JP4368365B2 - 液浸露光用基板およびその製造方法、ならびに液浸露光方法 - Google Patents
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Description
まず、図1〜図3を参照して、本発明の第1の実施の形態に係る液浸露光用基板について説明する。図1〜図3は液浸露光用基板の構成を表しており、図1は断面構成、図2は平面構成、図3は表面張力分布をそれぞれ示している。なお、図1および図3は、それぞれ図2に示したII−II線に沿った断面および分布を示している。
次に、図10〜図13を参照して、本発明の第2の実施の形態に係る液浸露光用基板およびその製造方法、ならびに液浸露光方法について説明する。図10は液浸露光用基板の構成、図11および図12は液浸露光用基板の製造工程、図13は液浸露光工程をそれぞれ表しており、いずれも図1に対応する断面構成を示している。なお、図10〜図13では、上記第1の実施の形態において説明した要素と同一の要素に同一の符号を付している。
次に、図14および図15を参照して、本発明の第3の実施の形態に係る液浸露光用基板およびその製造方法、ならびに液浸露光方法について説明する。図14は液浸露光用基板の構成およびその製造方法、図15は液浸露光工程をそれぞれ表しており、いずれも図1に対応する断面構成を示している。なお、図14および図15では、上記第1の実施の形態において説明した要素と同一の要素に同一の符号を付している。
次に、図16〜図21を参照して、本発明の第4の実施の形態に係る液浸露光用基板およびその製造方法、ならびに液浸露光方法について説明する。図16は液浸露光用基板の構成、図17および図19〜図21は液浸露光用基板の製造工程、図18は液浸露光工程をそれぞれ表しており、いずれも図1に対応する断面構成を示している。なお、図16〜図21では、上記第1の実施の形態において説明した要素と同一の要素に同一の符号を付している。
次に、図22を参照して、本発明の第5の実施の形態に係る液浸露光用基板およびその製造方法について説明する。図22は、液浸露光用基板の構成および製造方法を説明するためのものであり、いずれも図1に対応する断面構成を示している。なお、図22では、上記第1の実施の形態において説明した要素と同一の要素に同一の符号を付している。
以下の手順により、上記第1の実施の形態の液浸露光用基板を製造した。すなわち、タンタル(Ta;30nm厚)のスパッタ膜が一面に形成された低表面張力を有するシリコン製の支持基板1(基板直径=6インチ(=15.24cm))を準備したのち、まず、支持基板1の表面にポリヒドロキシスチレン樹脂系化学増幅型レジストを塗布し、100℃で90秒間に渡ってプリベークすることにより、フォトレジスト膜2(300nm厚)を形成した。続いて、フォトレジスト膜2上に、中央領域RCに対応した開口部3Kを有するマスク3を配置した。最後に、表面張力上昇剤4としてオゾンおよび窒素(N2 )の混合ガス(オゾン含有量=50ppm)を使用して、処理時間=30秒間および処理雰囲気温度=23℃の条件において、中央領域RCにおけるフォトレジスト膜2の表面に表面張力上昇処理を施した。これにより、周縁領域RPの表面張力TPが中央領域RCの表面張力TCよりも低い液浸露光用基板(TP低,TC高)が完成した。
以下の手順を除いて実施例1と同様の手順により、上記第2の実施の形態の液浸露光用基板を製造した。すなわち、実施例1の支持基板1と同様の構成の支持基板8を使用し、表面張力上昇剤4を使用して周縁領域RPおよび中央領域RCにおけるフォトレジスト膜2の表面に表面張力上昇処理を施したのち、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PEGMEA)を使用して周縁領域RPにおけるフォトレジスト膜2を除去することにより、その周縁領域RPにおいて支持基板8を部分的に露出させた。この場合には、周縁領域RPを支持基板8の外縁から内側に向かって1mmの範囲に設定し、以降の実施例においても同様とした。
以下の手順を除いて実施例1と同様の手順により、上記第3の実施の形態の液浸露光用基板を製造した。すなわち、表面張力上昇剤4を使用して周縁領域RPおよび中央領域RCにおけるフォトレジスト膜2に表面張力上昇処理を施したのち、その周縁領域RPにおけるフォトレジスト膜2の表面に1%ペルフルオロオクタンサルフォネートアセテート(PFOS)のイソプロピルアルコール(IPA)溶液を塗布して乾燥させることにより、表面張力低下膜9を形成した。
以下の手順を除いて実施例1と同様の手順により、上記第4の実施の形態の液浸露光用基板を製造した。すなわち、酸化チタン(TiO2 )のスパッタ膜が一面に形成された高表面張力を有するシリコン製の支持基板10(基板直径=6インチ)を使用し、その支持基板10上にフォトレジスト膜2を形成し、表面張力上昇剤4を使用して周縁領域RPおよび中央領域RCにおけるフォトレジスト膜2に表面張力上昇処理を施したのち、表面張力低下剤11としてPFOSの1%PEGMEA溶液を使用して周縁領域RPにおけるフォトレジスト膜2を除去した。
以下の手順を除いて実施例1と同様の手順により、上記第4の実施の形態における変形例の液浸露光用基板を製造した。すなわち、実施例4において使用した高表面張力を有する支持基板10を使用し、その支持基板10上にフォトレジスト膜2を形成し、表面張力低下剤11を使用して周縁領域RPにおけるフォトレジスト膜2を除去したのち、表面張力上昇剤4を使用して周縁領域RPおよび中央領域RCにおけるフォトレジスト膜2に表面張力上昇処理を施した。
中央領域RCにおけるフォトレジスト膜2の表面に表面張力上昇処理を施さなかった点を除き、実施例1と同様の手順を経ることにより、周縁領域RPの表面張力TPが中央領域RCの表面張力TCに等しい液浸露光用基板(TP低,TC低)を製造した。
マスク3を使用せず、周縁領域RPおよび中央領域RCにおけるフォトレジスト膜2の表面に表面張力上昇処理を施した点を除き、実施例1との同様の手順を経ることにより、周縁領域RPの表面張力TPが中央領域RCの表面張力TCに等しい液浸露光用基板(TP高,TC高)を製造した。
Claims (7)
- 支持基板上にフォトレジスト膜を有する液浸露光用基板であって、
前記フォトレジスト膜が、前記支持基板上の周縁領域および周縁領域以外の領域に形成されており、
前記周縁領域以外の領域における前記フォトレジスト膜の表面に表面張力上昇処理が施されていると共に、前記周縁領域における前記フォトレジスト膜上に表面張力低下膜が形成されており、
前記表面張力上昇処理により、前記フォトレジスト膜の表面が酸化されていると共に、前記表面張力低下膜が、フッ素樹脂およびシリコン樹脂からなる群のうちの少なくとも1種により構成されており、
前記周縁領域における前記表面張力低下膜の表面張力が、前記周縁領域以外の領域における前記フォトレジスト膜の表面張力よりも低い
ことを特徴とする液浸露光用基板。 - 前記周縁領域の表面張力と前記周縁領域以外の領域の表面張力とが、それらの領域の境界位置を挟んで不連続になっている
ことを特徴とする請求項1記載の液浸露光用基板。 - 前記周縁領域における液浸液との界面張力が、前記周縁領域以外の領域における前記液浸液との界面張力よりも高い
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液浸露光用基板。 - 支持基板上にフォトレジスト膜を有する液浸露光用基板の製造方法であって、
前記支持基板上の周縁領域および周縁領域以外の領域に前記フォトレジスト膜を形成する工程と、
前記周縁領域および前記周縁領域以外の領域における前記フォトレジスト膜の表面を酸化することにより、その表面に表面張力上昇処理を施す工程と、
前記表面張力上昇処理が施された前記周縁領域における前記フォトレジスト膜上に、フッ素樹脂およびシリコン樹脂からなる群のうちの少なくとも1種により、表面張力低下膜を形成する工程と
を含み、
前記周縁領域における前記表面張力低下膜の表面張力を、前記周縁領域以外の領域における前記フォトレジスト膜の表面張力よりも低くする
ことを特徴とする液浸露光用基板の製造方法。 - 前記周縁領域の表面張力と前記周縁領域以外の領域の表面張力とを、それらの領域の境界位置を挟んで不連続にする
ことを特徴とする請求項4記載の液浸露光用基板の製造方法。 - 前記周縁領域における液浸液との界面張力を、前記周縁領域以外の領域における前記液浸液との界面張力よりも高くする
ことを特徴とする請求項4または請求項5に記載の液浸露光用基板の製造方法。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載した液浸露光用基板上の周縁領域以外の領域に液浸液を供給する工程と、
露光装置を使用して前記液浸液を介してフォトレジスト膜を露光する工程と
を含むことを特徴とする液浸露光方法。
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