及び流体中プラズマ発生装置 |
JP6628639B2 (ja) * | 2016-03-01 | 2020-01-15 | アルファ株式会社 | プラズマ処理装置 |
CN109661244B (zh) * | 2016-08-30 | 2021-08-10 | 国立大学法人东北大学 | 病原体及害虫的驱除装置以及其反应容器 |
GB2565852B (en) * | 2017-08-25 | 2022-04-06 | Air Quality Res Limited | Dielectric barrier discharge device and method and apparatus for treating a fluid |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003500195A (ja) * | 1999-05-21 | 2003-01-07 | アクセンタス パブリック リミテッド カンパニー | 非軸流式の誘電体バリアのガス反応器 |
JP2004043789A (ja) * | 2000-02-24 | 2004-02-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ処理装置及び炭素被覆形成プラスチック容器の製造方法 |
JP2004268003A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Masayuki Sato | 水中放電プラズマ方法及び液体処理装置 |
JP2005276618A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Japan Science & Technology Agency | マイクロプラズマ生成装置および方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19824077A1 (de) * | 1998-05-29 | 1999-12-02 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma |
-
2006
- 2006-09-06 WO PCT/JP2006/317652 patent/WO2007105330A1/ja active Application Filing
- 2006-09-06 JP JP2008504972A patent/JP4590528B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003500195A (ja) * | 1999-05-21 | 2003-01-07 | アクセンタス パブリック リミテッド カンパニー | 非軸流式の誘電体バリアのガス反応器 |
JP2004043789A (ja) * | 2000-02-24 | 2004-02-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ処理装置及び炭素被覆形成プラスチック容器の製造方法 |
JP2004268003A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Masayuki Sato | 水中放電プラズマ方法及び液体処理装置 |
JP2005276618A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Japan Science & Technology Agency | マイクロプラズマ生成装置および方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2007105330A1 (ja) | 2009-07-30 |
WO2007105330A1 (ja) | 2007-09-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4590528B2 (ja) | グロープラズマ発生装置及びグロープラズマ発生方法 | |
EP3473601B1 (en) | Apparatus for producing reforming liquid and method for producing reforming liquid | |
US9287091B2 (en) | System and methods for plasma application | |
EP2434975B1 (en) | Plasma device for wide area surface treatment of tissue | |
EP2317830B1 (en) | Inductively-coupled plasma device | |
US20100021340A1 (en) | Method and device for the disinfection of objects | |
JP2016083658A (ja) | プラズマ生成装置 | |
US11267729B2 (en) | In-liquid plasma generation device and liquid treatment apparatus | |
CN108970322B (zh) | 除臭装置以及除臭方法 | |
JPWO2011099247A1 (ja) | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 | |
KR20190138480A (ko) | 플라즈마 발생기 | |
WO2024006628A2 (en) | Liquid processing apparatus with atmospheric, low-temperature plasma activation | |
US20100039036A1 (en) | Initiation method for abnormal glow plasma discharge in a liquid-phase medium and apparatus for its implementation | |
Babij et al. | Atmospheric pressure plasma jet for mass spectrometry | |
EP3108721B1 (en) | Systems and methods for producing electrical discharges in compositions | |
JP2018149535A (ja) | 液体処理装置 | |
JP2014010931A (ja) | プラズマ処理方法及び処理装置 | |
WO2017217170A1 (ja) | 改質液生成装置および改質液生成方法 | |
JP2019200921A (ja) | 液体処理装置 | |
EP3981743A1 (en) | Method and device for disinfection of liquid | |
JP2015116558A (ja) | 液体処理装置 | |
Baránková et al. | Atmospheric pressure plasma sources and processing | |
JP2008264086A (ja) | プラズマ滅菌装置 | |
JP2000086205A (ja) | オゾン発生器 | |
JP2000054148A (ja) | 薄膜形成方法及び成膜装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090824 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100406 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100603 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100713 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |