JP4565915B2 - リソグラフィ投影装置及び物品保持器 - Google Patents
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Description
マスク
マスクの概念はリソグラフィではよく知られているが、そのマスクの種類には、バイナリ型、交番位相シフト型、及び減衰位相シフト型ばかりでなく、様々なハイブリッド型のマスクの種類などが含まれる。このようなマスクを放射ビーム中に配置すると、マスク上のパターンにしたがって、マスクに当たる放射を選択的に透過するか(透過型マスクの場合)、又は反射する(反射型マスクの場合)。マスクの場合では、その支持構造が一般にマスク・テーブルであり、それによって入射する放射ビーム中の望ましい位置にマスクを確実に保持することが可能であり、また望ましければ、マスクをビームに対して移動することが可能である。
プログラマブル・ミラー・アレイ
このようなデバイスの一実施例は、粘弾性の制御層及び反射表面を有するマトリックス駆動表面である。このような装置の背景にある基本原理は、(例えば)反射表面の駆動領域が、入射光を回折光として反射するのに対して、非駆動領域が入射光を非回折光として反射するというものである。適切なフィルタを使用すると、前記非回折光を反射ビームから除去して、回折光のみを後に残すことが可能である。このような方式では、マトリックス駆動表面の駆動パターンにしたがって、ビームがパターン化される。プログラマブル・ミラー・アレイの別の一実施例は、微小ミラーのマトリックス配置を使用するが、それぞれのミラーは、適切な局在電界を印加するか又は圧電駆動手段を用いることによって、個々に軸回りに傾斜可能である。この場合も、駆動ミラーが、入射する放射ビームを非駆動ミラーとは異なる方向に反射するように、これらのミラーはマトリックス駆動可能である。このような方式では、マトリックス駆動ミラーの駆動パターンにしたがって、反射ビームがパターン化される。必要なマトリックス駆動は、適切な電子的手段を使用して行うことができる。以上に説明した両方の場合では、パターン化手段が、1つ又は複数のプログラマブル・ミラー・アレイを備えることができる。ここで言及したミラー・アレイのさらなる情報は、例えば、参照によってここに援用される、米国特許第5,296,891号明細書及び第5,523,193号明細書、並びにPCT特許出願国際公開WO98/38597パンフレット及びWO98/33096パンフレットに見いだすことができる。プログラム可能なミラー・アレイの場合では、前記支持構造は、必要に応じて、例えば、固定式又は可動式のフレーム又はテーブルとして実施可能である。
プログラマブルLCDアレイ
このような構造の一実施例が、参照によってここに援用される米国特許第5,229,872号明細書に挙げられている。上記のように、この場合も、支持構造は、必要に応じて、例えば、固定式又は可動式のフレーム又はテーブルとして実施可能である。
リソグラフィ投影技法を使用してデバイスを製造する際に処理すべき基板、或いは
リソグラフィ投影装置中のリソグラフィ投影マスク若しくはマスク・ブランク、マスク検査若しくは洗浄装置などのマスク取扱装置、又はマスク製造装置若しくは放射システムの光路中にクランピングされる他の任意の物品や光学素子、などの用語であり得る。
放射(例えば、遠紫外領域内の光)の投影ビームPBを供給するための放射システムEx、IL(この特定の場合では、放射システムが放射源LAも備える)と、
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク保持器が備わり、かつ要素PLに対してマスクを正確に位置決めする第1位置決め手段PMに連結されている第1物体テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(例えば、レジストを塗布したシリコン・ウェーハ)を保持するための物品保持器が備わり、かつ要素PLに対して基板を正確に位置決めする第2位置決め手段PWに連結されている第2物体テーブル(基板テーブル)WTと、
基板Wの標的部分C(例えば、1個又は複数のダイを含む)上にマスクMAの照射された部分を結像する投影システム(「レンズ」)PLと、を備える
1.ステップ方式では、マスク・テーブルMTを基本的に静止状態に保ち、マスク画像全体を1回(すなわち、単一「閃光」)で標的部分C上に投影する。次いで、ビームPBが異なる標的部分Cを照射できるように、基板テーブルWTは、x方向及び/又はy方向に移動される。
2.スキャン方式では、所与の標的部分Cが単一「閃光」で露光されないことを除けば、本質的に同じシナリオが該当する。マスク・テーブルMTは静止状態ではなく、それを速度vで所与の方向(いわゆる「走査方向」、例えば、y方向)に可動式にして、投影ビームPBにマスク画像を全体にわたって走査させ、並行して、基板テーブルWTは、速度V=Mvで、同一方向又は逆方向に同期移動される。前式で、MはレンズPLの倍率である(典型的には、M=1/4又は1/5である)。このようにして、分解能を損なう必要もなく、相対的に大きな標的部分Cを露光することができる。
Claims (14)
- リソグラフィ投影装置であって、
放射の投影ビームを供給するための放射システムと、
前記放射の投影ビームのビーム経路中に配置すべき実質的に平坦な物品を支持するための支持体の平坦面を提供するように配置された突起構成を画定する複数の突起を含む物品保持器と、を備え、
前記物品保持器は、前記物品を前記物品保持器に対してクランピングするために、静電クランピング力を生成するための少なくとも1個のクランピング電極を含み、
前記少なくとも1個のクランピング電極は、前記物品の局所的な高さのばらつきを水平化するために、前記静電クランピング力を局所的に変更する電界変更構造を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - 前記電界変更構造は、電極境界縁部を備え、
前記電極境界縁部は、少なくとも幾つかの境界突起の回りで局所的に湾曲しており、
前記境界突起は、前記突起構成を画定する複数の突起の一部の突起であって、前記電極境界縁部の付近に位置する、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記電界変更構造は、前記クランピング電極を覆う導電層及び/又は基底層を備える、請求項1又は請求項2に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記電界変更構造は、電極境界縁部を備え、
前記電極境界縁部は、前記電極境界縁部の曲率全体よりも少なくとも5%大きい変化量にあたる微小波形又は湾曲を2個の突起間に形成する局所的に湾曲した形状を有するように、少なくとも1つの突起に隣接する少なくとも前記電極境界縁部の1つの線分の範囲内で、変化前の前記電極境界縁部の複数倍変化する、請求項1乃至請求項3のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記クランピング電極は、隣接する境界突起を連結する周囲の線にしたがって形状付けられる境界縁部を備え、
前記境界突起は、前記突起構成を画定する複数の突起の一部の突起であって、前記境界縁部の付近に位置する、請求項1乃至請求項4のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記電界変更構造は、前記クランピング電極中の少なくとも1つの穿孔を備える、請求項1乃至請求項5のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記穿孔は、概ね円形である、請求項6に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記穿孔は、概ねスリット形状である、請求項6に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記穿孔は、2つの隣接する突起間の平均的な間隔距離の何分の1かの寸法である、請求項6乃至請求項8のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記穿孔は、0.1から0.5mmまでの範囲にわたる、請求項6乃至請求項9のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記穿孔は、3つの突起によって形成される三角形の中央に配置される、請求項6乃至請求項10のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記クランピング電極は、単一の制御電圧によって制御される単一部品型である、請求項1乃至請求項11のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記突起は、概ね円筒形に形成されている、請求項1乃至請求項12のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 実質的に平坦な物品を支持するための支持体の平坦面を提供するように配置された突起構成を画定する複数の突起を備える、請求項1乃至請求項13のうち何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置のための物品保持器であって、
前記保持器は、物品を前記保持器に対してクランピングするために、静電クランピング力を生成する少なくとも1個のクランピング電極を備え、
前記少なくとも1個のクランピング電極は、前記物品の局所的な高さのばらつきを水平化するために、前記静電クランピング力を局所的に変更する電界変更構造を備えることを特徴とする物品保持器。
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