JP4450985B2 - Vacuum processing equipment - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被処理物に対して成膜処理等の真空処理を施すための真空処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造工程、液晶表示パネル製造工程、或いは光ディスク製造工程等の各種の工程において、ディスクやシリコンウエハ等の被処理物の表面処理を実施するために真空処理装置が使用される。この真空処理装置を用いて、被処理物に対してスパッタリング、エッチング、アッシング、或いはベーキング等の処理を施して、被処理物の表面に薄膜を形成したり、薄膜に微細加工を施したりする。
【0003】
図3及び図4は従来の真空処理装置の一例を示しており、この装置は、開口部51が形成された2つの真空室50を備えており、一方の真空室50は被処理物(ディスク)に対して真空処理を施すための処理室を構成し、他方の真空室50はロードロック室を構成する。
【0004】
真空室50同士の間には真空排気可能な真空搬送室52が形成されており、この真空搬送室52の内部には、ディスクを搬送するための搬送機構53が設けられている。この搬送機構53は、支柱54によって回転可能に支持された回転台55を備え、この回転台55の上面には2つのバルブ開閉機構62が設けられている。
【0005】
各バルブ開閉機構62は各直動ガイド(LMガイド)56を備えており、各直動ガイド56には支持部材57が固着されており、支持部材57によってバルブ板58が支持されている。支持部材57及びバルブ板58は、回転台55上に配置されたエアシリンダ59の駆動力によって、直動ガイド56に案内されながら直動される。バルブ板58の前面には4つのディスクホルダー60が設けられており、これらのディスクホルダー60はディスクを保持すると共に回転させることができる。バルブ板58の前面にはOリング61が設けられている。
【0006】
そして、この従来の真空処理装置においてディスクを処理する際には、ディスクホルダー60にてディスクを保持した状態で、エアシリンダ59を駆動して、処理室である真空室50側にバルブ板58を移動させる。そして、真空室50の開口部51にバルブ板58を嵌め入れて、開口部51の段部51aにバルブ板58のOリング61を押しつける。この状態で、ディスクホルダー60を回転させながら、図示を省略した加工装置(例えばスパッタ源)を用いてディスクの処理を行う。
【0007】
ディスクの処理が終了したら、エアシリンダ59を再び駆動してバルブ板58を真空室50の開口部51から引き離し、回転台55を回転させることにより、処理済みのディスクを保持したバルブ板58を、ロードロック室である真空室50側に移動させる。そして、エアシリンダ59を駆動して、ロードロック室である真空室50の開口部51にバルブ板58を嵌め入れて、図示を省略した搬送ロボットによって処理済みのディスクを受け取る。
【0008】
ところで、ディスクの搬送シーケンスに要する時間を短縮するためには、2つのエアシリンダ59を同時に駆動して2つのバルブ板58の開閉動作を同時に行えることが望ましい。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の真空処理装置においては、2つのバルブ板58を別個のエアシリンダ59により駆動するように構成されているので、2つのバルブ板58を同時に開閉動作させようとした場合、それぞれのバルブ板58の動作にズレが生じてしまう。その結果、両方のバルブ板58が完全に開放され又は閉鎖されるまでに要する時間が長くなってしまうという問題がある。
【0010】
また、エアシリンダ59においては加減速動作を行うことができないために、バルブ板58を開閉する際の衝撃が大きくなり、ディスクの落下やパーティクルの発生等が引き起こされるという問題がある。
【0011】
本発明は、上述した事情を考慮してなされたものであって、一対のバルブ体を同時に開閉動作することができると共に、バルブ体の開閉時の衝撃を軽減することができるバルブ開閉機構を備えた真空処理装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明による真空処理装置は、少なくとも一方は処理室を形成する一対の真空室と、前記一対の真空室に形成された一対の開口部と、前記一対の真空室同士の間で被処理物を搬送するための搬送機構と、を備え、前記搬送機構は、前記一対の真空室同士の間に回転可能に配置された回転台と、被処理物を保持すると共に前記一対の開口部を封止するための一対のバルブ体と、前記回転台に設けられ、前記一対のバルブ体を開閉駆動するためのバルブ開閉機構と、を有し、前記バルブ開閉機構は、前記一対のバルブ体に連結され互いに平行に配置された一対のラックと、前記一対のラックの間に配置され前記両ラックに噛み合う歯車と、前記歯車を回転駆動するモータと、を有し、前記歯車の回転により前記一対のラックが同時に駆動され、前記一対のバルブ体による前記一対の開口部の開閉動作が同時に行われることを特徴とする。
【0013】
また、好ましくは、前記バルブ体は弾性体を介して前記ラックに連結されており、前記バルブ体は前記弾性体の弾発力により前記開口部の周囲に弾発的に押し付けられる。
【0014】
また、好ましくは、前記ラックに固着したベース部材にリニアブッシュを設け、前記バルブ体の背面に突設された摺動バーを前記リニアブッシュによって摺動自在に支持し、これにより、前記バルブ体を前記ベース部材に対して直動可能に支持する。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態による真空処理装置について図1及び図2を参照して説明する。
【0016】
本実施形態による真空処理装置は、開口部11が形成された2つの真空室10を備えており、一方の真空室10はディスクに対して成膜処理等の真空処理を施すための処理室を構成し、他方の真空室10はロードロック室を構成する。なお、2つの真空室10とは別にロードロック室を設けて、両真空室10を処理室とすることもできる。
【0017】
真空室10同士の間には真空排気可能な真空搬送室12が形成されており、この真空搬送室12の内部には、被処理物(ディスク)を搬送するための搬送機構13が設けられている。この搬送機構13は、支柱14によって回転可能に支持された回転台15を備え、この回転台15の上面には、一対の開口部11を封止するための一対のバルブ板18を開閉駆動するためのバルブ開閉機構1が設けられている。
【0018】
バルブ開閉機構1は、一対のバルブ板18に連結され互いに平行に配置された一対のラック2と、一対のラック2の間に配置され両ラック2に噛み合う歯車3と、を有する。歯車3は、加減速制御が可能なモータ4によって回転駆動される。各ラック2には各ベース板5が固着されており、各ベース板5には4つのリニアブッシュ6が配設されている。バルブ板18の背面には支持板7が固着されており、支持板7には4本の摺動バー8が突設されている。各摺動バー8は各リニアブッシュ6に摺動自在に挿通され、支持板7はベース板5に対して所定範囲内で直動することができる。各摺動バー8には各圧縮バネ9が嵌められており、ベース板5と支持板7とによって圧縮バネ9が挟まれている。
【0019】
バルブ板18の前面には4つのディスクホルダー20が設けられており、これらのディスクホルダー20はディスクを保持すると共に回転させることができる。バルブ板18の前面にはOリング21が設けられている。
【0020】
そして、この真空処理装置においてディスクを処理する際には、ディスクホルダー20にてディスクを保持した状態で、加減速制御しながらモータ4を駆動して一対のラック2を互いに反対方向に同時に直動させる。これにより、一対のバルブ板18が同時に直動されて一対の開口部11に同時に嵌め入れられ、各開口部11の各段部11aに各バルブ板18の各Oリング21が同時に押し付けられる。
【0021】
ここで、バルブ板18は圧縮バネ9によって弾発的に支持されているので、バルブ板18は開口部11の段部11aに対して弾発的に押し付けられる。このときの圧縮バネ9による押し付け力は、Oリング21が所要の量だけ潰れる程度の大きさである。
【0022】
バルブ板18により開口部11を封止した状態で、処理室を構成する真空室10に配置されたディスクホルダー20を回転させながら、図示を省略した加工装置(例えばスパッタ源)を用いてディスクの処理を行う。一方、ロードロック室を構成する真空室10に配置されたディスクホルダー20から、図示を省略した搬送ロボットによって処理済みのディスクを取り出し、代わりに未処理のディスクをディスクホルダー20に装着する。
【0023】
処理室を構成する真空室10においてディスクの処理が終了したら、加減速制御しながらモータ4を駆動して各バルブ板18を各真空室10の開口部11から引き離し、しかる後に回転台15を回転させる。これにより、処理済みのディスクを保持したバルブ板18をロードロック室である真空室10の側に移動させると共に、未処理のディスクを保持したバルブ板18を処理室である真空室10の側に移動させる。そして、上記と同様にして未処理ディスクの処理と処理済みディスクの取り出しを行う。
【0024】
以上述べたように本実施形態による真空処理装置によれば、単一の歯車3により一対のラック2を駆動する構成のバルブ開閉機構1によって一対のバルブ板18を駆動するようにしたので、一対のバルブ板18の開閉動作を同時に行うことができる。これにより、ディスクの搬送シーケンスに要する時間を短縮することができる。
【0025】
また、モータ4を加減速制御することにより、バルブ板18によって開口部11を開閉する際の衝撃を低減することができる。
【0026】
また、バルブ板18は摺動バー8及びリニアブッシュ6によってベース板5に対して直動自在に弾発的に支持されているので、Oリング21の潰れ量の変動を吸収することができるし、さらに、真空室10と真空搬送室12との差圧によってOリング21の潰れ量が変動した場合にもその変動を吸収することができる。
【0027】
【発明の効果】
以上述べたように本発明による真空処理装置によれば、単一の歯車により一対のラックを駆動する構成のバルブ開閉機構によって一対のバルブ板を駆動するようにしたので、一対のバルブ板の開閉動作を同時に行うことができると共に、モータを加減速制御することによりバルブ板の開閉時の衝撃を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態による真空処理装置を示した平面図。
【図2】本発明の一実施形態による真空処理装置を示した側面図。
【図3】従来の真空処理装置を示した平面図。
【図4】従来の真空処理装置を示した側面図。
【符号の説明】
1 バルブ開閉機構
2 ラック
3 歯車
4 モータ
5 ベース板
6 リニアブッシュ
7 支持板
8 摺動バー
9 圧縮バネ
10 真空室
11 開口部
12 真空搬送室
13 搬送機構
15 回転台
18 バルブ板
20 ディスクホルダー
21 Oリング[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a vacuum processing apparatus for performing vacuum processing such as film formation processing on an object to be processed.
