JP4407999B2 - Sandblasting equipment - Google Patents

Sandblasting equipment Download PDF

Info

Publication number
JP4407999B2
JP4407999B2 JP2000239357A JP2000239357A JP4407999B2 JP 4407999 B2 JP4407999 B2 JP 4407999B2 JP 2000239357 A JP2000239357 A JP 2000239357A JP 2000239357 A JP2000239357 A JP 2000239357A JP 4407999 B2 JP4407999 B2 JP 4407999B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing chamber
sealing tape
substrate
injection nozzle
abrasive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000239357A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2002052471A (en
Inventor
秀 黒澤
晃一 旭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2000239357A priority Critical patent/JP4407999B2/en
Publication of JP2002052471A publication Critical patent/JP2002052471A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4407999B2 publication Critical patent/JP4407999B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと記す)の製造工程に関するものであり、詳しくはPDPの放電空間を構成するリブをサンドブラスト加工法により形成するサンドブラスト装置の技術分野に属する。
【0002】
【従来の技術】
一般にPDPは、2枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にNe,Xe等を主体とするガスを封入した構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に露出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われている交流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能や駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式とメモリー駆動方式とに分類される。
【0003】
図1にAC型PDPの一構成例を示す。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図示のように2枚のガラス基板1,2が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基板2上に互いに平行に設けられたリブ3により一定の間隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス基板1の背面側には透明電極である維持電極4と金属電極であるバス電極5とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層6が形成されており、さらにその上に保護層7(MgO層)が形成されている。また、背面板となるガラス基板2の前面側には前記複合電極と直交するようにリブ3の間に位置してアドレス電極8が互いに平行に形成されており、これを覆って誘電体層9が形成され、さらにリブ3の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体層10が設けられている。このAC型PDPは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そしてこの放電により生じる紫外線により蛍光体層10を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっている。
【0004】
このようなPDPにおける背面板上のリブは、従来はスクリーン印刷による重ね刷りで形成されていたが、最近では精度の点から所謂サンドブラスト法により形成されることが多くなっている。この方法でリブを形成する場合、低融点ガラス粉末、耐火物フィラーなどの無機粉体を主成分又は成分とし、これに適当なバインダー樹脂及び溶剤を添加してなるリブペーストを基板上に塗布して乾燥させることでリブ材料層を形成し、その上に耐サンドブラスト性の有る感光性樹脂組成物層を設けた後、フォトリソグラフィー法でセル画定用マスクにパターニングし、そのサンドブラスト用マスクの上方の噴射ノズルから研削材を含む混合エアーを噴射することによりリブ材料層の不要部分を除去し、次いで耐サンドブラスト用マスクを除去してから焼成する手順が採られている。そして、その研削材として、ガラスビーズ、SiC、SiO2 、Al2 3 、ZrO2 等の無機粉体が使用されている。
【0005】
サンドブラスト法によるリブ形成方法で使用するサンドブラスト装置は、基板面を均一に加工するため、加工室内を搬送される基板に対して噴射ノズルを往復動させて加工する。このため、加工室の天井に噴射ノズル及び研削材の供給配管系を往復動させることができるスリット状開口部を有している。したがって、そのスリット状開口部を開けたままにしておくと、加工中に噴射された研削材が飛散して装置外部の環境を汚染してしまう。また、加工室の天井の上にあるノズル駆動用レールに研削材が付着し、摩耗を早めてしまうことになる。
【0006】
そこで、図2及び図3に例示するサンドブラスト装置のように、加工室天井のスリット状開口部を塞ぐ工夫をしたものがある。このサンドブラスト装置は、周りを囲まれた加工室20を有し、被加工物である基板Gは搬送ローラの如き基板搬送手段21により加工室20の外から入口20aを通って搬入され、加工室20内で搬送されがら加工された後、出口20bから外へ搬出される。図中22は加工室20の中で基板Gに向けて研削材を噴射する噴射ノズルであり、図示しない研削材供給手段からエアーと共に研削材が配管23を通って供給されるように構成されている。また、噴射ノズル22は、加工室20の上部に設けられた噴射ノズル移動手段により基板Gの搬送方向に対して直交する方向に往復動するように配置されている。すなわち、加工室20の天井には、噴射ノズル22の配管23が通るためのスリット状開口部20cが設けられており、配管23に取り付けられた台車24が天井の上に設置されたレール25の上を移動するようになっている。そして、噴射ノズル22及び配管23の移動中であっても天井のスリット状開口部20cを塞ぐため、配管23を挟むように天井からゴムのれん26を吊り下げている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記したサンドブラスト装置では、噴射ノズルに研削材を供給する配管が移動しても、その配管の両側からゴムのれんが当接しているので、加工中に噴射された研削材が加工室天井のスリット開口部から飛散するのが防止される。しかしながら、噴射ノズルに研削材を供給するための配管が往復動する時にゴムのれんに擦れて異物が発生し、その異物がそのまま加工中の基板上に落下し、基板の品質を悪化させるという問題点がある。
【0008】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、PDPのリブをパターニングするサンドブラスト加工時に、加工中の基板に悪影響を与えることなく、研削材の供給配管系が通るスリット状開口部からの研削材漏れを防止できるサンドブラスト装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明のサンドブラスト装置は、基板上のリブ材料層を研削材により切削加工してパターニングするのに用いられ、少なくとも、周りを囲まれた加工室と、その加工室の中を通過するように基板を搬送する基板搬送手段と、加工室の中で基板に研削材を噴射する噴射ノズルと、その噴射ノズルに配管を通して研削材を供給する研削材供給手段と、噴射ノズルを基板搬送方向に対して直交する方向に往復動させる噴射ノズル移動手段とを備え、噴射ノズル及び研削材の供給配管系を往復動させるために加工室の天井にスリット状開口部設けられており、噴射ノズルが噴射した研削材を循環して使用するため、加工室内が研削材を循環経路に吸い込ませるように外部より負圧とされたサンドブラスト装置において、スリット状開口部よりやや広い幅を有しているとともにそれに設けられた孔に研削材供給用の配管が通っている密閉用テープを、スリット状開口部の上で当該スリット状開口部を塞ぐように、かつ、噴射ノズル及び配管の移動に合わせて加工室の天井の上面を滑るようにして往復動するように設置し、その密閉用テープを加工室内の負圧によって室内側へ引くことによりスリット状開口部に密着させるようにしたことを特徴としている。
