JP4401123B2 - Pure water supply system - Google Patents
Pure water supply system Download PDFInfo
- Publication number
- JP4401123B2 JP4401123B2 JP2003280980A JP2003280980A JP4401123B2 JP 4401123 B2 JP4401123 B2 JP 4401123B2 JP 2003280980 A JP2003280980 A JP 2003280980A JP 2003280980 A JP2003280980 A JP 2003280980A JP 4401123 B2 JP4401123 B2 JP 4401123B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pure water
- water supply
- supply pipe
- facility
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
本発明は、半導体製造工場や薬品製造工場等において利用される純水供給システムに関する。 The present invention relates to a pure water supply system used in a semiconductor manufacturing factory, a chemical manufacturing factory, or the like.
図2は従来例に係る半導体製造工場における純水供給システムを示す図である。
10は一次純水システムであり、原水(水道水や井戸水等)から一次純水を生成する。この一次純水は二次純水システム20に供給される。二次純水システム20は、純水タンク21と、これに連結された二次純水製造装置22から構成されている。純水タンク21は、一次純水を貯留する。そして、純水タンク21内で一定量を超えた一次純水は、二次純水製造装置22に自動的に供給されるように構成されている。
FIG. 2 is a diagram showing a pure water supply system in a semiconductor manufacturing factory according to a conventional example.
A primary
二次純水製造装置22によって生成された二次純水は純水供給管23を流れ、純水供給管23から分岐した第1の分岐管24a,25aを介して、ウエハー処理設備30、メンテナンス用設備31にそれぞれ供給される。ウエハー処理設備30は、例えばウエハー洗浄装置であり、メンテナンス用設備31は、例えば熱処理装置で用いられる石英管の洗浄装置、あるいはCMP装置やレジストコーター内に併設された洗浄ユニット等であり、いずれも洗浄処理のために純水の供給を必要とする設備である。ウエハー処理設備30は、恒常的に稼働される設備であり、一方メンテナンス用設備は、非恒常的に稼働される(メンテナンス時のみ)設備である。
The secondary pure water generated by the secondary pure
ウエハー処理設備30、メンテナンス用設備31の直前には、それぞれ自動バルブ26、27が設けられ、それぞれの設備が稼働している時には開き、稼働していない時には閉じるように自動制御されている。また、自動バルブ26、27の手前の第1の分岐管24a,25aから、第2の分岐管24b,25bが分岐され、純水供給管23から純水タンク21への帰路を構成するリターン管23aにそれぞれ連結されている。
第2の分岐管24b,25bを設けているのは、自動バルブ26、27が閉じられている時でも常時一定量の二次純水を第1の分岐管24a,25aに流し、管内に雑菌等が繁殖するのを防止するためである。また、ウエハー処理設備30、メンテナンス用設備31で使用済みの二次純水は排水管40を経由して外部へ排水される。
The
ところで、純水供給システムのトータルの純水供給量は、各設備への純水供給量を見積もって決定する必要がある。そこで、ウエハー処理設備30とメンテナンス用設備31とが同時に稼働する場合があることを考慮して経験的に純水供給量を決定していた。
By the way, the total pure water supply amount of the pure water supply system needs to be determined by estimating the pure water supply amount to each facility. Accordingly, the pure water supply amount has been determined empirically in consideration of the fact that the
なお、関連する先行技術文献には、以下の特許文献が挙げられる。
従来の純水供給システムでは、ウエハー処理設備30とメンテナンス用設備31への純水供給は同じ純水供給管23を通して行われ、それぞれ一定の流量、一定の圧力が確保されていた。このため、メンテナンス設備31が稼働する際に、ウエハー処理設備30への純水供給不足を防ぐために、1次純水システム10及び二次純水システム20の純水供給能力を相当高くしなければならず、これらの純水システム設備の大型化、高コスト化を招いていた。
In the conventional pure water supply system, pure water is supplied to the
そこで、本発明の純水供給システムは、メンテナンス用設備31に供給される純水は、多少の圧力変動や流量変動があっても問題がない点に着目したものであり、その特徴とするところは、第1の純水供給管のリターン管から第2の純水供給管を分岐させ、リターン管の純水の流量を流量計で計測しながら、第2の純水供給管からメンテナンス用設備への純水供給量を制御するようにした点である。
Therefore, the pure water supply system of the present invention pays attention to the fact that the pure water supplied to the
本発明によれば、メンテナンス用設備等の非恒常的に使用される設備への純水供給については、恒常的に稼働される設備への純水供給に余裕がある場合に行われるように制御されるので、恒常的に稼働される設備への純水供給量を確保した効率の良い純水システムを提供することができる。 According to the present invention, the supply of pure water to equipment that is used non-permanently, such as maintenance equipment, is controlled so that it is performed when there is room in the supply of pure water to equipment that is constantly operated. Therefore, it is possible to provide an efficient pure water system that ensures the amount of pure water supplied to equipment that is constantly operated.
次に、本発明を実施するための形態について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明を実施するための最良の形態に係る純水供給システムを示す図である。なお、図1において図2と同一の構成部分については同一の符号を付して説明を省略する。 Next, modes for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a pure water supply system according to the best mode for carrying out the present invention. In FIG. 1, the same components as those in FIG.
この純水供給システムでは、二次純水製造装置22で生成された二次純水は第1の純水供給管50に流入する。そして、第1の純水供給管50を流れる純水は従来例と同様にして、ウエハー処理設備30に供給される。
In this pure water supply system, the secondary pure water generated by the secondary pure
第1の純水供給管50のリターン管50aからは、第2の純水供給管51が分岐され、この第2の純水供給管51から更に分岐した第1の分岐管25aを介して、リターン管50aに流れる余剰の純水がメンテナンス用設備31に供給される。第1の分岐管25aから分岐した第2の分岐管25bは第2の純水供給管51のリターン管51aに連結され、第1の分岐管25aに流れる純水の一部が第2の分岐管25bを通ってリターン管51aに流入するように構成されている。
A second pure
また、メンテナンス用設備31への純水供給を制御するために次の構成が採用されている。すなわち、第1の純水供給管50のリターン管50aには流量計52が設けられ、この流量計52の下流のリターン管50aから分岐した第2の純水供給管51の分岐点近傍に、自動制御バルブ53が設けられている。また、この自動制御バルブ53の開口度は、流量計52で計測された純水の流量に応じて、マイクロコンピュータ等の制御装置54によって自動制御される。
Further, the following configuration is adopted to control the supply of pure water to the
ここで、自動制御バルブ53は、流量計で計測された純水の流量が多いときはその開口度が大きくなるように制御され、逆に、流量が少ないときはその開口度が小さくなるように制御される。流量が少ないときでも開口度をゼロにすることはなく、雑菌等の繁殖を防止するために最低限の純水が第2の純水供給管51に流れるように制御される。
Here, the
また、第1の純水供給管50のリターン管50a、第2の純水供給管51のリターン管51aはいずれも純水タンク21に連結されている。
The
この純水供給システムによれば、恒常的に稼働されるウエハー処理設備30については第1の純水供給管50から、一定の流量と圧力を有した二次純水が優先的に供給され、非恒常的に稼働されるメンテナンス用設備31には、第1の純水供給管50のリターン管50aから分岐された第2の純水供給管51から余剰の二次純水が供給されるように構成しているので、必要最低限の純水供給を確保した効率の良い純水供給システムを提供することができる。
According to this pure water supply system, secondary pure water having a constant flow rate and pressure is preferentially supplied from the first pure
なお、上記の形態では、本発明の半導体製造工場への適用例について説明したが、本発明はこれに限られることなく、純水供給を必要とするすべての施設、例えば薬品製造工場等に適用できるものである。 In the above embodiment, the application example of the present invention to the semiconductor manufacturing factory has been described. However, the present invention is not limited to this, and is applicable to all facilities that require the supply of pure water, such as a chemical manufacturing factory. It can be done.