[0002]
[Prior art]
In various processes such as a semiconductor manufacturing process, a liquid crystal display panel manufacturing process, and an optical disk manufacturing process, a vacuum processing apparatus is used to perform surface treatment of an object to be processed such as a disk or a silicon wafer. Using this vacuum processing apparatus, the object to be processed is subjected to processing such as sputtering, etching, ashing, or baking to form a thin film on the surface of the object to be processed, or to finely process the thin film.
[0003]
3 and 4 show an example of a conventional vacuum processing apparatus, which includes two
[0004]
A
[0005]
Each valve opening /
[0006]
When a disk is processed in this conventional vacuum processing apparatus, the
[0007]
When the processing of the disc is completed, the
[0008]
By the way, in order to shorten the time required for the disc transport sequence, it is desirable that the two
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional vacuum processing apparatus described above, the two
[0010]
Further, since the
[0011]
The present invention has been made in consideration of the above-described circumstances, and includes a valve opening / closing mechanism capable of simultaneously opening and closing a pair of valve bodies and reducing an impact at the time of opening and closing the valve bodies. An object of the present invention is to provide a vacuum processing apparatus.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, at least one of the vacuum processing apparatuses according to the present invention includes a pair of vacuum chambers forming a processing chamber, a pair of openings formed in the pair of vacuum chambers, and the pair of vacuum chambers. A transport mechanism for transporting the workpieces between each other, and the transport mechanism holds a workpiece and a turntable that is rotatably disposed between the pair of vacuum chambers. A pair of valve bodies for sealing the pair of openings, and a valve opening / closing mechanism provided on the turntable for opening and closing the pair of valve bodies; A pair of racks connected to the pair of valve bodies and arranged in parallel to each other; a gear disposed between the pair of racks and meshing with the racks; and a motor for rotating the gears, The pair of gears is rotated by rotating the gears. Click are driven simultaneously, the opening and closing operation of the pair of openings by the pair of valve body is characterized by being performed simultaneously.
[0013]
Preferably, the valve body is connected to the rack via an elastic body, and the valve body is elastically pressed around the opening by the elastic force of the elastic body.
[0014]
Preferably, a linear bush is provided on the base member fixed to the rack, and a sliding bar protruding from the back surface of the valve body is slidably supported by the linear bush, whereby the valve body is The base member is supported so as to be linearly movable.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
[0016]
The vacuum processing apparatus according to the present embodiment includes two
[0017]
A
[0018]
The valve opening /
[0019]
Four
[0020]
When a disk is processed in this vacuum processing apparatus, the
[0021]
Here, since the
[0022]
While the
[0023]
When the processing of the disk is completed in the
[0024]
As described above, according to the vacuum processing apparatus according to the present embodiment, the pair of
[0025]
Further, by controlling the acceleration / deceleration of the
[0026]
In addition, since the
[0027]
【The invention's effect】
As described above, according to the vacuum processing apparatus of the present invention, the pair of valve plates are driven by the valve opening / closing mechanism configured to drive the pair of racks by a single gear. The operation can be performed simultaneously, and the impact at the time of opening and closing the valve plate can be reduced by controlling the acceleration and deceleration of the motor.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a side view showing a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a conventional vacuum processing apparatus.
FIG. 4 is a side view showing a conventional vacuum processing apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記搬送機構は、前記一対の真空室同士の間に回転可能に配置された回転台と、被処理物を保持すると共に前記一対の開口部を封止するための一対のバルブ体と、前記回転台に設けられ、前記一対のバルブ体を開閉駆動するためのバルブ開閉機構と、を有し、
前記バルブ開閉機構は、前記一対のバルブ体に連結され互いに平行に配置された一対のラックと、前記一対のラックの間に配置され前記両ラックに噛み合う歯車と、前記歯車を回転駆動するモータと、を有し、前記歯車の回転により前記一対のラックが同時に駆動され、前記一対のバルブ体による前記一対の開口部の開閉動作が同時に行われることを特徴とする真空処理装置。At least one of a pair of vacuum chambers forming a processing chamber; a pair of openings formed in the pair of vacuum chambers; and a transport mechanism for transporting an object to be processed between the pair of vacuum chambers; With
The transport mechanism includes a turntable rotatably disposed between the pair of vacuum chambers, a pair of valve bodies for holding a workpiece and sealing the pair of openings, and the rotation A valve opening / closing mechanism provided on a table for driving to open and close the pair of valve bodies,
The valve opening / closing mechanism includes a pair of racks connected to the pair of valve bodies and arranged in parallel to each other, a gear arranged between the pair of racks and meshing with the racks, and a motor for driving the gears to rotate. And the pair of racks are simultaneously driven by the rotation of the gears, and the opening and closing operations of the pair of openings by the pair of valve bodies are performed simultaneously.
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