【0010】
上記構成のサンドブラスト装置において、研削材の供給配管系の往復動に同期させて密閉用テープを動かすようにするため、密閉用テープの両端を巻取状とし、噴射ノズルの動作方向に合わせて密閉用テープの巻取り巻出しを行わせるようにしてもよく、或いは、密閉用テープを輪状とし、噴射ノズルの動作方向に合わせて密閉用テープを回動させるようにしてもよい。
【0011】
また、上記構成のサンドブラスト装置において、密閉テープの裏面側に当接するヘラを加工室内に設けることが望ましい。
【0012】
【発明の実施の形態】
次に、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【0013】
図4及び図5は本発明に係るサンドブラスト装置を示す概略構成図である。これらの図はそれぞれ図2及び図3の一部を変更したものであり、同じ部位には同じ符号を付してその説明を省略する。
【0014】
図4及び図5において符号30は密閉用テープを示しており、加工室20の天井に設けたスリット状開口部20cの上でそのスリット状開口部20cを塞ぐように設置されている。このテープ30は開口部20cよりやや広い幅を有しているとともに、テープ30に設けた孔に研削材供給用の配管23が通っており、噴射ノズル22及び配管23の移動に合わせて図5の左右方向に往復動するようになっている。
【0015】
このように、密閉用テープ30が、加工室20の天井の上面を滑るようにして往復動することにより、基板Gの加工中に密閉状態が保たれ、研削材がスリット状開口部20cから漏れるのが防止され、しかも異物を生じることもないので、加工中の基板に悪影響を与えることもない。
【0016】
密閉用テープ30は、スリット状開口部20cの長さよりも十分に長いものが使用されており、その両端は巻取ロール31,31に固定され、それぞれが巻取状になっている。そして、噴射ノズル22の往復動に合わせて密閉用テープ30の巻取り巻出しの方向を切り替え、常にスリット状開口部20cを密閉するように構成されている。この場合、各巻取ロール31は、噴射ノズル22の移動方向に合わせて巻取り巻出しを数秒毎に切り替える必要があり、このためイナーシャが十分小さくなければならないことから、樹脂などの素材で軽量(例えば1kg以下)で製作するのがよい。また、巻取用モーターは、密閉用テープ30がたるみを発生し負荷が軽くなった時に高速で巻き取る必要があるため、定トルク型のもの(100W程度のもので十分)を使用するのが好ましい。図示の例では、巻取り用モーター32がトルククラッチ33を介して巻取ロール31に接続されている。
【0017】
密閉用テープ30は、ロールに巻き付けるので柔軟性のあることが必要であり、また片面の一部は研削材に曝されるので耐摩耗性もなければならない。このような性質を兼ね備えた素材としては、PET、テフロンなどの樹脂製のテープが好適であり、厚みは0.1〜0.6mm程度のものを使用するとよい。
【0018】
なお、図示の例では十分に長い密閉用テープを使用し、その両端をモーターで巻き取る方式を採用したが、別の例としては輪状になった密閉用テープを使用することもできる。密閉用テープが輪状の場合は、巻取用モーターの代わりに一対のプーリーで受けておけば、噴射ノズルの往復動に合わせて密閉用テープも動作可能となる。この場合、噴射ノズルの配管が密閉用テープを移動させるので、巻取用モーターは不要となる。ただし、噴射ノズルの配管と干渉を起こさないように迂回させるなどの手段を講じる必要がある。
【0019】
ここで、もともとサンドブラスト装置は、加工室の噴射ノズルが噴射した研削材を循環して使用する構成を採っており、加工室内は研削材を循環経路に吸い込ませるため外部より負圧になっている。したがって、密閉用テープはその負圧によって室内側へ引かれ、スリット状開口部に密着する。
【0020】
密閉用テープ30は、その下面の一部が加工室20の内部に露出する。したがって、その露出した部分が研削材に曝されるため、研削材が付着すると加工室の外へ持ち出されてしまう。そこで、図5に示すように、密閉用テープ30の加工室側にテープ30に付着した研削材を掻き落とすためのヘラ40を設置しておくようにする。或いは、エアブローのノズルを設置しておいて、密閉用テープ30の裏面側に付着する研削材を吹き飛ばすようにしてもよい。
【0021】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のサンドブラスト装置は、基板上のリブ材料層を研削材により切削加工してパターニングするのに用いられ、少なくとも、周りを囲まれた加工室と、その加工室の中を通過するように基板を搬送する基板搬送手段と、加工室の中で基板に研削材を噴射する噴射ノズルと、その噴射ノズルに配管を通して研削材を供給する研削材供給手段と、噴射ノズルを基板搬送方向に対して直交する方向に往復動させる噴射ノズル移動手段とを備え、噴射ノズル及び研削材の供給配管系を往復動させるために加工室の天井にスリット状開口部設けられており、噴射ノズルが噴射した研削材を循環して使用するため、加工室内が研削材を循環経路に吸い込ませるように外部より負圧とされたサンドブラスト装置において、スリット状開口部よりやや広い幅を有しているとともにそれに設けられた孔に研削材供給用の配管が通っている密閉用テープを、スリット状開口部の上で当該スリット状開口部を塞ぐように、かつ、噴射ノズル及び配管の移動に合わせて加工室の天井の上面を滑るようにして往復動するように設置し、その密閉用テープを加工室内の負圧によって室内側へ引くことによりスリット状開口部に密着させるようにしたことを特徴としているので、サンドブラスト加工時に、研削材の供給配管系が通るスリット状開口部からの研削材漏れを防止することができ、しかも加工中の基板に悪影響を与えることもない。
【0022】
また、密閉用テープの両端を巻取状とし、噴射ノズルの動作方向に合わせて密閉用テープの巻取り巻出しを行うように構成するか、或いは、密閉用テープを輪状とし、噴射ノズルの動作方向に合わせて密閉用テープを回動させるように構成したことにより、密閉用テープの弛みを防止できることから、常にスリット状開口部を密閉した状態で加工を行うことができる。
【0023】
また、密閉テープの裏面側に当接するヘラを加工室内に設けることにより、密閉用テープの裏面側に付着した研削材が掻き落とされるので、加工室の外に持ち出されて周辺を汚染するようなことがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】プラズマディスプレイパネルの一例をその前面板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。
【図2】従来のサンドブラスト装置の一例を概略的に示す側面図である。
【図3】従来のサンドブラスト装置の一例を概略的に示す正面図である。
【図4】本発明のサンドブラスト装置の一例を概略的に示す側面図である。
【図5】本発明のサンドブラスト装置の一例を概略的に示す正面図である。
【符号の説明】
1,2 ガラス基板
3 リブ
4 維持電極
5 バス電極
6 誘電体層
7 保護層
8 アドレス電極
9 誘電体層
10 蛍光体層
20 加工室
20a 入口
20b 出口
20c スリット状開口部
21 基板搬送手段
22 噴射ノズル
23 配管
24 台車
25 レール
30 密閉用テープ
31 巻取ロール
32 巻取り用モーター
33 トルククラッチ
40 ヘラ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a manufacturing process of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), and particularly relates to a technical field of a sandblasting apparatus for forming ribs constituting a discharge space of a PDP by a sandblasting method.
[0002]
[Prior art]
In general, a PDP has a structure in which a pair of electrodes regularly arranged on two opposing glass substrates are provided, and a gas mainly composed of Ne, Xe, or the like is enclosed therebetween. Then, a voltage is applied between these electrodes, and discharge is generated in minute cells around the electrodes, thereby causing each cell to emit light for display. In order to display information, cells arranged regularly are selectively discharged. There are two types of PDPs: a DC type (DC type) with electrodes exposed in the discharge space and an AC type (AC type) covered with an insulating layer, both of which vary depending on the display function and driving method. Further, it is classified into a refresh driving method and a memory driving method.