10 一次純水システム 20 二次純水システム 21 純水タンク
22 二次純水製造装置 24a、25a 第1の分岐管
24b、25b 第2の分岐管 26、27 自動バルブ
30 ウエハー処理設備 31 メンテナンス用設備 50 第1の純水供給管50a 第1の純水供給管のリターン管 51 第2の純水供給管51a 第2の純水供給管のリターン管
52 流量計 53 自動制御バルブ 54 制御装置
DESCRIPTION OF
24b, 25b
30
52
Claims (3)
前記純水システムから純水が供給される第1の純水供給管と、
前記第1の純水供給管を介して純水が供給される第1の設備と、
前記第1の純水供給管のリターン管から分岐された第2の純水供給管と、
前記第2の純水供給管を介して純水が供給される第2の設備と、
前記第1の純水供給管のリターン管を流れる純水の流量を計測する流量計と、
前記第2の純水供給管に設けられた自動調整バルブと、
前記流量計で計測された純水の流量に応じて、前記自動バルブの開口度を制御する制御装置と、
前記第1の純水供給管のリターン管及び前記第2の純水供給管のリターン管に流れる純水を貯留すると共に、前記純水システムに連結された純水タンクを有することを特徴とする、純水供給システム。 Pure water system,
A first pure water supply pipe to which pure water is supplied from the pure water system;
A first facility to which pure water is supplied via the first pure water supply pipe;
A second pure water supply pipe branched from a return pipe of the first pure water supply pipe;
A second facility to which pure water is supplied via the second pure water supply pipe;
A flow meter for measuring a flow rate of pure water flowing through a return pipe of the first pure water supply pipe;
An automatic adjustment valve provided in the second pure water supply pipe;
A control device for controlling the opening degree of the automatic valve according to the flow rate of pure water measured by the flow meter ;
The deionized water tank has a deionized water tank connected to the deionized water system, and stores deionized water flowing through the return pipe of the first pure water supply pipe and the return pipe of the second pure water supply pipe. , Pure water supply system.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003280980A JP4401123B2 (en) | 2003-07-28 | 2003-07-28 | Pure water supply system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003280980A JP4401123B2 (en) | 2003-07-28 | 2003-07-28 | Pure water supply system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005046716A JP2005046716A (en) | 2005-02-24 |
JP4401123B2 true JP4401123B2 (en) | 2010-01-20 |
Family
ID=34266632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003280980A Expired - Fee Related JP4401123B2 (en) | 2003-07-28 | 2003-07-28 | Pure water supply system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4401123B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6059588B2 (en) * | 2013-04-11 | 2017-01-11 | オルガノ株式会社 | Water supply device for injection |
-
2003
- 2003-07-28 JP JP2003280980A patent/JP4401123B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005046716A (en) | 2005-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20060045816A1 (en) | Apparatus and method for mixing and supplying chemicals | |
JPH10141599A (en) | Gas supply unit for semiconductor production device | |
WO2014125678A1 (en) | Hot water supply device | |
JP4401123B2 (en) | Pure water supply system | |
US6792963B2 (en) | Coolant fed humidifier having siphon drain and method therefor | |
WO2020209064A1 (en) | Liquid supplying device, washing unit, and substrate processing device | |
KR101386873B1 (en) | Waste hot water recycling system | |
WO2004070801A1 (en) | Fluid control device and heat treatment device | |
JP6486986B2 (en) | Liquid supply apparatus and liquid supply method | |
WO1993013020A1 (en) | Piping system for supplying ultrapure water | |
JP2009183861A (en) | Method for management of chlorine concentration | |
JPH11256624A (en) | Water distribution equipment and its controller | |
JP5421022B2 (en) | Chemical liquid warming system and method for stopping the same | |
KR0156160B1 (en) | Upstream current thwarting apparatus of water of wafer cleaner | |
JP2009221733A (en) | Water treatment supply system | |
JP2009138633A (en) | Water supply system generator set | |
JPH09260332A (en) | Chemical liquid supplier of substrate processor | |
US6796458B2 (en) | Air supply apparatus for semiconductor device fabricating equipment | |
JP2021506570A (en) | Water purification and dispensing system, and how such system operates | |
CN215862898U (en) | Air inlet device and system | |
JP2003086579A (en) | Gas supply integration unit | |
JP2007157169A (en) | Flow control system of cooling water supply device in semiconductor manufacturing device | |
JP2002054192A (en) | Water supply system | |
JP2023078027A (en) | Processing method of wastewater | |
KR20230005759A (en) | Cleaning apparatus, cleaning method, method of cleaning wafer, and method of manufacturing silicon wafer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090709 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090904 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090930 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091027 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121106 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131106 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |