JP4405495B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
2 真空チャンバ本体部(真空チャンバ)
2a 吸引口
2b バッフル板
3 真空チャンバ蓋部(真空チャンバ)
4 可変バルブ(可変絞り、圧力制御機構、圧力制御手段)
4a ゲートバルブ(仕切弁)
4b 真空圧計(圧力検出器、圧力制御手段)
4c PID制御回路(圧力制御回路、圧力制御手段)
5 真空ポンプ
10 低温プラズマ
11 アノード部(平行平板の一方、第1印加回路、第1機構)
11a アッパーサポート
12 カソード部(平行平板の他方、第1印加回路、第1機構、基板支持体)
12a ローアーサポート
13 プラズマ処理空間
14 連通口
15 処理ガス供給口(第2のガス導入路)
20 高密度プラズマ
21 プラズマ発生チャンバ(隣接機構部、第2機構)
22 プラズマ発生空間
23 プラズマ用ガス送給路(第1のガス導入路)
24 コイル(第2印加回路)
25 永久磁石片(磁気回路用の磁性部材)
26 磁束線(磁気回路)
31 RF電源(第1印加回路)
32 RF電源(第2印加回路)
40,40a,40b,40c 可動壁体(可変絞り)
41 ベローズ(蛇腹、壁体駆動機構)
42 ボールネジ(進退駆動軸、壁体駆動機構)
43 サポート(支柱、壁体駆動機構)
44 モータ(電動機、壁体駆動機構)
49,49a 絞り部
49b 開口
49c 可動壁体内側面
Claims (5)
- プラズマ処理空間が形成された第1機構と、前記第1機構に取着して又はそれと一体的に設けられプラズマ発生空間が形成された第2機構とを具え、前記プラズマ発生空間が前記プラズマ処理空間に隣接し且つ連通しているプラズマ処理装置において、
前記プラズマ発生空間が環状に形成されており、
前記環状のプラズマ発生空間を挟んで配置された永久磁石または直流励磁コイルからなる磁気回路用の磁性部材と、
プラズマの強化に寄与する交番電界を前記プラズマ処理空間の上下に配置されたアノード部およびカソード部の間に印加する第1印加回路と、
プラズマの発生に寄与する交番磁界を前記プラズマ発生空間を挟んで配置されたコイルに印加する第2印加回路と、
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記第1印加回路および前記第2印加回路は、出力が互いに独立して制御可能なものであることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ発生空間にプラズマ用ガスを導入する第1のガス導入路と、前記プラズマ処理空間に処理ガスを導入する第2のガス導入路とが個別に設けられていることを特徴とする請求項1又は2のいずれかに記載されたプラズマ処理装置。
- 前記第2のガス導入路へは反応ガス成分を含むガスを供給すると共に前記第1のガス導入路へは非反応性ガスのみを供給するものであることを特徴とする請求項3記載のプラズマ処理装置。
- 上記プラズマ処理装置がデポジション処理装置またはエッチング処理装置のいずれかであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載されたプラズマ処理装置。
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-
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- 2006-11-13 JP JP2006307097A patent/JP4405495B2/ja not_active Expired - Lifetime
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