[0003]
FIG. 1 shows an example of the configuration of an AC type PDP. This figure shows a state in which the front plate and the back plate are separated from each other. As shown in the figure, two glass substrates 1 and 2 are arranged in parallel and facing each other, and both serve as a back plate. The glass substrate 2 is held at regular intervals by ribs 3 provided in parallel to each other. On the back side of the glass substrate 1 serving as the front plate, a composite electrode composed of the sustain electrode 4 that is a transparent electrode and the bus electrode 5 that is a metal electrode is formed in parallel with each other, and a dielectric layer 6 is formed covering this The protective layer 7 (MgO layer) is further formed thereon. In addition, address electrodes 8 are formed between the ribs 3 so as to be orthogonal to the composite electrode on the front side of the glass substrate 2 serving as a back plate, and are parallel to each other. Further, the phosphor layer 10 is provided so as to cover the wall surface of the rib 3 and the cell bottom surface. The AC type PDP is a surface discharge type, and has a structure in which an AC voltage is applied between the composite electrodes on the front plate to discharge. The phosphor layer 10 is caused to emit light by the ultraviolet rays generated by this discharge, and the observer can visually recognize the light transmitted through the front plate.
[0004]
The rib on the back plate in such a PDP has been conventionally formed by overprinting by screen printing, but recently, it is often formed by a so-called sand blast method from the point of accuracy. When ribs are formed by this method, an inorganic powder such as a low-melting glass powder or a refractory filler is used as a main component or component, and a rib paste obtained by adding an appropriate binder resin and solvent is applied to the substrate. The rib material layer is formed by drying and a photosensitive resin composition layer having sandblast resistance is provided thereon, and then patterned into a cell-defining mask by a photolithography method, and above the sandblasting mask. A procedure is employed in which an unnecessary portion of the rib material layer is removed by jetting mixed air containing an abrasive from the jet nozzle, and then the sandblasting mask is removed and then fired. As the abrasive, inorganic powders such as glass beads, SiC, SiO 2 , Al 2 O 3 , and ZrO 2 are used.
[0005]
A sand blasting apparatus used in a rib forming method by the sand blasting method performs processing by reciprocating an injection nozzle with respect to a substrate conveyed in a processing chamber in order to process the substrate surface uniformly. For this reason, it has the slit-shaped opening part which can reciprocate the injection nozzle and the supply piping system of an abrasive on the ceiling of a processing chamber. Therefore, if the slit-shaped opening is left open, the abrasives sprayed during processing will scatter and contaminate the environment outside the apparatus. In addition, the abrasive material adheres to the nozzle drive rail on the ceiling of the processing chamber, and wear is accelerated.
[0006]
In view of this, there is a device such as the sand blasting apparatus illustrated in FIGS. 2 and 3 in which the slit-like opening of the processing chamber ceiling is closed. This sandblasting apparatus has a processing chamber 20 surrounded by a substrate G, and a substrate G as a workpiece is carried from the outside of the processing chamber 20 through an inlet 20a by a substrate transfer means 21 such as a transfer roller. After being processed while being transported within 20, it is unloaded from the outlet 20b. In the figure, reference numeral 22 denotes an injection nozzle for injecting an abrasive toward the substrate G in the processing chamber 20, and is configured such that the abrasive is supplied through a pipe 23 together with air from an unillustrated abrasive supply means. Yes. Further, the spray nozzle 22 is arranged so as to reciprocate in a direction orthogonal to the transport direction of the substrate G by a spray nozzle moving means provided in the upper part of the processing chamber 20. That is, the ceiling of the processing chamber 20 is provided with a slit-like opening 20c through which the pipe 23 of the injection nozzle 22 passes, and a carriage 24 attached to the pipe 23 is provided on the rail 25 installed on the ceiling. It is designed to move up. And even if the injection nozzle 22 and the piping 23 are moving, the rubber goodwill 26 is suspended from the ceiling so as to sandwich the piping 23 in order to close the slit-shaped opening 20c of the ceiling.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
In the sandblasting apparatus described above, even if the pipe for supplying the abrasive to the injection nozzle moves, the rubber goodwill abuts from both sides of the pipe, so that the abrasive injected during processing is slitted in the ceiling of the processing chamber. It is prevented from scattering from the part. However, when the piping for supplying the abrasive to the injection nozzle reciprocates, foreign matter is generated by rubbing against the rubber goodwill, and the foreign matter falls on the substrate being processed as it is, which deteriorates the quality of the substrate. There is.
[0008]
The present invention has been made in view of such problems, and the object of the present invention is to supply an abrasive without adversely affecting the substrate being processed during sandblasting for patterning the ribs of the PDP. An object of the present invention is to provide a sandblasting device capable of preventing leakage of abrasive from a slit-like opening through which a piping system passes.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a sandblasting apparatus of the present invention is used for patterning by cutting a rib material layer on a substrate with an abrasive, and at least a processing chamber surrounded by the processing chamber, and the processing chamber Substrate conveying means for conveying the substrate so as to pass through, an injection nozzle for injecting abrasive to the substrate in the processing chamber, an abrasive supply means for supplying abrasive to the injection nozzle through a pipe, and injection And an injection nozzle moving means for reciprocating the nozzle in a direction perpendicular to the substrate transport direction, and a slit-like opening is provided in the ceiling of the processing chamber for reciprocating the injection nozzle and the abrasive supply piping system. and which, for use in circulating abrasives injection nozzle is injected in sandblasting apparatus that is a negative pressure from the outside as the processing chamber causes sucked grinding material circulation path, Sealing tape that has a width that is slightly wider than the lit-like opening and that is provided with a pipe for supplying abrasive material in the hole provided in the opening, so that the slit-like opening is closed over the slit-like opening. In addition, it is installed so as to reciprocate by sliding the upper surface of the ceiling of the processing chamber in accordance with the movement of the injection nozzle and piping, and the sealing tape is pulled to the indoor side by the negative pressure in the processing chamber. It is characterized in that it is brought into close contact with the opening.
[0010]
In the sandblasting apparatus having the above configuration, in order to move the sealing tape in synchronization with the reciprocating motion of the abrasive supply piping system, both ends of the sealing tape are wound and sealed in accordance with the operating direction of the injection nozzle. The tape for take-up may be wound and unwound, or the tape for sealing may be formed into a ring shape and the tape for sealing may be rotated in accordance with the operation direction of the spray nozzle.
[0011]
Moreover, in the sandblasting apparatus having the above configuration, it is desirable to provide a spatula that contacts the back side of the sealing tape in the processing chamber.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0013]
4 and 5 are schematic configuration diagrams showing a sandblasting apparatus according to the present invention. These drawings are obtained by changing parts of FIG. 2 and FIG. 3, and the same portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
[0014]
4 and 5, reference numeral 30 denotes a sealing tape, which is installed on the slit-shaped opening 20c provided on the ceiling of the processing chamber 20 so as to close the slit-shaped opening 20c. The tape 30 has a width that is slightly wider than the opening 20c, and a pipe 23 for supplying abrasive is passed through a hole provided in the tape 30. FIG. It is designed to reciprocate in the left-right direction.
[0015]
As described above, the sealing tape 30 reciprocates so as to slide on the upper surface of the ceiling of the processing chamber 20, so that the sealing state is maintained during the processing of the substrate G, and the abrasive leaks from the slit-shaped opening 20c. Is prevented, and foreign matter is not generated, so that the substrate being processed is not adversely affected.
[0016]
The sealing tape 30 is sufficiently longer than the length of the slit-shaped opening 20c, and both ends thereof are fixed to the winding rolls 31 and 31 and each has a winding shape. The direction of winding and unwinding the sealing tape 30 is switched in accordance with the reciprocating motion of the injection nozzle 22, and the slit opening 20c is always sealed. In this case, each winding roll 31 needs to switch the winding / unwinding every few seconds in accordance with the moving direction of the injection nozzle 22, and therefore the inertia must be sufficiently small. For example, it is good to manufacture with 1 kg or less. In addition, the winding motor needs to be wound at a high speed when the sealing tape 30 sags and the load becomes light, so a constant torque type (about 100 W is sufficient) should be used. preferable. In the illustrated example, a winding motor 32 is connected to a winding roll 31 via a torque clutch 33.
[0017]
Since the sealing tape 30 is wound around a roll, it needs to be flexible, and a part of one side is exposed to an abrasive and must also be wear resistant. As a material having such properties, a resin tape such as PET and Teflon is suitable, and a material having a thickness of about 0.1 to 0.6 mm may be used.
[0018]
In the illustrated example, a sufficiently long sealing tape is used and both ends of the tape are wound by a motor. However, as another example, a ring-shaped sealing tape can be used. When the sealing tape is ring-shaped, if it is received by a pair of pulleys instead of the winding motor, the sealing tape can be operated in accordance with the reciprocating motion of the injection nozzle. In this case, since the pipe of the injection nozzle moves the sealing tape, a winding motor is not necessary. However, it is necessary to take measures such as detouring so as not to cause interference with the injection nozzle piping.
[0019]
Here, the sand blasting apparatus originally employs a configuration in which the abrasive material sprayed by the spray nozzle of the processing chamber is circulated and used, and the processing chamber has a negative pressure from the outside in order to suck the abrasive material into the circulation path. . Therefore, the sealing tape is drawn indoors by the negative pressure and is in close contact with the slit-shaped opening.
[0020]
A part of the lower surface of the sealing tape 30 is exposed inside the processing chamber 20. Therefore, since the exposed part is exposed to the abrasive, it is taken out of the processing chamber when the abrasive adheres. Therefore, as shown in FIG. 5, a spatula 40 for scraping off the abrasive adhered to the tape 30 is installed on the processing chamber side of the sealing tape 30. Alternatively, an air blow nozzle may be installed to blow away the abrasive that adheres to the back side of the sealing tape 30.
[0021]
【The invention's effect】
As described above, the sand blasting apparatus according to the present invention is used for patterning by cutting a rib material layer on a substrate with an abrasive, and includes at least a processing chamber surrounded by the processing chamber and the processing chamber. A substrate conveying means for conveying the substrate so as to pass through the substrate, an injection nozzle for injecting abrasive to the substrate in the processing chamber, an abrasive supply means for supplying the abrasive through the piping to the injection nozzle, and an injection nozzle And an injection nozzle moving means for reciprocating in a direction orthogonal to the substrate transport direction, and a slit-like opening is provided in the ceiling of the processing chamber for reciprocating the injection nozzle and the abrasive supply piping system. , for use in circulating abrasives injection nozzle is injected, machining chamber in a sandblasting apparatus that is externally negative pressure so that sucked grinding material circulation path slit A sealing tape that has a width slightly wider than the opening and that is provided with a pipe for supplying the abrasive material in the hole provided in the opening so as to close the opening on the slit opening. In addition, it is installed so as to reciprocate by sliding the upper surface of the ceiling of the processing chamber in accordance with the movement of the injection nozzle and piping, and the sealing tape is pulled inward by the negative pressure in the processing chamber to form a slit. Since it is characterized by being in close contact with the opening, it is possible to prevent abrasive leakage from the slit-shaped opening through which the abrasive supply piping system passes during sandblasting, and to adversely affect the substrate being processed. Never give.
[0022]
In addition, the sealing tape may be wound at both ends, and the sealing tape may be wound and unwound in accordance with the operation direction of the injection nozzle, or the sealing tape may be formed into a ring shape and the operation of the injection nozzle. By configuring the sealing tape to rotate in accordance with the direction, it is possible to prevent the sealing tape from slackening, and therefore it is possible to perform processing with the slit-shaped opening always sealed.
[0023]
Also, by providing a spatula in contact with the back side of the sealing tape in the processing chamber, the abrasive material adhering to the back side of the sealing tape is scraped off, so that it is taken out of the processing chamber and contaminates the surroundings. There is nothing.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a plasma display panel with a front plate and a back plate separated from each other.
FIG. 2 is a side view schematically showing an example of a conventional sandblasting apparatus.
FIG. 3 is a front view schematically showing an example of a conventional sandblasting apparatus.
FIG. 4 is a side view schematically showing an example of the sandblasting apparatus of the present invention.
FIG. 5 is a front view schematically showing an example of the sandblasting apparatus of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Glass substrate 3 Rib 4 Sustain electrode 5 Bus electrode 6 Dielectric layer 7 Protective layer 8 Address electrode 9 Dielectric layer 10 Phosphor layer 20 Processing chamber 20a Inlet 20b Outlet 20c Slit-shaped opening 21 Substrate conveying means 22 Injection nozzle 23 Piping 24 Bogie 25 Rail 30 Sealing tape 31 Winding roll 32 Winding motor 33 Torque clutch 40 Spatula

Claims (4)

基板上のリブ材料層を研削材により切削加工してパターニングするのに用いられ、少なくとも、周りを囲まれた加工室と、その加工室の中を通過するように基板を搬送する基板搬送手段と、加工室の中で基板に研削材を噴射する噴射ノズルと、その噴射ノズルに配管を通して研削材を供給する研削材供給手段と、噴射ノズルを基板搬送方向に対して直交する方向に往復動させる噴射ノズル移動手段とを備え、噴射ノズル及び研削材の供給配管系を往復動させるために加工室の天井にスリット状開口部設けられており、噴射ノズルが噴射した研削材を循環して使用するため、加工室内が研削材を循環経路に吸い込ませるように外部より負圧とされたサンドブラスト装置において、スリット状開口部よりやや広い幅を有しているとともにそれに設けられた孔に研削材供給用の配管が通っている密閉用テープを、スリット状開口部の上で当該スリット状開口部を塞ぐように、かつ、噴射ノズル及び配管の移動に合わせて加工室の天井の上面を滑るようにして往復動するように設置し、その密閉用テープを加工室内の負圧によって室内側へ引くことによりスリット状開口部に密着させるようにしたことを特徴とするサンドブラスト装置。A rib material layer on a substrate is used for patterning by cutting with a grinding material, and at least a processing chamber surrounded by the substrate, and a substrate transfer means for transferring the substrate so as to pass through the processing chamber , An injection nozzle for injecting abrasive to the substrate in the processing chamber, an abrasive supply means for supplying abrasive to the injection nozzle through piping, and the injection nozzle to reciprocate in a direction perpendicular to the substrate transport direction A nozzle-like moving means is provided, and a slit-like opening is provided in the ceiling of the processing chamber to reciprocate the injection nozzle and the abrasive supply pipe system, and the abrasive material injected by the injection nozzle is circulated for use. to reason, in sandblasting apparatus that is a negative pressure from the outside so as to inhale the processing chamber abrasives in the circulation path, it together has a somewhat wider than the slit opening A sealing tape in which a pipe for grinding material supply passes through the cut hole is closed on the slit-like opening, and the processing chamber is adapted to the movement of the injection nozzle and the pipe. The sandblasting is characterized in that it is installed so as to reciprocate so as to slide on the top surface of the ceiling, and the sealing tape is brought into close contact with the slit-shaped opening by pulling the sealing tape to the indoor side by negative pressure in the processing chamber apparatus. 密閉用テープの両端をそれぞれ巻取状とし、噴射ノズルの動作方向に合わせて密閉用テープの巻取り巻出しを行わせるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のサンドブラスト装置。  2. The sandblasting apparatus according to claim 1, wherein both ends of the sealing tape are wound up so that the sealing tape is wound and unwound in accordance with the operation direction of the spray nozzle. 密閉用テープを輪状とし、噴射ノズルの動作方向に合わせて密閉用テープを回動させるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のサンドブラスト装置。  The sandblasting device according to claim 1, wherein the sealing tape is formed in a ring shape, and the sealing tape is rotated in accordance with the operation direction of the spray nozzle. 密閉テープの裏面側に当接するヘラを加工室内に設けたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のサンドブラスト装置。  The sandblasting device according to any one of claims 1 to 3, wherein a spatula contacting the back side of the sealing tape is provided in the processing chamber.
JP2000239357A 2000-08-08 2000-08-08 Sandblasting equipment Expired - Fee Related JP4407999B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000239357A JP4407999B2 (en) 2000-08-08 2000-08-08 Sandblasting equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000239357A JP4407999B2 (en) 2000-08-08 2000-08-08 Sandblasting equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002052471A JP2002052471A (en) 2002-02-19
JP4407999B2 true JP4407999B2 (en) 2010-02-03

