JP4587113B2 - Static pressure gas bearing used in vacuum environment and gas recovery method of the static pressure gas bearing - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空環境下で使用する静圧気体軸受、および、その静圧気体軸受の気体回収方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
真空環境下において使用される静圧気体軸受においては、エアーパッドの周囲に大気圧溝を設け、大気圧溝内の気圧を大気圧に保つような機構を設けることが望ましい。
その理由は、エアーパッド周囲に大気圧溝を設けることで、真空用の静圧気体軸受の設計においても、大気圧環境で利用される通常の静圧気体軸受と同様の設計手法にてエアーパッドの負荷容量や剛性等を設計することが出来るためである。
また、大気圧溝を設けない場合、エアーパッドから噴出した気体はすべて減圧溝を経由して排気ポンプへ流入するため、排気ポンプへの負担が大きくなってしまう。これを防止するためにも、大気圧溝を設けることが有効である。
【0003】
そこで、大気圧溝内の圧力を大気圧に保つ機構として、従来は、エアーパッド周囲に設けられた大気圧溝に大気配管が接続され、大気配管の他端が真空チャンバー外部の大気へ単に開放されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
一方、移動体の移動に伴って真空チャンバー内の気圧が上昇してまう問題が発生する。
なお、ガイド軸表面に吸着した空気が移動体の移動により、真空中に放出されて、真空度が著しく低下することの検証については、特開平2000−346070にも触れられている。
特開平2000−346070においては、エアーパッドから放出される気体がガイド軸に付着し、その後移動体が移動し、その表面が露出すると、ガイド軸表面に付着した多量の気体分子が外部に放出されることが原因であることを突き止めた。そして、ガイド軸表面に気体分子付着確率の低い材質でコーティングを行なう等の気体分子付着量低減処理を施すことを提案している。これにより、移動体の移動に伴って真空チャンバー内の気圧が上昇してまう現状を抑えることが出来るようになった。
そして、本発明者は、さらに真空度の高い環境下(10ー5Pa程度)で使用可能な静圧気体軸受の研究開発を開始した。この研究開発において、気体分子付着量低減処理を施したガイド軸を採用した場合においても、移動体の移動に伴って真空チャンバー内の気圧が上昇してまう現象が希に発生することが確認された。
そこで、この原因を追求し、より高性能な静圧気体軸受を提供すべく更なる鋭意研究開発に取り組んだ。
静圧気体軸受が搭載される真空チャンバーは、例えば半導体露光装置の場合は通常、温度、湿度が管理されたクリーンルーム内に設置されている。
軸受内部の大気圧溝が大気配管を介して真空チャンバー外部の大気へ単に開放される静圧気体軸受においては、通常は、軸受側から大気側へ気体が流出するが、軸受隙間等により変動する大気圧溝の圧力バランスによっては逆に大気側から軸受側へ気体が流入する場合もあり得ることを見出したのである。
【0005】
このように大気側から軸受側へ気体が逆流してしまった場合、特定の湿度を持った大気が大気圧溝を介して軸受側に流入し、多量の水分子がガイド軸表面へ吸着してしまうことになる。この状態で軸受の移動体が移動を開始し、水分子が吸着したガイド軸表面が真空に曝されると、吸着していた水分子が真空環境内に放出され、この結果、真空チャンバー内の気圧が上昇してしまうのである。
吸着していた水分子の量が僅かでも、真空チャンバーの圧力が10ー5Pa程度の高真空であった場合は顕著な圧力上昇として観測される。このような現象は、例えば、電子ビーム露光装置内の軸受においてこのような圧力上昇が発生すると、光源部の故障や露光精度の悪化を引き起こすことがある。
特に真空度の高い真空環境下で使用する静圧気体軸受においては、真空チャンバー内の気圧上昇の要因を除去するように管理する必要がある。
