JP4519822B2 - リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびデバイス製造方法で使用するマスク - Google Patents
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Description
照明プロファイルが定められた放射照明ビームによってパターニングデバイスを照明するように構成されている照明システムと、
パターニングデバイスの像を基板に投影するように構成されている投影システムと、
投影システムによって投影された像の特性を測定するように構成されているセンサであって、基板の適所に選択的に位置決め可能なセンサと、
照明ビームの放射光がパターニングデバイスに入射する角度範囲を広げるように構成されているディフューザであって、照明ビームの経路に選択的に位置決め可能なディフューザとを備える。
照明プロファイルを有する照明ビームによってパターニングデバイスを照明するために照明システムを設定するステップと、
照明ビームの放射光がパターニングデバイス上のマーカに入射する角度範囲を広げるように、ディフューザを照明ビームの経路に挿入するステップと、
投影システムによって投影されたマーカの像の特性を検出するためにセンサを使用するステップとを含む。
マスク基板と、
少なくとも1つのデバイスパターンが定められた第1のエリアと、少なくとも1つのマーカパターンが定められており第1のエリアに重ならない第2のエリアとを有するパターン層と、
第2のエリアを少なくとも部分的に覆い、第2のエリアを照明する放射光の入射角範囲を広げるように構成されているディフューザとを備える。
放射ビームB(例えばUV放射線またはDUV放射線)を調整するように構成されている照明システム(イルミネータ)ILと、
(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに応じてパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成されている第1の位置決め装置PMに接続されている支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジスト被覆ウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに応じて基板を正確に位置決めするように構成されている第2の位置決め装置PWに接続されている基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つまたは複数のダイを含む部分)に投影するように構成されている投影システム(例えば屈折式投影レンズシステム)PSと、を備える。
所望とする照明モードを設定するステップS1と、
ディフューザを照明ビームの経路に挿入するステップS2と、
TISに対するマスクマーカのアライメント処理を実行するステップS3と、
ディフューザを投影ビームの経路から取り出すステップS4と、
基板の1つまたは複数のターゲット部分の製造露光を実行するステップS5とを含む。
Claims (18)
- 定められた照明プロファイルを有する放射の照明ビームを用いてデバイスパターン及びアライメントマーカが形成されたパターニングデバイスを照明するように構成されている照明システムと、
前記パターニングデバイスの像を基板に投影させるように構成されている投影システムと、
前記基板の適所に選択的に位置決め可能であり、前記投影システムによって投影された前記アライメントマーカの像を検出するように構成されているセンサと、
前記照明ビームの経路に選択的に位置決め可能であり、前記照明ビームの放射が前記アライメントマーカに入射する角度範囲を広げるように構成されているディフューザとを備えるリソグラフィ投影装置。 - 前記照明システムは、前記パターニングデバイスを有する物体面のフーリエ変換である瞳面を有し、前記ディフューザは、前記瞳面または前記物体面のどちらとも共役しない面に選択的に位置決め可能である請求項1に記載の装置。
- 前記照明システムは、前記照明ビームによって照明される前記パターニングデバイスのエリアを定めるように構成されている移動可能なマスキングブレードを備え、前記ディフューザは、移動可能な前記マスキングブレードに近接している請求項2に記載の装置。
- 前記ディフューザは、前記パターニングデバイスに近接している請求項1に記載の装置。
- 前記ディフューザは、前記照明システムが前記照明ビームの照明プロファイルを変更するより速く、前記照明ビームへ向かってまたは前記照明ビームより離れて移動可能であるように構成されている請求項1に記載の装置。
- 前記センサは、所定の入射角範囲で到達した放射を受け入れるように構成されており、前記ディフューザは、光を拡散させ、実質的に所定の入射角範囲全体にわたって前記センサに光が到達するように構成されている請求項1に記載の装置。
- 前記センサは、透過イメージセンサである請求項1に記載の装置。
- 前記センサは、反射イメージセンサである請求項1に記載の装置。
- 前記センサは、干渉計アライメントセンサである請求項1に記載の装置。
- デバイスパターン及びアライメントマーカが形成されたパターニングデバイスを照明ビームによって照明するように構成されている照明システムと、前記パターニングデバイスの像を基板に投影するように構成されている投影システムと、前記投影システムによって投影された前記アライメントマーカの像を検出するように構成されているセンサとを有するリソグラフィ投影装置を用いたデバイス製造方法であって、
照明プロファイルを有する前記照明ビームによって前記パターニングデバイスを照明するために前記照明システムを設定するステップと、
前記照明ビームの放射が前記パターニングデバイスの前記アライメントマーカに入射する角度範囲を広げるために、ディフューザを前記照明ビームの経路に挿入するステップと、
前記投影システムによって投影された前記アライメントマーカの像を検出するためにセンサを使用するステップと、
前記センサによる検出結果に基づいて、前記パターニングデバイスと前記基板との位置合わせを行なうステップと、
を含む方法。 - さらに、
前記センサを用いたステップの後、前記ディフューザを前記照明ビームの経路から取り出すステップと、
前記パターニングデバイスの像を前記基板に投影するステップとを含む請求項10に記載の方法。 - 前記パターニングデバイスは前記マスクであり、前記ディフューザは前記マスクに取り付けられる請求項10に記載の方法。
- 前記パターニングデバイスは前記マスクであり、装置はさらに前記マスクを保持するように構成されているマスクテーブルを備え、
前記マスクを前記マスクテーブルに取り付けるステップと、前記ディフューザを前記マスクの前記アライメントマーカの上に位置決めするステップと、前記マスクと前記ディフューザとを前記照明ビームの経路に挿入するために前記マスクと前記ディフューザとを保持している前記マスクテーブルを移動させるステップとを含む請求項10に記載の方法。 - リソグラフィ装置を用いるデバイス製造方法で使用するマスクであって、
マスク基板と、
前記マスク基板に形成されたデバイスパターン及びマーカパターンと、
前記マーカーパターンを覆い、前記マーカーパターンを照明する放射の入射角範囲を広げるように構成されているディフューザとを備えるマスク。 - 前記マスク基板が第1の側とそれとは反対の第2の側とを有し、前記デバイスパターン及び前記マーカーパターンが前記第1の側に設けられ、前記ディフューザが前記第2の側に設けられる請求項14に記載のマスク。
- 前記ディフューザは、前記マスク基板に接着された付加材料片を含む請求項14に記載のマスク。
- 前記ディフューザは、前記マスク基板上の表面レリーフを含む請求項14に記載のマスク。
- 前記ディフューザは、注入された散乱中心を有する前記マスク基板の一部を含む請求項14に記載のマスク。
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