Family

ID=18730911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000239357A Expired - Fee Related JP4407999B2 (en) 2000-08-08 2000-08-08 Sandblasting equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4407999B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100501306B1 (en) * 2002-04-01 2005-07-18 (주) 휴네텍 method of manufacturing a light guiding panel and an apparatus for the same, and a particle blasting apparatus for manufacturing the light guiding panel
KR200495040Y1 (en) * 2021-03-29 2022-02-18 민기훈 Round pipe sandblasting device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002052471A (en) 2002-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4480742B2 (en) Plasma display panel
JP4407999B2 (en) Sandblasting equipment
KR102368126B1 (en) Etching apparatus, etching method, substrate manufacturing method, and substrate
KR100778970B1 (en) Method for manufacturing substrate for flat panel display
JP4183109B2 (en) Rib forming method for plasma display panel
JP2007026960A (en) Manufacturing method of plasma display panel
JPH1190827A (en) Sand-blasting method
KR100741153B1 (en) Substrate conveying device
JP2000024924A (en) Sandblast treating device and treating method
JP2000000765A (en) Sand blast device
JP2008221164A (en) Paste coating device and method
JP2007084843A (en) Thin film deposition method and article manufactured by the same
JP2006278750A (en) Tape peeling device
JP3698508B2 (en) Barrier forming method for plasma display panel and sandblasting apparatus used therefor
JP2000024925A (en) Sand blasting device
JP2004053937A (en) Resist removing apparatus
KR100277634B1 (en) Method of manufacturint barrier for PDP and apparatus the same
KR20070018488A (en) Window cleaning apparatus for lcd
JP4187584B2 (en) Plasma display panel manufacturing method and sandblasting apparatus
JP6208500B2 (en) Coating apparatus and coating method
KR100271370B1 (en) Plasma display panel rearplate manufacturing appartus and method thereof
JPH11320409A (en) Sandblast device
JP2004335118A (en) Manufacturing method of plasma display panel
JP3931930B2 (en) Method for forming partition wall of plasma display panel
JPH1064417A (en) Blast grinding device and manufacture of gas discharge panel

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060322

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080529

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090224

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090330

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090805

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090915

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20091105

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091105

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121120

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131120

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees