JP4376908B2 - 触媒蒸留及び固定床触媒工程の組合せを使用する改良オレフィンプラントリカバリーシステム - Google Patents
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Description
a.C2アセチレンの95%以上を除去するために、シングル触媒蒸留塔を使用する場合、同時に生ずるエチレンの損失は1質量%以上である。これは、経済的に望ましくない。
1.塔を、液相のエチレン及びプロピレンが維持されるように操作すること、及び
2.触媒蒸留塔を、オーバーヘッド50に、なお未転化のC2−C5アセチレン及びジオレフィンが残留するように操作すること、
によって達成される。
1.触媒蒸留塔を、高水素化レベルで操作する必要はないが、アセチレンC2規格を維持しつつ、高いアセチレン、メチルアセチレン、及びプロパジエンの変化率、触媒について最大の生産性で、正味のエチレンの増量のために操作される;
2.触媒の脱活性化から生ずるアセチレン化合物及びジエンの触媒蒸留オーバーヘッド濃度における変化、一酸化炭素含量の増大、又は供給原料の変更が調整される;
3.一時的なアップセット及び/又は触媒の脱活性化又は触媒毒作用の間、水素の除去が持続され、このようにして、下流の冷蔵システムのパフォーマンスが安定化される。システムからの水素の量が変化すると、下流の蒸留システムの分圧が変化し、必要な冷蔵量が変動する、これは、プロセスのアップセットを形成し、極めて望ましくない;
4.予備の固定床反応器の使用による触媒の再生の機会があること(システム全体のオンストリーム操作寿命が長くなる)。
Claims (29)
- 水素、エチレン、プロピレン、アセチレン、メチルアセチレン、プロパジエン及び他のC4、C5、C6及びより重質の不飽和炭化水素を含有する熱分解供給物ストリームを処理して、エチレン及びプロピレンを水素化することなく、前記アセチレンの本質的に全てを、エチレンに対して高い比率で水素化及び転化し、及び前記メチルアセチレン、プロパジエン及び他のC4、C5、C6及びより重質の不飽和炭化水素の少なくとも一部を水素化してオレフィンとし、これによって、前記水素の一部を消費する、熱分解供給物ストリームの処理方法であって、
a.少なくとも1つの水素化触媒を収容する触媒蒸留塔に、前記供給物ストリームを導入し、同時に、(i)前記アセチレンの一部を選択的に水素化してエチレンを生成し、及び前記メチルアセチレン、プロパジエン及びC4、C5、C6及びより重質の不飽和炭化水素を水素化し、及び水素化条件を制御して、これにより、前記エチレン及びプロピレンを水素化させず;及び(ii)前記供給物ストリームを、分留によって、軽質の炭化水素及び重質の炭化水素に分離する工程;
b.前記水素及び前記軽質の炭化水素の残部の実質的に全てを、蒸気相オーバーヘッドとして、及び前記重質の炭化水素の実質的に全てを、ボトムとして、前記触媒蒸留塔から除去する工程;
c.前記蒸気相オーバーヘッドの少なくとも一部を、水素化触媒を収容する蒸気相固定床反応器システムに導入し、及び前記アセチレンの残部を水素化して、さらなるエチレンを生成し、及び前記メチルアセチレン、プロパジエン及びC4、C5、C6及びより重質の不飽和炭化水素のさらなる部分を水素化し、及び水素化条件を制御して、前記エチレン及びプロピレンを水素化させない工程;及び
d.前記固定床反応器システムから混合生成物を取出す工程
を包含することを特徴とする、熱分解供給物ストリームの処理法。 - 軽質の炭化水素がC4及びより軽質の炭化水素からなり、重質の炭化水素がC5及びより重質の炭化水素からなるものである、請求項1記載の方法。
- 軽質の炭化水素がC5及びより軽質の炭化水素からなり、重質の炭化水素がC5及びより重質の炭化水素からなるものである、請求項1記載の方法。
- さらに、蒸気相オーバーヘッドの一部を凝縮し、前記凝縮部分を触媒蒸留塔に還流として戻す工程を包含する、請求項1記載の方法。
- 蒸気相オーバーヘッドの本質的に全てを、蒸気相固定床反応器システムに導入し、生成物の一部を、還流として、前記固定床反応器システムから触媒蒸留塔に戻す、請求項1記載の方法。
- 触媒蒸留塔及び蒸気相固定床反応器における選択的水素化の条件を制御する工程が、触媒蒸留塔及び蒸気相固定床反応器における温度プロフィールを制御する工程を包含する、請求項1記載の方法。
- 触媒蒸留塔における温度プロフィールを制御する工程が、前記触媒蒸留塔において下降する液の一部を、選択された部位において、側流として取出し、この側流を冷却し、冷却した側流を、前記選択された部位又はその上方の部位で前記触媒蒸留塔に戻す工程を包含する、請求項6記載の方法。
- さらに、側流を水素化する工程を包含する、請求項7記載の方法。
- 触媒蒸留塔における温度プロフィールを制御する工程が、前記触媒蒸留塔の水素化触媒床の下方の部位から、ポンプアラウンドストリームを取出し、このポンプアラウンドストリームを冷却し、冷却したポンプアラウンドストリームを、前記水素化触媒床の上方の部位で前記触媒蒸留塔に戻す工程を包含する、請求項6記載の方法。
- 蒸気相固定床反応器システムが、少なくとも1個の反応器を備えたものであり、前記蒸気相固定床反応器システムにおいて温度を制御する工程が、前記反応器前の熱交換器において温度を制御する工程を包含するものである、請求項1記載の方法。
- 蒸気相固定床反応器システムが、直列の2個以上の反応器を備えたものであり、前記蒸気相固定床反応器システムにいて温度を制御する工程が、前記反応器の各々の前の熱交換器において温度を制御する工程を包含するものである、請求項1記載の方法。
- 選択的に水素化する工程が、触媒蒸留塔を、触媒床における液相中のエチレンの濃度が2質量%未満となるように操作する工程からなる、請求項1記載の方法。
- 選択的に水素化する工程が、触媒蒸留塔を、触媒蒸留塔内を下方に流動する液が、触媒床ゾーンにおいて、800 lb/hr/ft2(断面積)以上であるように操作する工程からなる、請求項1記載の方法。
- 供給物ストリームを触媒蒸留塔に導入する工程が、前記供給物ストリームを、前記触媒蒸留塔からの再循環液と混合し、この混合した供給物ストリーム及び再循環液を、前記触媒蒸留塔以前に、固定床水素化プレ反応器に導入し、これによって、高度に不飽和の炭化水素の一部を水素化し、蒸気及び液ストリームを前記触媒蒸留塔に導入する工程を包含するものである、請求項1記載の方法。
- 触媒蒸留塔における水素化触媒床が、担体に担持された第VIIIA族金属からなる触媒を収容する、請求項1記載の方法。
- 触媒が、アルミナに担持されたパラジウムを含有するものである、請求項12記載の方法。
- 触媒が、金、銀及びアルカリ金属からなる群から選ばれる添加剤を含有するものである、請求項13記載の方法。
- 異なるパラジウム量を有する触媒を、触媒蒸留塔の選択された部分に配置する、請求項1記載の方法。
- 異なる触媒を、触媒蒸留塔の異なる部分に配置する、請求項15記載の方法。
- 異なる触媒が、異なる金属を含有するものである、請求項19記載の方法。
- 異なる触媒が、異なる金属含量を有するものである、請求項19記載の方法。
- 触媒が担体上に担持されたニッケルを含有するものである、請求項15記載の方法。
- 触媒蒸留塔の異なる部分にある触媒が、担体上に担持されたパラジウム及び担体上に担持されたニッケルの組み合わせを含有するものである、請求項15記載の方法。
- 固定床反応器システムにおける水素化触媒が、担体に担持された第VIIIA族金属を含有するものである、請求項1記載の方法。
- 固定床反応器システムにおける水素化触媒が、アルミナに担持されたパラジウムを含有するものである、請求項24記載の方法。
- 固定床反応器システムにおける水素化触媒が、金、銀、アルカリ金属又はこれらの組み合わせからなる助触媒と共に、アルミナに担持されたパラジウムを含有するものである、請求項24記載の方法。
- 固定床水素化プレ反応器がニッケル触媒を収容しており、前記プレ反応器は、除去のため、イオウ化合物の反応を生ずるものである、請求項14記載の方法。
- さらに、触媒蒸留塔への導入前に、供給物ストリームから触媒毒を除去する工程を包含する、請求項1記載の方法。
- 触媒毒が、鉛、ヒ素及び水銀である、請求項28記載の方法。
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