【0006】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、真空環境下で用いられる静圧気体軸受において、真空環境下の軸受内部における大気圧溝内の圧力を一定に保ち、大気圧溝に配管を通じて外部の気体が逆流することによる気体の水分などの不純物の流入を阻止して、真空環境の真空度の低下を防ぐことが出来る真空環境下で使用する静圧気体軸受、および、その静圧気体軸受の気体回収方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の請求項1では、ガイド軸と、このガイド軸に沿って移動する移動体とを真空チャンバー内に設けてなり、この移動体には、移動体とガイド軸との隙間に外部から供給される気体を放出するエアパッドを形成し、かつ、前記エアーパッドの周囲には、前記隙間に放出された気体を回収して外部に配管を介して放出する大気圧溝を設け、さらに、前記大気圧溝の周囲には、前記大気圧溝にて回収できなかった気体を回収して外部に配管を介して放出する減圧溝を設けてなる真空環境下で使用される静圧気体軸受において、前記大気圧溝から回収した気体を外部に放出する配管中には、この配管を介して外部から大気圧溝に気体が逆流しないように内部気圧が大気圧よりも高い一定の圧力とした圧力緩衝用チャンバーを設け、前記大気圧溝と、前記圧力緩衝用チャンバーと、が連通していることを特徴とする真空環境下で使用する静圧気体軸受としたことである。
【0008】
これにより、軸受内部の大気圧溝に配管を通じて外部の気体が逆流することによる気体の水分などの不純物の流入を阻止して真空環境の低下を防ぐことが出来る。
特に真空度の高い真空環境下で使用する静圧気体軸受においては、本発明は多大な効果を奏する。
【0009】
上記目的を達成するために本発明の請求項2では、前記圧力緩衝用チャンバーには、大気圧溝から気体を回収するための配管を接続するガス回収用ポートと、圧力緩衝用チャンバー内の気圧が大気圧よりも高い一定の圧力となるように気体供給量を制御して気体を供給するための配管を接続するガス供給用ポートと、外部に圧力緩衝用チャンバー内の気体を常に放出する配管を接続するガスリーク用ポートと、を設けてなることを特徴とする請求項1に記載の真空環境下で使用する静圧気体軸受としたことである。
【0010】
これにより、圧力緩衝用チャンバーのガスリーク用ポートから常に外部に向かって気体を放出するため、外部から圧力緩衝用チャンバー内部への不純物の流入を防ぐことが出来る。
つまり、大気圧溝内に外部からの不純物の流入を防ぐことが出来、したがって、真空環境の低下を防ぐことが出来る。
【0011】
上記目的を達成するために本発明の請求項3では、前記圧力緩衝用チャンバー内に供給される気体が、純度の高い窒素であることを特徴とする請求項2に記載の真空環境下で使用する静圧気体軸受としたことである。
【0012】
これにより、圧力緩衝用チャンバーから大気圧溝に気体が流入したとしても、水分を多く含んだ大気中の気体が流れ込まず、圧力緩衝用チャンバー中の純度の高い窒素が流れ込み、真空環境を低下するおそれがない。
【0013】
上記目的を達成するために本発明の請求項4では、前記圧力緩衝用チャンバー内に供給される気体が、ドライエアーであることを特徴とする請求項2に記載の真空環境下で使用する静圧気体軸受としたことである。
【0014】
これにより、圧力緩衝用チャンバーから大気圧溝に気体が流入したとしても、水分を多く含んだ大気中の気体が流れ込まず、圧力緩衝用チャンバー中のドライエアーが流れ込み、真空環境を低下するおそれがない。
【0015】
上記目的を達成するために本発明の請求項5では、移動体に設けたエアパッドからガイド軸と移動体との隙間に気体が放出され、前記エアーパッドの周囲に設けた大気圧溝から、前記隙間に放出された気体を回収し、さらに、前記大気圧溝の周囲に設けた減圧溝から、前記大気圧溝にて回収できなかった気体を回収してなる真空環境下で使用される静圧気体軸受の気体回収方法において、前記大気圧溝と、前記静圧気体軸受の外部に設けた圧力緩衝用チャンバーと、を連通し、前記圧力緩衝用チャンバー内の気圧を大気圧よりも高い一定の圧力に制御して、この圧力緩衝用チャンバーから常に外部に気体を放出させるとともに、前記大気圧溝から回収した気体も前記圧力緩衝用チャンバーを介して外部に放出させることを特徴とする真空環境下で使用する静圧気体軸受の気体回収方法としたことである。
【0016】
これにより、圧力緩衝用チャンバーのガスリーク用ポートから常に外部に向かって気体を放出するため、外部から圧力緩衝用チャンバー内部への不純物の流入を防いで、軸受内部の大気圧溝よりエアパッドからの放出する気体を回収することが出来る。
