JP4474753B2 - Manufacturing method of semiconductor light emitting device - Google Patents

Manufacturing method of semiconductor light emitting device Download PDF

Info

Publication number
JP4474753B2
JP4474753B2 JP2000239708A JP2000239708A JP4474753B2 JP 4474753 B2 JP4474753 B2 JP 4474753B2 JP 2000239708 A JP2000239708 A JP 2000239708A JP 2000239708 A JP2000239708 A JP 2000239708A JP 4474753 B2 JP4474753 B2 JP 4474753B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
zener diode
emitting element
side electrode
emitting device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2000239708A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2002057374A (en
Inventor
博志 村田
研一 真田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2000239708A priority Critical patent/JP4474753B2/en
Publication of JP2002057374A publication Critical patent/JP2002057374A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4474753B2 publication Critical patent/JP4474753B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/2612Auxiliary members for layer connectors, e.g. spacers
    • H01L2224/26152Auxiliary members for layer connectors, e.g. spacers being formed on an item to be connected not being a semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/26175Flow barriers

Landscapes

  • Led Device Packages (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば青色発光ダイオード等の光デバイスに利用される窒化ガリウム系化合物を利用したフリップチップ型の半導体発光装置に係り、特に発光素子をその搭載面に搭載したときに接着用の導電性接着剤による短絡の防止がないようにした半導体発光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
GaN,GaAlN,InGaN及びInAlGaN等の窒化ガリウム系化合物の半導体の製造では、その表面において半導体膜を成長させるための結晶基板として、一般的には絶縁性のサファイアが利用される。このサファイアのような絶縁性の結晶基板を用いる場合では、結晶基板側から電極を出すことができないので、半導体層に設けるp,nの電極は結晶基板と対向する側の一面に形成されることになる。
【0003】
たとえば、GaN系化合物半導体を利用した発光素子は、絶縁性の基板としてサファイア基板を用いてその上面にn型層及びp型層を有機金属気相成長法によって積層形成し、p型層の一部をエッチングしてn型層を露出させ、これらのn型層とp型層のそれぞれにn側電極及びp側電極を形成するというものがその基本的な構成である。そして、p側電極を透明電極とした場合であれば、これらのp側及びn側の電極にそれぞれボンディングパッド部を形成して、リードフレームや基板にそれぞれワイヤボンディングされる。
【0004】
一方、サファイア基板側から光を取り出すようにしたフリップチップ型の半導体発光素子では、p側電極を透明電極としないままでこのp側及びn側の電極のそれぞれにマイクロバンプを形成し、これらのマイクロバンブを基板またはリードフレームのp側及びn側に接続する構成が採用されている。
【0005】
図5はフリップチップ型の半導体発光素子を利用したLEDランプの概略を示す縦断面図である。
【0006】
図において、発光素子1は、絶縁性の透明なサファイア基板1aの表面に、たとえばGaNバッファ層,n型GaN層,InGaN活性層,p型AlGaN層及びp型GaN層を順に積層し、InGaN活性層を発光層としたものである。そして、n型GaN層の上面にn側電極2が、及びp型GaN層の上面にはp側電極3がそれぞれ蒸着法によって形成され、更にこれらのn側電極2及びp側電極3の上にはそれぞれマイクロバンプ4,5を形成している。
【0007】
発光素子1を搭載するリードフレーム6のマウント部6aには、発光素子1に外部から静電気が印加されないようにしてその破壊を防止するために、静電気保護素子としてツェナーダイオード7を設ける。このツェナーダイオード7は、導電性のAgペースト8によってマウント部6aに接着固定され、その上面にはp側及びn側の電極7a,7bをそれぞれ形成したものである。
【0008】
発光素子1は、サファイア基板1aが上面を向く姿勢としてツェナーダイオード7の上に搭載され、n側及びp側のマイクロバンプ4,5をそれぞれツェナーダイオード7の電極7a,7bに接合することによって電気的に導通させる。そして、リードフレーム6の上端部を含めて発光素子1の全体がエポキシ樹脂9によって封止され、図示の形状のLEDランプが構成される。
【0009】
発光素子1への通電があるときには、半導体積層膜中のInGaN活性層が発光層となり、この発光層からの光がサファイア基板1a及びp側電極3の両方向へ向かう。そして、p側電極3を光透過しない反射型の積層膜としておくことにより、サファイア基板1aの上面からの発光輝度を最大としてこの面を主光取出し面とすることができる。
【0010】
このようなツェナーダイオード7への発光素子1の搭載においては、マイクロバンブ4,5と電極7a,7bとを導通させることが必要であり、たとえば加熱圧着法や接着剤を利用した接合が行われる。
【0011】
図示の例は、Agペースト等を利用した導電性接着剤を使用したものであり、電極7a,7bの上面にはマイクロバンプ4,5の位置に対応する2個所に予め導電性接着剤10a,10bを塗布しておき、これらの上にマイクロバンブ4,5を重合させることにより、発光素子1をツェナーダイオード7の上面に固定して電気的に導通させることができる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、導電性接着剤10a,10bは硬化するまでは或る程度の流動性を持つので、電極7a,7bのそれぞれに分離した状態で塗布していても、発光素子1を載せて固定するときにこれらの二つの領域の導電性接着剤10a,10bどうしが互いに接触する恐れがある。
【0013】
すなわち、発光素子1のツェナーダイオード7へのマウントの際には、マイクロバンプ4,5がそれぞれ導電性接着剤10a,10bの層の中に圧入されるので、これらの導電性接着剤10a,10bは圧縮されると同時に押し広げられるように変形する。このような変形が過度になると、互いに干渉しあって導電性接着剤10a,10bどうしが接触し、短絡を引き起こしてしまう。
【0014】
また、発光素子1を搭載するときに、ツェナーダイオード7に対して高い精度で直交する向きの搭載方向であれば、導電性接着剤10a,10bを圧縮する向きの力が作用するだけとなり、その変形量は小さく抑えることができる。しかしながら、発光素子1が斜め方向に載る向きであったり、搭載した後に何らかの原因で位置ずれしたりすると、導電性接着剤10a,10bがこれに伴って大きく変形する可能性が高い。そして、このような変形の場合でも、同様に導電性接着剤10a,10bどうしの接触を招き、短絡を発生することになる。
【0015】
このように、フリップチップ型の発光素子1を導電性接着剤10a,10bによってツェナーダイオード7に固定するものでは、発光素子1の搭載の際に導電性接着剤10a,10bの変形による短絡が頻発する。そして、ツェナーダイオード7への搭載だけでなく、たとえばリードフレームや基板等に発光素子1を搭載して導電性接着剤によって固定する場合でも、同様の問題がある。
【0016】
本発明において解決すべき課題は、発光素子のマイクロバンプを導電性接着剤によって基板やリードフレームに搭載固定するに際して導電性接着剤どうしの干渉がなく短絡の発生を防止できるアセンブリを可能とすることにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板またはリードフレーム等の基材の搭載面にフリップチップ型の半導体発光素子を搭載するとともに、この半導体発光素子をそのp側及びn側の電極に導通させ、前記半導体発光素子の搭載面側と反対側を主光取出し面とした半導体発光装置において、前記搭載面に、前記p側及びn側の電極を接着するための導電性接着剤を相互に独立してスポット的に塗布し、これらの導電性接着剤の塗布点どうしの間を巡る配置であって相互の干渉を阻止する絶縁性のスペーサ樹脂を形成してなることを特徴とする。
【0018】
この構成であれば、発光素子を基材の搭載面に載せたときに導電性接着剤が押し広げられるように変形しても、導電性接着剤の塗布点の間には絶縁性のスペーサ樹脂が介在しているので、導電性接着剤どうしが接触することはなく、短絡が防止される。
【0019】
【発明の実施の形態】
本願第1の発明は、基板またはリードフレーム等の基材の搭載面にフリップチップ型の半導体発光素子を搭載するとともに、この半導体発光素子をそのp側及びn側の電極に導通させ、前記半導体発光素子の搭載面側と反対側を主光取出し面とした半導体発光装置において、前記搭載面に、前記p側及びn側の電極を接着するための導電性接着剤を相互に独立してスポット的に塗布し、これらの導電性接着剤の塗布点どうしの間を巡る配置であって相互の干渉を阻止する絶縁性のスペーサ樹脂を形成してなるものであり、導電性接着剤の塗布点の間に絶縁性のスペーサ樹脂が介在することにより、導電性接着剤どうしが接触することはなく、短絡を防止するという作用を有する。
【0020】
本願第2の発明は、前記p側及びn側の電極にマイクロバンプを一体化して形成し、前記マイクロバンプを含めて前記導電性接着剤により前記基材に接合したものであり、半導体発光素子のp側及びn側にマイクロバンプを形成したものでも、スペーサ樹脂によって導電性接着剤どうしの接触が防止される。そして、マイクロバンプを備えることで、p側及びn側電極と基材側との間隔を広げることができ、短絡をより効果的に防止できるという作用を有する。
【0021】
本願第3の発明は、スペーサ樹脂は、フッ素系樹脂としてなるものであり、フッ素系樹脂の撥水性によって導電性接着剤を撥ねのけて相互の干渉を防止するという作用を有する。
【0022】
以下に、本発明の実施の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
【0023】
図1は本発明の一実施の形態による半導体発光装置の要部を分解して示す発光素子とツェナーダイオードの概略図である。なお、発光素子及びツェナーダイオードは図5に示したものと同じ形態のものであり、同一部材については共通の符号で指示し、その詳細な説明は省略する。
【0024】
発光素子1は、その主光取出し面と反対側の面にn側電極パッド2a及びp側電極パッド3aを対角線方向に配列し、これらのそれぞれにマイクロバンプ4,5がそれぞれワイヤによるスタッドバンプ方式により形成されている。
【0025】
ツェナーダイオード7は、その上面にp側電極7a及びn側電極7bをそれぞれスリット7cを挟んで区分けして形成したものである。そして、これらのp側及びn側の電極7a,7bの表面には、マイクロバンブ4,5の位置に対応する領域にたとえばAgペースト等を利用した導電性接着剤10a,10bがそれぞれ塗布される。そして、スリット7cに沿う領域には、p側及びn側電極7a,7bの境界線のように絶縁性のスペーサ樹脂11を形成する。
【0026】
スペーサ樹脂11は撥水性のあるフッ素系樹脂であり、ツェナーダイオード7を作製するときにウェーハの状態でパターニングしておけば、図示の形状となるように形成することができる。そして、このパターニングでは、スペーサ樹脂11はスリット7cの全体に没するとともに、図2の平面図に示すように、スリッ卜7cに沿うp側及びn側の電極7a,7bの表面に被さる程度の肉厚であって、導電性接着剤10a,10bよりも厚くすることが好ましい。
【0027】
図3はツェナーダイオード7の上に発光素子1を搭載して固定した状態を示す概略図である。
【0028】
発光素子1のn側及びp側のマイクロバンプ4,5はそれぞれツェナーダイオード7のp側及びn側の電極7a,7bの上に搭載され、これらの電極7a,7bに塗布した導電性接着剤10a,10bの中に没入している。このとき、発光素子1のn側及びp側電極パッド2a,3aも同時に導電性接着剤10a,10bに被さって接合され、これによりn側及びp側の電極パッド2a,3aとそれぞれのマイクロバンプ4,5とが電極7a,7bに接触し、発光素子1とツェナーダイオード7とが導通する。
【0029】
発光素子1を搭載するときには、従来技術の項で説明したように、導電性接着剤10a,10bが押し広げられてそれぞれが接近する方向に変形する。これに対し、スペーサ樹脂11がこれらの導電性接着剤10a,10bとの間に介在しているので、導電性接着剤10a,10bの変形に干渉する。したがって、導電性接着剤10a,10bの変形はスペーサ樹脂11によって阻止されて互いに接触することが防止され、短絡の発生はなくなる。
【0030】
スペーサ樹脂11をフッ素系の樹脂とした場合では撥水性が大きいので、導電性接着剤10a,10bが大きく膨らむように変形しても、撥水性によって変形分を撥ねることができる。したがって、導電性接着剤10a,10bどうしの接触をより一層効果的に防止することができる。
【0031】
また、スペーサ樹脂11を設けることによって、導電性接着剤10a,10bの塗布位置がずれたり塗布量が多すぎたりしても、相互の干渉を避けることができる。したがって、導電性接着剤10a,10bの塗布位置の精度や塗布量を厳しく制限するアセンブリは不要となり、加工も容易化が図られる。
【0032】
更に、図示の例では、導電性接着剤10a,10bをp側及びn側の電極7a,7bに別けて2個所に塗布しているが、これに代えてウェーハ製作の段階で予め形成されているスペーサ樹脂11の表面に重ね合わせて塗布するようにしてもよい。この場合、発光素子1を搭載し圧着するときに、スペーサ樹脂11がその肉厚方向に少し圧縮変形するようなツェナーダイオード7との間の間隔のアセンブリとしておけば、圧着によってスペーサ樹脂11上の導電性樹脂はp側及びn側の電極7a,7b方向に押し出される。そして、スペーサ樹脂11の表面に導電性樹脂が残ったとしても、その層厚が極めて薄かったり微小に点在する分布となるので、電気的な導通には十分ではなく、これにより短絡を防止できる。
【0033】
図4はマイクロバンプ4,5を形成しないでn側電極パッド2a及びp側電極パッド3aを導電性接着剤10a,10bによってツェナーダイオード7のp側及びn側の電極7a,7bに直に接着した例を示す要部の縦断面図である。
【0034】
この例は、マイクロバンプ4,5を形成しない点が先の例と相違するのみであり、その他の構成は同じである。なお、同じ部材については図1〜図3で示したものと共通の符号で指示している。
【0035】
マイクロバンプ4,5を形成しないでも、導電性接着剤10a,10bを適当な厚さに形成しておけば、半導体発光素子1側とツェナーダイオード7側との不要な短絡がないアセンブリとすることができる。そして、先の例と同様に、スペーサ樹脂11を導電性接着剤10a,10bの間に介在させることによって、p側とn側との短絡が確実に防止される。
【0036】
なお、以上の実施の形態では、発光素子をツェナーダイオードに搭載する例を示したが、リードフレームや基板に搭載する場合でも本発明が適用できることは無論である。
【0037】
【発明の効果】
請求項1及び2の発明では、導電性接着剤の塗布点の間に絶縁性のスペーサ樹脂が介在しているので、発光素子をその搭載面に載せたときに導電性接着剤の塗布領域が膨らむように押し広げられても、スペーサ樹脂がこれに干渉して相互の接触を防ぐことができ、短絡を確実に防止することができる。また、導電性接着剤の塗布点の位置や塗布量を厳しく管理しないでも、短絡の防止が可能なので、アセンブリの容易化が図られる。
【0038】
請求項3の発明では、フッ素系樹脂をスペーサ樹脂として利用することにより、その撥水性によって導電性接着剤を撥ねのけることができるので、短絡をより一層効果的に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態を示す図であって、発光素子とツェナーダイオードを分解して示す概略図
【図2】スペーサ樹脂及び導電性接着剤の分布を示すツェナーダイオードの平面図
【図3】ツェナーダイオードに発光素子を搭載したときのスペーサ樹脂及び導電性樹脂の関係を示す正面図
【図4】半導体発光素子のp側及びn側の電極にマイクロバンプを形成せずに直に電極を導電性接着剤で接合する例を示す要部の縦断面図
【図5】従来のフリップチップ型の発光素子を備えたLEDランプの概略縦断面図
【符号の説明】
1 発光素子
1a サファイア基板
2 n側電極
2a n側電極パッド
3 p側電極
3a p側電極パッド
4,5 マイクロバンプ
6 リードフレーム
6a マウント部
7 ツェナーダイオード
7a,7b 電極
8 Agペースト
9 エポキシ樹脂
10a,10b 導電性接着剤
11 スペーサ樹脂
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a flip-chip type semiconductor light-emitting device using a gallium nitride compound used for an optical device such as a blue light-emitting diode, and more particularly to a conductive material for adhesion when a light-emitting element is mounted on the mounting surface. The present invention relates to a semiconductor light emitting device in which there is no prevention of a short circuit due to an adhesive.
[0002]
[Prior art]
In the manufacture of semiconductors of gallium nitride compounds such as GaN, GaAlN, InGaN, and InAlGaN, insulating sapphire is generally used as a crystal substrate for growing a semiconductor film on the surface thereof. In the case of using an insulating crystal substrate such as sapphire, the electrode cannot be provided from the crystal substrate side, so that the p and n electrodes provided on the semiconductor layer are formed on one surface facing the crystal substrate. become.
[0003]
For example, a light-emitting element using a GaN-based compound semiconductor uses a sapphire substrate as an insulating substrate, and an n-type layer and a p-type layer are stacked on the upper surface thereof by metal organic chemical vapor deposition. The basic structure is that an n-type layer is exposed by etching a portion and an n-side electrode and a p-side electrode are formed on each of the n-type layer and the p-type layer. If the p-side electrode is a transparent electrode, bonding pad portions are formed on the p-side and n-side electrodes, respectively, and wire-bonded to the lead frame and the substrate, respectively.
[0004]
On the other hand, in the flip-chip type semiconductor light emitting device in which light is extracted from the sapphire substrate side, the microelectrodes are formed on each of the p-side electrode and the n-side electrode without using the p-side electrode as a transparent electrode. A configuration is adopted in which the microbump is connected to the p side and the n side of the substrate or the lead frame.
[0005]
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing an outline of an LED lamp using a flip-chip type semiconductor light emitting element.
[0006]
In the figure, the light-emitting element 1 is formed by laminating, for example, a GaN buffer layer, an n-type GaN layer, an InGaN active layer, a p-type AlGaN layer, and a p-type GaN layer in this order on the surface of an insulating transparent sapphire substrate 1a. The layer is a light emitting layer. An n-side electrode 2 is formed on the upper surface of the n-type GaN layer, and a p-side electrode 3 is formed on the upper surface of the p-type GaN layer, respectively. Are formed with micro bumps 4 and 5, respectively.
[0007]
The mount portion 6a of the lead frame 6 on which the light emitting element 1 is mounted is provided with a Zener diode 7 as an electrostatic protection element in order to prevent the light emitting element 1 from being damaged by preventing static electricity from being applied from the outside. The Zener diode 7 is bonded and fixed to the mount portion 6a with a conductive Ag paste 8, and p-side and n-side electrodes 7a and 7b are formed on the upper surface thereof.
[0008]
The light emitting element 1 is mounted on the Zener diode 7 so that the sapphire substrate 1a faces the upper surface, and the n-side and p-side micro bumps 4 and 5 are joined to the electrodes 7a and 7b of the Zener diode 7 respectively. Make it conductive. The entire light emitting element 1 including the upper end portion of the lead frame 6 is sealed with an epoxy resin 9 to form an LED lamp having the shape shown in the drawing.
[0009]
When the light emitting element 1 is energized, the InGaN active layer in the semiconductor laminated film becomes a light emitting layer, and light from this light emitting layer travels in both directions of the sapphire substrate 1 a and the p-side electrode 3. By setting the p-side electrode 3 as a reflective laminated film that does not transmit light, the luminance from the upper surface of the sapphire substrate 1a can be maximized, and this surface can be used as a main light extraction surface.
[0010]
In mounting the light emitting element 1 on such a Zener diode 7, it is necessary to connect the micro bumps 4 and 5 and the electrodes 7a and 7b. For example, bonding using a thermocompression bonding method or an adhesive is performed. .
[0011]
In the illustrated example, a conductive adhesive using Ag paste or the like is used, and conductive adhesives 10a, 10a, 7b are previously provided on the upper surfaces of the electrodes 7a, 7b at two locations corresponding to the positions of the micro bumps 4, 5. By applying 10b and polymerizing the microbumps 4 and 5 thereon, the light-emitting element 1 can be fixed to the upper surface of the Zener diode 7 and electrically conducted.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the conductive adhesives 10a and 10b have a certain degree of fluidity until they are cured, even when the light-emitting element 1 is placed and fixed, the electrodes 7a and 7b are applied separately. In addition, the conductive adhesives 10a and 10b in these two regions may come into contact with each other.
[0013]
That is, when the light emitting element 1 is mounted on the Zener diode 7, the micro bumps 4 and 5 are pressed into the layers of the conductive adhesives 10a and 10b, respectively. As it is compressed, it transforms so that it is spread. When such deformation becomes excessive, the conductive adhesives 10a and 10b come into contact with each other and cause a short circuit.
[0014]
Further, when the light emitting element 1 is mounted, if the mounting direction is perpendicular to the Zener diode 7 with high accuracy, only the force in the direction of compressing the conductive adhesives 10a and 10b acts. The amount of deformation can be kept small. However, if the light emitting element 1 is placed in an oblique direction or is displaced for some reason after being mounted, there is a high possibility that the conductive adhesives 10a and 10b are greatly deformed accordingly. Even in the case of such deformation, the conductive adhesives 10a and 10b are similarly brought into contact with each other, thereby causing a short circuit.
[0015]
Thus, in the case where the flip-chip type light emitting element 1 is fixed to the Zener diode 7 by the conductive adhesives 10a and 10b, short-circuiting due to deformation of the conductive adhesives 10a and 10b frequently occurs when the light emitting element 1 is mounted. To do. Further, not only mounting on the Zener diode 7, but also when the light emitting element 1 is mounted on a lead frame, a substrate or the like and fixed with a conductive adhesive, for example, there is the same problem.
[0016]
The problem to be solved in the present invention is to enable an assembly that can prevent the occurrence of a short circuit without interference between conductive adhesives when mounting and fixing micro bumps of a light emitting element on a substrate or a lead frame with a conductive adhesive. It is in.
[0017]
[Means for Solving the Problems]
The present invention mounts a flip-chip type semiconductor light emitting device on a mounting surface of a substrate such as a substrate or a lead frame, and conducts the semiconductor light emitting device to its p-side and n-side electrodes. In a semiconductor light emitting device having a main light extraction surface opposite to the mounting surface side, a conductive adhesive for adhering the p-side and n-side electrodes to the mounting surface is spot-coated independently of each other. In addition, an insulating spacer resin that is arranged between the application points of these conductive adhesives and prevents mutual interference is formed.
[0018]
With this configuration, even if the conductive adhesive is deformed so as to be spread when the light emitting element is placed on the mounting surface of the base material, an insulating spacer resin is provided between the application points of the conductive adhesive. Therefore, the conductive adhesives do not come into contact with each other, and a short circuit is prevented.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
According to a first aspect of the present invention, a flip-chip type semiconductor light emitting device is mounted on a mounting surface of a substrate such as a substrate or a lead frame, and the semiconductor light emitting device is electrically connected to its p-side and n-side electrodes. In a semiconductor light emitting device in which a side opposite to the mounting surface side of the light emitting element is a main light extraction surface, a conductive adhesive for bonding the p-side and n-side electrodes to the mounting surface is spotted independently of each other. The conductive adhesive is applied between the application points of these conductive adhesives and is formed by forming an insulating spacer resin that prevents mutual interference. Since the insulating spacer resin is interposed between the conductive adhesives, the conductive adhesives do not come into contact with each other, and the short circuit is prevented.
[0020]
A second invention of the present application is a semiconductor light emitting device in which micro bumps are integrally formed on the p-side and n-side electrodes, and the micro bumps are included and bonded to the base material by the conductive adhesive. Even in the case where the micro bumps are formed on the p side and the n side, the contact between the conductive adhesives is prevented by the spacer resin. And by providing a micro bump, the space | interval of the p side and n side electrode and a base material side can be expanded, and it has the effect | action that a short circuit can be prevented more effectively.
[0021]
In the third invention of the present application , the spacer resin is made of a fluororesin, and has an action of repelling the conductive adhesive by the water repellency of the fluororesin to prevent mutual interference.
[0022]
Specific examples of embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0023]
FIG. 1 is a schematic diagram of a light-emitting element and a Zener diode, showing an essential part of a semiconductor light-emitting device according to an embodiment of the present invention. The light emitting element and the Zener diode have the same form as that shown in FIG. 5, and the same members are designated by common reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
[0024]
The light-emitting element 1 has an n-side electrode pad 2a and a p-side electrode pad 3a arranged diagonally on a surface opposite to the main light extraction surface, and micro bumps 4 and 5 are respectively provided on the stud bump method using wires. It is formed by.
[0025]
The zener diode 7 is formed by dividing a p-side electrode 7a and an n-side electrode 7b on the upper surface thereof with a slit 7c interposed therebetween. Then, on the surfaces of the p-side and n-side electrodes 7a and 7b, conductive adhesives 10a and 10b using, for example, Ag paste are applied to regions corresponding to the positions of the micro bumps 4 and 5, respectively. . Then, in the region along the slit 7c, an insulating spacer resin 11 is formed as a boundary line between the p-side and n-side electrodes 7a and 7b.
[0026]
The spacer resin 11 is a water-repellent fluororesin, and can be formed to have the shape shown in the figure if it is patterned in the state of a wafer when the Zener diode 7 is manufactured. In this patterning, the spacer resin 11 is submerged in the entire slit 7c and covers the surface of the p-side and n-side electrodes 7a and 7b along the slit 7c as shown in the plan view of FIG. It is preferable that the thickness is thicker than that of the conductive adhesives 10a and 10b.
[0027]
FIG. 3 is a schematic view showing a state in which the light emitting element 1 is mounted and fixed on the Zener diode 7.
[0028]
The n-side and p-side micro bumps 4 and 5 of the light-emitting element 1 are mounted on the p-side and n-side electrodes 7a and 7b of the Zener diode 7, respectively, and a conductive adhesive applied to these electrodes 7a and 7b. It is immersed in 10a, 10b. At this time, the n-side and p-side electrode pads 2a and 3a of the light-emitting element 1 are also simultaneously covered and bonded to the conductive adhesives 10a and 10b, whereby the n-side and p-side electrode pads 2a and 3a and the respective micro bumps. 4 and 5 are in contact with the electrodes 7a and 7b, and the light emitting element 1 and the Zener diode 7 are electrically connected.
[0029]
When the light emitting element 1 is mounted, as described in the section of the prior art, the conductive adhesives 10a and 10b are spread and deformed in a direction in which they approach each other. On the other hand, since the spacer resin 11 is interposed between the conductive adhesives 10a and 10b, it interferes with the deformation of the conductive adhesives 10a and 10b. Therefore, the deformation of the conductive adhesives 10a and 10b is prevented by the spacer resin 11 and is prevented from coming into contact with each other, and the occurrence of a short circuit is eliminated.
[0030]
When the spacer resin 11 is made of a fluorine-based resin, the water repellency is large. Therefore, even if the conductive adhesives 10a and 10b are deformed so as to swell greatly, the deformation can be repelled by the water repellency. Therefore, the contact between the conductive adhesives 10a and 10b can be more effectively prevented.
[0031]
Moreover, by providing the spacer resin 11, even if the application positions of the conductive adhesives 10a and 10b are shifted or the application amount is too large, mutual interference can be avoided. Therefore, an assembly that severely limits the accuracy and application amount of the conductive adhesives 10a and 10b is not required, and the processing is facilitated.
[0032]
Further, in the illustrated example, the conductive adhesives 10a and 10b are applied to two locations apart from the p-side and n-side electrodes 7a and 7b. Instead, they are formed in advance at the stage of wafer fabrication. You may make it apply | coat on the surface of the spacer resin 11 which overlaps. In this case, when the light-emitting element 1 is mounted and pressure-bonded, if the spacer resin 11 is an assembly having a space between the zener diode 7 so that the spacer resin 11 is slightly compressed and deformed in the thickness direction, the pressure-resisting on the spacer resin 11 is achieved by pressure bonding. The conductive resin is extruded in the direction of the p-side and n-side electrodes 7a and 7b. Even if the conductive resin remains on the surface of the spacer resin 11, the layer thickness is very thin or has a minute distribution, which is not sufficient for electrical continuity, thereby preventing a short circuit. .
[0033]
In FIG. 4, the n-side electrode pad 2a and the p-side electrode pad 3a are directly bonded to the p-side and n-side electrodes 7a and 7b of the Zener diode 7 by the conductive adhesives 10a and 10b without forming the micro bumps 4 and 5. It is a longitudinal cross-sectional view of the principal part which shows the done example.
[0034]
This example is different from the previous example only in that the micro bumps 4 and 5 are not formed, and the other configurations are the same. In addition, about the same member, it has designated with the code | symbol common with what was shown in FIGS. 1-3.
[0035]
Even if the micro bumps 4 and 5 are not formed, if the conductive adhesives 10a and 10b are formed to an appropriate thickness, the assembly does not cause an unnecessary short circuit between the semiconductor light emitting element 1 side and the Zener diode 7 side. Can do. Then, similarly to the previous example, by interposing the spacer resin 11 between the conductive adhesives 10a and 10b, a short circuit between the p side and the n side is reliably prevented.
[0036]
In the above embodiment, the example in which the light emitting element is mounted on the Zener diode has been described. However, it goes without saying that the present invention can be applied even when mounted on a lead frame or a substrate.
[0037]
【The invention's effect】
In the first and second aspects of the invention, since the insulating spacer resin is interposed between the application points of the conductive adhesive, the application region of the conductive adhesive is not reduced when the light emitting element is placed on the mounting surface. Even if it is expanded so as to swell, the spacer resin can interfere with this to prevent mutual contact, and a short circuit can be reliably prevented. Further, since the short circuit can be prevented without strictly controlling the position and amount of the conductive adhesive application point, the assembly can be facilitated.
[0038]
In the invention of claim 3, by using the fluorine-based resin as the spacer resin, the conductive adhesive can be repelled by its water repellency, so that a short circuit can be prevented more effectively.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention, and is a schematic view showing a light emitting element and a Zener diode in an exploded manner. FIG. 2 is a plan view of a Zener diode showing a distribution of spacer resin and conductive adhesive. FIG. 3 is a front view showing the relationship between a spacer resin and a conductive resin when a light-emitting element is mounted on a Zener diode. FIG. 4 is a plan view without forming micro bumps on the p-side and n-side electrodes of a semiconductor light-emitting element. FIG. 5 is a schematic vertical cross-sectional view of an LED lamp equipped with a conventional flip-chip type light-emitting element.
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light emitting element 1a Sapphire board | substrate 2 n side electrode 2a n side electrode pad 3 p side electrode 3a p side electrode pad 4,5 micro bump 6 lead frame 6a mount part 7 Zener diode 7a, 7b electrode 8 Ag paste 9 epoxy resin 10a, 10b Conductive adhesive 11 Spacer resin

Claims (1)

発光素子の主光取出し面と反対側の面にp側電極パッドとn側電極パッドを形成し、前記p側電極パッドとn側電極パッド上にマイクロバンプを形成する工程と、Forming a p-side electrode pad and an n-side electrode pad on a surface opposite to the main light extraction surface of the light-emitting element, and forming a micro bump on the p-side electrode pad and the n-side electrode pad;
ツェナーダイオードの上面にp側電極及びn側電極をそれぞれスリットを挟んで区分けし、前記スリットに沿う領域に前記p側電極及びn側電極の境界線のように絶縁性のスペーサ樹脂を形成する工程と、A step of dividing a p-side electrode and an n-side electrode on the upper surface of the Zener diode with a slit therebetween, and forming an insulating spacer resin in a region along the slit like a boundary line of the p-side electrode and the n-side electrode When,
導電性接着剤を前記スペーサ樹脂の表面に重ね合わせて塗布する工程と、Applying a conductive adhesive layered on the surface of the spacer resin; and
前記発光素子のn側及びp側のマイクロバンプがそれぞれツェナーダイオードのp側及びn側の電極の上に搭載されるように発光素子をフリップチップ型としてツェナーダイオードに圧着し、前記スペーサ樹脂上に塗布した導電性接着剤をツェナーダイオードのp側及びn側の電極方向に押し出し、前記発光素子とツェナーダイオードを電気的に導通する工程とを、備えた半導体発光装置の製造方法。The light emitting device is flip-chip bonded to the Zener diode so that the n-side and p-side micro bumps of the light-emitting device are mounted on the p-side and n-side electrodes of the Zener diode, respectively. A method of manufacturing a semiconductor light emitting device, comprising: extruding the applied conductive adhesive in the direction of the p-side and n-side electrodes of the Zener diode to electrically connect the light emitting element and the Zener diode.
JP2000239708A 2000-08-08 2000-08-08 Manufacturing method of semiconductor light emitting device Expired - Lifetime JP4474753B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000239708A JP4474753B2 (en) 2000-08-08 2000-08-08 Manufacturing method of semiconductor light emitting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000239708A JP4474753B2 (en) 2000-08-08 2000-08-08 Manufacturing method of semiconductor light emitting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002057374A JP2002057374A (en) 2002-02-22
JP4474753B2 true JP4474753B2 (en) 2010-06-09

Family

ID=18731201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000239708A Expired - Lifetime JP4474753B2 (en) 2000-08-08 2000-08-08 Manufacturing method of semiconductor light emitting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4474753B2 (en)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4676335B2 (en) * 2003-09-19 2011-04-27 パナソニック株式会社 Lighting equipment
CN100487931C (en) 2004-09-27 2009-05-13 松下电器产业株式会社 Semiconductor light emitting element, manufacturing method and mounting method of the same and light emitting device
KR101065076B1 (en) * 2005-05-07 2011-09-15 삼성전자주식회사 Submount for light emitting device
JP4680260B2 (en) 2005-07-15 2011-05-11 パナソニック株式会社 Semiconductor light emitting device and substrate mounted with semiconductor light emitting device
JP2012248573A (en) * 2011-05-25 2012-12-13 Mitsubishi Electric Corp Light emitting device
US9349929B2 (en) 2012-05-31 2016-05-24 Cree, Inc. Light emitter packages, systems, and methods
USD749051S1 (en) 2012-05-31 2016-02-09 Cree, Inc. Light emitting diode (LED) package
US10439112B2 (en) 2012-05-31 2019-10-08 Cree, Inc. Light emitter packages, systems, and methods having improved performance
JP5806994B2 (en) 2012-09-21 2015-11-10 株式会社東芝 Optical coupling device
KR101787921B1 (en) 2013-09-05 2017-10-18 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 Light-emitting device
JP5712368B2 (en) * 2013-09-05 2015-05-07 パナソニックIpマネジメント株式会社 Light emitting device
JP2015195401A (en) * 2015-07-14 2015-11-05 株式会社東芝 Optical coupling device
JP2018142708A (en) * 2018-04-02 2018-09-13 ローム株式会社 Led module and packaging structure of the same
CN111916433B (en) * 2019-05-10 2022-07-22 深圳市洲明科技股份有限公司 LED display screen and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002057374A (en) 2002-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100686416B1 (en) Composite light-emitting device, semiconductor light-emitting unit and method for fabricating the unit
US6888167B2 (en) Flip-chip bonding of light emitting devices and light emitting devices suitable for flip-chip bonding
JP4474753B2 (en) Manufacturing method of semiconductor light emitting device
JP3643225B2 (en) Optical semiconductor chip
EP1594171A2 (en) Semiconductor light emitting device with flexible substrate
JP4301075B2 (en) Light emitting diode package and light emitting device using the same
JP2006310630A (en) Optical semiconductor device, and its manufacturing method
JP3663281B2 (en) Semiconductor light emitting device
US7126163B2 (en) Light-emitting diode and its manufacturing method
JP3911839B2 (en) Semiconductor light emitting device
US10699991B2 (en) Packaged light emitting devices including electrode isolation structures and methods of forming packaged light emitting devices including the same
JP2000216439A (en) Chip-type light emitting element and its manufacture
JP2002043623A (en) Optical semiconductor element and its manufacturing method
JPH10270761A (en) Semiconductor light-emitting device and method for manufacturing the same
JPH11214747A (en) Semiconductor light-emitting device
JPH06302864A (en) Manufacture of light-emitting device
JP2014033233A (en) Light emitting device
JPH11251645A (en) Semiconductor light emitting device
US20160276559A1 (en) Light-Emitting Diode Package With Substantially In-Plane Light Emitting Surface and Fabrication Method
JPH11177131A (en) Semiconductor light emitting element chip and method for mounting the element
JP2000012898A (en) Semiconductor light-emitting device
JP2002057373A (en) Semiconductor light-emitting device
JP2014022705A (en) Semiconductor light-emitting device and manufacturing method of the same
KR102338179B1 (en) Semiconductor light emitting device and method of manufacturing the same
KR102471801B1 (en) Semiconductor light emitting device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070329

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20070412

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090924

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090929

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091118

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20091119

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100216

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100301

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319

Year of fee payment: 3