JP4514443B2 - 半導体保護装置 - Google Patents
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Description
以下の実施形態において、請求項の語句は下記の部材に相当する。
(1)複数のツェナーダイオード:P型半導体基板35とN型層36,37
(2)受動素子:ポリシリコンから成る抵抗体33,34
(3)第一導電型半導体基板:P型半導体基板35
(4)第二導電型層:N型層36,37
(5)カソード電極:メタル電極17,18と19,20
(6)アノード電極:メタル電極25,26,27,28
図1A−Bは、本発明の実施の形態1における半導体保護装置を示すものである。図1Aは斜視図、Bは図1AのI−I線に沿った断面図である。図1A−Bに於いて、16は半導体チップ、17、18、19、20、25、26、27、28はメタル電極、17a、18a、19a、20aはメタル電極17、18、19、20の一部である配線、33、34は抵抗体、35はP型半導体基板、36、37はN型層、38はP+層、39は絶縁層を各々示している。図1Aに於いては、半導体チップ16の表面にはポリシリコンから成る抵抗体33、34とアルミ蒸着によるメタル電極17、18、19、20と抵抗体33、34の一端に繋がれた配線17a、18a、19a、20aが設置されており、抵抗体34の両端にはメタル電極17、18が、抵抗体33の両端にはメタル電極19、20が各々繋がれた状態と成っている。又、メタル電極17、18との中間部にはメタル電極25が、メタル電極18、20との中間部にはメタル電極28が、メタル電極20、19との中間部にはメタル電極27が、メタル電極19、17との中間部にはメタル電極26が各々単独で設置されている。斜視図1Aは同様の構造が二構造設けられている。
図2A、Bは、本発明の実施の形態2に於ける半導体保護装置を示すものである。図2Aは斜視図、Bは図1AのII−II線に沿った断面図である。図2に於いて、57は半導体チップ、58、59、60、61、66、67、68、69、74はメタル電極、58a、59a、60a、61aはメタル電極58、59、60、61の一部である配線、76、77は抵抗体、78はN型半導体基板、79、80はP型層、81、82はN型層、84は絶縁層を各々示している。
17,18,19,20,25,26,27,28,58,59,60,61,66,67,68,69,74,107,108,109,110 メタル電極
17a,18a,19a,20a,58a,59a,60a,61a,107a,108a,109a,110a 配線
33,34,76,77,115,116 抵抗体
35,120 P型半導体基板
78 N型半導体基板
36,37,81,82,118,119 N型層
79,80 P型層
38 P+層
39,84,117 絶縁層
Claims (1)
- 複数のツェナーダイオードと受動素子が形成された半導体保護装置であって、
前記ツェナーダイオードは、
第一導電型半導体基板表面に形成された第二導電型層と、
前記第二導電型層とは異なる領域の前記第一導電型半導体基板表面に形成され、前記第一導電型半導体基板よりも抵抗値の小さい第一導電型層と、
前記第二導電型層の領域の前記半導体基板表面上に設けられたカソード電極と、
前記第一導電型層の領域の前記半導体基板表面上に設けられたアノード電極とを有し、
前記第一導電型層は、前記第二導電型層と、隣接する他のツェナーダイオードの第二導電型層との中間部に形成され、
前記カソード電極は前記受動素子に接続され、
前記アノード電極はそれぞれ接地されていることを特徴とする半導体保護装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003417025A JP4514443B2 (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 半導体保護装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003417025A JP4514443B2 (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 半導体保護装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005175397A JP2005175397A (ja) | 2005-06-30 |
JP4514443B2 true JP4514443B2 (ja) | 2010-07-28 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4514443B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5057754B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2012-10-24 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP4992097B2 (ja) * | 2006-11-17 | 2012-08-08 | 株式会社やまびこ | 静電噴霧装置 |
JP5460279B2 (ja) * | 2009-12-11 | 2014-04-02 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置およびその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01112060U (ja) * | 1988-01-21 | 1989-07-27 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2769142B1 (fr) * | 1997-09-29 | 1999-12-17 | Sgs Thomson Microelectronics | Circuit de protection associable a un filtre |
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2003
- 2003-12-15 JP JP2003417025A patent/JP4514443B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01112060U (ja) * | 1988-01-21 | 1989-07-27 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005175397A (ja) | 2005-06-30 |
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A621 | Written request for application examination |
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