JP4496845B2 - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - Google Patents
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以下に示す材料を配合し、溶液を得た。
(バインダーポリマー)
バインダーポリマー溶液(固形成分(重量比):メタクリル酸/メタクリル酸メチル/スチレン(25/50/25)、溶剤(重量比):メチルセロソルブ/トルエン(3/2)、ポリマー重量平均分子量:50000、固形分酸価:163mgKOH/g):113g(固形分52g)
(光重合性化合物)
EO変性ビスフェノールAジメタクリレート(FA−321M、日立化成工業社製):24g
ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート(BPEF−A、上記一般式(I)においてn=1の化合物、大阪ガス化学社製):24g
(光重合開始剤)
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビスイミダゾール:3.2g
4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン:0.1g
(発色剤)
ロイコクリスタルバイオレット:0.3g
(熱重合禁止剤)
4−tert−ブチルカテコール(TBC):0.025g
(染料)
マラカイトグリーン:0.05g
(溶剤)
アセトン:10g
トルエン:4g
N,N−ジメチルホルムアミド:3.2g
光重合性化合物として、EO変性ビスフェノールAジメタクリレート(FA−321M、日立化成工業社製)を単独で48g使用した以外は実施例1と同様にして、プリント配線板の作製を行った。このとき、レジストパターンは、解像性10μm、密着性12μmであり、実施例1と比較して特に密着性において劣る特性を示した。また、良好な剥離特性を示した。また、形成した銅配線には、電解銅メッキ時にレジストの密着性不足によりメッキ液がレジスト底部にもぐりこみ、得られた銅配線ではショートエラーが多発した。
Claims (8)
- 回路形成用基板上に感光性樹脂組成物層として積層してレジストパターンを形成し、エッチング又はめっき処理後の前記回路形成用基板上から剥離される、レジストパターンを形成するための感光性樹脂組成物であって、
(A)バインダーポリマー、(B)分子内にフルオレン骨格を有する光重合性化合物、及び、(C)光重合開始剤を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物。 - 前記回路形成用基板は、金属表面を持つものであることを特徴とする、請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- 支持体と、該支持体上に形成された請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、を備えることを特徴とする感光性エレメント。
- 回路形成用基板上に、請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を積層し、該感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を光硬化せしめ、次いで、該露光部以外の部分を除去することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
- 回路形成用基板上に、請求項4記載の感光性エレメントにおける前記感光性樹脂組成物層を積層し、該感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を光硬化せしめ、次いで、該露光部以外の部分を除去することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
- 前記回路形成用基板表面の十点平均粗さ(Rz)が2μm以下であることを特徴とする請求項5又は6記載のレジストパターンの形成方法。
- 請求項5〜7のうちのいずれか一項に記載のレジストパターンの形成方法によりレジストパターンの形成された回路形成用基板を、エッチング又はめっきすることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
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