つまり、軸受内部の大気圧溝よりエアパッドからの放出する気体を回収する際に、大気圧溝内に外部からの不純物の流入を防ぐことが出来、したがって、真空環境の低下を防ぐことが出来る。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の一実施の形態を図面に基づいて説明する。図1に、本発明による静圧気体軸受装置1を示す。この静圧気体軸受装置1は、真空チャンバー2内に定盤3と静圧気体軸受4とを設けている。静圧気体軸受4が動作する真空チャンバー2の内部の真空環境は、10−3〜10−4Pa以下にすることが求められており、さらに10−5Pa程度以下の真空環境での動作も将来は予想されている。静圧気体軸受4は、ガイド軸5と、このガイド軸5に沿って移動する移動体6とから構成される。そして、図2から図4に示すように、この移動体6には、移動体6とガイド軸5との隙間に外部から供給される気体を放出するエアーパッド7を形成し、さらに、エアーパッド7の周囲には、前記隙間に放出された気体を回収して外部に大気圧溝用配管15bを介して放出する大気圧溝8を設けている。また、大気圧溝8の周囲には、大気圧溝8にて回収できなかった気体を回収して外部に配管を介して放出する減圧溝9を設けている。なお、大気圧溝8、大気圧溝用配管15bならびに減圧溝9は、移動体6に設けるが、減圧溝用の配管は、ガイド軸5側に設けている。図3に示すように減圧溝9は、図面上の上下方向にも減圧溝9に連通する排気接続溝9aを形成している。そしてガイド軸5には、この上下方向の排気接続溝9aと対向する位置に減圧溝9(排気接続溝9aを含む)から気体を回収するための排気孔22を形成している。そのため、この移動体6は、図4(B)から図4(C)に示す範囲で移動しても前記排気孔22が排気接続溝9aにかかるため、排気孔22を通じて減圧溝9(排気接続溝9aを含む)の排気を行うことが出来る。
【0018】
以上のようにすることで、静圧気体軸受4のエアーパッド7を取り囲む大気圧溝8、さらに大気圧溝8を取り囲むラビリンス排気機構により、真空チャンバー2内に流出する気体の量は真空チャンバー2の真空度に影響を与えないほど少量に抑えてある。要求される動作環境の真空度に応じて、減圧溝9を複数設けて気体の回収率をより向上させるようにすると良い。
【0019】
また、減圧溝用の配管は、ガイド軸5内部に設けた場合を示したが、移動体6に設けることもできる。たとえば、移動体6を小型化し、また移動体6の移動距離の制限を受けないようにするには、排気性能をある程度犠牲に出来るならば移動体6に設けることが好ましい。この場合は、上述した上下方向の減圧溝9は不要となる。
しかしながら、真空引きポンプにより気体を回収するため、一般に減圧溝用の配管径はエアーパッド7や大気圧溝8に接続する配管径よりもかなり大きくなる。この場合、移動体6に減圧溝用の配管を接続すると、配管が抵抗、振動源となり、移動体6に求められる高い運動精度に悪影響を及ぼすおそれがある。そのため、通常は減圧溝用の配管はガイド軸5側に設けるようにするとよい。
つまり、移動体6の大きさ、移動距離、また、移動体6に配管を接続する場合は配管が移動体6に抵抗となって及ぼす影響、等を考慮し、減圧溝用の配管を移動体6に設けるかもしくはガイド軸5に設けるか決定すると良い。
【0020】
なお、図1には、エアーパッド7へ気体を供給するための配管ならびに供給ポンプ、および、減圧溝用の配管ならびに真空引きポンプを省略している。
【0021】
さて、この静圧軸受装置には、図1に示すように、大気圧溝8から回収した気体を外部に放出する大気圧溝用配管15a中に、この大気圧溝用配管15aを介して外部から大気圧溝8に気体が逆流しないように、真空チャンバー2の外部に圧力緩衝用チャンバー10を設けている。
そして、この圧力緩衝用チャンバー10には、ガス回収用ポート11とガス供給用ポート12とガスリーク用ポート13とが設けられている。
このガス回収用ポート11には、真空チャンバー2の導入ポート14を通じて大気圧溝8から気体を回収するための大気圧溝用配管15aを接続している。
また、ガス供給用ポート12には、圧力緩衝用チャンバー10内の気圧が大気圧よりも高い一定の圧力となるように気体供給量を制御して気体を供給するためのガス供給配管15aを接続している。そして、圧力緩衝用チャンバー10の内部圧力を測定する圧力計16が設けられ、また、マスフローコントローラ17がガス供給配管15a中に接続されている。そして、圧力緩衝用チャンバー10内部の圧力が、大気圧よりも10%程度高い圧力となるように圧力計16から信号ケーブル20を介してマスフローコントローラ17に信号を送りガス供給流量の制御を行なうことで、窒素ボンベ18からガス供給配管15aを介して流入する窒素の流量が制御されている。
また、ガスリーク用ポート13には、外部に圧力緩衝用チャンバー10内の気体を常に放出する配管を接続している。圧力緩衝用チャンバー10に設けられたリークバルブ19を適度に絞り、リークバルブ19から外部に流出する窒素の流量が5〜10リットル/分程度になるよう調節することが好ましい。これにより、リークバルブ19から圧力緩衝用チャンバー10への大気の流入を防ぎながらも、窒素の消費量を低く抑えることが出来る。
【0022】
なお、上記窒素ボンベ18から供給される窒素は、圧力緩衝用チャンバー10中の気体が大気圧溝8に逆流しても、軸受周囲の真空度が低下しないように、純度の高い窒素とすることが好ましい。なお、純度の高い窒素とは、99.99%以上とすることが好ましい。特に、10ー5Pa程度の高真空内において使用する場合は、99.9999%以上とすることが好ましい。
また、ガス供給配管15aから圧力緩衝用チャンバー10内に供給される気体が、ドライエアーとしてもよい。この場合は、圧力緩衝用チャンバー10中の気体が大気圧溝8に逆流しても、真空度が低下しないように、ドライエアーの露点は−30℃以下とすることが好ましい。
【0023】
次に、上述した真空環境下で使用される静圧気体軸受4の気体回収方法について、順を追って説明する。
まず、移動体6に設けたエアーパッド7からガイド軸5と移動体6との隙間に高圧の気体が放出される。この放出した気体の静力により移動体6とガイド軸5とが非接触の状態となることで、移動体6がほとんど摩擦抵抗を受けずにガイド軸5に沿って移動することが出来る。
次に、このエアーパッド7の周囲に設けた大気圧溝8から、前記隙間に放出された気体を回収する。
この際、この静圧気体軸受4の外部に設けた圧力緩衝用チャンバー10内の気圧を大気圧よりも高い一定の圧力(たとえば大気圧の10%増)に制御して、この圧力緩衝用チャンバー10から常に外部に気体を放出させるとともに、前記大気圧溝8から回収した気体も前記圧力緩衝用チャンバー10を介して外部に放出させるようにする。これにより、外部の大気が逆流して大気圧溝8に流れ込むことはなくなる。
さらに、移動体6の端部から真空内に放出される気体を低減するために、大気圧溝8の周囲に設けた減圧溝9から、大気圧溝8にて回収できなかった気体を回収する。
【0024】
【発明の効果】
本発明は上記構成により、大気圧溝8と大気が通じているのは圧力緩衝用チャンバー10に設けたリークバルブ19のみであるが、リークバルブ19からは5〜10リットル/分程度の窒素が流出しているため、大気からの不純物流入を抑えることが出来る。よって、大気圧溝8に流入する気体はエアーパッド7から流入する気体か、窒素ボンベ18から圧力緩衝用チャンバー10を経由して供給される窒素のみとなるため、不純物流入による軸受からのガス放出量増加などの不具合を防止することが出来る。
つまり、真空環境下で用いられる静圧気体軸受4において、真空環境下の軸受内部における大気圧溝8内の圧力を一定に保ち、大気圧溝8に大気圧溝用配管15aを通じて外部の気体が逆流することによる気体の水分などの不純物の流入を阻止して、真空環境の真空度の低下を防ぐことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における一実施形態である静圧気体軸受装置を示す斜視図である。
【図2】本発明における一実施形態である移動体を示す斜視図である。
【図3】図2における移動体の上板部材の内側を示す平面図および断面図である。
【図4】図2における移動体とガイド軸との関係を示す断面図である。
【符号の説明】
1 静圧気体軸受装置
2 真空チャンバー
3 定盤
4 静圧気体軸受
5 ガイド軸
6 移動体
6a 上板
7 エアーパッド
8 大気圧溝
9 減圧溝
9a排気接続溝
10 圧力緩衝用チャンバー
11 ガス回収用ポート
12 ガス供給用ポート
13 ガスリーク用ポート
14 導入ポート
15 配管
15a ガス供給配管
15b 大気圧溝用配管
16 圧力計
17 マスフローコントローラ
18 窒素ボンベ
19 リークバルブ
20 信号ケーブル
21 ねじ穴
22 排気孔[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a static pressure gas bearing used in a vacuum environment and a gas recovery method for the static pressure gas bearing.
[0002]
[Prior art]
In a static pressure gas bearing used in a vacuum environment, it is desirable to provide a mechanism that provides an atmospheric pressure groove around the air pad and maintains the atmospheric pressure in the atmospheric pressure groove at atmospheric pressure.
The reason is that by providing an atmospheric pressure groove around the air pad, the design of the static pressure gas bearing for vacuum can be designed with the same design method as a normal static pressure gas bearing used in an atmospheric pressure environment. This is because it is possible to design the load capacity, rigidity, and the like.
Further, when the atmospheric pressure groove is not provided, all of the gas ejected from the air pad flows into the exhaust pump via the decompression groove, so that the burden on the exhaust pump is increased. In order to prevent this, it is effective to provide an atmospheric pressure groove.
[0003]
Therefore, as a mechanism for maintaining the pressure in the atmospheric pressure groove at atmospheric pressure, conventionally, an atmospheric piping is connected to the atmospheric pressure groove provided around the air pad, and the other end of the atmospheric piping is simply opened to the atmosphere outside the vacuum chamber. It had been.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
On the other hand, there arises a problem that the atmospheric pressure in the vacuum chamber increases as the moving body moves.
Japanese Patent Laid-Open No. 2000-346070 touches upon verification that the air adsorbed on the surface of the guide shaft is released into the vacuum by the movement of the moving body and the degree of vacuum is significantly reduced.
In Japanese Patent Laid-Open No. 2000-346070, when the gas released from the air pad adheres to the guide shaft and then the moving body moves and the surface is exposed, a large amount of gas molecules attached to the surface of the guide shaft are released to the outside. I found out that this is the cause. Then, it is proposed to perform a gas molecule adhesion amount reduction process such as coating the surface of the guide shaft with a material having a low gas molecule adhesion probability. As a result, it is possible to suppress the current situation in which the atmospheric pressure in the vacuum chamber increases as the moving body moves.
Then, the present inventors have started research and development of the available hydrostatic gas bearing in addition a vacuum degree of high environmental temperatures (about 10 @ 5 Pa). In this research and development, even when a guide shaft that has been subjected to a treatment to reduce the amount of adhering gas molecules is adopted, it has been confirmed that a phenomenon in which the pressure inside the vacuum chamber rises with the movement of the moving body rarely occurs. It was.
Therefore, we pursued this cause and worked on further research and development to provide higher performance hydrostatic gas bearings.
For example, in the case of a semiconductor exposure apparatus, a vacuum chamber in which a static pressure gas bearing is mounted is usually installed in a clean room in which temperature and humidity are controlled.
In a static pressure gas bearing in which the atmospheric pressure groove inside the bearing is simply opened to the atmosphere outside the vacuum chamber via the atmospheric piping, the gas normally flows out from the bearing side to the atmospheric side, but it varies depending on the bearing clearance, etc. On the contrary, it has been found that gas may flow from the atmosphere side to the bearing side depending on the pressure balance of the atmospheric pressure groove.
[0005]
When gas flows backward from the atmosphere side to the bearing side in this way, air with a specific humidity flows into the bearing side through the atmospheric pressure groove, and a large amount of water molecules are adsorbed on the guide shaft surface. Will end up. When the moving body of the bearing starts moving in this state and the surface of the guide shaft on which water molecules are adsorbed is exposed to vacuum, the adsorbed water molecules are released into the vacuum environment. The atmospheric pressure will rise.
Even slightly the amount of water molecules adsorbed, if the pressure in the vacuum chamber is a high vacuum of about 10 @ 5 Pa is observed as significant pressure rise. Such a phenomenon may cause failure of the light source unit or deterioration of exposure accuracy when such a pressure increase occurs in a bearing in an electron beam exposure apparatus, for example.
In particular, in a static pressure gas bearing used in a vacuum environment with a high degree of vacuum, it is necessary to manage so as to eliminate the cause of an increase in atmospheric pressure in the vacuum chamber.
[0006]
The present invention has been made to solve the above problems, and in a static pressure gas bearing used in a vacuum environment, the pressure in the atmospheric pressure groove inside the bearing in the vacuum environment is kept constant, and the atmospheric pressure groove Static pressure gas bearings used in a vacuum environment that can prevent the inflow of impurities such as moisture of the gas due to the backflow of external gas through the piping and prevent the vacuum degree of the vacuum environment from being lowered, and static It aims at providing the gas recovery method of a pressurized gas bearing.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, in
[0008]
Accordingly, it is possible to prevent the inflow of impurities such as moisture of the gas due to the reverse flow of the external gas through the pipe to the atmospheric pressure groove inside the bearing, thereby preventing the deterioration of the vacuum environment.
In particular, in a static pressure gas bearing used in a vacuum environment with a high degree of vacuum, the present invention has a great effect.
[0009]
In order to achieve the above object, according to a second aspect of the present invention, the pressure buffering chamber includes a gas recovery port for connecting a pipe for recovering a gas from the atmospheric pressure groove, and an atmospheric pressure in the pressure buffering chamber. A gas supply port that connects a pipe for supplying gas by controlling the gas supply amount so that the pressure becomes a constant pressure higher than the atmospheric pressure, and a pipe that constantly releases the gas in the pressure buffer chamber to the outside A hydrostatic gas bearing for use in a vacuum environment according to
[0010]
As a result, gas is always discharged outward from the gas leak port of the pressure buffering chamber, so that inflow of impurities from the outside into the pressure buffering chamber can be prevented.
That is, the inflow of impurities from the outside into the atmospheric pressure groove can be prevented, and therefore the vacuum environment can be prevented from being lowered.
[0011]
In order to achieve the above object, according to a third aspect of the present invention, the gas supplied into the pressure buffering chamber is high-purity nitrogen, which is used in a vacuum environment according to the second aspect. This is a static pressure gas bearing.
[0012]
As a result, even if gas flows into the atmospheric pressure groove from the pressure buffering chamber, gas in the atmosphere containing a large amount of moisture does not flow in, but high-purity nitrogen in the pressure buffering chamber flows in, reducing the vacuum environment There is no fear.
[0013]
In order to achieve the above object, according to claim 4 of the present invention, the gas supplied into the pressure buffering chamber is dry air. The static electricity used in a vacuum environment according to
[0014]
As a result, even if gas flows into the atmospheric pressure groove from the pressure buffering chamber, gas in the atmosphere containing a large amount of moisture does not flow in, and dry air in the pressure buffering chamber flows in, which may reduce the vacuum environment. Absent.
[0015]
In order to achieve the above object, in
[0016]
As a result, gas is always released from the gas leak port of the pressure buffer chamber to the outside, preventing the inflow of impurities from the outside to the inside of the pressure buffer chamber, and releasing from the air pad from the atmospheric pressure groove inside the bearing. Gas can be recovered.
That is, when recovering the gas released from the air pad from the atmospheric pressure groove inside the bearing, it is possible to prevent the inflow of impurities from the outside into the atmospheric pressure groove, thus preventing the vacuum environment from being lowered.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a static pressure
[0018]
As described above, the amount of gas flowing into the
[0019]
Moreover, although the case where the piping for pressure reduction grooves was provided in the
However, since the gas is collected by the vacuum pump, the pipe diameter for the decompression groove is generally much larger than the pipe diameter connected to the
In other words, considering the size and moving distance of the moving
[0020]
In FIG. 1, the piping and supply pump for supplying gas to the
[0021]
Now, as shown in FIG. 1, the hydrostatic bearing device has an atmospheric pressure groove pipe 15a that discharges the gas recovered from the
The
An atmospheric pressure groove pipe 15 a for recovering gas from the
Further, the
Further, the
[0022]
The nitrogen supplied from the
The gas supplied from the gas supply pipe 15a into the
[0023]
Next, the gas recovery method of the static pressure gas bearing 4 used in the above-described vacuum environment will be described step by step.
First, high-pressure gas is discharged from the
Next, the gas released into the gap is recovered from the
At this time, the pressure in the
Further, in order to reduce the gas released into the vacuum from the end of the moving
[0024]
【The invention's effect】
In the present invention, the
That is, in the static pressure gas bearing 4 used in a vacuum environment, the pressure in the
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a static pressure gas bearing device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing a moving body according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view and a cross-sectional view showing the inside of the upper plate member of the movable body in FIG. 2. FIG.
4 is a cross-sectional view showing a relationship between a moving body and a guide shaft in FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (5)
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000390858A JP4587113B2 (en) | 2000-12-22 | 2000-12-22 | Static pressure gas bearing used in vacuum environment and gas recovery method of the static pressure gas bearing |
US10/182,631 US7052182B2 (en) | 2000-02-01 | 2001-01-29 | Hydrostatic gas bearing, hydrostatic gas bearing device for use in vacuum environment, and gas recovering method for the hydrostatic gas bearing device |
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