JP4543053B2 - リソグラフィ装置、デバイス製造方法 - Google Patents
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Description
1.ステップモード:マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分Cに1回で投影される(すなわち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX方向および/またはY方向に移動され、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモード:放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影されている間、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTが同期スキャンされる(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)および画像反転特性によって決まる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の幅(非スキャン方向の幅)が制限され、また、スキャン動作の長さによってターゲット部分の高さ(スキャン方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラマブルパターニングデバイスを保持するマスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルWTが移動する毎に、あるいは連続する放射パルスの間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (11)
- 投影システムのエレメントと基板との間の空間に液浸液を供給するように構成された液体供給システムを備え、前記液浸液が、放射ビームに露光されると基板に膜を形成するように構成された感光性材料を含む、リソグラフィ装置。
- 前記液体供給システムおよび/または前記投影システムの前記エレメントと前記基板との間の前記空間が、前記液浸液を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記感光性材料が、本質的に1000未満の分子量を有する化合物からなる膜を形成するように構成された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記感光性材料が、無機化合物の膜を形成するように構成された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記感光性材料が、CdSの膜を形成するように構成された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記感光性材料が、Cd2+塩およびS2O3 2−塩である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- パターン化された放射ビームを液浸液を介して基板に投射するステップであって、前記液浸液が感光性材料を含み、前記感光性材料および/またはその光化学生成物が、前記パターン化された放射ビームに露光される領域中において前記基板に堆積するステップと、
前記感光性材料および/またはその光化学生成物のパターン化された膜を前記基板に提供するステップと、
を含むデバイス製造方法。 - 前記基板が、フォトレジストコーティングを備えていない、請求項7に記載の方法。
- 前記パターン化された膜が、本質的に1000未満の分子量を有する化合物からなる、請求項7に記載の方法。
- 前記パターン化された膜が無機化合物を含む、請求項7に記載の方法。
- 前記パターン化された膜がCdSを含む、請求項7に記載の方法。
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