JP4449958B2

JP4449958B2 - FFS liquid crystal display panel

Info

Publication number: JP4449958B2
Application number: JP2006216510A
Authority: JP
Inventors: 正寛堀口; 英樹金子; 秀年村井; 隼人倉澤; 泰生瀬川
Original assignee: Epson Imaging Devices Corp
Current assignee: Epson Imaging Devices Corp
Priority date: 2006-08-09
Filing date: 2006-08-09
Publication date: 2010-04-14
Anticipated expiration: 2026-08-09
Also published as: CN100585461C; CN101122694A; JP2008040291A

Description

本発明は、フリンジ・フィールド・スィッチング（Fringe Field Switching：以下、「ＦＦＳ」という。）モード等の横電界方式の液晶表示パネルに関し、特に走査線に印加される電圧に起因する焼き付き防止手段を備えたＦＦＳモードの液晶表示パネルに関する。 The present invention relates to a horizontal electric field type liquid crystal display panel such as a fringe field switching (hereinafter referred to as “FFS”) mode, and more particularly to a means for preventing burn-in caused by a voltage applied to a scanning line. The present invention also relates to an FFS mode liquid crystal display panel.

近年、情報通信機器のみならず一般の電気機器においても液晶表示パネルが多く利用さ
れている。従来から多く用いられている液晶表示パネルは、表面に電極等が形成された一
対のガラス等からなる基板と、この一対の基板間に形成された液晶層と、からなり、両基
板上の電極に電圧が印加されることにより、液晶を再配列させて光の透過率を変えること
により種々の映像を表示する、言わば縦電界方式ともいうべきものである。このような縦
電界方式の液晶表示パネルは、ＴＮ（Twisted Nematic）モードやＶＡ（Vertical Alignm
ent）モードのものが存在するが、視野角が狭いという問題点が存在するため、ＭＶＡ（M
ultidomain Vertical Alignment）モード等種々の改良された縦電界方式の液晶表示パネ
ルが開発されている。 In recent years, liquid crystal display panels are widely used not only in information communication equipment but also in general electric equipment. Conventionally used liquid crystal display panels are composed of a pair of glass substrates having electrodes formed on the surface thereof, and a liquid crystal layer formed between the pair of substrates, and electrodes on both substrates. When a voltage is applied to the liquid crystal, various images are displayed by rearranging the liquid crystal and changing the light transmittance, which is to say a vertical electric field method. Such a vertical electric field type liquid crystal display panel has a TN (Twisted Nematic) mode and a VA (Vertical Alignm).
ent) mode, but there is a problem that the viewing angle is narrow, so MVA (M
Various improved vertical electric field type liquid crystal display panels such as an ultidomain vertical alignment mode have been developed.

一方、上述の縦電界方式の液晶表示パネルとは異なり、一方の基板にのみ電極を備えた
横電界方式と言うべき液晶表示パネルも、ＩＰＳモードの液晶表示パネルとして知られて
いる（下記特許文献１及び２参照）。ここではこのＩＰＳモードの液晶表示パネルの動作
原理を図７〜図９を用いて説明する。なお、図７はＩＰＳモードの液晶表示パネルの１画
素分の模式平面図であり、図８は図７のＤ−Ｄ線に沿った断面図であり、また図９は図７
のＥ−Ｅ線に沿った断面図である。 On the other hand, unlike the above-described vertical electric field type liquid crystal display panel, a horizontal electric field type liquid crystal display panel having electrodes only on one substrate is also known as an IPS mode liquid crystal display panel (the following patent document). 1 and 2). Here, the operation principle of the IPS mode liquid crystal display panel will be described with reference to FIGS. 7 is a schematic plan view of one pixel of the IPS mode liquid crystal display panel, FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. 7, and FIG.
It is sectional drawing along the EE line.

このＩＰＳモードの液晶表示パネル５０は、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦ
とを備えている。アレイ基板ＡＲは、第１の透明基板５１の表面にそれぞれ平行に複数の
走査線５２及びコモン配線５３が設けられ、これら走査線５２及びコモン配線５３に直交
する方向に複数の信号線５４が設けられている。そして、各画素の中央部にコモン配線５
３から帯状に、図７においては例えば櫛歯状の対向電極（「共通電極」ともいわれる）５
５が設けられ、この対向電極５５の周囲を挟むように同じく櫛歯状の画素電極５６が設け
られており、この画素電極５６の表面は例えば窒化硅素からなる保護絶縁膜５７及びポリ
イミド等からなる配向膜５８によって被覆されている。 The IPS mode liquid crystal display panel 50 includes an array substrate AR and a color filter substrate CF.
And. In the array substrate AR, a plurality of scanning lines 52 and common wirings 53 are provided in parallel on the surface of the first transparent substrate 51, and a plurality of signal lines 54 are provided in a direction orthogonal to the scanning lines 52 and common wirings 53. It has been. A common wiring 5 is provided at the center of each pixel.
In FIG. 7, for example, a comb-like counter electrode (also referred to as a “common electrode”) 5 in a band shape from 3
5 and a comb-like pixel electrode 56 is provided so as to sandwich the periphery of the counter electrode 55. The surface of the pixel electrode 56 is made of, for example, a protective insulating film 57 made of silicon nitride and polyimide. The alignment film 58 is covered.

そして、走査線５２と信号線５４との交差点近傍にはスイッチング素子としてのＴＦＴ
（Thin Film Transistor：薄膜電界効果トランジスタ）が形成されている。このＴＦＴは
、走査線５２と信号線５４との間に半導体層５９が配置され、半導体層５９上の信号線部
分がＴＦＴのソース電極Ｓを構成し、半導体層５９の下部の走査線部分がゲート電極Ｇを
構成し、また、半導体層５９の一部分と重なる画素電極５６の部分がドレイン電極Ｄを構
成している。 A TFT as a switching element is located near the intersection of the scanning line 52 and the signal line 54.
(Thin Film Transistor) is formed. In this TFT, the semiconductor layer 59 is disposed between the scanning line 52 and the signal line 54, the signal line portion on the semiconductor layer 59 constitutes the source electrode S of the TFT, and the scanning line portion below the semiconductor layer 59 is A portion of the pixel electrode 56 that constitutes the gate electrode G and overlaps a portion of the semiconductor layer 59 constitutes the drain electrode D.

また、カラーフィルタ基板ＣＦは、第二の透明基板６０の表面にカラーフィルタ層６１
、オーバーコート層６２及び配向膜６３が設けられた構成を有している。そして、アレイ
基板ＡＲの画素電極５６及び対向電極５５とカラーフィルタ基板ＣＦのカラーフィルタ層
６１側とが互いに対向するようにアレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦを対向させ
、その間に液晶ＬＣを封入するとともに、両基板のそれぞれ外側に偏光板６４及び６５を
偏光方向が互いに直交する方向となるように配置することにより、ＩＰＳモードの液晶表
示パネル５０が形成される。 Further, the color filter substrate CF has a color filter layer 61 on the surface of the second transparent substrate 60.
The overcoat layer 62 and the alignment film 63 are provided. Then, the array substrate AR and the color filter substrate CF are opposed so that the pixel electrode 56 and the counter electrode 55 of the array substrate AR and the color filter layer 61 side of the color filter substrate CF are opposed to each other, and the liquid crystal LC is sealed therebetween. At the same time, the IPS mode liquid crystal display panel 50 is formed by disposing the polarizing plates 64 and 65 on the outer sides of both substrates so that the polarization directions thereof are perpendicular to each other.

このＩＰＳモードの液晶表示パネル５０は、図８及び図９に示したように、画素電極５
６と対向電極５５との間に電界を形成すると、水平方向に配向していた液晶が水平方向に
旋回することによりバックライトからの入射光の透過量を制御することができるようにな
る。このＩＰＳモードの液晶表示パネル５０は、広視野角で、高コントラストであるとい
う長所があるが、対向電極５５がコモン配線５３ないし走査線５２と同じ金属材料で形成
されるために開口率及び透過率が低く、又、視角による色変化があるという問題点が存在
する。 As shown in FIGS. 8 and 9, the IPS mode liquid crystal display panel 50 includes pixel electrodes 5.
When an electric field is formed between 6 and the counter electrode 55, the amount of incident light transmitted from the backlight can be controlled by rotating the liquid crystal that has been aligned in the horizontal direction in the horizontal direction. The IPS mode liquid crystal display panel 50 has the advantages of a wide viewing angle and high contrast. However, since the counter electrode 55 is formed of the same metal material as the common wiring 53 or the scanning line 52, the aperture ratio and the transmission rate are improved. There are problems that the rate is low and there is a color change depending on the viewing angle.

このようなＩＰＳモードの液晶表示パネルの低開口率及び低透過率という問題点を解決
するために、ＦＦＳモードの液晶表示パネルが開発されている（下記特許文献３及び４参
照）。このＦＦＳモードの液晶表示パネルの動作原理を図１０〜図１２を用いて説明する
。なお、図１０はＦＦＳモードの液晶表示パネルの１画素分の模式平面図であり、図１１
は図１０のＦ−Ｆ線に沿った断面図であり、また、図１２は図１０のＧ−Ｇ線に沿った断
面図である。 In order to solve the problems of the low aperture ratio and the low transmittance of the IPS mode liquid crystal display panel, an FFS mode liquid crystal display panel has been developed (see Patent Documents 3 and 4 below). The principle of operation of the FFS mode liquid crystal display panel will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a schematic plan view of one pixel of the FFS mode liquid crystal display panel.
FIG. 12 is a sectional view taken along line FF in FIG. 10, and FIG. 12 is a sectional view taken along line GG in FIG.

このＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ａは、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板Ｃ
Ｆとを備えている。アレイ基板ＡＲは、第１の透明基板７１の表面にそれぞれ平行に複数
の走査線７２及びコモン配線７３が設けられ、これら走査線７２及びコモン配線７３に直
交する方向に複数の信号線７４が設けられている。そして、走査線７２及び信号線７４で
区画された領域のそれぞれを覆うようにコモン配線７３に接続されたＩＴＯ（Indium Tin
Oxide）等からなる透明材料で形成された共通電極（「対向電極」ともいわれる）７５が
設けられ、この共通電極７５の表面にゲート絶縁膜７６を介してストライプ状に複数のス
リット７７Ａが形成されたＩＴＯ等の透明材料からなる画素電極７８Ａが設けられている
。そして、この画素電極７８Ａ及び複数のスリット７７Ａの表面は配向膜８０により被覆
されている。 The FFS mode liquid crystal display panel 70A includes an array substrate AR and a color filter substrate C.
F. In the array substrate AR, a plurality of scanning lines 72 and common wirings 73 are provided in parallel on the surface of the first transparent substrate 71, and a plurality of signal lines 74 are provided in a direction orthogonal to the scanning lines 72 and the common wirings 73. It has been. Then, ITO (Indium Tin) connected to the common wiring 73 so as to cover each of the areas partitioned by the scanning lines 72 and the signal lines 74.
A common electrode (also referred to as “counter electrode”) 75 formed of a transparent material made of Oxide or the like is provided, and a plurality of slits 77 </ b> A are formed in a stripe shape on the surface of the common electrode 75 via a gate insulating film 76. A pixel electrode 78A made of a transparent material such as ITO is provided. The surfaces of the pixel electrode 78A and the plurality of slits 77A are covered with an alignment film 80.

そして、走査線７２と信号線７４との交差位置の近傍にはスイッチング素子としてのＴ
ＦＴが形成されている。このＴＦＴは、走査線７２の表面に半導体層８１が配置され、半
導体層８１の表面の一部を覆うように信号線７４の一部が延在されてＴＦＴのソース電極
Ｓを構成し、半導体層８１の下部の走査線部分がゲート電極Ｇを構成し、また、半導体層
８１の一部分と重なる画素電極７８Ａの部分がドレイン電極Ｄを構成している。 In the vicinity of the crossing position of the scanning line 72 and the signal line 74, there is a T as a switching element.
FT is formed. In this TFT, a semiconductor layer 81 is arranged on the surface of the scanning line 72, and a part of the signal line 74 is extended so as to cover a part of the surface of the semiconductor layer 81 to constitute the source electrode S of the TFT. A scanning line portion below the layer 81 constitutes the gate electrode G, and a portion of the pixel electrode 78A that overlaps a part of the semiconductor layer 81 constitutes the drain electrode D.

また、カラーフィルタ基板ＣＦは、第二の透明基板８２の表面にカラーフィルタ層８３
、オーバーコート層８４及び配向膜８５が設けられた構成を有している。そして、アレイ
基板ＡＲの画素電極７８Ａ及び共通電極７５とカラーフィルタ基板ＣＦのカラーフィルタ
層８３とが互いに対向するようにアレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦを対向させ
、その間に液晶ＬＣを封入するとともに、両基板のそれぞれ外側に偏光板８６及び８７を
偏光方向が互いに直交する方向となるように配置することにより、ＦＦＳモードの液晶表
示パネル７０Ａが形成される。 Further, the color filter substrate CF has a color filter layer 83 on the surface of the second transparent substrate 82.
The overcoat layer 84 and the alignment film 85 are provided. The array substrate AR and the color filter substrate CF are opposed so that the pixel electrode 78A and the common electrode 75 of the array substrate AR and the color filter layer 83 of the color filter substrate CF are opposed to each other, and the liquid crystal LC is sealed therebetween. The FFS mode liquid crystal display panel 70A is formed by disposing the polarizing plates 86 and 87 on the outer sides of both the substrates so that the polarization directions are perpendicular to each other.

このＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ａは、画素電極７８Ａと共通電極７５の間に電
界を形成すると、図１１及び図１２に示したように、この電界は画素電極７８Ａの両側で
共通電極７５に向かうため、スリット７７Ａに存在する液晶だけでなく画素電極７８Ａ上
に存在する液晶も動くことができる。そのため、ＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ａは
、ＩＰＳモードの液晶表示パネル５０よりも広視野角かつ高コントラストであり、更に高
透過率であるため明るい表示が可能となるという特徴を備えている。加えて、ＦＦＳモー
ドの液晶表示パネル７０Ａは、ＩＰＳモードの液晶表示パネル５０よりも平面視で画素電
極７８Ａと共通電極７５との重複面積が大きいためにより大きな保持容量が副次的に生じ
、別途補助容量線を設ける必要がなくなるという長所も存在する。 In the FFS mode liquid crystal display panel 70A, when an electric field is formed between the pixel electrode 78A and the common electrode 75, the electric field is directed to the common electrode 75 on both sides of the pixel electrode 78A as shown in FIGS. Therefore, not only the liquid crystal present in the slit 77A but also the liquid crystal present on the pixel electrode 78A can move. Therefore, the FFS mode liquid crystal display panel 70A has a wider viewing angle and higher contrast than the IPS mode liquid crystal display panel 50, and further has a feature that a bright display is possible because of its high transmittance. In addition, the FFS mode liquid crystal display panel 70 </ b> A has a larger overlapping area between the pixel electrode 78 </ b> A and the common electrode 75 in plan view than the IPS mode liquid crystal display panel 50, so that a larger storage capacity is generated as a secondary effect. There is also an advantage that it is not necessary to provide an auxiliary capacity line.

なお、ＦＦＳモードの液晶表示パネルにおいては、ＩＰＳモードの液晶表示パネルの場
合と同様に、表示特性上、ラビング方向は信号線と直交するのがよく、また画素電極とラ
ビング方向とは微小角度の傾きを設けた方がよいことから、図１３に示したＦＦＳモード
の液晶表示パネル７０Ｂのように画素電極７８Ｂに設けるストライプ状のスリット７７Ｂ
を走査線７２ないしコモン配線７３に対して傾いた構造とすることが行われており、同じ
く、視角によって色変化が認められなくなるようにするため、図１４に示したＦＦＳモー
ドの液晶表示パネル７０Ｃのように、画素電極７８Ｃに設けるストライプ状のスリット７
７Ｃを「く」字状となるように配置してデュアルドメイン化することも行われている。ま
た、図１５に示したＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ｄのように、信号線７２に対向す
る部分に設けられるカラーフィルタ基板のブラックマトリクスが直線状とならないように
し、ブラックマトリクスが目立たない画像表示に適したものとするために、信号線７２を
走査線７４と直交する方向にクランク状に設けて複数の共通電極及び画素電極７８Ｄをデ
ルタ配置とすることも行われている。 In the FFS mode liquid crystal display panel, as in the case of the IPS mode liquid crystal display panel, the rubbing direction is preferably orthogonal to the signal line in terms of display characteristics, and the pixel electrode and the rubbing direction have a minute angle. Since it is better to provide an inclination, a stripe-shaped slit 77B provided in the pixel electrode 78B as in the FFS mode liquid crystal display panel 70B shown in FIG.
Is configured to be inclined with respect to the scanning line 72 or the common wiring 73. Similarly, in order to prevent color change depending on the viewing angle, the FFS mode liquid crystal display panel 70C shown in FIG. As shown, the stripe-shaped slit 7 provided in the pixel electrode 78C.
7C is arranged in a “<” shape to form a dual domain. Further, as in the FFS mode liquid crystal display panel 70D shown in FIG. 15, the black matrix of the color filter substrate provided in the portion facing the signal line 72 is prevented from being linear, so that the black matrix is not conspicuous. In order to make it suitable, signal lines 72 are provided in a crank shape in a direction orthogonal to the scanning lines 74, and a plurality of common electrodes and pixel electrodes 78D are arranged in a delta arrangement.

なお、図１３及び図１４に示したＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ｂ及び７０Ｃは図
１０に示したＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ａとは画素電極７８Ｂ及び７８Ｃに設け
るスリット７７Ｂ及び７７Ｃの傾きが相違するのみであり、更に、図１５に示したＦＦＳ
モードの液晶表示パネル７０Ｄは、図１０に示したＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ａ
とは画素電極７８Ｄに設けるスリット７７Ｄの傾き及び複数の共通電極及び画素電極７８
Ｄをデルタ配置とした点が相違するのみであるので、図１０に示したＦＦＳモードの液晶
表示パネル７０Ａと同一の構成部分については同一の参照符号を付与してその詳細な説明
は省略する。 The FFS mode liquid crystal display panels 70B and 70C shown in FIGS. 13 and 14 are different from the FFS mode liquid crystal display panel 70A shown in FIG. 10 in the inclination of the slits 77B and 77C provided in the pixel electrodes 78B and 78C. Furthermore, the FFS shown in FIG.
The mode liquid crystal display panel 70D is the FFS mode liquid crystal display panel 70A shown in FIG.
And the inclination of the slit 77D provided in the pixel electrode 78D and the plurality of common electrodes and the pixel electrode 78.
Since the only difference is that D is a delta arrangement, the same components as those in the FFS mode liquid crystal display panel 70A shown in FIG. 10 are given the same reference numerals, and detailed descriptions thereof are omitted.

なお、図７に示したＩＰＳモードの液晶表示パネル５０においても、上述したＦＦＳモ
ードの液晶表示パネル７０Ｂ、７０Ｃと同様、図１６に示すＩＰＳモードの液晶表示パネ
ル５０Ｂのように、配向膜のラビング方向を信号線５４と直交させ、画素電極５５Ｂ及び
対向電極５６Ｂとラビング方向とに微小角度の傾きを設けるようにすると、表示品質が向
上し、図１７に示すＩＰＳモードの液晶表示パネル５０Ｃのように、画素電極５５Ｃ及び
対向電極５６Ｃをその延在方向の左右で異なる方向に傾けて配置することでデュアルドメ
イン化することで、視角によって色変化が認められなくなるようにすることもできる。ま
た、ここでは図示を省略するが、このようなＩＰＳモードの液晶表示パネル５０、５０Ｂ
、５０Ｃを図１５で示すＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ｄのように複数の画素電極５
５、５５Ａ、５５Ｂ及び対向電極５６、５６Ａ、５６Ｂをデルタ配置にしてブラックマト
リクスが目立たない画素表示とすることも可能である。なお、図１６及び図１７に示すＩ
ＰＳモードの液晶表示パネル５０Ｂ、５０Ｃは、図７に示すＩＰＳモードの液晶表示パネ
ル５０と画素電極５５Ｂ、５５Ｃ及び対向電極５６Ｂ、５６Ｃの傾きが相違するのみであ
るので、図７に示したＩＰＳモードの液晶表示パネル５０と同一の構成部分については同
一の参照符号を付してその詳細な説明は省略する。
特開平１０−３１９３７１号公報（段落［０００５］、［００５３］、［００６５］〜［００７７］、図２、図５、図６）特開２００２−１３１７６７号公報（特許請求の範囲、段落［０００６］〜［０００９］、［００１８］〜［００７７］、図１、図３）特開２００２− １４３６３号公報（特許請求の範囲、段落［０００２］〜［００１０］、［００１９］〜［００２６］、図１、図２）特開２００２−２４４１５８号公報（特許請求の範囲、段落［０００２］〜［００１３］、［００２３］〜［００３２］、図１〜図４） In the IPS mode liquid crystal display panel 50 shown in FIG. 7, the alignment film is rubbed as in the IPS mode liquid crystal display panel 50B shown in FIG. 16, similarly to the FFS mode liquid crystal display panels 70B and 70C. When the direction is orthogonal to the signal line 54 and the pixel electrode 55B and the counter electrode 56B are provided with a slight inclination in the rubbing direction, the display quality is improved, as in the IPS mode liquid crystal display panel 50C shown in FIG. In addition, the pixel electrode 55C and the counter electrode 56C are arranged to be tilted in different directions on the left and right sides of the extending direction, thereby forming a dual domain so that the color change is not recognized depending on the viewing angle. Although not shown here, the IPS mode liquid crystal display panels 50 and 50B are omitted.
, 50C, like the FFS mode liquid crystal display panel 70D shown in FIG.
5, 55A, 55B and the counter electrodes 56, 56A, 56B may be arranged in a delta arrangement so that the black matrix does not stand out. It should be noted that I shown in FIGS.
The PS mode liquid crystal display panels 50B and 50C differ from the IPS mode liquid crystal display panel 50 shown in FIG. 7 only in the inclination of the pixel electrodes 55B and 55C and the counter electrodes 56B and 56C. The same components as those of the mode liquid crystal display panel 50 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
JP-A-10-319371 (paragraphs [0005], [0053], [0065] to [0077], FIG. 2, FIG. 5, FIG. 6) JP 2002-131767 (Claims, paragraphs [0006] to [0009], [0018] to [0077], FIGS. 1 and 3) JP 2002-14363 A (claims, paragraphs [0002] to [0010], [0019] to [0026], FIGS. 1 and 2) JP 2002-244158 (Claims, paragraphs [0002] to [0013], [0023] to [0032], FIGS. 1 to 4)

上述のように、ＦＦＳモードの液晶表示パネルは、ＩＰＳモードの液晶表示パネルより
も広視野角かつ高コントラストであるとともに、高透過率であるであるため明るい表示が
可能となり、更に低電圧駆動ができるとともにより大きな保持容量が副次的に生じるため
に別途補助容量線を設けなくても表示画質が良好となるという特徴を備えている。 As described above, the FFS mode liquid crystal display panel has a wider viewing angle and higher contrast than the IPS mode liquid crystal display panel, and also has a high transmittance, so that a bright display is possible, and further low voltage driving is possible. In addition, since a larger storage capacity is generated as a secondary effect, the display image quality is improved without providing a separate auxiliary capacity line.

ところで、液晶表示パネルは長時間使用すると焼き付き現象が生じることが知られてお
り、係る点はＩＰＳモードの液晶表示パネルの場合においてもＦＦＳモードの液晶表示パ
ネルの場合においても同様である。しかしながら、上述のような従来のＦＦＳモードの液
晶表示パネルにおいては、この焼き付き現象が従来のＩＰＳモードの液晶表示パネルに比
すると大きく表れることが見出された。発明者等は、このＦＦＳモードの液晶表示パネル
において焼き付き現象がＩＰＳモードの液晶表示パネルの場合よりも大きく表れる原因に
ついて種々検討を重ねた結果、走査線に印加される大きな電圧信号に基づいて発生する電
界はその近傍の液晶の配向に影響を及ぼすが、画素電極から液晶へ向かう電気力線の経路
と液晶から走査線へ向かう電気力線の経路が、ＩＰＳモードの液晶表示パネルの場合は対
称であるのに対し、ＦＦＳモードの液晶表示パネルの場合は非対称であることがその一因
であると推定された。 By the way, it is known that the liquid crystal display panel causes a burn-in phenomenon when used for a long time, and this is the same in the case of the IPS mode liquid crystal display panel and the case of the FFS mode liquid crystal display panel. However, it has been found that, in the conventional FFS mode liquid crystal display panel as described above, this image sticking phenomenon appears greatly as compared with the conventional IPS mode liquid crystal display panel. The inventors have conducted various studies on the cause of the burn-in phenomenon appearing larger in the FFS mode liquid crystal display panel than in the case of the IPS mode liquid crystal display panel. As a result, the inventor has generated it based on a large voltage signal applied to the scanning line. The electric field that is applied affects the alignment of the liquid crystal in the vicinity, but the path of electric lines of force from the pixel electrode to the liquid crystal and the path of electric lines of force from the liquid crystal to the scanning line are symmetrical in the case of an IPS mode liquid crystal display panel. On the other hand, in the case of the FFS mode liquid crystal display panel, it was estimated that one of the causes is the asymmetry.

すなわち、ＩＰＳモード及びＦＦＳモードの液晶表示パネルにおいては、走査線配線に
印加される電圧は所定の画素の非選択状態においては約−１０Ｖであり、選択状態におい
ては約＋１５Ｖであって、所定の画素が選択される時間は非常に短いために、約−１０Ｖ
の直流電圧が長時間に亘って印加される。しかしながら、ＩＰＳモードの液晶表示パネル
の場合、図９の記載から明らかなように、画素電極５６から走査線５２に向かう電気力線
Ｅ１は、画素電極５６、保護絶縁膜５７及び配向膜５８を経て液晶層ＬＣに入り、液晶層
ＬＣから配向膜５８、保護絶縁膜５７を経て走査線５２に至るため、画素電極５６から液
晶層ＬＣへ至るまでの電気力線の経路と液晶層ＬＣから走査線５２へ至るまでの電気力線
の経路とは対称となっている。 That is, in the liquid crystal display panel of the IPS mode and the FFS mode, the voltage applied to the scanning line wiring is about −10 V in a non-selected state of a predetermined pixel and about +15 V in a selected state, Since the time for which a pixel is selected is very short, it is about -10V.
The direct current voltage is applied for a long time. However, in the case of an IPS mode liquid crystal display panel, as is apparent from the description of FIG. 9, the electric force lines E1 from the pixel electrode 56 to the scanning line 52 pass through the pixel electrode 56, the protective insulating film 57, and the alignment film 58. Since it enters the liquid crystal layer LC, passes from the liquid crystal layer LC to the scanning line 52 through the alignment film 58 and the protective insulating film 57, the path of electric lines of force from the pixel electrode 56 to the liquid crystal layer LC and the scanning line from the liquid crystal layer LC It is symmetric with respect to the path of the electric lines of force up to 52.

これに対し、ＦＦＳモードの液晶表示パネルの場合、図１２の記載から明らかなように
、画素電極７８Ａから走査線７２に向かう電気力線Ｅ２は、画素電極７８Ａから配向膜８
０を経て液晶層ＬＣに入り、液晶層ＬＣから配向膜８０及びゲート絶縁膜７６を経て走査
線７２に至るため、画素電極７８Ａから液晶層ＬＣへ至るまでの電気力線の経路と液晶層
ＬＣから走査線７２へ至るまでの電気力線の経路とは非対称となっている。そのため、Ｆ
ＦＳモードの液晶表示パネルは、ＩＰＳモードの液晶表示パネルの場合よりも画素電極な
いしその表面の配向膜は走査線７２に印加される信号に起因する直流電界によって不可逆
的影響を受けやすくなり、これがＩＰＳモードの液晶表示パネルよりも焼き付き現象が大
きく表れる原因となっているものと推定される。 On the other hand, in the case of the FFS mode liquid crystal display panel, as apparent from the description of FIG. 12, the electric force line E2 from the pixel electrode 78A to the scanning line 72 is transferred from the pixel electrode 78A to the alignment film 8.
0 enters the liquid crystal layer LC, passes from the liquid crystal layer LC to the scanning line 72 via the alignment film 80 and the gate insulating film 76, and therefore the path of electric lines of force from the pixel electrode 78A to the liquid crystal layer LC and the liquid crystal layer LC. To the scanning line 72 is asymmetric with respect to the path of the lines of electric force. Therefore, F
In the FS mode liquid crystal display panel, the pixel electrode or the alignment film on the surface thereof is more easily irreversibly affected by the DC electric field caused by the signal applied to the scanning line 72 than in the case of the IPS mode liquid crystal display panel. It is estimated that the image sticking phenomenon appears to be larger than the IPS mode liquid crystal display panel.

本発明者等は、このようなＦＦＳモードの液晶表示パネルの焼き付きの問題点を低減す
べく種々検討を重ねた結果、画素電極から液晶層へ至るまでの電気力線の経路と液晶層か
ら走査線へ至るまでの電気力線の経路を対称とすることはＦＦＳモードの液晶表示パネル
の動作原理からして困難であるが、走査線に印加される高電圧の信号に基づく直流電界が
その近傍の液晶に印加されないようにすることによりＦＦＳモードの液晶表示パネルの焼
き付き現象を低減させることができるだけでなく、ＩＰＳモードの液晶表示パネルにおい
ても焼き付きを低減させることができることを見出し、本発明を完成するに至ったのであ
る。 As a result of various investigations to reduce the problem of burn-in of the FFS mode liquid crystal display panel, the present inventors have conducted scanning from the liquid crystal layer and the path of electric lines of force from the pixel electrode to the liquid crystal layer. Although it is difficult to make the path of the electric lines of force leading to the line symmetrical due to the operation principle of the liquid crystal display panel in the FFS mode, a DC electric field based on a high voltage signal applied to the scanning line is in the vicinity. As a result, the image sticking phenomenon of the FFS mode liquid crystal display panel can be reduced not to be applied to the liquid crystal of the IPS mode, and the image sticking can be reduced also in the liquid crystal display panel of the IPS mode. It came to do.

なお、上記特許文献２には、ＩＰＳモードの液晶表示パネルにおいて、信号線（ドレイ
ン信号線）あるいは走査線（ゲート信号線）とそれに隣接して配置される電極との間に生
じてしまう電界によって液晶が駆動されることによる光漏れを防止する目的で、信号線あ
るいは走査線のうちの少なくとも一方の上に部分的に重畳された導電層を設けた例が開示
されており、しかも、ＦＦＳモードの液晶表示パネルについて部分的に示唆する記載もあ
る（段落［０００３］〜［０００４］参照）が、ＦＦＳモードの液晶表示パネルの具体例
は何も示されていないばかりか、ＩＰＳモードの液晶表示パネル及びＦＦＳモードの液晶
表示パネルにおける焼き付きの問題点を示唆する記載はない。 In Patent Document 2, in an IPS mode liquid crystal display panel, an electric field generated between a signal line (drain signal line) or a scanning line (gate signal line) and an electrode disposed adjacent thereto is used. An example in which a conductive layer partially overlapped on at least one of a signal line and a scanning line is provided for the purpose of preventing light leakage due to driving of liquid crystal is disclosed, and an FFS mode is disclosed. There is also a description partially suggesting about the liquid crystal display panel (see paragraphs [0003] to [0004]), but no specific example of the FFS mode liquid crystal display panel is shown, and the IPS mode liquid crystal display There is no description suggesting a problem of image sticking in the panel and the FFS mode liquid crystal display panel.

すなわち、本発明は、走査線に印加される電圧に起因する焼き付き防止手段を備えた横
電界方式、つまりＩＰＳモードないしＦＦＳモードの液晶表示パネルを提供することを目
的とする。 That is, an object of the present invention is to provide a horizontal electric field type, that is, an IPS mode or FFS mode liquid crystal display panel, which is provided with a means for preventing burn-in caused by a voltage applied to a scanning line.

上記目的を達成するため、本発明の横電界方式の液晶表示パネルは、平行に設けられた複数の走査線及びコモン配線と、前記走査線と直交する方向に設けられた複数の信号線と、複数の前記走査線及び信号線で区画された領域に形成された透明導電性材料からなる共通電極及び画素電極と、を有するＦＦＳ方式の液晶表示パネルにおいて、前記走査線上の絶縁膜の表面には透明導電性材料からなるシールド電極が形成されており、前記シールド電極は前記共通電極に電気的に接続されるとともに、前記画素電極の前記シールド電極側の一部には切り欠き部が設けられ、前記シールド電極は前記切り欠き部の絶縁膜上にまで延在され、前記切り欠き部に設けられたコンタクトホールを介して前記共通電極と電気的に接続されていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, a horizontal electric field type liquid crystal display panel according to the present invention includes a plurality of scanning lines and a common wiring provided in parallel, a plurality of signal lines provided in a direction orthogonal to the scanning lines, In an FFS mode liquid crystal display panel having a common electrode and a pixel electrode made of a transparent conductive material formed in a region partitioned by a plurality of the scanning lines and signal lines, the surface of the insulating film on the scanning lines is formed on the surface of the insulating film on the scanning lines. A shield electrode made of a transparent conductive material is formed, the shield electrode is electrically connected to the common electrode, and a cutout portion is provided on a part of the pixel electrode on the shield electrode side, the shield electrode extends to over the insulating film of the notch, and characterized in that it is connected to the common electrode and electrically via a contact hole provided in the notch That.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記シールド電極は前記
信号線に電気的に接続されていることを特徴とする。 In the horizontal electric field liquid crystal display panel according to the present invention, the shield electrode is electrically connected to the signal line.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記シールド電極は、前
記走査線上の絶縁膜の表面を前記走査線及び信号線の交差位置まで延在され、前記交差位
置に設けられたコンタクトホールを介して前記信号線と電気的に接続されていることを特
徴とする。 In the horizontal electric field type liquid crystal display panel according to the present invention, the shield electrode extends from the surface of the insulating film on the scanning line to the intersection of the scanning line and the signal line, and is provided at the intersection. The signal line is electrically connected through a contact hole.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記シールド電極は前記
画素電極と同じ材料で形成されていることを特徴とする。 In the horizontal electric field liquid crystal display panel according to the present invention, the shield electrode is formed of the same material as the pixel electrode.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記共通電極は前記走査
線及び信号線で区画された領域内に櫛歯状に形成され、前記画素電極は前記櫛歯状に形成
された共通電極の周囲を挟むように同じく櫛歯状に形成されていることを特徴とする。 According to the present invention, in the horizontal electric field type liquid crystal display panel, the common electrode is formed in a comb shape in a region partitioned by the scanning lines and the signal lines, and the pixel electrode is formed in the comb shape. It is also formed in a comb-like shape so as to sandwich the periphery of the common electrode.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記共通電極は前記走査
線及び信号線で区画された領域を覆うように形成され、前記画素電極は前記共通電極上に
絶縁膜を介して形成されるとともに互いに平行な複数のスリットが設けられていることを
特徴とする。 In the horizontal electric field type liquid crystal display panel according to the present invention, the common electrode is formed so as to cover a region partitioned by the scanning line and the signal line, and the pixel electrode has an insulating film on the common electrode. And a plurality of slits formed in parallel to each other.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記櫛歯状の共通電極及
び画素電極あるいは前記複数のスリットは、前記走査線又は信号線に対して傾いた方向に
設けられていることを特徴とする。 According to the present invention, in the horizontal electric field type liquid crystal display panel, the comb-shaped common electrode and pixel electrode or the plurality of slits are provided in a direction inclined with respect to the scanning line or the signal line. It is characterized by that.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記櫛歯状の共通電極及
び画素電極は、前記走査線及び信号線で区画された領域内の前記共通電極及び画素電極の
延在方向の左右で互いに異なる方向に傾けて設けられていることを特徴とする。 In the horizontal electric field type liquid crystal display panel according to the present invention, the comb-like common electrode and the pixel electrode may extend from the common electrode and the pixel electrode in a region defined by the scanning line and the signal line. Inclined in different directions on the left and right of the direction.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記コモン配線は前記複
数の走査線間に設けられ、前記複数のスリットは前記コモン配線の両側で互いに異なる方
向に傾けて設けられていることを特徴とする。 In the horizontal electric field type liquid crystal display panel according to the present invention, the common wiring is provided between the plurality of scanning lines, and the plurality of slits are inclined at different directions on both sides of the common wiring. It is characterized by being.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記コモン配線の両側に
設けられたスリットの数はそれぞれの側で同一であることを特徴とする。 In the horizontal electric field type liquid crystal display panel according to the present invention, the number of slits provided on both sides of the common wiring is the same on each side.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記コモン配線に最も近
接する両側のスリットの端部は前記コモン配線上で結合されていることを特徴とする。 In the horizontal electric field type liquid crystal display panel, the present invention is characterized in that the ends of the slits on both sides closest to the common line are coupled on the common line.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記走査線上には前記信
号線との交差位置の近傍にスイッチング素子としてのＴＦＴが設けられ、前記シールド電
極はＴＦＴの表面を除いた前記走査線上に設けられていることを特徴とする。 In the horizontal electric field type liquid crystal display panel according to the present invention, a TFT as a switching element is provided on the scanning line in the vicinity of the intersection with the signal line, and the shield electrode excludes the surface of the TFT. It is provided on the scanning line.

また、本発明は、上記横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記信号線は、前記走査
線と直交する方向にクランク状に設けられており、前記複数の共通電極及び画素電極はデ
ルタ配置されていることを特徴とする。 In the horizontal electric field liquid crystal display panel according to the present invention, the signal lines are provided in a crank shape in a direction perpendicular to the scanning lines, and the plurality of common electrodes and pixel electrodes are arranged in a delta arrangement. It is characterized by being.

本発明は、上記のような構成を備えることにより、以下に述べるような優れた効果を奏
する。すなわち、本発明の横電界方式の液晶表示パネルによれば、走査線上の絶縁膜の表
面には導電性材料からなるシールド電極が形成されているため、走査線に印加される高電
圧の信号はシールド電極によって遮られるため、シールド電極の上部に位置する液晶に印
加される走査線からの直流成分は小さくなり、走査線に印加される高電圧の信号に基づく
横電界方式の液晶表示パネルの焼き付き現象は大幅に低減する。なお、シールド電極は走
査線全体を被覆しても走査線の一部を被覆してもよい。更に、シールド電極は電気的にど
こにも接続せずにフローティング状態としてもよい。 By providing the above configuration, the present invention has the following excellent effects. That is, according to the horizontal electric field type liquid crystal display panel of the present invention, since the shield electrode made of a conductive material is formed on the surface of the insulating film on the scanning line, the high voltage signal applied to the scanning line is Since it is blocked by the shield electrode, the DC component from the scanning line applied to the liquid crystal located above the shield electrode is reduced, and the horizontal electric field type liquid crystal display panel is burned in based on the high voltage signal applied to the scanning line. The phenomenon is greatly reduced. The shield electrode may cover the entire scanning line or a part of the scanning line. Further, the shield electrode may be in a floating state without being electrically connected anywhere.

また、シールド電極をフローティング状態とするとシールド電極の電位が不安定化する
可能性があるが、本発明によれば、シールド電極を共通電極に電気的に接続したため、シ
ールド電極の電位が安定化するので、走査線に印加される高電圧の信号に基づく横電界方
式の液晶表示パネルの焼き付き現象はさらに大幅に低減する。 In addition, when the shield electrode is in a floating state, the potential of the shield electrode may become unstable. However, according to the present invention, since the shield electrode is electrically connected to the common electrode, the potential of the shield electrode is stabilized. Therefore, the image sticking phenomenon of the horizontal electric field type liquid crystal display panel based on the high voltage signal applied to the scanning line is further greatly reduced.

また、本発明によれば、シールド電極を共通電極に電気的に接続する際に、画素電極の
一部に設けられた切り欠き部の絶縁膜上にまでシールド電極を延在してコンタクトホール
を介して共通電極と電気的接続をとるようにしたため、簡単な構成でシールド電極と共通
電極とを電気的に接続することができるようになる。加えて、画素電極とシールド電極と
の間の隙間部分にも電界が発生して液晶分子の配向が規制されるので、実質的に横電界方
式の液晶表示パネルの開口度が向上したのと同等となり、明るい表示の横電界方式の液晶
表示パネルが得られる。 In addition, according to the present invention, when the shield electrode is electrically connected to the common electrode, the shield electrode is extended to the insulating film of the notch provided in a part of the pixel electrode to form the contact hole. Thus, the shield electrode and the common electrode can be electrically connected with a simple configuration. In addition, an electric field is also generated in the gap between the pixel electrode and the shield electrode, and the orientation of the liquid crystal molecules is restricted, which is substantially equivalent to the improvement in the aperture of the horizontal electric field type liquid crystal display panel. Thus, a bright display lateral electric field liquid crystal display panel is obtained.

また、本発明によれば、シールド電極を画素電極と同じ材料で形成したため、画素電極
の形成時に同時にシールド電極を形成することができ、特にシールド電極の形成のために
工数を増やす必要がなくなる。 According to the present invention, since the shield electrode is formed of the same material as the pixel electrode, the shield electrode can be formed at the same time as the pixel electrode is formed, and it is not necessary to increase the number of man-hours particularly for forming the shield electrode.

また、本発明によれば、シールド電極を信号線に電気的に接続したため、シールド電極
の電位は信号線に印加される信号によって変化するが、信号線に印加される信号には直流
成分は少なく、しかも、走査線に印加される高電圧の信号はシールド電極によって遮られ
るため、シールド電極の上部に位置する液晶に印加される走査線からの直流電界は実質的
になくなり、走査線に印加される高電圧の信号に基づく横電界方式の液晶表示パネルの焼
き付き現象は大幅に低減する。 Further, according to the present invention, since the shield electrode is electrically connected to the signal line, the potential of the shield electrode varies depending on the signal applied to the signal line, but the signal applied to the signal line has a small DC component. In addition, since the high voltage signal applied to the scanning line is blocked by the shield electrode, the DC electric field from the scanning line applied to the liquid crystal located above the shield electrode is substantially eliminated and applied to the scanning line. The image sticking phenomenon of the horizontal electric field type liquid crystal display panel based on the high voltage signal is greatly reduced.

また、本発明によれば、シールド電極を信号線に電気的に接続する際に、シールド電極
を走査線と信号線との交差位置まで延在してコンタクトホールを介して信号線と電気的接
続をとるようにしたため、簡単な構成でシールド電極と信号線とを電気的に接続すること
ができるようになる。 According to the present invention, when the shield electrode is electrically connected to the signal line, the shield electrode extends to the intersection of the scanning line and the signal line and is electrically connected to the signal line through the contact hole. Thus, the shield electrode and the signal line can be electrically connected with a simple configuration.

また、本発明によれば、共通電極と画素電極を互いの周囲を囲むように配設した櫛歯状
としたＩＰＳモードの液晶表示パネルであっても、共通電極を走査線及び信号線で区画し
た領域に形成し、複数のスリットを有する画素電極をこの共通電極上に絶縁膜を介して形
成したＦＦＳモードの液晶表示パネルであっても前記の本発明の効果を良好に奏すること
ができる。 According to the present invention, even in an IPS mode liquid crystal display panel having a comb-teeth shape in which a common electrode and a pixel electrode are disposed so as to surround each other, the common electrode is partitioned by the scanning line and the signal line. Even in the case of an FFS mode liquid crystal display panel in which pixel electrodes having a plurality of slits are formed on the common electrode via an insulating film, the effects of the present invention can be achieved satisfactorily.

また、本発明によれば、ＩＰＳモードの液晶表示パネルにおける櫛歯状の共通電極及び
画素電極、あるいはＦＦＳモードの液晶表示パネルにおけるスリットを走査線又は信号線
に対して傾いた方向に設けたため、画素電極と配向膜のラビング方向との間に微小角度の
傾きを形成することができるから、前記の本発明の効果を奏しながらもコントラスト等の
表示特性が良好な横電界方式、つまりＩＰＳモードないしＦＦＳモードの液晶表示パネル
が得られる。 Further, according to the present invention, the comb-like common electrode and the pixel electrode in the IPS mode liquid crystal display panel or the slit in the FFS mode liquid crystal display panel is provided in a direction inclined with respect to the scanning line or the signal line. Since a slight angle inclination can be formed between the pixel electrode and the rubbing direction of the alignment film, a lateral electric field method having excellent display characteristics such as contrast while exhibiting the effect of the present invention, that is, an IPS mode or An FFS mode liquid crystal display panel is obtained.

また、本発明によれば、ＩＰＳモードの液晶表示パネルにおける共通電極及び画素電極
が走査線及び信号線で区画された領域の左右で異なる方向に傾けてデュアルドメイン化し
たため、視角によって色変化が認められなくなるので、前記の本発明の効果を奏しながら
も表示特性が良好なＩＰＳモードの液晶表示パネルが得られる。 In addition, according to the present invention, since the common electrode and the pixel electrode in the IPS mode liquid crystal display panel are tilted in different directions on the left and right sides of the area defined by the scanning lines and the signal lines, the color change is recognized depending on the viewing angle. Therefore, an IPS mode liquid crystal display panel with good display characteristics can be obtained while exhibiting the effects of the present invention.

また、本発明によれば、コモン配線を複数の走査線間に設けるとともに、ＦＦＳモード
の液晶表示パネルの複数のスリットをコモン配線の両側で互いに異なる方向に傾けてデュ
アルドメイン化したため、視角によって色変化が認められなくなるので、前記の本発明の
効果を奏しながらも表示特性が良好なＦＦＳモードの液晶表示パネルが得られる。 Further, according to the present invention, the common wiring is provided between the plurality of scanning lines, and the plurality of slits of the FFS mode liquid crystal display panel are tilted in different directions on both sides of the common wiring to form a dual domain. Since no change is recognized, an FFS mode liquid crystal display panel having good display characteristics while exhibiting the effects of the present invention can be obtained.

また、コモン配線は通常は走査線と同材質の導電性材料から作製されるために不透明で
あるが、本発明によれば、最もコモン配線に近接する両側のスリットの端部をコモン配線
上で結合したため、このコモン配線によって互いに異なる方向に傾いたスリット同志が隣
り合う位置で発生するディスクリネーション部分を遮光することができるから、前記の本
発明の効果を奏しながらも表示特性が良好なＦＦＳモードの液晶表示パネルが得られる。 In addition, the common wiring is usually opaque because it is made of the same conductive material as the scanning line. However, according to the present invention, the ends of the slits on both sides closest to the common wiring are arranged on the common wiring. Because of the coupling, the common wiring can block the disclination portion where the slits inclined in different directions are adjacent to each other, so that the FFS with good display characteristics while exhibiting the effect of the present invention. A mode liquid crystal display panel is obtained.

また、本発明によれば、走査線上に信号線との交差位置の近傍にスイッチング素子とし
てのＴＦＴを設けたため、その分だけ画素電極を大きくすることができ、加えてシールド
電極をＴＦＴの表面を除いた走査線上に設けたため、ＴＦＴの動作がシールド電極の電位
に影響を受けることがなくなるため、前記の本発明の効果を奏しながらも安定した表示特
性を示す横電界方式の液晶表示パネルが得られる。 Further, according to the present invention, since the TFT as the switching element is provided on the scanning line in the vicinity of the intersection with the signal line, the pixel electrode can be enlarged correspondingly, and in addition, the shield electrode is placed on the surface of the TFT. Since the TFT operation is not affected by the potential of the shield electrode because it is provided on the excluded scanning line, a horizontal electric field type liquid crystal display panel that exhibits stable display characteristics while exhibiting the effects of the present invention can be obtained. It is done.

また、本発明によれば、信号線を走査線と直交する方向にクランク状に設けて複数の共
通電極及び画素電極をデルタ配置（トライアングル配置ということもある）としたため、
信号線に対向する部分に設けられるブラックマトリクスが直線状とならないために目立た
ず、前記の本発明の効果を奏しながらも画像表示に適した横電界方式の液晶表示パネルが
得られる。 Further, according to the present invention, the signal lines are provided in a crank shape in the direction orthogonal to the scanning lines, and the plurality of common electrodes and pixel electrodes are arranged in a delta arrangement (sometimes referred to as a triangle arrangement).
Since the black matrix provided in the portion facing the signal line is not linear, it is not conspicuous, and a horizontal electric field type liquid crystal display panel suitable for image display can be obtained while exhibiting the effects of the present invention.

以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための横電界方式の液晶表示パネルとしてＦＦＳモー
ドの液晶表示パネルを例示するものであって、本発明をこのＦＦＳモードの液晶表示パネ
ルに特定することを意図するものではなく、ＩＰＳモードの液晶表示パネル等特許請求の
範囲に含まれるその他の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。 Hereinafter, the best embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the embodiment described below exemplifies an FFS mode liquid crystal display panel as a horizontal electric field type liquid crystal display panel for embodying the technical idea of the present invention. It is not intended to be specified as a display panel, and can be equally applied to other embodiments included in the scope of claims such as an IPS mode liquid crystal display panel.

実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ａを製造工程順に図１及び図２を用いて
説明する。なお、図１は実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板
を透視して表した２画素分の概略平面図であり、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った断面図で
ある。 An FFS mode liquid crystal display panel 10A according to the first embodiment will be described in the order of manufacturing steps with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic plan view of two pixels as seen through the color filter substrate of the FFS mode liquid crystal display panel of Example 1, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. It is.

この実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ａのアレイ基板ＡＲは、ガラス基板
等の透明基板１１の表面全体に亘って下部がＡｌ金属からなり表面がＭｏ金属からなる２
層膜を形成した後、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によってＭｏ／Ａｌの２層
配線からなる複数の走査線１２及び複数のコモン配線１３を互いに平行になるように形成
されている。アルミニウムは抵抗値が小さいという長所を持っているが、その反面、腐食
しやすい、ＩＴＯとの接触抵抗が高いなどの欠点があるため、アルミニウムをモリブデン
で覆った多層構造にすることでそうした欠点を改善できる。なお、ここではコモン配線１
３を走査線に沿って設けた例を示したが、隣り合う走査線１２の中間に設けてもよい。 The array substrate AR of the FFS mode liquid crystal display panel 10A of Example 1 has a lower portion made of Al metal and a surface made of Mo metal over the entire surface of the transparent substrate 11 such as a glass substrate.
After the layer film is formed, a plurality of scanning lines 12 and a plurality of common wirings 13 made of Mo / Al two-layer wirings are formed in parallel with each other by photolithography and etching. Aluminum has the advantage of low resistance, but on the other hand, it has the disadvantages of being easily corroded and having high contact resistance with ITO. Can improve. Here, common wiring 1
Although the example in which 3 is provided along the scanning line is shown, it may be provided in the middle of the adjacent scanning line 12.

次いで、走査線１２及びコモン配線１３を形成した透明基板１１の表面全体に亘って例
えばＩＴＯからなる透明導電性層を被覆し、同じくフォトリソグラフィー法及びエッチン
グ法によって共通電極１４を形成する。この共通電極１４はコモン配線１３とは電気的に
接続されているが、走査線１２ないしゲート電極Ｇとは接続されていない。更に、この表
面全体に窒化硅素層ないしは酸化硅素層からなるゲート絶縁膜１５を被覆し、次いで、Ｃ
ＶＤ法によりたとえばアモルファス・シリコン（以下「ａ−Ｓｉ」という。）層をゲート
絶縁膜１５の表面全体に亘って被覆した後に、同じくフォトリソグラフィー法及びエッチ
ング法によって、ＴＦＴ形成領域にａ−Ｓｉ層からなる半導体層１６を形成する。この半
導体層１６が形成されている位置の走査線１２の領域がＴＦＴのゲート電極Ｇを形成する
。 Next, a transparent conductive layer made of, for example, ITO is covered over the entire surface of the transparent substrate 11 on which the scanning lines 12 and the common wirings 13 are formed, and the common electrode 14 is similarly formed by a photolithography method and an etching method. The common electrode 14 is electrically connected to the common wiring 13, but is not connected to the scanning line 12 or the gate electrode G. Further, the entire surface is covered with a gate insulating film 15 made of a silicon nitride layer or a silicon oxide layer, and then C
For example, an amorphous silicon (hereinafter referred to as “a-Si”) layer is coated over the entire surface of the gate insulating film 15 by the VD method, and then the a-Si layer is formed in the TFT formation region by the photolithography method and the etching method. A semiconductor layer 16 made of is formed. The region of the scanning line 12 at the position where the semiconductor layer 16 is formed forms the gate electrode G of the TFT.

次いで、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層構造の導電性層を半導体層１６を形成した透明基板１
１の表面全体に亘って被覆し、同じくフォトリソグラフィー法及びエッチング法によって
、信号線１７及びドレイン電極Ｄを形成する。この信号線１７のソース電極Ｓ部分及びド
レイン電極Ｄ部分は、いずれも半導体層１６の表面に部分的に重なっている。更に、この
基板の表面全体に窒化硅素層からなる絶縁膜１８を被覆する。 Subsequently, the transparent substrate 1 in which the semiconductor layer 16 is formed on the conductive layer having a three-layer structure of Mo / Al / Mo.
The signal line 17 and the drain electrode D are formed by covering the entire surface of 1 and similarly using the photolithography method and the etching method. Both the source electrode S portion and the drain electrode D portion of the signal line 17 partially overlap the surface of the semiconductor layer 16. Further, the entire surface of the substrate is covered with an insulating film 18 made of a silicon nitride layer.

次いで、ドレイン電極Ｄに対応する位置の絶縁膜１８にコンタクトホール１９を形成し
てドレイン電極Ｄの一部を露出させる。更に、この表面全体に亘って例えばＩＴＯからな
る透明導電性層を被覆し、同じくフォトリソグラフィー法及びエッチング法によって、図
１に示したパターンとなるように、走査線１２及び信号線１７で囲まれた領域の絶縁膜１
８上にスリット２０を有する画素電極２１を形成するとともに、走査線１２上の絶縁膜１
８の表面に部分的にシールド電極２２を形成する。この画素電極２１はコンタクトホール
１９を介してドレイン電極Ｄと電気的に接続されている。また、ここではシールド電極２
２は何処にも電気的に接続されておらず、フローティング状態となっている。なお、ＴＦ
Ｔの動作特性に影響を与えないようにするため、シールド電極２２は半導体層１６の表面
を覆わないようにした方がよい。また、シールド電極はＩＴＯに変えてアルミニウム等の
導電性金属で形成してもよい。 Next, a contact hole 19 is formed in the insulating film 18 at a position corresponding to the drain electrode D, and a part of the drain electrode D is exposed. Further, a transparent conductive layer made of, for example, ITO is coated over the entire surface, and is surrounded by the scanning line 12 and the signal line 17 so that the pattern shown in FIG. 1 is obtained by the photolithography method and the etching method. Insulation film 1
A pixel electrode 21 having a slit 20 is formed on the insulating film 1 on the scanning line 12.
A shield electrode 22 is partially formed on the surface of 8. The pixel electrode 21 is electrically connected to the drain electrode D through the contact hole 19. Here, the shield electrode 2
2 is not electrically connected anywhere and is in a floating state. TF
In order not to affect the operating characteristics of T, it is preferable that the shield electrode 22 does not cover the surface of the semiconductor layer 16. The shield electrode may be formed of a conductive metal such as aluminum instead of ITO.

さらに、この表面全体に亘り例えば窒化硅素からなるパッシベーション膜２３を設ける
とともに、このパッシベーション膜２３の表面全体に所定の配向膜２４を形成することに
よりアレイ基板ＡＲが完成される。そして、このようにして製造されたアレイ基板ＡＲと
別途製造されたカラーフィルタ基板とを対向させ、周囲をシール材でシールして両基板間
に液晶を注入することにより実施例に係るＦＦＳモードの液晶表示パネル１０が得られる
。なお、カラーフィルタ基板の構成は上述した従来例のものと実質的に差異はないので、
その詳細な説明は省略する。 Further, a passivation film 23 made of, for example, silicon nitride is provided over the entire surface, and a predetermined alignment film 24 is formed on the entire surface of the passivation film 23, thereby completing the array substrate AR. Then, the array substrate AR manufactured in this way and the separately manufactured color filter substrate are opposed to each other, the periphery is sealed with a sealing material, and liquid crystal is injected between the two substrates, whereby the FFS mode according to the embodiment is achieved. A liquid crystal display panel 10 is obtained. Since the configuration of the color filter substrate is not substantially different from that of the above-described conventional example,
Detailed description thereof is omitted.

このようにして得られた実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０は、走査線１２
の表面の少なくとも一部が導電性のシールド電極２２で被覆されているため、走査線１２
に印加される高電圧の信号によって生じる直流電界によって液晶が駆動されることがなく
なるので、ＦＦＳモードの液晶表示パネルの焼き付き現象は大幅に低減する。 The FFS mode liquid crystal display panel 10 of Example 1 obtained in this way has scanning lines 12.
Since at least a part of the surface of the scanning line 12 is covered with the conductive shield electrode 22, the scanning line 12
Since the liquid crystal is not driven by a DC electric field generated by a high voltage signal applied to the FPS mode, the image sticking phenomenon of the FFS mode liquid crystal display panel is greatly reduced.

実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ａにおいては、シールド電極２２はフロ
ーティング状態とされているため、外部からの電界の影響によってシールド電極２２の電
位が不安定となって大きく変動する可能性がある。そこでシールド電極を共通電極と電気
的に接続することによりシールド電極の電位を安定化させた実施例２のＦＦＳモードの液
晶表示パネル１０Ｂを図３及び図４を用いて説明する。なお、図３及び図４においては図
１及び図２に示した実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ａと同一の構成部分に
ついては同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。 In the FFS mode liquid crystal display panel 10A of the first embodiment, the shield electrode 22 is in a floating state. Therefore, the potential of the shield electrode 22 may become unstable and greatly fluctuate due to the influence of an external electric field. is there. Therefore, an FFS mode liquid crystal display panel 10B of Example 2 in which the shield electrode is electrically connected to the common electrode to stabilize the potential of the shield electrode will be described with reference to FIGS. 3 and 4, the same components as those in the FFS mode liquid crystal display panel 10A according to the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. .

この実施例２のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｂが実施例１の液晶表示パネル１０
Ａと構成が相違する点は、シールド電極２２に近い側の画素電極２１の角部に切り欠き部
２５を設け、シールド電極２２の一部を、画素電極２１との間に隙間２６を設けて、切り
欠き部２５の部分に延在させ、この切り欠き部２５の部分に設けたコンタクトホール２７
を経てシールド電極２２と共通電極１４とを電気的に接続した点である。 The liquid crystal display panel 10B in the FFS mode according to the second embodiment is the liquid crystal display panel 10 according to the first embodiment.
The difference from A is that a notch 25 is provided at the corner of the pixel electrode 21 on the side close to the shield electrode 22, and a gap 26 is provided between the part of the shield electrode 22 and the pixel electrode 21. The contact hole 27 is extended to the notch 25 and provided in the notch 25.
The shield electrode 22 and the common electrode 14 are electrically connected through the above.

この実施例２のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｂの製造工程は、信号線１７及びド
レイン電極Ｄを形成した後の基板の表面全体に窒化硅素層からなる絶縁膜１８を被覆する
工程までは上述した実施例１の液晶表示パネル１０Ａの製造工程と同様である。次いで、
ドレイン電極Ｄ及び切り欠き部２５に対応する位置の絶縁膜１８にコンタクトホール１９
及び２７を形成してドレイン電極Ｄの一部及び共通電極１４の一部を露出させる。 The manufacturing process of the FFS mode liquid crystal display panel 10B of the second embodiment has been described up to the process of covering the entire surface of the substrate after forming the signal line 17 and the drain electrode D with the insulating film 18 made of a silicon nitride layer. This is the same as the manufacturing process of the liquid crystal display panel 10A of the first embodiment. Then
Contact hole 19 is formed in insulating film 18 at a position corresponding to drain electrode D and notch 25.
And 27 are formed to expose part of the drain electrode D and part of the common electrode 14.

更に、この表面全体に亘って例えばＩＴＯからなる透明導電性層を被覆し、フォトリソ
グラフィー法及びエッチング法によって、図３に示したパターンとなるように、走査線１
２及び信号線１７で囲まれた領域の絶縁膜１８上にスリット２０を有するとともに切り欠
き部２５を有する画素電極２１を形成するとともに、走査線１２の表面から切り欠き部２
５に跨って、画素電極２１との間に隙間２６が生じるように、絶縁膜１８上にシールド電
極２２を形成する。そうすると、画素電極２１はコンタクトホール１９を介してドレイン
電極Ｄと電気的に接続され、シールド電極２２はコンタクトホール２７を介して共通電極
１４と電気的に接続される。その後の製造工程は実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネ
ル１０Ａの製造工程と同様である。 Further, a transparent conductive layer made of, for example, ITO is coated over the entire surface, and the scanning line 1 is formed so as to have the pattern shown in FIG. 3 by photolithography and etching.
2 and the pixel electrode 21 having the notch 25 on the insulating film 18 in the region surrounded by the signal line 17 and the notch 2 from the surface of the scanning line 12.
5, the shield electrode 22 is formed on the insulating film 18 so that a gap 26 is formed between the pixel electrode 21 and the pixel electrode 21. Then, the pixel electrode 21 is electrically connected to the drain electrode D through the contact hole 19, and the shield electrode 22 is electrically connected to the common electrode 14 through the contact hole 27. The subsequent manufacturing process is the same as the manufacturing process of the FFS mode liquid crystal display panel 10A of the first embodiment.

この実施例２のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｂによれば、シールド電極２２はコ
ンタクトホール２７を介して共通電極１４と電気的に接続されているから、その電位が安
定しているために外部からの電界の影響を受け難くなり、しかも、走査線１２に印加され
る高電圧の信号によって生じる直流電界によって液晶が駆動されることがなくなるので、
ＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｂの焼き付き現象は大幅に低減する。加えて、実施例
２のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｂによれば、画素電極２１に切り欠き部２５を設
けたことにより一部のスリット２０_１の長さが短くなることがあるが、切り欠き部２５に
おける画素電極２１とシールド電極２２との間の隙間２６は、画素電極２１と共通電極１
４との間だけでなく、画素電極２１とシールド電極２２との間にも電界が発生するから、
実質的に画素電極２１に設けられたスリット２０と同等の作用を奏し、この隙間２６の部
分も有効な表示領域となるので、開口率が向上する。 According to the FFS mode liquid crystal display panel 10B of the second embodiment, the shield electrode 22 is electrically connected to the common electrode 14 through the contact hole 27. In addition, the liquid crystal is not driven by a direct current electric field generated by a high voltage signal applied to the scanning line 12.
The image sticking phenomenon of the FFS mode liquid crystal display panel 10B is greatly reduced. In addition, according to the liquid crystal display panel 10B of FFS mode in Embodiment 2, it is the length of the portion of the slit 20 ₁ is shortened by providing the cutout portion 25 to the pixel electrode 21, the notches The gap 26 between the pixel electrode 21 and the shield electrode 22 in the portion 25 is the pixel electrode 21 and the common electrode 1.
4, an electric field is generated not only between the pixel electrode 21 and the shield electrode 22 but also between the pixel electrode 21 and the shield electrode 22.
The effect substantially equivalent to that of the slit 20 provided in the pixel electrode 21 is achieved, and the portion of the gap 26 is also an effective display area, so that the aperture ratio is improved.

実施例２のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｂにおいては、外部からの電界の影響を
受けないようにするため、シールド電極を共通電極と電気的に接続することによりシール
ド電極の電位が安定化するようにさせたが、実施例３のＦＦＳモードの液晶表示パネル１
０Ｃではシールド電極を信号線１７と電気的に接続してシールド電極２２の電位を安定化
させた。この実施例３のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｃを図５及び図６を用いて説
明する。なお、図５及び図６においては図１及び図２に示した実施例１のＦＦＳモードの
液晶表示パネル１０Ａと同一の構成部分については同一の参照符号を付与してその詳細な
説明は省略する。 In the FFS mode liquid crystal display panel 10B of the second embodiment, in order not to be affected by an external electric field, the shield electrode is electrically connected to the common electrode so that the potential of the shield electrode is stabilized. However, the FFS mode liquid crystal display panel 1 of Example 3 was used.
At 0 C, the shield electrode was electrically connected to the signal line 17 to stabilize the potential of the shield electrode 22. The FFS mode liquid crystal display panel 10C of the third embodiment will be described with reference to FIGS. 5 and 6, the same components as those in the FFS mode liquid crystal display panel 10A of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. .

この実施例３のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｃが実施例１のＦＦＳモードの液晶
表示パネル１０Ａと構成が相違する点は、シールド電極２２を走査線１２上の絶縁層１８
上をその近傍の信号線１７との交差点に対応する位置にまで延在させ、この交差点に対応
する位置の絶縁層１８に設けたコンタクトホール２８を介してシールド電極２２と信号線
１７とを電気的に接続した点である。 The FFS mode liquid crystal display panel 10C according to the third embodiment is different from the FFS mode liquid crystal display panel 10A according to the first embodiment in that the shield electrode 22 and the insulating layer 18 on the scanning line 12 are used.
The shield electrode 22 and the signal line 17 are electrically connected to each other via a contact hole 28 provided in the insulating layer 18 at a position corresponding to the intersection. It is a point that was connected.

この実施例３のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｂの製造工程は、信号線１７及びド
レイン電極Ｄを形成した後の基板の表面全体に窒化硅素層からなる絶縁膜１８を被覆する
工程までは上述した実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ａの製造工程と同様で
ある。次いで、ドレイン電極Ｄ及び走査線１２と信号線１７との交差点に対応する位置の
絶縁膜１８にコンタクトホール１９及び２８を形成してドレイン電極Ｄの一部及び信号線
１７の一部を露出させる。 The manufacturing process of the FFS mode liquid crystal display panel 10B of the third embodiment has been described up to the process of covering the entire surface of the substrate after forming the signal line 17 and the drain electrode D with the insulating film 18 made of a silicon nitride layer. This is the same as the manufacturing process of the FFS mode liquid crystal display panel 10A of the first embodiment. Next, contact holes 19 and 28 are formed in the insulating film 18 at a position corresponding to the intersection of the drain electrode D and the scanning line 12 and the signal line 17 to expose part of the drain electrode D and part of the signal line 17. .

更に、この表面全体に亘って例えばＩＴＯからなる透明導電性層を被覆し、フォトリソ
グラフィー法及びエッチング法によって、図５に示したパターンとなるように、走査線１
２及び信号線１７で囲まれた領域の絶縁膜１８上にスリット２０を有する画素電極２１を
形成するとともに、走査線１２の表面の一部の絶縁膜１８上にシールド電極２２を形成す
る。そうすると、画素電極２１はコンタクトホール１９を介してドレイン電極Ｄと電気的
に接続され、シールド電極２２はコンタクトホール２８を介して信号線１７と電気的に接
続される。その後の製造工程は実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ａの製造工
程と同様である。 Further, a transparent conductive layer made of, for example, ITO is coated over the entire surface, and the scanning line 1 is formed so as to have the pattern shown in FIG. 5 by photolithography and etching.
2 and the pixel electrode 21 having the slit 20 are formed on the insulating film 18 in the region surrounded by the signal line 17, and the shield electrode 22 is formed on a part of the insulating film 18 on the surface of the scanning line 12. Then, the pixel electrode 21 is electrically connected to the drain electrode D through the contact hole 19, and the shield electrode 22 is electrically connected to the signal line 17 through the contact hole 28. The subsequent manufacturing process is the same as the manufacturing process of the FFS mode liquid crystal display panel 10A of the first embodiment.

この実施例３のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ｃによれば、シールド電極２２はコ
ンタクトホール２８を介して信号線１７と電気的に接続されているから、シールド電極２
２の電位は信号線１７に印加される信号によって変動するにしても直流成分は少ないから
、このシールド電極２２に印加される信号線１７の信号によって液晶が受ける影響は小さ
く、しかも、外部からの電界の影響を受け難くなるとともに、走査線１２に印加される高
電圧の信号によって生じる電界によって液晶が駆動されることがなくなるので、ＦＦＳモ
ードの液晶表示パネルの焼き付き現象は大幅に低減する。 According to the FFS mode liquid crystal display panel 10C of the third embodiment, since the shield electrode 22 is electrically connected to the signal line 17 through the contact hole 28, the shield electrode 2
Even if the potential of 2 is fluctuated by the signal applied to the signal line 17, the direct current component is small, so that the liquid crystal is less affected by the signal of the signal line 17 applied to the shield electrode 22. In addition to being hardly affected by the electric field, the liquid crystal is not driven by the electric field generated by the high voltage signal applied to the scanning line 12, so that the image sticking phenomenon of the FFS mode liquid crystal display panel is greatly reduced.

なお、実施例１〜３においては、画素電極２１に設けるスリットとして一方向に傾いた
ものを用いた例を示したが、従来例として図１４に示したＦＦＳモードの液晶表示パネル
７０Ｃのように、画素電極２１に設けるストライプ状のスリット２０を「く」字状となる
ように配置してデュアルドメイン化するようにしてもよい。この場合、視角異方性をすく
なくするために、コモン配線１３の両側に設けられたスリット２０の数はそれぞれの側で
同一であることが好ましく、また、コモン配線１３に最も近接する両側のスリットの端部
はコモン配線１３上で結合されているものとすることが好ましい。更には、図１５に示し
たＦＦＳモードの液晶表示パネル７０Ｄのように、信号線１７に対向する部分に設けられ
るカラーフィルタ基板のブラックマトリクスが直線状とならないようにして、ブラックマ
トリクスが目立たない画像表示に適したものとするために、信号線１７を走査線１２と直
交する方向にクランク状に設けて複数の共通電極１４及び画素電極２１がデルタ配置とな
るようにしてもよい。 In the first to third embodiments, an example in which the slit provided in the pixel electrode 21 is inclined in one direction is shown. However, as a conventional example, like the FFS mode liquid crystal display panel 70C shown in FIG. The stripe-shaped slits 20 provided in the pixel electrode 21 may be arranged in a “<” shape to form a dual domain. In this case, in order to reduce the viewing angle anisotropy, the number of slits 20 provided on both sides of the common wiring 13 is preferably the same on each side, and the slits on both sides closest to the common wiring 13 are also provided. It is preferable that the end portions of these are coupled on the common wiring 13. Further, as in the FFS mode liquid crystal display panel 70D shown in FIG. 15, the black matrix of the color filter substrate provided in the portion facing the signal line 17 is not linear, so that the black matrix is not conspicuous. In order to be suitable for display, the signal lines 17 may be provided in a crank shape in a direction orthogonal to the scanning lines 12 so that the plurality of common electrodes 14 and pixel electrodes 21 are arranged in a delta arrangement.

