JP4589942B2 - 気体処理ユニット - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る気体処理ユニットを、熱処理ユニットに連結してなる熱処理装置を示す概略構成図である。この熱処理装置1Aは、例えばFPDの製造工程に用いられるものであり、クリーンルーム内に設置されるいわゆるクリーンオーブンと呼ばれるものである。
図4は、本発明の第2実施形態に係る気体処理ユニットを、熱処理ユニットに連結して構成された熱処理装置の概略構成図である。なお、図1と同一部分には、同一符号を付している。
図5は、本発明の第3実施形態に係る気体処理ユニットを、熱処理ユニットに連結して構成された熱処理装置の概略構成図である。なお、図4と同一部分には、同一符号を付している。
図6は、本発明の第4実施形態に係る気体処理ユニットを、熱処理ユニットに連結して構成された熱処理装置の概略構成図である。なお、図5と同一部分には、同一符号を付している。
10 熱処理ユニット
11 熱処理室
12、12a 気体導入部
13、13a 気体導出部
14、25 連結用フランジ(第1接続部)
15、26 連結用フランジ(第2接続部)
20A〜20D 気体処理ユニット
21A〜21D 気体通路
22 導入ダクト
23 導出ダクト
27 第2連結ダクト
28 連結ダクト
30 触媒
31、35 加熱器
32、34 送風機
Claims (5)
- 熱処理室に被熱処理物が出し入れ可能に収容され、かつ熱処理室に共に連通する気体導入部および気体導出部を有する熱処理ユニットに対して付設される気体処理ユニットであって、
前記気体導入部に第1接続部を介して着脱可能に連結される導入ダクト、前記気体導出部に第2接続部を介して着脱可能に連結される導出ダクトおよび前記導出ダクトにおける前記第2接続部とは反対側に連結された気体処理ダクトを有し、前記気体導入部へ熱処理用気体を導入しかつ前記気体導出部から熱処理済みの気体を導出するための気体通路を備え、
前記気体処理ダクトに、前記熱処理済みの気体に含まれる、前記被熱処理物から発生した昇華物を分解するための触媒と、少なくとも該触媒を加熱する加熱器とが設けられ、前記気体通路に、前記熱処理用気体および前記熱処理済みの気体を所定方向に導く1または2以上の送風機が設けられていることを特徴とする気体処理ユニット。 - 請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、
前記気体処理ダクトは前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端と前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端とを連結していることを特徴とする気体処理ユニット。 - 請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、
前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端が開放され、かつ前記気体処理ダクトが前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端に連結されていて、前記導入ダクトに気体加熱用加熱器が設けられており、前記導出ダクト、前記気体処理ダクトおよび前記導入ダクトのうちの少なくとも一つに前記送風機が設けられていることを特徴とする気体処理ユニット。 - 請求項1に記載の気体処理ユニットにおいて、
前記導入ダクトの前記第1接続部とは反対側の入側端が開放され、かつ前記気体処理ダクトが前記導出ダクトの前記第2接続部とは反対側の出側端に連結されるとともに、前記気体処理ダクトの前記触媒と前記加熱器とが設けられた箇所よりも下流位置と前記導入ダクトの途中が連結ダクトを介して連通連結されていて、導入ダクトの連結ダクトとの合流点よりも下流側に気体加熱用加熱器と前記送風機とが設けられていることを特徴とする気体処理ユニット。 - 請求項4に記載の気体処理ユニットにおいて、
前記導入ダクトの連結ダクトとの合流点よりも下流側であって前記気体加熱用加熱器および前記送風機よりも上流側の位置と、前記導出ダクトの途中とが第2連結ダクトを介して連通連結されていることを特徴とする気体処理ユニット。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007141428A JP4589942B2 (ja) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | 気体処理ユニット |
KR1020080048569A KR101603326B1 (ko) | 2007-05-29 | 2008-05-26 | 기체처리유닛 |
CN2008101113247A CN101315251B (zh) | 2007-05-29 | 2008-05-27 | 气体处理单元 |
TW097119482A TW200846615A (en) | 2007-05-29 | 2008-05-27 | Gas treatment unit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007141428A JP4589942B2 (ja) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | 気体処理ユニット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008298301A JP2008298301A (ja) | 2008-12-11 |
JP4589942B2 true JP4589942B2 (ja) | 2010-12-01 |
Family
ID=40106341
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007141428A Active JP4589942B2 (ja) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | 気体処理ユニット |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4589942B2 (ja) |
KR (1) | KR101603326B1 (ja) |
CN (1) | CN101315251B (ja) |
TW (1) | TW200846615A (ja) |
Families Citing this family (3)
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-
2007
- 2007-05-29 JP JP2007141428A patent/JP4589942B2/ja active Active
-
2008
- 2008-05-26 KR KR1020080048569A patent/KR101603326B1/ko active IP Right Grant
- 2008-05-27 CN CN2008101113247A patent/CN101315251B/zh active Active
- 2008-05-27 TW TW097119482A patent/TW200846615A/zh unknown
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI358519B (ja) | 2012-02-21 |
CN101315251A (zh) | 2008-12-03 |
JP2008298301A (ja) | 2008-12-11 |
CN101315251B (zh) | 2012-05-30 |
KR101603326B1 (ko) | 2016-03-14 |
TW200846615A (en) | 2008-12-01 |
KR20080104973A (ko) | 2008-12-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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