JP4367347B2 - 膜形成方法及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器 - Google Patents
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Description
近年では、材料削減効果及び高品質対応を目的として、配向膜形成材料を含む液状体を吐出ヘッドから液滴として吐出することにより配向膜を形成する液滴吐出法(液滴吐出装置)の使用が検討されている。
乾燥性の高いインクを用いた液滴吐出により膜形成を行う場合、液滴が平坦化するまでの遅延工程中にも乾燥が進行するため、例えば乾燥(焼成)工程前に染み上がり等が生じることにより乾燥ムラになる虞がある。
この場合、製膜された基板を有する表示装置においては、乾燥ムラが生じた箇所が表示ムラとなり、表示品質の低下を招いてしまう。
本発明の膜形成方法は、液状体を吐出して基板に塗布する塗布工程と、前記液状体が塗布された基板を乾燥させる乾燥工程とを備えた膜形成方法であって、前記液状体は、固形分がポリアミック酸をベースとし、主溶媒がγ−ブチロラクトン(沸点;204℃、20℃での粘度;2mPa・s、20℃での表面張力;42mN/m)である溶液であり、前記塗布工程後の前記液状体に含まれる溶媒の蒸発量が40%を超える前に、前記乾燥工程を開始することを特徴とするものである。
これにより、本発明では、溶媒の蒸発量を容易に測定することが可能になり、乾燥ムラが生じる経過時間が経過する前に乾燥処理を実施させることにより、乾燥前の溶媒蒸発に起因する乾燥ムラを防止することができる。
これにより、本発明では、経過時間の測定結果から溶媒蒸発量が所定値を超えてしまうことが判明した場合、この基板を搬出して排除することにより、品質が低下した可能性の高い不良品が製造されてしまうことを防止できる。
これにより、本発明では、例えば液晶表示装置における配向膜を塗布する際に用いられる液状体に適用することが可能になる。
このような溶媒としては、少なくともγ−ブチロラクトンを含むことが好ましい。
表面張力が20mN/mを下回るときには、液状体を吐出するヘッドにおいて、メニスカス制御が困難になって液状体吐出が不安定になるという問題があり、表面張力が50mN/mを超えるときには、上記ヘッド101への液状体の充填が困難になるとともに基板に着弾した際に液状体が濡れ拡がりづらいという問題が生じるが、本発明では液状体の表面張力を20〜50mN/mの範囲とすることで、これらの問題を回避することができる。
粘度が50mPa・sを超える場合には、ヘッド101への充填及び液状体の吐出が困難になるという問題があるが、本発明では液状体の粘度を50mPa・s以下とすることで、この問題を回避することができる。
また、本発明の電子機器は、上記の製造方法で製造された電気光学装置を備えることを特徴としている。
従って、本発明の電気光学装置の製造方法及び電子機器では、乾燥ムラに起因した表示ムラが生じることを防止でき、高品質の電気光学装置及び電子機器を得ることができる。
(膜形成方法)
まず、本発明の膜形成方法を用いて基板に製膜する膜形成装置について説明する。
図1は、膜形成装置110の概略構成を示す斜視図である。
膜形成装置110は、液状体の液滴を吐出して基板Pに塗布する液滴吐出装置(吐出装置、インクジェット装置)IJと、液状体が塗布された基板を真空乾燥させる乾燥装置VCとから構成されている。
ステージ107は、この液滴吐出装置IJによりインク(液状体)を設けられる基板Pを支持するものであって、基板Pを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
図2において、液体材料(機能液)を収容する液体室121に隣接してピエゾ素子122が設置されている。液体室121には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系123を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子122は駆動回路124に接続されており、この駆動回路124を介してピエゾ素子122に電圧を印加し、ピエゾ素子122を変形させることにより、液体室121が変形し、ノズル125から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を所定の駆動波形で変化させることにより、ピエゾ素子122の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子122の歪み速度が制御される。
なお、液滴吐出方式としては、液体材料を加熱し発生した泡(バブル)により液体材料を吐出させるバブル(サーマル)方式でも採用可能であるが、ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
Y軸方向ガイド軸105は、基台109に対して動かないように固定されている。ステージ107は、Y軸方向駆動モータ103を備えている。Y軸方向駆動モータ103はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ107をY軸方向に移動する。
クリーニング機構は、液滴吐出ヘッド101をクリーニングするものである。クリーニング機構には、図示しないY軸方向の駆動モータが備えられている。このY軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Y軸方向ガイド軸105に沿って移動する。クリーニング機構の移動も制御装置CONTにより制御される。
ここでは、液晶表示装置に用いられる配向膜を製膜する場合の例について説明する。
まず、液滴吐出前の準備工程について説明する。
液滴吐出により配向膜を形成するためには、液晶の配向規制力、電圧保持特性、残像特性の他、溶液に強い外力が加わったときの抵抗が少なく流動性に優れることが重要であり、本実施の形態では配向膜形成材料を含有する液状体として、固形分がポリアミック酸をベースとし、γ−ブチロラクトン(沸点;204℃、20℃での粘度;2mPa・s、20℃での表面張力;42mN/m)を主溶媒とする溶媒(溶剤)が90%以上(ここでは、固形分濃度1.6%)含有される溶液を用いる。
そこで、溶媒蒸発量が40%に到達するまでの経過時間180秒を閾値として記憶装置115に記憶させておく。
X軸方向駆動モータ102及びY軸方向駆動モータ103を駆動して、所定位置に基板Pと液滴吐出ヘッド101とを相対的に位置決めし、液滴吐出ヘッド101に対して基板Pを一方向(Y軸方向)へ走査しつつ、ノズル125から上記配向膜形成用の液状体(インク)の液滴を吐出させる。ここでは、1.5cm×1.5cmの矩形状の製膜エリア(約2.25cm2)に対して45nmの膜厚を狙い値として0.5mgの液状体を吐出した。
さらに、本実施の形態では、液滴吐出方式で配向膜を形成するので、材料使用量や排液量がフレキソ法やスピンコート法と比較して大幅に削減でき、省エネルギー効果が期待できるとともに、基板Pの大型化にも対応可能である。
次に、上述した膜形成装置を用いて製造される液晶パネル(デバイス)及び当該液晶パネルを備える液晶装置(電気光学装置)について説明する。
図4乃至図6に示す本実施の形態の電気光学装置としての液晶表示装置は、スイッチング素子としてTFT(Thin Film Transistor)素子を用いたアクティブマトリクスタイプの透過型液晶装置である。図4は本実施形態の透過型液晶装置のマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。図5はデータ線、走査線、画素電極等が形成されたTFTアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す要部平面図である。図6は図5のA−A’線断面図である。なお、図6においては、図示上側が光入射側、図示下側が視認側(観察者側)である場合について図示している。また、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
次に、本実施の形態に示した上記液晶装置からなる液晶表示装置の製造方法について、その例を図面を参照しつつ説明する。
図7は、本実施形態の液晶表示装置の製造方法について、そのプロセスフローを示す説明図である。すなわち、本製造方法は、一対の基板に配向膜を形成し、この配向膜にラビング処理を施し、一方の基板に対して枠状シール材を形成した後、このシール材枠内に液晶を滴下し、他方の基板を貼り合せる。以下、各フローについて詳細を説明する。
その後、図7のステップS3に示すように、配向膜40に所定の方向にラビング処理を施し、TFTアレイ基板10を作成する。また、上側の基板本体20A上にも遮光膜23、対向電極21、配向膜60を形成し、さらに前記配向膜60に所定の方向にラビング処理を施し対向基板20を作成する。
また、上記実施の形態では、液滴吐出方式により配向膜等を形成するため、フレキソ法と比較して、材料使用量や排液量を大幅に削減でき、省エネルギ効果が高く、また基板の大型化にも容易に対応でき、さらに高品質の膜を製膜することが可能である。
さらに、液晶パネルや有機EL装置以外にも、金属配線や有機薄膜トランジスタ、レジストやマイクロレンズアレイ、バイオ分野にも適用可能である。
また、金属配線を形成する際に用いられる溶媒としては、デカン(沸点;174℃、20℃での粘度;1mPa・s、20℃での表面張力;24mN/m、飽和蒸気圧;1330Pa)が挙げられる。
図8(a)〜(c)は、本発明の電子機器の実施の形態例を示している。
本例の電子機器は、上記の液晶装置を表示手段として備えている。
図8(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図8(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図8(b)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図8(b)において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図8(c)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8(c)において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記の液晶装置を用いた表示部を示している。
図8(a)〜(c)に示すそれぞれの電子機器は、上記の液晶装置を表示手段として備えているので、表示ムラのない高品質の電子機器を得ることができる。
さらに、上記実施形態では、警告手段としてアラームによる警報の例を用いて説明したが、これに限定されるものではなく、例えば制御装置CONTに接続された表示装置(CRTや液晶ディスプレイ等)を設置しておき、この表示装置に警告を表示させる構成としてもよい。
Claims (9)
- 液状体を吐出して基板に塗布する塗布工程と、前記液状体が塗布された基板を乾燥させる乾燥工程とを備えた膜形成方法であって、
前記液状体は、固形分がポリアミック酸をベースとし、主溶媒が沸点204℃、20℃での粘度2mPa・s、20℃での表面張力42mN/mのγ−ブチロラクトンである溶液であり、
前記塗布工程後の前記液状体に含まれる溶媒の蒸発量が40%を超える前に、前記乾燥工程を開始することを特徴とする膜形成方法。 - 請求項1記載の膜形成方法において、
前記蒸発量を、前記液状体の吐出を開始してからの経過時間に基づいて測定することを特徴とする膜形成方法。 - 請求項2記載の膜形成方法において、
前記経過時間の測定結果に基づいて、前記乾燥工程前に前記基板を搬出する工程を有することを特徴とする膜形成方法。 - 請求項1から3のいずれかに記載の膜形成方法において、
前記溶媒の沸点が170℃以上であることを特徴とする膜形成方法。 - 請求項1から4のいずれかに記載の膜形成方法において、
前記液状体は、前記溶媒の含有量が90%以上であることを特徴とする膜形成方法。 - 請求項1から5のいずれかに記載の膜形成方法において、
前記溶媒は、少なくともγ−ブチロラクトンを含むことを特徴とする膜形成方法。 - 請求項1から6のいずれかに記載の膜形成方法において、
前記液状体の表面張力は、20℃のときに20〜50mN/mの範囲であることを特徴とする膜形成方法。 - 請求項1から7のいずれかに記載の膜形成方法において、
前記液状体の粘度は、20℃のときに50mPa・s以下であることを特徴とする膜形成方法。 - 液状体を吐出して製膜された基板を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記製膜が請求項1から8のいずれかに記載の膜形成方法により行われることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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