加えて、上記実施例１〜３において説明したＦＦＳモードの液晶表示パネル１０Ａ、１
０Ｂ、１０Ｃの構成、特にシールド電極２２に関する構成を図７に示すようなＩＰＳモー
ドの液晶表示パネルに適応させることは容易に可能であるので、ここでは説明の重複を避
けるためＩＰＳモードの液晶表示パネルに本願発明の構成を適応したものについては説明
を省略するが、ＩＰＳモードの液晶表示パネルに本願発明の構成を適応したものに、従来
例として図１５及び図１６に示したＩＰＳモードの液晶表示パネル５０Ｂ、５０Ｃのよう
に、画素電極及び対向電極と配向膜のラビング方向とに微小角度の傾きを設けるようにす
ること、及び、画素電極及び対向電極をその延在方向の左右で異なる方向に傾けて配置す
ることでデュアルドメイン化すること、及び、画素電極及び対向電極をデルタ配置にする
ことも可能であることは明白である。 In addition, the FFS mode liquid crystal display panel 10A, 1 described in the first to third embodiments.
Since the configurations of 0B and 10C, particularly the configuration related to the shield electrode 22, can be easily applied to the IPS mode liquid crystal display panel as shown in FIG. 7, here, the IPS mode liquid crystal display is used to avoid duplication of explanation. The description of the configuration of the present invention applied to the panel is omitted, but the IPS mode liquid crystal shown in FIGS. 15 and 16 is shown as a conventional example in the configuration of the present invention applied to the IPS mode liquid crystal display panel. As in the display panels 50B and 50C, the pixel electrode and the counter electrode are provided with a slight inclination in the rubbing direction of the alignment film, and the pixel electrode and the counter electrode are different in the left and right directions in the extending direction. It is obvious that it is possible to make it dual domain by arranging it at an angle and to make the pixel electrode and the counter electrode delta arrangement. A.

実施例１のＦＦＳモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した２画素分の概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of two pixels represented by seeing through a color filter substrate of an FFS mode liquid crystal display panel of Example 1; 図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the AA line of FIG. 実施例２のＦＦＳモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した２画素分の概略平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view of two pixels represented by seeing through a color filter substrate of an FFS mode liquid crystal display panel of Example 2. 図３のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the BB line of FIG. 実施例３のＦＦＳモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した２画素分の概略平面図である。FIG. 10 is a schematic plan view of two pixels represented by seeing through a color filter substrate of an FFS mode liquid crystal display panel of Example 3. 図５のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along CC line of FIG. ＩＰＳモードの液晶表示パネルの１画素分の模式平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view for one pixel of an IPS mode liquid crystal display panel. 図７のＤ−Ｄ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the DD line of FIG. 図７のＥ−Ｅ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the EE line of FIG. ＦＦＳモードの液晶表示パネルの１画素分の模式平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view for one pixel of an FFS mode liquid crystal display panel. 図１０のＦ−Ｆ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the FF line of FIG. 図１０のＧ−Ｇ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the GG line of FIG. 別の従来例のＦＦＳモードの液晶表示パネルの模式平面図である。It is a schematic top view of the liquid crystal display panel of another FFS mode of a prior art example. デュアルドメイン化したＦＦＳモードの液晶表示パネルの模式平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view of a dual-domain FFS mode liquid crystal display panel. デルタ配置のＦＦＳモードの液晶表示パネルの模式平面図である。It is a schematic plan view of the liquid crystal display panel of the FFS mode of delta arrangement. 図１３に対応するＩＰＳモードの液晶表示パネルの模式平面図である。FIG. 14 is a schematic plan view of an IPS mode liquid crystal display panel corresponding to FIG. 13. 図１４に対応するＩＰＳモードの液晶表示パネルの模式平面図である。FIG. 15 is a schematic plan view of an IPS mode liquid crystal display panel corresponding to FIG. 14.

符号の説明Explanation of symbols

１０Ａ、１０Ｂ、１０ＣＦＦＳモードの液晶表示パネル
１１透明基板
１２走査線
１３コモン配線
１４共通電極
１５ゲート絶縁膜
１６半導体層
１７信号線
１８絶縁膜
１９、２７、２８コンタクトホール
２０スリット
２１画素電極
２２シールド電極
２３パッシベーション膜
２４配向膜
２５切り欠き部
２６隙間 10A, 10B, 10C FFS mode liquid crystal display panel 11 Transparent substrate 12 Scan line 13 Common wiring 14 Common electrode 15 Gate insulating film 16 Semiconductor layer 17 Signal line 18 Insulating films 19, 27, 28 Contact hole 20 Slit 21 Pixel electrode 22 Shield Electrode 23 Passivation film 24 Alignment film 25 Notch 26 Gap

Claims

平行に設けられた複数の走査線及びコモン配線と、前記走査線と直交する方向に設けられた複数の信号線と、複数の前記走査線及び信号線で区画された領域に形成された透明導電性材料からなる共通電極及び画素電極と、を有する横電界方式の液晶表示パネルにおいて、前記走査線上の絶縁膜の表面には透明導電性材料からなるシールド電極が形成されており、前記シールド電極は前記共通電極に電気的に接続されるとともに、前記画素電極の前記シールド電極側の一部には切り欠き部が設けられ、前記シールド電極は前記切り欠き部の絶縁膜上にまで延在され、前記切り欠き部に設けられたコンタクトホールを介して前記共通電極と電気的に接続されていることを特徴とするＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 Transparent conductive lines formed in a plurality of scanning lines and common lines provided in parallel, a plurality of signal lines provided in a direction orthogonal to the scanning lines, and a region partitioned by the plurality of scanning lines and signal lines In a horizontal electric field type liquid crystal display panel having a common electrode and a pixel electrode made of a conductive material, a shield electrode made of a transparent conductive material is formed on the surface of the insulating film on the scanning line, and the shield electrode While being electrically connected to the common electrode, a part of the pixel electrode on the shield electrode side is provided with a notch, and the shield electrode extends to the insulating film of the notch, An FFS mode liquid crystal display panel, wherein the liquid crystal display panel is electrically connected to the common electrode through a contact hole provided in the notch .

前記シールド電極は前記信号線に電気的に接続されていることを特徴とする請求項１に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 2. The FFS liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the shield electrode is electrically connected to the signal line.

前記シールド電極は、前記走査線上の絶縁膜の表面を前記走査線及び信号線の交差位置まで延在され、前記交差位置に設けられたコンタクトホールを介して前記信号線と電気的に接続されていることを特徴とする請求項２に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 The shield electrode extends on the surface of the insulating film on the scanning line to the intersection of the scanning line and the signal line, and is electrically connected to the signal line through a contact hole provided at the intersection. 3. The FFS mode liquid crystal display panel according to claim 2 , wherein:

前記シールド電極は前記画素電極と同じ材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 2. The FFS mode liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the shield electrode is made of the same material as the pixel electrode.

前記共通電極は前記走査線及び信号線で区画された領域内に櫛歯状に形成され、前記画素電極は前記櫛歯状に形成された共通電極の周囲を挟むように同じく櫛歯状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 The common electrode is formed in a comb-teeth shape in a region defined by the scanning line and the signal line, and the pixel electrode is also formed in a comb-teeth shape so as to sandwich the periphery of the common electrode formed in the comb-teeth shape. 2. The FFS liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the liquid crystal display panel is an FFS type liquid crystal display panel.

前記共通電極は前記走査線及び信号線で区画された領域を覆うように形成され、前記画素電極は前記共通電極上に絶縁膜を介して形成されるとともに互いに平行な複数のスリットが設けられていることを特徴とする請求項１に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 The common electrode is formed so as to cover a region partitioned by the scanning line and the signal line, and the pixel electrode is formed on the common electrode through an insulating film and provided with a plurality of slits parallel to each other. The FFS mode liquid crystal display panel according to claim 1, wherein:

前記櫛歯状の共通電極及び画素電極あるいは前記複数のスリットは、前記走査線又は信号線に対して傾いた方向に設けられていることを特徴とする請求項５又は６に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 The FFS method according to claim 5 or 6, wherein the comb-like common electrode and pixel electrode or the plurality of slits are provided in a direction inclined with respect to the scanning line or the signal line. LCD display panel.

前記櫛歯状の共通電極及び画素電極は、前記走査線及び信号線で区画された領域内の前記共通電極及び画素電極の延在方向の左右で互いに異なる方向に傾けて設けられていることを特徴とする請求項５に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 The comb-like common electrode and the pixel electrode are provided so as to be inclined in different directions on the left and right of the extending direction of the common electrode and the pixel electrode in a region defined by the scanning line and the signal line. 6. The FFS mode liquid crystal display panel according to claim 5 , wherein:

コモン配線は前記複数の走査線間に設けられ、前記複数のスリットは前記コモン配線の両側で互いに異なる方向に傾けて設けられていることを特徴とする請求項６に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 Common wiring is provided between the plurality of scanning lines, the liquid crystal display of the FFS system according to claim 6, wherein the plurality of slits and being provided inclined in different directions on opposite sides of said common wire panel.

前記コモン配線の両側に設けられたスリットの数はそれぞれの側で同一であることを特徴とする請求項９に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 10. The FFS type liquid crystal display panel according to claim 9 , wherein the number of slits provided on both sides of the common wiring is the same on each side.

前記コモン配線に最も近接する両側のスリットの端部は前記コモン配線上で結合されていることを特徴とする請求項９又は１０に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 11. The FFS type liquid crystal display panel according to claim 9, wherein ends of the slits on both sides closest to the common line are coupled on the common line.

前記走査線上には前記信号線との交差位置の近傍にスイッチング素子としての薄膜電界効果トランジスタが設けられ、前記シールド電極は前記薄膜電界効果トランジスタの表面を除いた前記走査線上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 A thin film field effect transistor as a switching element is provided on the scanning line in the vicinity of the intersection with the signal line, and the shield electrode is provided on the scanning line excluding the surface of the thin film field effect transistor. The FFS mode liquid crystal display panel according to claim 1.

前記信号線は、前記走査線と直交する方向にクランク状に設けられており、前記複数の共通電極及び画素電極はデルタ配置されていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載のＦＦＳ方式の液晶表示パネル。 The signal line is provided in a crank shape in a direction orthogonal to the scanning lines, according to any one of claims 1 to 12, wherein the plurality of common electrodes and pixel electrodes are delta arrangement FFS liquid crystal display panel.