JP4364938B1 - Transparent conductive laminate and touch panel - Google Patents

Abstract

【課題】 透明導電積層体全体の表面が略均等に透明な視認状態を呈することが可能とし、また構成物質から析出したオリゴマーが他の積層物へ悪影響を及ぼすような現象が生じないようにした透明導電性積層体を提供する。
【解決手段】 第１基体／有機誘電体層／無機誘電体層／導電層、という構成を有してなる透明導電積層体であって、導電層の一部をエッチングした後に、該エッチングを施して導電層を除去した箇所である除去部と、該エッチングを施した後も導電層が残留している箇所である残留部と、それぞれの箇所における透過色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた特定式による値で２以下であり、前記除去部と前記残留部と、それぞれの箇所における反射光の反射色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた特定式による値で５以下である、という機能を有してなる透明導電積層体とした。
【選択図】 なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a phenomenon in which an oligomer deposited from a constituent material has an adverse effect on other laminates by enabling the surface of the entire transparent conductive laminate to be viewed with a substantially uniform transparent state. A transparent conductive laminate is provided.
A transparent conductive laminate having a structure of a first substrate / organic dielectric layer / inorganic dielectric layer / conductive layer, wherein a portion of the conductive layer is etched and then etched. The removed portion, which is a portion where the conductive layer is removed, the remaining portion where the conductive layer remains even after the etching is performed, and the transmission color difference in each portion is L * value, a * value. , B * value is 2 or less according to a specific formula, and the difference between reflected colors of reflected light in the removed portion, the remaining portion, and the respective portions is L * value, a * value, and b * value. It was set as the transparent conductive laminated body which has a function that it is 5 or less by the value by the used specific formula.
[Selection figure] None

Description

本発明は透明導電積層体及び該透明導電積層体を用いたタッチパネルに関するものであり、より具体的には高分子樹脂フィルムの表面に透明導電膜を有する、耐久性を向上させた透明導電積層体及び該透明導電積層体を用いたタッチパネルに関する。   The present invention relates to a transparent conductive laminate and a touch panel using the transparent conductive laminate, and more specifically, a transparent conductive laminate having a transparent conductive film on the surface of a polymer resin film and having improved durability. And a touch panel using the transparent conductive laminate.

昨今様々な日常生活の中で、種々多用なタッチパネルを用いた製品が普及している。例えば銀行のＡＴＭや鉄道の券売機、カーナビゲーションのディスプレイ部分やオフィス用コピー機の操作部分等に用いられており、そして今や携帯電話のような携帯用小型モバイル機器における画像・情報表示部分を機器操作装置部分として兼用するためにタッチパネルが用いられているが、これらのタッチパネルには透明導電膜が透明電極として用いられている。   In recent years, products using various touch panels are widely used in various daily lives. For example, it is used for bank ATMs, railway ticket machines, car navigation display units, office copy machine operation units, etc., and now the image / information display part in portable small mobile devices such as mobile phones A touch panel is used to double as an operation device portion, and a transparent conductive film is used as a transparent electrode for these touch panels.

この透明導電膜は従来基板としてガラス板を利用することが多かった。そしてこの透明導電膜を積層した透明導電積層体は、まず基板であるガラス板の表面に導電性のある導電性層を積層し、次いで導電性層を積層した基板ごと加熱処理を施すことにより導電性層を透明なものとしてこれを透明導電膜とする、という工程により得られるものであったが、この工程において高熱処理を施す際に、それに耐えうる基板としてガラス板が最も適しているのでガラス板を基板として用いていた。   This transparent conductive film often uses a glass plate as a conventional substrate. And this transparent conductive laminated body which laminated | stacked this transparent conductive film conducts by heat-processing the whole board | substrate which laminated | stacked the conductive layer on the surface of the glass plate which is a board | substrate, and then laminated | stacked the conductive layer. The glass layer is most suitable as a substrate that can withstand high heat treatment in this step, because it is a transparent conductive film. A plate was used as the substrate.

しかし昨今、透明導電膜を利用する機器の軽薄短小化が急激に進むようになると、例えば昨今の小型軽量化・薄型化されたモバイル機器や携帯電話等に見られるように、透明導電膜を備えた機器は従来静置された状況で利用されていたところ、屋外での利用も活発なものとなり、それに伴い、軽量であることや落下などの衝撃や外圧等に対しても耐性のある透明導電膜であることが求められるようになり始めた。そこで基板として用いられる物質は徐々にガラス板からプラスチックフィルムへと移行するようになってきた。   However, when the devices that use transparent conductive films are becoming lighter, thinner, and smaller, they are now equipped with transparent conductive films as seen in mobile devices and mobile phones that have been reduced in size and weight. In the past, these devices were used in a stationary situation, but they were also actively used outdoors, and as a result, they were lightweight and transparent conductive materials that were resistant to impacts such as dropping and external pressure. It began to be required to be a membrane. Therefore, substances used as substrates have gradually shifted from glass plates to plastic films.

この基板として用いられるプラスチックフィルムは、高熱処理にもある程度耐えられる高分子樹脂を原材料としており、さらに、ある程度の厚みや分子量のある高分子樹脂であれば、高熱処理の際にもある程度耐えられるものが開発されてきている。   The plastic film used as the substrate is made of a polymer resin that can withstand high heat treatment to some extent, and if it is a polymer resin with a certain thickness and molecular weight, it can withstand to some extent even during high heat treatment. Has been developed.

また従来は加熱されることで透明な導電膜となる導電性層に関しても、従来よりもさらに低い加熱温度であっても透明導電膜と出来るように工夫がなされてきている。   Conventionally, the conductive layer that becomes a transparent conductive film by being heated has also been devised so that it can be a transparent conductive film even at a lower heating temperature than the conventional one.

そのような状況によって、現在ではプラスチックフィルムを基板とした透明導電積層体が種々提案されるようになってきた。   Under such circumstances, various transparent conductive laminates using a plastic film as a substrate have been proposed at present.

例えば特許文献１に記載された透明導電積層体であれば、透明基体／透明粘着材層／フィルム基材／透明誘電体薄膜／透明導電性薄膜、という構成を有することより、これをタッチパネルに用いた場合、導電性薄膜の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性の向上効果を得られる、とされている。   For example, the transparent conductive laminate described in Patent Document 1 has a configuration of transparent substrate / transparent adhesive layer / film substrate / transparent dielectric thin film / transparent conductive thin film, which is used for a touch panel. In such a case, it is said that the effect of improving the scratch resistance of the conductive thin film and the hitting point characteristics for a touch panel can be obtained.

特開平０６−２２２３５２号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-222352

確かにこの特許文献１にて開示された発明によれば、透明基体／透明粘着材層／フィルム基材／誘電体薄膜／透明導電膜、という構成を有することで、割れにくい透明導電性積層体を得られていた。しかしその一方でフィルム基材／誘電体薄膜／透明導電膜という構成を有するが故に、例えばこれを製造する時の加熱工程時や、透明導電膜が不要な部分であってこれをエッチングした箇所などからオリゴマーが析出する場合があり、この析出したオリゴマーの存在故に透明誘電体薄膜や透明導電性薄膜を積層する際にこれらの膜を汚染してしまう、膜が汚染されることにより本来発揮すべき性能が充分に発揮されない、又は効果を持続させられない、等の問題が生じることがあった。   Certainly, according to the invention disclosed in Patent Document 1, it has a configuration of transparent substrate / transparent adhesive material layer / film substrate / dielectric thin film / transparent conductive film, so that it is difficult to break. Had been obtained. However, on the other hand, since it has a configuration of film base material / dielectric thin film / transparent conductive film, for example, at the time of the heating process when manufacturing this, or a portion where the transparent conductive film is unnecessary and etched. In some cases, oligomers may precipitate from the surface, and because of the presence of the precipitated oligomers, these films are contaminated when laminating transparent dielectric thin films and transparent conductive thin films. There may be a problem that the performance is not sufficiently exhibited or the effect cannot be sustained.

さらにフィルム基材とその表面の積層物や、積層物同士の密着性が充分でないために最終製品としての信頼性にも問題が生じることがあった。例えば特許文献１に記載された透明導電性積層体の透明誘電体薄膜／透明導電性薄膜という構成部分において、加熱工程時にオリゴマーの析出を完全に押さえられないという問題が生じ、ＩＴＯの耐久性が劣化する、という現象が生じることがあった。   Furthermore, since the film substrate and the laminate on the surface and the adhesion between the laminates are not sufficient, there may be a problem in the reliability of the final product. For example, in the constituent part of the transparent conductive laminate described in Patent Document 1 called transparent dielectric thin film / transparent conductive thin film, there is a problem that oligomer precipitation cannot be completely suppressed during the heating process, and the durability of ITO is reduced. The phenomenon of deterioration sometimes occurred.

また全体としてモバイル機器等の種類が多様なものとなった結果、透明導電性フィルムに要求される内容も多岐にわたるようになってきたが、特許文献１に開示された発明であれば、回路形成部分では透明導電性薄膜の積層部分とこれが積層されていない部分との間でいわゆる色目の差が生じてしまう。そして外見上本来であれば均等に透明であることが望まれる透明導電積層体の外観にあって、透明導電積層体の回路を構成する透明導電性薄膜の積層部分がある程度の輪郭をもって視認できてしまう、といった事態が生じ始めている。即ち一見して回路部分があたかも浮き上がって見える、といった視認性阻害と言える現象が生じてしまい、問題であった。   Moreover, as a result of the variety of types of mobile devices and the like as a whole, the content required for transparent conductive films has been diversified. However, if the invention disclosed in Patent Document 1 is used, circuit formation In the portion, a so-called color difference occurs between the laminated portion of the transparent conductive thin film and the portion where the transparent conductive thin film is not laminated. The appearance of the transparent conductive laminate that is supposed to be uniformly transparent in appearance is that the laminated portion of the transparent conductive thin film constituting the circuit of the transparent conductive laminate can be visually recognized with a certain degree of outline. The situation is beginning to occur. That is, a phenomenon that can be said to be a visibility impediment such that the circuit part appears to float up at first glance occurred, which was a problem.

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、透明導電積層体全体の表面が略均等に透明な視認状態を呈することが可能とし、また構成物質から析出したオリゴマーが他の積層物へ悪影響を及ぼすような現象が生じないようにした透明導電性積層体を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems, and the object thereof is to enable the surface of the entire transparent conductive laminate to be substantially uniformly transparent, and to be oligomers precipitated from constituent materials. It is an object of the present invention to provide a transparent conductive laminate in which a phenomenon that adversely affects other laminates does not occur.

上記課題を解決するために、本願発明の請求項１に記載の発明は、第１基体の表面に、少なくとも有機物質による有機誘電体層と、無機物質による無機誘電体層と、導電層と、をこの順に積層してなる積層体の、前記導電層の一部をエッチングしてなる透明導電積層体であって、前記第１基材がポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、又はノルボネン系フィルムの何れかであり、前記無機物質による無機誘電体層が、酸化珪素による層であり、前記有機誘電体層の光線屈折率ｎが１．４以上１．６以下であり、前記導電層が、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、アルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）又はガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）の何れか若しくは複数であり、前記有機誘電体層の厚みが３ｎｍ以上７８ｎｍ以下であり、前記無機誘電体層の厚みが２ｎｍ以上７７ｎｍ以下であり、前記有機誘電体層と前記無機誘電体層の厚みの合計が５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、前記エッチングを施して前記導電層を除去した箇所である除去部と、前記エッチングを施した後も前記導電層が残留している箇所である残留部と、それぞれの箇所における透過色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた下記式による値ΔＥが２以下であり、前記除去部と前記残留部と、それぞれの箇所における反射光の反射色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた特定式による値ΔＥが５以下であり、前記除去部におけるｂ*値と、前記残留部におけるｂ*値とが、共に２以下であること、を特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 of the present invention includes, on the surface of the first substrate, at least an organic dielectric layer made of an organic substance, an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance, a conductive layer, A transparent conductive laminate obtained by etching a part of the conductive layer, wherein the first base material is a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, or norbonene. The inorganic dielectric layer made of an inorganic substance is a layer made of silicon oxide, and the light refractive index n of the organic dielectric layer is 1.4 or more and 1.6 or less, and the conductive layer Is indium tin oxide (ITO), aluminum oxide, indium zinc oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO) or gallium-doped oxide (GZO), or a plurality of organic dielectric layers, the organic dielectric layer has a thickness of 3 nm to 78 nm, the inorganic dielectric layer has a thickness of 2 nm to 77 nm, and the organic dielectric layer and the inorganic dielectric The total thickness of the body layer is 5 nm or more and 80 nm or less, and is a removed portion that is a portion where the conductive layer is removed by performing the etching, and a portion where the conductive layer remains even after the etching is performed. The difference between the residual portion and the transmission color difference at each location is a value ΔE of 2 or less using the L * value, the a * value, and the b * value, and the removed portion, the residual portion, and the respective locations. The difference in reflection color of the reflected light in the case is that the value ΔE according to the specific formula using the L * value, the a * value, and the b * value is 5 or less, and the b * value in the removal portion and the b * value in the remaining portion. Are both less than or equal to 2 To.

本願発明の請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の透明導電積層体であって、前記第１基体の導電層積層側の面とは反対表面側に、さらに少なくとも粘着層と、キャリアフィルムと、をこの順に積層してなること、又は前記第１基体の導電層積層側の面とは反対表面側に、さらに少なくとも粘着層と、セパレータと、をこの順に積層してなること、又は前記第１基体の導電層積層側の面とは反対表面側に、さらに少なくとも粘着層と、第２基体と、ハードコート層と、をこの順に積層してなること、を特徴とする。
Invention of Claim 2 of this invention is the transparent conductive laminated body of Claim 1, Comprising: On the surface side opposite to the surface at the side of the conductive layer lamination of the said 1st base | substrate, Furthermore, at least the adhesion layer, The carrier film is laminated in this order, or at least the adhesive layer and the separator are laminated in this order on the surface opposite to the conductive layer lamination side surface of the first base, Or at least the adhesion layer, the 2nd base | substrate, and the hard-coat layer are laminated | stacked in this order on the surface side opposite to the surface at the side of the conductive layer lamination | stacking of the said 1st base | substrate.

本願発明の請求項３に記載の発明は、第１基体の表面に、少なくとも有機物質による有機誘電体層と、無機物質による無機誘電体層と、導電層と、をこの順に積層してなり、かつ前記第１基体の反対側面にハードコート層を積層してなる積層体の、前記導電層の一部をエッチングしてなる透明導電積層体であって、前記第１基材がポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、又はノルボネン系フィルムの何れかであり、前記無機物質による無機誘電体層が、酸化珪素による層であり、前記有機誘電体層の光線屈折率ｎが１．４以上１．６以下であり、前記導電層が、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、アルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）又はガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）の何れか若しくは複数であり、前記有機誘電体層の厚みが３ｎｍ以上７８ｎｍ以下であり、前記無機誘電体層の厚みが２ｎｍ以上７７ｎｍ以下であり、前記有機誘電体層と前記無機誘電体層の厚みの合計が５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、前記エッチングを施して前記導電層を除去した箇所である除去部と、前記エッチングを施した後も前記導電層が残留している箇所である残留部と、それぞれの箇所における透過色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた特定式による値ΔＥが２以下であり、前記除去部と前記残留部と、それぞれの箇所における反射光の反射色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた下記式による値ΔＥが５以下であり、前記除去部におけるｂ*値と、前記残留部におけるｂ*値とが、共に２以下であること、を特徴とする。
The invention according to claim 3 of the present invention is formed by laminating at least an organic dielectric layer made of an organic substance, an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance, and a conductive layer in this order on the surface of the first substrate. And a transparent conductive laminate formed by etching a part of the conductive layer of a laminate formed by laminating a hard coat layer on the opposite side surface of the first substrate, wherein the first substrate is a polyethylene terephthalate film, It is a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, or a norbornene-based film, the inorganic dielectric layer made of the inorganic substance is a layer made of silicon oxide, and the light refractive index n of the organic dielectric layer is 1.4 or more. 1.6 or less, and the conductive layer is indium tin oxide (ITO), aluminum oxide, indium zinc oxide (IZO), aluminum-added zinc oxide AZO) or gallium-doped zinc oxide (GZO) or a plurality thereof, the organic dielectric layer has a thickness of 3 nm to 78 nm, the inorganic dielectric layer has a thickness of 2 nm to 77 nm, and the organic The total thickness of the dielectric layer and the inorganic dielectric layer is not less than 5 nm and not more than 80 nm, and the removed portion is a portion where the conductive layer is removed by performing the etching, and the conductive layer is formed even after the etching is performed. The remaining portion which is a remaining portion, and the transmission color difference in each portion has a value ΔE according to a specific expression using L * value, a * value, and b * value of 2 or less, The difference between the remaining portion and the reflected color difference of the reflected light at each location has a value ΔE of 5 or less using the L * value, the a * value, and the b * value, and the b * value in the removal portion, B * value in the residual portion and It is both 2 or less, and wherein.

本願発明の請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の透明導電積層体であって、前記第１基体のハードコート層を積層した側の表面に、さらに少なくとも粘着層と、キャリアフィルムと、をこの順に積層してなること、又は前記第１基体のハードコート層を積層した側の表面に、さらに少なくとも粘着層と、セパレータと、をこの順に積層してなること、又は前記第１基体のハードコート層を積層した側の表面に、さらに少なくとも粘着層と、第２基体と、ハードコート層と、をこの順に積層してなること、を特徴とする。
Invention of Claim 4 of this invention is a transparent conductive laminated body of Claim 3, Comprising: On the surface of the side which laminated | stacked the hard-coat layer of the said 1st base | substrate, Furthermore, at least an adhesion layer and a carrier film Are laminated in this order, or at least an adhesive layer and a separator are laminated in this order on the surface of the first base on which the hard coat layer is laminated, or the first It is characterized in that at least an adhesive layer, a second substrate, and a hard coat layer are further laminated in this order on the surface of the substrate on which the hard coat layer is laminated.

本願発明の請求項５に記載の発明は、請求項１ないし請求項４の何れか１項に記載の透明導電積層体であって、前記透明導電積層体の導電層積層側面とは反対側の表面側に、円の半径が８ｍｍの円柱を沿わせた時の、前記透明導電積層体における導電層の延長率が２％以内であること、を特徴とする。
Invention of Claim 5 of this invention is the transparent conductive laminated body of any one of Claim 1 thru | or 4, Comprising: On the opposite side to the conductive layer lamination side surface of the said transparent conductive laminated body The extension ratio of the conductive layer in the transparent conductive laminate when a circular cylinder having a radius of 8 mm is placed on the surface side is within 2%.

本願発明の請求項６に記載のタッチパネルに関する発明は、請求項１ないし請求項５の何れか１項に記載の透明導電積層体を用いてなること、を特徴とする。
The invention related to the touch panel according to claim 6 of the present invention is characterized by using the transparent conductive laminate according to any one of claims 1 to 5.

以上のように、本願発明に係る透明導電積層体であれば、第１基体／有機誘電体層／無機誘電体層／導電層、という構成を有した透明導電積層体において導電層をエッチングして回路を形成すると、導電層が除去された除去部と、回路として導電層が残存している残留部、それぞれの箇所における透過色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた特定式による値で２以下であり、またそれぞれの箇所における反射光の反射色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた特定式による値で５以下となるので、透明導電積層体全体の厚みを薄くし、なおかつ導電層をエッチングして回路を形成しても、回路部分が浮き出て見えてしまうことがなくなり、結果として透明導電積層体全体の表面が略均等に透明な視認状態を呈することが可能となる。   As described above, in the transparent conductive laminate according to the present invention, the conductive layer is etched in the transparent conductive laminate having the structure of the first substrate / organic dielectric layer / inorganic dielectric layer / conductive layer. When the circuit was formed, the removed portion from which the conductive layer was removed, the remaining portion where the conductive layer remained as a circuit, and the transmission color difference at each location used L * value, a * value, and b * value. The value by the specific formula is 2 or less, and the reflection color difference of the reflected light at each location is 5 or less by the specific formula using the L * value, the a * value, and the b * value. Even if the thickness of the entire laminate is reduced and the circuit is formed by etching the conductive layer, the circuit portion does not appear to be raised, and as a result, the entire surface of the transparent conductive laminate is substantially uniformly transparent. A visual recognition state can be exhibited.

また第１基体の表面に、少なくとも有機物質による有機誘電体層と、無機物質による無機誘電体層と、導電層と、をこの順に積層した構成を有する透明導電積層体とすると同時に、この透明導電積層体における導電層の延長率が、透明導電積層体のハードコート層側に円の半径が８ｍｍの円柱を沿わせた時に２％以内となるようにしたので、導電層が割れにくくなり、その結果導電層部分にクラックが生じる率を低く出来るようになる。つまり透明導電積層体のハードコート側からタッチペン等で押下した時に、その反対側の面に位置する導電層はさほど伸長しないものになり、その結果クラックが生じにくくなる、という透明導電積層体とすることが出来るのである。   In addition, at the same time, a transparent conductive laminate having a structure in which at least an organic dielectric layer made of an organic substance, an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance, and a conductive layer are laminated in this order on the surface of the first substrate is provided. Since the extension rate of the conductive layer in the laminate is within 2% when a circular cylinder having a radius of 8 mm is placed on the hard coat layer side of the transparent conductive laminate, the conductive layer is less likely to break. As a result, the rate of occurrence of cracks in the conductive layer portion can be lowered. In other words, when the transparent conductive laminate is pressed from the hard coat side with a touch pen or the like, the conductive layer located on the opposite surface does not extend so much, and as a result, cracks are less likely to occur. It can be done.

そしてこれらの性能を同時に発揮する透明導電積層体とすれば、視認性も好適な状態を維持し、また導電層が割れないことより長期間にわたり性能を維持、発揮できる透明導電積層体とすることが出来るようになるのであり、これをタッチパネルに用いた場合ではタッチパネルの性能も当初の性能を長期にわたり維持できるものとなるのである。   And if it is a transparent conductive laminate that exhibits these performances simultaneously, visibility should be maintained in a suitable state, and the conductive layer should be a transparent conductive laminate that can maintain and exhibit performance over a long period of time without cracking. When this is used for a touch panel, the performance of the touch panel can maintain the original performance over a long period of time.

以下、本願発明の実施の形態について説明する。尚、ここで示す実施の形態はあくまでも一例であって、必ずもこの実施の形態に限定されるものではない。
（実施の形態１）
本願発明に係る透明導電積層体につき、第１の実施の形態として説明する。
本実施の形態に係る透明導電積層体は、基本的に次のような構成である。即ち、第１基体の表面に、少なくとも有機物質による有機誘電体層と、無機物質による無機誘電体層と、導電層と、を積層してなる構成を有する透明導電積層体である。 Embodiments of the present invention will be described below. The embodiment shown here is merely an example, and is not necessarily limited to this embodiment.
(Embodiment 1)
The transparent conductive laminate according to the present invention will be described as a first embodiment.
The transparent conductive laminate according to the present embodiment basically has the following configuration. That is, it is a transparent conductive laminate having a structure in which at least an organic dielectric layer made of an organic substance, an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance, and a conductive layer are laminated on the surface of the first substrate.

以下、順に説明をしていく。
まず最初に第１基体であるが、これは例えば高分子樹脂による成型体であって、より具体的には透明高分子樹脂フィルムであることが考えられる。つまりフィルム状とすることで様々な面、平面や曲面に対し本実施の形態に係る透明導電積層体を容易に用いることが可能となるからである。この第１基体として用いられる高分子樹脂フィルムは、従来公知の透明導電積層体において一般的に用いられるフィルムであってよく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムやポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ノルボネン系フィルム等であることが考えられるが、本実施の形態においてはＰＥＴフィルムを用いることとする。ＰＥＴフィルムは透明導電積層体の基体として広く利用されているものであり、その取扱等についてもすでに充分周知であり、本実施の形態に係る透明導電積層体を実際に製造するに際しても取扱が用意であり、作業がしやすいという利点があると言える。 The following will be described in order.
First, the first substrate is a molded body made of a polymer resin, for example, and more specifically, a transparent polymer resin film. That is, the transparent conductive laminate according to the present embodiment can be easily used for various surfaces, planes, and curved surfaces by forming a film. The polymer resin film used as the first substrate may be a film generally used in a conventionally known transparent conductive laminate. For example, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, or a norbornene-based film. Although it may be a film or the like, a PET film is used in the present embodiment. The PET film is widely used as a substrate of the transparent conductive laminate, and the handling thereof is already well known, and the handling is prepared when actually manufacturing the transparent conductive laminate according to the present embodiment. It can be said that there is an advantage that it is easy to work.

この第１基体の厚みは２５μｍ以上１２５μｍ以下であることが好ましいが、これは本実施の形態においては後述するように基体と言える部分が２つ存在することを想定した上で、得られる本実施の形態に係る透明導電積層体の全体の厚みを出来るだけ薄いものにするために１２５μｍ以下とすることが好ましく、しかし必要以上に薄い基体としてしまうと、後述の積層物を積層するに際して基体それ自身が破損してしまう、又は得られた本実施の形態に係る透明導電積層体を繰り返し使用する場面においてすぐ基体が破損してしまい、即ち透明導電積層体としての機能が破損してしまうため、２５μｍ以上の厚みが必要なのである。   The thickness of the first substrate is preferably 25 μm or more and 125 μm or less. However, in the present embodiment, this embodiment is obtained on the assumption that there are two parts that can be referred to as a substrate as will be described later. In order to make the entire thickness of the transparent conductive laminate according to the embodiment as thin as possible, it is preferable that the thickness be 125 μm or less. However, if the substrate is made thinner than necessary, the substrate itself is laminated when the laminate described later is laminated. Or the substrate as soon as the transparent conductive laminate according to this embodiment is repeatedly used, that is, the function as the transparent conductive laminate is damaged. The above thickness is necessary.

本実施の形態に係る透明導電積層体では、この第１基体の表面に有機物質による有機誘電体層が積層されている。そこで次にこの有機物質による有機誘電体層につき説明する。   In the transparent conductive laminate according to the present embodiment, an organic dielectric layer made of an organic substance is laminated on the surface of the first substrate. The organic dielectric layer made of this organic material will be described next.

先に述べたような第１基体を構成する高分子樹脂フィルムは通常、一般的に加熱をするとオリゴマーが析出することは知られているところである。   It is known that the polymer resin film constituting the first base as described above generally precipitates an oligomer when heated.

例えばこのオリゴマーが、透明導電積層体において広く用いられる後述するような無機物質による無機誘電体層や導電層を構成する物質と接すると、それらの物質を破損することが知られており、即ち無機誘電体層や導電層に到達したオリゴマーはこれらの層の性質を劣化させてしまうことが知られている。   For example, it is known that when this oligomer is in contact with an inorganic dielectric layer or a material constituting a conductive layer, which will be described later, which is widely used in transparent conductive laminates, these materials are damaged. It is known that oligomers that reach dielectric layers and conductive layers degrade the properties of these layers.

そこで第１基体から析出するオリゴマーが無機誘電体層や導電層まで浸透してしまわないように、その間に防御壁とも言うべき層を積層することにより無機誘電体層や導電層を保護することを目的として、通常アンダーコート層と称される層を形成することが行われる。これを本実施の形態では有機物質による有機誘電体層とする。   Therefore, in order to prevent the oligomer precipitated from the first substrate from penetrating to the inorganic dielectric layer and the conductive layer, a layer to be called a protective wall is laminated between them to protect the inorganic dielectric layer and the conductive layer. For the purpose, a layer usually called an undercoat layer is formed. In this embodiment, this is an organic dielectric layer made of an organic substance.

またこの有機物質による有機誘電体層は上記の目的の他にも、第１基体表面をより平滑なものとすることにより無機物質による無機誘電体層を積層しやすくする、第１基体と無機物質による無機誘電体層との密着性を向上させる、という目的も有している。   In addition to the above purpose, the organic dielectric layer made of this organic material makes it easier to stack the inorganic dielectric layer made of an inorganic material by making the surface of the first substrate smoother. It also has the purpose of improving the adhesion with the inorganic dielectric layer.

このような目的を達し、効果を得るためには、有機物質としてシロキサン系樹脂、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、又はチタネート系樹脂等をその原材料として用いることが考えられるが、ここではシロキサン系樹脂を用いることとする。そしてシロキサン系樹脂の中でも、有機官能基を有したシロキサン系樹脂である、シロキサン結合を有するシランカップリング剤を用いることとする。しかし必ずしも上述の物質に制限するものではなく、例えば上述した物質に無機微粒子を含有させてあっても構わない。   In order to achieve such an object and obtain an effect, it is conceivable to use a siloxane-based resin, a polyester-based resin, a melamine-based resin, a titanate-based resin, or the like as an organic substance as a raw material. Will be used. Of the siloxane resins, a silane coupling agent having a siloxane bond, which is a siloxane resin having an organic functional group, is used. However, the present invention is not necessarily limited to the above-described substances. For example, the above-described substances may contain inorganic fine particles.

ここで有機物質による有機誘電体層につきさらに説明を加える。
後述するように、本実施の形態においてこの有機誘電体層のさらに表面には例えば酸化珪素等のような無機物質による無機誘電体層を積層する。ここで、従来有機誘電体層を得るためには、本来有機官能基を有さないテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を従来公知のウェットコーティング法により積層して緻密なシロキサン結合を有する膜を得ていたが、この場合層間密着性や延伸時におけるクラック発生などの問題点を生じることが判明した。そこで本願発明に係る発明者は可撓性のある有機官能基を含むシロキサン結合膜を用いることが最も本願発明の目的に合致すると判断したのである。 Here, an organic dielectric layer made of an organic material will be further described.
As will be described later, in this embodiment, an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance such as silicon oxide is laminated on the surface of the organic dielectric layer. Here, in order to obtain a conventional organic dielectric layer, a film having a dense siloxane bond is obtained by laminating tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc., which originally do not have an organic functional group, by a conventionally known wet coating method. However, in this case, it has been found that problems such as interlayer adhesion and generation of cracks during stretching occur. Therefore, the inventor of the present invention has determined that the use of a siloxane-bonded film containing a flexible organic functional group is most suitable for the purpose of the present invention.

そして有機誘電体層として有機官能基を有するシロキサン系樹脂を用いることにより、本願発明に係る製造方法により得られる透明導電積層体を実際に使用しても従来品に比してクラックが生じることがなくなり、また層間密着力も充分に確保されることとなり、好ましい結果を得られる。また有機誘電体層をウェットコーティング法により積層するものとしたことで、有機誘電体層による層間密着性が充分に確保され、また他の層への効果も充分に波及させることが出来るようになる。   By using a siloxane-based resin having an organic functional group as the organic dielectric layer, cracks may occur compared to conventional products even when the transparent conductive laminate obtained by the production method according to the present invention is actually used. In addition, the interlayer adhesion is sufficiently ensured, and a preferable result can be obtained. In addition, since the organic dielectric layer is laminated by the wet coating method, the interlayer adhesion by the organic dielectric layer is sufficiently ensured, and the effect on other layers can be sufficiently propagated. .

また本実施の形態では有機官能基を有するシロキサン系樹脂を用いることが好適でありこれを用いることとしているが、これはシロキサン系樹脂をバリア層として積層することにより、まずその直下に存在する金属蒸着層を酸化や汚れ、傷つきから保護するのみならず、本実施の形態に係るフィルム全体における各層の層間密着力を維持しなおかつ可撓性を保持する、という種々の目的を同時に達することが出来るようになる。   In this embodiment, it is preferable to use a siloxane-based resin having an organic functional group, and this is used. However, by laminating a siloxane-based resin as a barrier layer, a metal present immediately below the siloxane-based resin is used. Not only can the deposited layer be protected from oxidation, dirt, and scratches, but also the various purposes of maintaining the interlayer adhesion of each layer in the entire film according to the present embodiment and maintaining flexibility can be achieved at the same time. It becomes like this.

つまり層間密着力を維持することで特に金属蒸着層の剥離・脱落等の発生を防止し、さらには可撓性を保持することにより本実施の形態に係る透明導電積層体を実際にタッチパネル等に用いてもクラックの発生を防止することが可能となるのである。   In other words, by maintaining the interlayer adhesion, it is possible to prevent the metal vapor deposition layer from peeling off or dropping off, and by maintaining the flexibility, the transparent conductive laminate according to the present embodiment is actually applied to a touch panel or the like. Even if it is used, the occurrence of cracks can be prevented.

尚、有機誘電体層とする物質を選定するにあたっては、上述の通り本実施の形態では第１基体にＰＥＴフィルムを用いることとしているが、ＰＥＴフィルムとの相性及び後述する無機誘電体層との相性、即ちこれら２つの層に対して上述した主な効果、つまり第１基体から析出するオリゴマーの無機誘電体層への浸透を防御すると同時に、第１基体と無機誘電体層との密着性を好適なものにする、という効果を発揮しやすい物質であることが大切である点を付言しておく。   In selecting a material for the organic dielectric layer, as described above, in the present embodiment, a PET film is used for the first substrate. However, compatibility with the PET film and an inorganic dielectric layer described later are used. Compatibility, that is, the main effect described above for these two layers, that is, the penetration of oligomers precipitated from the first substrate into the inorganic dielectric layer and at the same time the adhesion between the first substrate and the inorganic dielectric layer. It is important to note that it is important that the substance is easy to exert the effect of making it suitable.

有機誘電体層は本実施の形態においてウェットコーティング法により第１基体であるＰＥＴフィルム表面に積層されるが、その厚みは３ｎｍ以上７８ｎｍ以下であることが望ましい。３ｎｍ以下であれば上述のオリゴマー防止効果が殆ど得られず、また７８ｎｍを超えるとＩＴＯパターンの色目差が大きくなってしまうからであり、これらの現象は発明者が見いだした結果によるものである。   In this embodiment, the organic dielectric layer is laminated on the surface of the PET film that is the first substrate by a wet coating method, and the thickness is desirably 3 nm or more and 78 nm or less. If it is 3 nm or less, the above-mentioned oligomer prevention effect is hardly obtained, and if it exceeds 78 nm, the color difference of the ITO pattern becomes large, and these phenomena are based on the results found by the inventors.

また本実施の形態における有機誘電体層の光線屈折率ｎが１．４以上１．６以下であることが好適であるが、これはより一層本実施の形態に係る透明導電積層体にあってより一層好ましい色目を得ることが出来る、ということを発明者が見いだした結果によるものであることもあわせて述べておく。   In addition, it is preferable that the light refractive index n of the organic dielectric layer in the present embodiment is 1.4 or more and 1.6 or less, and this is more in the transparent conductive laminate according to the present embodiment. It should also be mentioned that this is a result of the finding of the inventor that a more preferable color can be obtained.

本実施の形態に係る透明導電積層体ではこの有機誘電体層の表面に無機物質による無機誘電体層を積層する。そしてこの無機物質による無機誘電体層としては当然誘電体である物質を用いればよく、本実施の形態では酸化珪素を用いることとする。   In the transparent conductive laminate according to the present embodiment, an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance is laminated on the surface of the organic dielectric layer. As the inorganic dielectric layer made of this inorganic substance, naturally a substance that is a dielectric may be used, and in this embodiment, silicon oxide is used.

この酸化珪素による無機物質による無機誘電体層は、従来公知のスパッタリング法等のいわゆるドライコーティングと称される手法で前述の有機物質による有機誘電体層表面に積層される。そしてその厚みとして本実施の形態では２ｎｍ以上７７ｎｍ以下であることが好適である。また本実施の形態において、無機誘電体層と有機誘電体層とは隣接して積層されているが、これら２つの層の厚みの合計が本実施の形態では５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好適である。これらの厚みに関しては発明者が種々検討した結果見いだしたものである。   This inorganic dielectric layer made of an inorganic substance made of silicon oxide is laminated on the surface of the organic dielectric layer made of the aforementioned organic substance by a so-called dry coating technique such as a conventionally known sputtering method. In this embodiment, the thickness is preferably 2 nm or more and 77 nm or less. In this embodiment, the inorganic dielectric layer and the organic dielectric layer are laminated adjacent to each other, and the total thickness of these two layers is preferably 5 nm or more and 80 nm or less in this embodiment. It is. These thicknesses have been found as a result of various studies by the inventors.

そしてこの酸化珪素による無機物質による無機誘電体層の表面に導電層を積層するのであるが、この導電層としては酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化アルミニウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、又はアルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）やガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）等のような酸化亜鉛系材料、等を用いることが考えられる。そして本実施の形態ではＩＴＯを積層するものとする。そしてこの積層方法もやはり従来公知のスパッタリング法等のいわゆるドライコーティング法によればよく、その積層される厚みは１３ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好適であることを発明者は見いだした。   Then, a conductive layer is laminated on the surface of the inorganic dielectric layer made of an inorganic substance made of silicon oxide. As the conductive layer, indium tin oxide (ITO), aluminum oxide, indium zinc oxide (IZO), or aluminum-added oxide is used. It is conceivable to use a zinc oxide-based material such as zinc (AZO) or gallium-doped zinc oxide (GZO). In this embodiment, ITO is laminated. The inventor found that this lamination method can also be a so-called dry coating method such as a conventionally known sputtering method, and the thickness of the lamination is preferably 13 nm or more and 30 nm or less.

さらに発明者は、導電層を構成するＩＴＯ層は当初積層直後は非晶質なＩＴＯ層であるが、本実施の形態に係る透明導電積層体をアニールすることでこの非晶質ＩＴＯ層が結晶化ＩＴＯ層となるようにすることがより一層効果的であることを見いだした。よって、本実施の形態における導電層は上記の通り、積層直後は非晶質ＩＴＯ層であるものの、透明導電積層体をアニールすることでこれを結晶化ＩＴＯ層となるものであることとする。   Furthermore, the inventor found that the ITO layer constituting the conductive layer is an amorphous ITO layer immediately after the initial lamination, but this amorphous ITO layer is crystallized by annealing the transparent conductive laminate according to the present embodiment. It has been found that it is even more effective to make the ITO layer. Therefore, as described above, the conductive layer in the present embodiment is an amorphous ITO layer immediately after stacking, but is made to be a crystallized ITO layer by annealing the transparent conductive stack.

ここで酸化珪素による無機誘電体層とＩＴＯによる導電層とに関し簡単に述べる。
そもそも導電性を向上させるためにはＩＴＯの結晶性を向上させることが必要である。逆に言えばＩＴＯの結晶性が高いほど導電性が良好なものとなる。 Here, the inorganic dielectric layer made of silicon oxide and the conductive layer made of ITO will be briefly described.
In the first place, in order to improve conductivity, it is necessary to improve the crystallinity of ITO. Conversely, the higher the crystallinity of ITO, the better the conductivity.

しかし基材であるプラスチックフィルムの表面に直接ＩＴＯを積層しようとすると、積層工程に際して生じる高熱によりプラスチックフィルムから水や有機溶剤などのＩＴＯの結晶性にとっては不要な不純物質が析出してしまう。そこで予めＩＴＯの積層工程時においてプラスチックフィルムから析出する不純物質がＩＴＯに悪影響を及ぼさないようにするバリアとしても作用するように無機物質による無機誘電体層を設けておくと好ましいと言える。   However, when ITO is directly laminated on the surface of a plastic film as a base material, impurities that are unnecessary for the crystallinity of ITO such as water and organic solvents are precipitated from the plastic film due to high heat generated in the lamination process. Therefore, it can be said that it is preferable to previously provide an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance so that the impurity deposited from the plastic film during the ITO laminating step also acts as a barrier that does not adversely affect the ITO.

そしてそのために、本実施の形態においては、基材フィルムであるＰＥＴフィルムとＩＴＯ膜との間に無機物質による無機誘電体層を設けることが考えられ、また実際に行っている。しかし無機物質による無機誘電体層として利用可能な誘電性を有する物質を無分別に用いても、やはりＩＴＯ膜の導電性は必ずしも向上しない。   For this reason, in the present embodiment, it is conceivable to actually provide an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance between the PET film as the base film and the ITO film. However, even if a dielectric material that can be used as an inorganic dielectric layer made of an inorganic material is used indiscriminately, the conductivity of the ITO film is not necessarily improved.

そこで本実施の形態に係る発明者がＩＴＯを用いた導電層と相性のよい誘電体物質に関し種々選択検討した結果、酸化珪素を層としたその表面にＩＴＯ膜を積層するとＩＴＯの結晶性が向上することがわかった。これは酸化珪素層の表面が比較的滑らかであり、その表面にＩＴＯを積層することでＩＴＯを構成する分子が比較的規則正しく積み重ねられるため、それがひいては結果としてＩＴＯの結晶性を向上させているものと考えられる。そして酸化珪素を積層することで、この層が当然無機物質による無機誘電体層としての作用も発揮し、上述したバリア性も発揮する。   Therefore, as a result of various studies on dielectric materials that are compatible with the conductive layer using ITO, the inventors of the present embodiment have improved the crystallinity of ITO when an ITO film is laminated on the surface of silicon oxide. I found out that This is because the surface of the silicon oxide layer is relatively smooth, and by laminating ITO on the surface, the molecules constituting the ITO are stacked relatively regularly, which in turn improves the crystallinity of the ITO. It is considered a thing. By laminating silicon oxide, this layer naturally exhibits an action as an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance, and also exhibits the above-described barrier properties.

このように酸化珪素層の表面にＩＴＯ膜を積層することによりＩＴＯの結晶性が向上し、その結果ＩＴＯ膜の導電性も良好なものとなることが判明したので、本実施の形態においても無機物質による無機誘電体層として酸化珪素を、導電層としてＩＴＯを、それぞれ用いているのである。またＩＴＯ以外の前述した物質等を用いても同様の現象を得ることが出来た。   Thus, it has been found that the ITO crystallinity is improved by laminating the ITO film on the surface of the silicon oxide layer, and as a result, the conductivity of the ITO film is also improved. Silicon oxide is used as the inorganic dielectric layer made of the substance, and ITO is used as the conductive layer. Moreover, the same phenomenon could be obtained using the above-mentioned substances other than ITO.

また後述するように、通常透明導電積層体の最表面には全面的に導電層が存在するのではなく必要な箇所しか存在していない。即ち導電層を回路として用いることより、回路となる部分には導電層が存在するが回路ではない部分には導電層は不要である。そのため一般的には導電層を積層した後にエッチング処理を施すことにより回路として必要な部分にのみ導電層を残し、不要な部分の導電層は全て除去される。   Further, as will be described later, the conductive layer is not entirely present on the outermost surface of the transparent conductive laminate, but only necessary portions are present. In other words, by using a conductive layer as a circuit, a conductive layer exists in a portion that becomes a circuit, but a conductive layer is unnecessary in a portion that is not a circuit. Therefore, generally, by conducting an etching process after laminating the conductive layers, the conductive layers are left only in the necessary portions as a circuit, and all unnecessary conductive layers are removed.

このような処理が施された後のことを考えると、仮にバリア層としても作用する無機誘電体層を設けておかなければ、エッチング処理により導電層を除去された部分には基材となるプラスチックフィルムがそのまま露出することになるが、この露出した部分から経時変化により前述した不純物質が析出する現象が生じる。そして不純物質が析出することにより、本実施の形態に係る透明導電積層体が例えば白濁する、変質する、等の状態となってしまうことが考えられ、またこれを例えばタッチパネルの部材として用いた場合には、タッチパネルの性質劣化を招くことになりかねない。さらに本実施の形態においてはプラスチックフィルムの表面に有機誘電体層が積層されているが、これだけでは係る事態の防止に対しさほどの効果を発揮しない。   Considering the situation after such treatment, if the inorganic dielectric layer that also acts as a barrier layer is not provided, the plastic that becomes the base material is removed from the portion where the conductive layer is removed by the etching treatment. Although the film is exposed as it is, a phenomenon in which the above-described impurities are deposited due to a change with time from the exposed portion. When the impurities are deposited, the transparent conductive laminate according to the present embodiment may be in a state of becoming clouded or denatured, for example, and when this is used as a member of a touch panel, for example. This may lead to deterioration of touch panel properties. Furthermore, in the present embodiment, an organic dielectric layer is laminated on the surface of the plastic film, but this alone does not exert a significant effect on preventing such a situation.

かような想定される事態を考慮した場合、導電層がエッチング処理により除去された部分から析出しかねないプラスチックフィルムからの不純物質による悪影響を防ぐためにも、バリア層としても作用する無機物質による無機誘電体層が必要であると言える。   In consideration of such an assumed situation, in order to prevent an adverse effect due to impurities from the plastic film that may be deposited from the portion where the conductive layer has been removed by the etching process, an inorganic substance due to an inorganic substance that also acts as a barrier layer is used. It can be said that a dielectric layer is necessary.

このようにＩＴＯは、ＰＥＴフィルム等のプラスチックフィルムから生じるオリゴマーの影響を受けてその本来有する性質を劣化させてしまうため、本実施の形態では前述したようにバリア層、防御壁としても作用する無機物質による無機誘電体層を積層しているのである。   In this way, ITO deteriorates its inherent properties under the influence of oligomers generated from a plastic film such as a PET film. Therefore, in this embodiment, as described above, inorganic that also acts as a barrier layer and a protective wall. An inorganic dielectric layer made of a material is laminated.

尚、より一層の軽薄短小化に応じるため、等の理由により本実施の形態に係る透明導電積層体も薄くするため、層間密着性の良好な物質の組み合わせを選択することにより上述したような有機誘電体層を省略することも考えられるかもしれないが、その場合でも上述した目的を達するために無機誘電体層を積層する必要があることを述べておく。   In addition, in order to respond to further reductions in thickness and thickness, the transparent conductive laminate according to the present embodiment is also made thinner for reasons such as the above, and by selecting a combination of substances having good interlayer adhesion, the above-described organic Although it may be considered that the dielectric layer is omitted, it should be noted that even in that case, it is necessary to laminate the inorganic dielectric layer in order to achieve the above-described purpose.

また以上説明した本実施の形態に係る透明導電積層体において、第１基材の導電層積層側面とは反対側の面、即ち第１基体の、有機誘電体層／無機誘電体層／導電層と積層してなる側とは反対側の表面にハードコート層を積層することも考えられる。特にＩＴＯ等による導電層はクラックが生じやすい層であるため、本実施の形態に係る透明導電積層体の導電層積層側面とは反対側面にハードコート層を積層しておくことで、ハードコート層側から本実施の形態に係る透明導電積層体を押下しても、押下側面とは反対側面の導電層にクラックが生じることを防止することが可能となるためである。   In the transparent conductive laminate according to the present embodiment described above, the surface of the first substrate opposite to the conductive layer laminate side, that is, the organic dielectric layer / inorganic dielectric layer / conductive layer of the first substrate. It is also conceivable to laminate a hard coat layer on the surface opposite to the side laminated. In particular, since a conductive layer made of ITO or the like is a layer that easily generates cracks, a hard coat layer is formed by laminating a hard coat layer on the side opposite to the conductive layer lamination side of the transparent conductive laminate according to the present embodiment. This is because even if the transparent conductive laminate according to the present embodiment is pressed from the side, it is possible to prevent the conductive layer on the side surface opposite to the pressed side surface from being cracked.

本実施の形態では係るハードコート層は必須ではないものの、上記のように設けておくことで導電層をよりよく保護できるようになるので、以下本実施の形態ではこのハードコート層が積層されている構成、即ちハードコート層／第１基材／有機導電対層／ムキ導電対層／導電層という構成であるものとして説明を続けることとする。   Although the hard coat layer according to the present embodiment is not essential, since the conductive layer can be better protected by providing as described above, the hard coat layer is laminated in the present embodiment. The description will be continued on the assumption that the structure is a hard coat layer / first base material / organic conductive pair layer / muky conductive pair layer / conductive layer.

尚、このハードコート層は従来公知のものであってよい。例えば紫外線硬化型樹脂や多官能アクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、無機有機ハイブリッド樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等のハードコート層に従来公知に用いられてなる樹脂を、例えば従来公知のウェットコーティング法により積層するものであってよい。当然このハードコート層は透明導電積層体の透明性を損なうものであってはならない。またその厚みは１μｍ以上１０μｍ以下であれば好適なものとなせる。そして本実施の形態では、紫外線硬化型樹脂をウェットコーティング法により、第１基材の表面に厚みが３μｍとなるように積層するものとする。   The hard coat layer may be a conventionally known one. For example, a conventionally known wet resin such as an ultraviolet curable resin, a polyfunctional acrylate resin, a urethane acrylate resin, an inorganic organic hybrid resin, a polyester acrylate resin, a melamine resin, or a urethane resin is used. Lamination may be performed by a coating method. Of course, this hard coat layer should not impair the transparency of the transparent conductive laminate. Moreover, if the thickness is 1 micrometer or more and 10 micrometers or less, it can be made suitable. In this embodiment, the ultraviolet curable resin is laminated on the surface of the first base material so as to have a thickness of 3 μm by the wet coating method.

以上のように構成される本実施の形態に係る透明導電積層体において、さらに重要なことは視認性が良好である、即ち一見すると表面が均等に透明であるということ、また実際に押下した場合に誘電層が容易に割れないこと、の２点である。そこで次にこれらの重要な点に関し説明する。   In the transparent conductive laminate according to the present embodiment configured as described above, more importantly, the visibility is good, that is, the surface is uniformly transparent at first glance, and when actually pressed In addition, the dielectric layer does not easily break. Therefore, these important points will be described next.

まず視認性が良好である、という点につき簡単に説明する。
従来の透明導電積層体では前述した通り最表面には均等に導電層が積層されているのではなく、回路を形成するために必要な箇所を残し、それ以外の部分、即ち回路を形成するために不要な導電層はエッチングなどの処理により除去されるのであるが、係るエッチングによる除去が実行された後の透明導電積層体の略側面視における全体の厚みを考えると、導電層が残留している残留部と、導電層が除去された除去部と、それぞれの箇所において導電層の有無の分だけ厚みに差が生じる。 First, the point that the visibility is good will be briefly described.
In the conventional transparent conductive laminate, the conductive layer is not evenly laminated on the outermost surface as described above, but a portion necessary for forming a circuit is left and other portions, that is, a circuit is formed. The unnecessary conductive layer is removed by a process such as etching. However, considering the overall thickness of the transparent conductive laminate after the removal by the etching is performed, the conductive layer remains. A difference in thickness occurs between the remaining portion, the removed portion from which the conductive layer has been removed, and the presence or absence of the conductive layer at each location.

そしてその厚みの差が透明導電積層体における残留部から入射した光と除去部から入射した光との行路差となり、つまりそれぞれの部分における光の透過率及び反射光の色目が異なることとなる。そして透過率及び色目が異なる、ということは概して述べるならば除去部と残留部とで透過率及び色目に差が存在することにより、これらの差が大きければ大きいほど残留部が視認できる状態となるのである。   The difference in thickness becomes a path difference between the light incident from the remaining portion and the light incident from the removal portion in the transparent conductive laminate, that is, the light transmittance and the color of the reflected light in each portion are different. If the transmittance and color are different, generally speaking, there is a difference in the transmittance and color between the removed portion and the remaining portion, and the larger the difference, the more visible the remaining portion is. It is.

つまり残留部も除去部もどちらも概して述べれば略透明な状態と言えるかもしれないが、人の目で確認できる程度に視認差が生じることで、本来であれば一見すると全面的に略均等に透明であることが望まれる透明導電積層体にあって、回路を形成する部分である残留部が浮き出て見える状態となってしまい、即ち略均等に透明であるとは言えない状態となる。このように本来であれば全面が均等に視認できなければならない透明導電積層体にあって、あたかも回路形態を示す残留部が見える状態となり、これが視認性を阻害する要因となってしまうのである。   In other words, it may be said that both the remaining part and the removed part are generally transparent. However, a difference in visibility that can be confirmed by the human eye is generated, so that it is almost evenly on the whole. In the transparent conductive laminated body that is desired to be transparent, the remaining portion, which is a portion forming a circuit, appears to be raised, that is, it cannot be said that it is substantially uniformly transparent. In this way, in the transparent conductive laminate, which should be visible evenly over the entire surface, the remaining portion showing the circuit form can be seen, which becomes a factor that hinders visibility.

しかしさらに詳細に検討するに、導電層部分について膜厚を制御しようとするならば、係る部分が導電性に関わる重要な箇所であり、これを制御することにより視認性を制御することを試みることは必ずしも好ましいこととは言えない。   However, to examine in more detail, if you want to control the film thickness of the conductive layer part, that part is an important part related to conductivity, and trying to control visibility by controlling this part Is not necessarily preferable.

そこで本実施の形態においては、導電層部分ではなく無機誘電体層と有機誘電体層部分の合計厚みを制御することにより、入射する光の行路差を制御することを試みた。   Therefore, in the present embodiment, an attempt was made to control the path difference of incident light by controlling the total thickness of the inorganic dielectric layer and the organic dielectric layer portion, not the conductive layer portion.

そして本願発明に係る発明者が種々検討した結果、エッチングを施して導電層を除去した箇所である除去部と、エッチングを施した後も導電層が残留している箇所である残留部と、それぞれの箇所における透過色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた下記式による値ΔＥが２以下であり、またそれぞれの箇所における反射光の反射色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた下記式による値ΔＥが５以下である、という状態を呈することが出来るようになれば上述した視認性阻害といった現象の発生を抑制できることがわかったのである。   As a result of various studies by the inventor according to the present invention, a removed portion that is a portion where the conductive layer is removed by etching, and a residual portion where the conductive layer remains after the etching, The transmission color difference at the location of the above is a value ΔE according to the following formula using the L * value, a * value, and b * value is 2 or less, and the reflection color difference of the reflected light at each location is the L * value, It has been found that the occurrence of the phenomenon such as the above-described visibility hindrance can be suppressed if the state that the value ΔE according to the following formula using the a * value and the b * value is 5 or less can be exhibited.

（式）
但し
ΔＬ＝（除去部におけるＬ*値）−（残留部におけるＬ*値）
Δａ＝（除去部におけるａ*値）−（残留部におけるａ*値）
Δｂ＝（除去部におけるｂ*値）−（残留部におけるｂ*値）

(formula)
However, ΔL = (L * value in the removed portion) − (L * value in the remaining portion)
Δa = (a * value in the removed portion) − (a * value in the remaining portion)
Δb = (b * value in the removed portion) − (b * value in the remaining portion)

ちなみに、透過色目差においてΔＥが２以下であるならば、通常人間の目からは全体として黄色味が感じられないレベルの透過光であると言え、反射色目差においてΔＥが５以下であるならば、全体が均一に見えるレベルであると言え、以上全体として除去部と残留部との境目が人間の目では判別し難いほどに差異が存在しない状態に至っている、と言える。   Incidentally, if ΔE is 2 or less in the transmission color difference, it can be said that the transmitted light is normally at a level where the yellow color cannot be perceived by the human eye, and if ΔE is 5 or less in the reflection color difference. Thus, it can be said that the entire level appears to be uniform, and it can be said that the boundary between the removed portion and the remaining portion as a whole has reached a state in which there is no difference that is difficult for human eyes to distinguish.

そして本実施の形態において無機誘電体層と有機誘電体層との２層の厚みの合計が５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であるならば、上記式を満足させることが可能となることを本願発明に係る発明者は見いだしたのである。そしてさらに有機誘電体層の光線屈折率ｎが１．４以上１．６以下とすれば，より一層好適に上記式を満足させる結果を得やすいこともあわせて発明者は見いだしたのである。   In the present embodiment, if the total thickness of the two layers of the inorganic dielectric layer and the organic dielectric layer is 5 nm or more and 80 nm or less, the above formula can be satisfied. The person has found. The inventors have also found that if the refractive index n of the organic dielectric layer is 1.4 or more and 1.6 or less, it is easier to obtain a result that satisfies the above formula.

次に導電層が割れにくい、という点につき説明する。
本実施の形態において述べる導電層が割れにくいという現象とは、透明導電積層体のハードコート層側に、円の半径が８ｍｍの円柱を沿わせた時の、前記透明導電積層体における導電層の延長率が２％以内であること、を指すものとする。 Next, the point that the conductive layer is difficult to break will be described.
The phenomenon that the conductive layer described in this embodiment is difficult to break is that the conductive layer in the transparent conductive laminate when the circular radius of 8 mm is placed along the hard coat layer side of the transparent conductive laminate. It shall indicate that the extension rate is within 2%.

これに関しさらに説明すると、例えばペン先の球が半径０．８ｍｍのタッチパネル用タッチペンを想定した場合、このペンで本実施の形態に係る透明導電積層体を押下げると、ペン先に接する透明導電積層体の表面、即ちハードコート層側の表面から透明導電積層体の厚み方向に向けて力が加えられることになる。すると、ペン先とは接していない透明導電積層体の反対側表面、即ち誘電層表面がペン先による圧力の影響で膨張するかのように延伸されることになる。   This will be further explained. For example, when a touch pen for a touch panel with a pen tip sphere having a radius of 0.8 mm is assumed, when the transparent conductive laminate according to the present embodiment is pressed down with this pen, the transparent conductive laminate in contact with the pen tip A force is applied from the surface of the body, that is, the surface on the hard coat layer side, in the thickness direction of the transparent conductive laminate. Then, the opposite surface of the transparent conductive laminate that is not in contact with the nib, that is, the surface of the dielectric layer is stretched as if it expands due to the pressure of the nib.

さらに説明を続ける。
まずペン先によりハードコート層面が押下げられる。するとそれに伴い透明導電積層体全体が押下げられ、押下げられた部分が押下中心部分から外周方向に向けてあたかも膨張するかのように延伸する。しかしこの延伸する長さは、ペン先が接している面における延伸長さに比べて透明導電積層体に厚みがある分だけ余分に延伸することになる。 Continue to explain further.
First, the hard coat layer surface is pushed down by the pen tip. As a result, the entire transparent conductive laminate is pressed down, and the pressed portion is stretched as if it expands from the pressed center portion toward the outer peripheral direction. However, the stretched length is excessively stretched by the thickness of the transparent conductive laminate compared to the stretched length on the surface where the pen tip is in contact.

例えば、タッチペンのペン先球体半径が０．８ｍｍであり、透明導電積層体全体の厚みが２５μｍであるとすると、タッチペンで透明導電積層体のハードコート層側から押下げると、ハードコート層面は１．６πｍｍ伸びるのに対し、反対側の表面である導電層表面は１．６５πｍｍ伸びることになる。これは、ペン先球体の中心部からハードコート層表面までの距離は球体半径と同一なので０．８ｍｍであるのに対し、導電層表面までの距離は透明導電積層体全体の厚み分だけ加算されるので、即ち０．８ｍｍに２５μｍが加えられた距離となる。そして球体の押下により延伸するとは、即ち球体の球面に沿って透明導電積層体が伸びていく、という現象に他ならないのである。   For example, assuming that the pen tip sphere radius of the touch pen is 0.8 mm and the thickness of the entire transparent conductive laminate is 25 μm, when the touch pen is pressed down from the hard coat layer side of the transparent conductive laminate, the hard coat layer surface is 1 Whereas the surface of the conductive layer, which is the opposite surface, extends by 1.65πmm. This is 0.8 mm because the distance from the center of the nib sphere to the hard coat layer surface is the same as the radius of the sphere, whereas the distance to the conductive layer surface is added by the thickness of the entire transparent conductive laminate. Therefore, that is, a distance obtained by adding 25 μm to 0.8 mm. The stretching by pressing down the sphere is nothing but the phenomenon that the transparent conductive laminate extends along the spherical surface of the sphere.

さて、以上を踏まえて再び本願発明において述べる伸長率につき考えると、球体の接しているハードコート層の延伸量Ｘに対し、反対側の導電層における延伸量ＹがＸの１０２％以内であること、つまりＸの伸びた量に比べて余分に延伸する量が２％以下であること、が重要なのである。   Based on the above, when considering the elongation rate described in the present invention again, the stretching amount Y in the opposite conductive layer is within 102% of X with respect to the stretching amount X of the hard coat layer in contact with the sphere. In other words, it is important that the amount of extra stretching is 2% or less compared to the amount of elongation of X.

この２％以下とすることが即ち本実施の形態における透明導電積層体を構成する導電層がさほど延伸しないことを本願発明に係る発明者は見いだしたのであり、即ち導電層がさほど延伸しないためこれを構成する物質が延伸することにより割れてしまう、といった現象が生じることを防止、抑制することが可能となることを見いだしたのである。そして導電層が係る状況において割れないということは、例えばタッチパネル等の先が細かなもので本実施の形態に係る透明導電積層体をハードコート層側から押したとしても、係る行為によって反対面側の導電層表面が引き延ばされ、そしてこの引き延ばしに対し導電層を構成する、例えばＩＴＯ等の物質に追従性がないが故に割れが生じる、という現象を回避することが可能となるのである。   The inventors of the present invention have found that the content of 2% or less, that is, the conductive layer constituting the transparent conductive laminate in the present embodiment does not extend so much, that is, the conductive layer does not extend so much. It has been found that it is possible to prevent or suppress the occurrence of the phenomenon that the material constituting the material is cracked by stretching. And in the situation where the conductive layer does not break, for example, even if the tip of the touch panel or the like is fine and the transparent conductive laminate according to the present embodiment is pushed from the hard coat layer side, the opposite side is caused by such an action. It is possible to avoid the phenomenon that the surface of the conductive layer is stretched, and cracks occur because the material constituting the conductive layer with respect to the stretching, for example, ITO or the like has no followability.

このように先の細いものでハードコート層側から押下しても導電層に割れが生じない、ということは導電層の性能が損なわれることがない、ということであり、即ち透明導電積層体の有する導電性という性能を維持することが出来る、ということが言えるのである。   Thus, even if pressed down from the hard coat layer side with a thin tip, the conductive layer does not crack, which means that the performance of the conductive layer is not impaired, that is, the transparent conductive laminate It can be said that the performance of having conductivity can be maintained.

以上の理由により、本実施の形態に係る透明導電積層体をタッチパネルに用いたとしても導電層に割れが生じないので、タッチパネルの透明導電性という性能が損なわれることがなく、好適なものとすることが出来るのである。   For the above reasons, even if the transparent conductive laminate according to the present embodiment is used for a touch panel, the conductive layer is not cracked, so that the performance of transparent conductivity of the touch panel is not impaired and is suitable. It can be done.

以上、説明した本実施の形態に係る透明導電積層体では、色目を調整することも可能であり、導電層を割れにくいものとすることも可能であり、ひいては両方の性質を同時に呈することが出来るようにすることも可能であるが、これに関してはここではその詳述は省略することとする。   As described above, in the transparent conductive laminate according to the present embodiment described above, the color can be adjusted, the conductive layer can be made difficult to break, and both properties can be exhibited at the same time. Although it is possible to do so, detailed description thereof will be omitted here.

以上の通り、本実施の形態に係る透明導電積層体であれば、導電層部分が例えば浮き出ているかのような視認性を呈することなく、即ち平面全体にわたり略均一に透明であり、またタッチペンなどの先細なもので押下げた場合であっても導電層に割れが生じにくい、といった特性を有した透明導電積層体とすることが出来、またこれをタッチパネルに用いることで、良好な視認性を呈したり、誘電層が割れにくいことより性能を長期にわたり維持できる、また構成によっては双方の特性を活かしたタッチパネルを得ることが出来るようになる。   As described above, in the transparent conductive laminate according to the present embodiment, the conductive layer portion does not exhibit visibility as if it is raised, that is, is substantially uniformly transparent over the entire plane, and includes a touch pen Even if it is pressed down with a taper, it can be made into a transparent conductive laminate with the characteristic that the conductive layer is hard to crack, and by using this for a touch panel, good visibility It is possible to maintain the performance for a long period of time due to the fact that the dielectric layer is difficult to break, and it is possible to obtain a touch panel utilizing both characteristics depending on the configuration.

以上、本願発明に係るハードコート層／第１基体／有機誘電体層／無機誘電体層／導電層という構成を有する透明導電積層体に関し説明をした。理論的にはこれだけでも当然透明導電積層体としての効果・作用を発揮するものであり、実際に軽薄短小を求められる電気産業界にあってこれをタッチパネル用電極として用いるならば、全体の厚みをより薄く出来る、という利点もある。しかし実際には耐久性の面で問題が生じることも考えられるので、本実施の形態では第１基体のハードコート層が積層されている側の面に、主にクッション性を向上させるために粘着層を介して第２基体を貼着することが考えられる。以下この場合につき説明をする。尚、第１基体にハードコート層が積層されていない場合であっても考え方は同様であることを予め断っておく。   The transparent conductive laminate having the configuration of hard coat layer / first substrate / organic dielectric layer / inorganic dielectric layer / conductive layer according to the present invention has been described above. Theoretically, this alone will naturally exhibit the effects and functions of a transparent conductive laminate, and if it is used as an electrode for touch panels in the electrical industry where lightness and thinness are actually required, the overall thickness can be reduced. There is also an advantage that it can be made thinner. However, in reality, there may be a problem in terms of durability. In this embodiment, the first substrate is adhered to the surface on which the hard coat layer of the first substrate is laminated mainly for improving cushioning properties. It is conceivable to attach the second substrate through the layer. Hereinafter, this case will be described. It should be noted that the concept is the same even if the hard coat layer is not laminated on the first substrate.

第２基体としては、第１基体の場合と同様透明な高分子樹脂フィルムであることが好ましく、より具体的には従来公知の透明導電積層体において一般的に用いられるフィルム、例えば第１基体の場合と同様、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムやポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、又はノルボネン系フィルム等であることが考えられるが、本実施の形態においては第１基体と同様にＰＥＴフィルムを用いることとする。またその厚みは２５μｍ以上１２５μｍ以下であることが好ましい。   The second substrate is preferably a transparent polymer resin film as in the case of the first substrate, and more specifically, a film generally used in a conventionally known transparent conductive laminate, for example, the first substrate. As in the case, it may be a polyethylene terephthalate (PET) film, a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, or a norbornene-based film. In this embodiment, a PET film is used in the same manner as the first substrate. To do. The thickness is preferably 25 μm or more and 125 μm or less.

このように第１基体と第２基体とを同一の透明高分子樹脂フィルムとすることで、実際の製造が容易でありまたその管理も容易なものとすることが出来、さらに得られる本実施の形態に係る透明導電積層体の扱いも容易なものとすることが出来る、と言える。   Thus, by making the first substrate and the second substrate the same transparent polymer resin film, the actual production can be facilitated and the management thereof can be facilitated. It can be said that the transparent conductive laminate according to the embodiment can be easily handled.

そして第１基体と第２基体とを貼着するための粘着層としては前述した通りであるが、さらに付言するならば、この粘着層は第２基体と合わせていわゆるクッション性を確保するための効果を発揮する部分となるものであり、適度なクッション性を呈することの出来る物質であれば好ましいと言える。当然、クッション性を適度に呈するための厚さが必要であるが粘着層が厚すぎると本実施の形態に係る透明導電積層体全体の厚みが増してしまい、また粘着層が薄すぎるとクッション性を充分に発揮することが出来ないので、これらの点に注意しながら適宜厚みを決定すればよい。   The adhesive layer for adhering the first substrate and the second substrate is as described above. However, if further added, this adhesive layer is used to secure a so-called cushioning property together with the second substrate. It can be said that a substance that is a part that exhibits an effect and can exhibit an appropriate cushioning property is preferable. Of course, a thickness is required to appropriately exhibit cushioning properties, but if the adhesive layer is too thick, the thickness of the entire transparent conductive laminate according to the present embodiment increases, and if the adhesive layer is too thin, the cushioning property is increased. Thus, the thickness may be determined appropriately while paying attention to these points.

このクッション性につきさらに説明を加える。
本実施の形態に係る透明導電積層体を例えばタッチパネルに用いる場合を想定するならば、タッチパネルはすでに周知の通り人間の指であったり、場合によってはペンにより特定箇所を押下することで信号を入力する構成となっているのであるが、タッチパネルにおいてはこの押下行為をする箇所・範囲が通常固定されており、特定箇所ばかりが繰り返して押下されることとなる。そして押下指示をするのがたとえ指先であっても、その指示を受け入れる側の積層体にある程度の厚みがないと断面視において押下げられる角度が急激なものとなり、その急激な角度が原因で積層体に、いわゆる「割れ」が生じてしまい、その割れが原因でいわば断線状態が生じ、結果としてタッチパネルの機能が失われてしまうのである。要するに薄い板を急激な角度で何度も折り曲げると容易に破断してしまう、といったような現象が生じてしまうのである。 This cushioning will be further explained.
Assuming that the transparent conductive laminate according to the present embodiment is used for, for example, a touch panel, the touch panel is a human finger as already known, or in some cases, a signal is input by pressing a specific location with a pen. However, in the touch panel, the place and range where the pressing action is performed are usually fixed, and only a specific place is repeatedly pressed. And even if it is the fingertip that gives the pressing instruction, if there is not a certain thickness on the laminate on the side that receives the instruction, the angle that is pressed down in a cross-sectional view becomes abrupt, and the laminating due to the sudden angle A so-called “crack” occurs in the body, and the breakage is caused by the crack, and as a result, the function of the touch panel is lost. In short, when a thin plate is bent many times at a rapid angle, a phenomenon such as breaking easily occurs.

しかし軽薄短小が求められるモバイル機器等においては、それを構成する各部材に薄さが求められ、そのため透明導電積層体の基体を厚くするにも限界が生じてしまう。   However, in mobile devices and the like that are required to be light, thin, and thin, each member constituting the device is required to be thin. Therefore, there is a limit to increasing the thickness of the substrate of the transparent conductive laminate.

そこで基体そのものは薄いものの、いわば基体の底にクッション材を挿入することにより押下による加圧に積層体が耐えられるようにすることが考えられ、その効果を得るために本実施の形態では基体のさらに「底」に粘着層を介してもう一枚の基体を用いることとしているのであり、また２つの基体を貼着するための粘着層もそれ自体にある程度のクッション性を備えることとすれば、第２の基体による効果と合わせてクッション性を高めることが可能となることが考えられ、その結果本実施の形態では上述した通り、第１基体の有機物質による有機誘電体層とは反対の側に粘着層と第２基体とを積層しているのである。   Therefore, although the substrate itself is thin, it can be considered that the laminated body can withstand the pressure applied by pressing by inserting a cushion material at the bottom of the substrate. Furthermore, it is supposed that another substrate is used on the “bottom” via an adhesive layer, and the adhesive layer for adhering the two substrates also has a certain degree of cushioning property in itself. It is conceivable that the cushioning property can be enhanced in combination with the effect of the second substrate. As a result, in the present embodiment, as described above, the side of the first substrate opposite to the organic dielectric layer made of the organic material The adhesive layer and the second substrate are laminated together.

このように本実施の形態に係る透明導電積層体は、第２基体／粘着層／ハードコート層／第１基体／有機物質による有機誘電体層／無機物質による無機誘電体層／導電層、という構成にしたので、これをタッチパネルの部材として用いてもクッション性も備え、またオリゴマーの析出が生じてもそれを原因とした性能劣化が生じないものにすることが出来るのである。   As described above, the transparent conductive laminate according to the present embodiment is referred to as second substrate / adhesive layer / hard coat layer / first substrate / organic dielectric layer with organic substance / inorganic dielectric layer / conductive layer with inorganic substance. Since it is configured, even if it is used as a member of a touch panel, it can also be provided with cushioning properties, and even when oligomer precipitation occurs, performance deterioration caused by it can be prevented.

以上、第２基体／粘着層という積層を第１基体のハードコート層側表面になした場合につき説明したが、これ以外に、例えば単に運搬上のことを考慮してキャリアフィルムを粘着層を介して第１基体に貼着することも考えられ、また第１基体が傷つくことにより透明性が低下することを防止するため、即ち第１基体表面を保護するために粘着層を介してセパレータを貼着することも考えられる。これらキャリアフィルムやセパレータは従来公知のものであってよい。例えばキャリアフィルムとしてはＰＥＴによるものであってよく、セパレータとしてはポリプロピレンフィルムによるものであってよいが、特段制限するものではないことを付言しておく。   As described above, the case where the lamination of the second substrate / adhesive layer is performed on the hard coat layer side surface of the first substrate has been described, but in addition to this, for example, in consideration of transportation, the carrier film is interposed via the adhesive layer. In order to prevent the transparency of the first substrate from being deteriorated due to damage to the first substrate, that is, in order to protect the surface of the first substrate, a separator is applied via an adhesive layer. It is possible to wear it. These carrier films and separators may be conventionally known ones. For example, the carrier film may be made of PET, and the separator may be made of a polypropylene film, but it should be noted that there is no particular limitation.

回路部分と回路が存在しない部分との透過色目差を小さくしているので、透明導電積層体における回路部分が浮き出て見えることがなくなり、また可撓性を良好なものとしているので、これを例えば、視認性をより一層向上させた、また導電性部分にクラックが生じることを抑制したタッチパネルに適用することができる。
Since the transmission color difference between the circuit portion and the portion where no circuit is present is reduced, the circuit portion in the transparent conductive laminate is not seen to be raised, and the flexibility is improved. It can be applied to a touch panel in which visibility is further improved and cracks are suppressed in the conductive portion.

Claims (6)

第１基体の表面に、少なくとも有機物質による有機誘電体層と、無機物質による無機誘電体層と、導電層と、をこの順に積層してなる積層体の、前記導電層の一部をエッチングしてなる透明導電積層体であって、
前記第１基材がポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、又はノルボネン系フィルムの何れかであり、
前記無機物質による無機誘電体層が、酸化珪素による層であり、
前記有機誘電体層の光線屈折率ｎが１．４以上１．６以下であり、
前記導電層が、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、アルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）又はガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）の何れか若しくは複数であり、
前記有機誘電体層の厚みが３ｎｍ以上７８ｎｍ以下であり、
前記無機誘電体層の厚みが２ｎｍ以上７７ｎｍ以下であり、
前記有機誘電体層と前記無機誘電体層の厚みの合計が５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、
前記エッチングを施して前記導電層を除去した箇所である除去部と、前記エッチングを施した後も前記導電層が残留している箇所である残留部と、それぞれの箇所における透過色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた下記式による値ΔＥが２以下であり、
前記除去部と前記残留部と、それぞれの箇所における反射光の反射色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた下記式による値ΔＥが５以下であり、
前記除去部におけるｂ*値と、前記残留部におけるｂ*値とが、共に２以下であること、
を特徴とする、透明導電積層体。

（式）
但し
ΔＬ＝（除去部におけるＬ*値）−（残留部におけるＬ*値）
Δａ＝（除去部におけるａ*値）−（残留部におけるａ*値）
Δｂ＝（除去部におけるｂ*値）−（残留部におけるｂ*値）
である。 Etching a part of the conductive layer of a laminate formed by laminating at least an organic dielectric layer made of an organic substance, an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance, and a conductive layer in this order on the surface of the first substrate. A transparent conductive laminate comprising:
The first substrate is a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, or a norbornene-based film;
The inorganic dielectric layer made of the inorganic material is a layer made of silicon oxide;
The light refractive index n of the organic dielectric layer is 1.4 or more and 1.6 or less,
The conductive layer is one or more of indium tin oxide (ITO), aluminum oxide, indium zinc oxide (IZO), aluminum-added zinc oxide (AZO), or gallium-added zinc oxide (GZO);
The organic dielectric layer has a thickness of 3 nm to 78 nm,
The inorganic dielectric layer has a thickness of 2 nm to 77 nm,
The total thickness of the organic dielectric layer and the inorganic dielectric layer is 5 nm or more and 80 nm or less,
The removed portion, which is a portion where the conductive layer is removed by performing the etching, the residual portion where the conductive layer remains even after the etching is performed, and the transmission color difference in each portion is L The value ΔE according to the following formula using the * value, a * value, and b * value is 2 or less,
Reflection color difference of reflected light at each of the removed portion and the remaining portion is L * value, a * value, a value ΔE according to the following formula using b * value is 5 or less,
The b * value in the removal part and the b * value in the residual part are both 2 or less,
A transparent conductive laminate characterized by the above.

(formula)
However, ΔL = (L * value in the removed portion) − (L * value in the remaining portion)
Δa = (a * value in the removed portion) − (a * value in the remaining portion)
Δb = (b * value in the removed portion) − (b * value in the remaining portion)
It is. 請求項１に記載の透明導電積層体であって、
前記第１基体の導電層積層側の面とは反対表面側に、さらに少なくとも粘着層と、キャリアフィルムと、をこの順に積層してなること、
又は前記第１基体の導電層積層側の面とは反対表面側に、さらに少なくとも粘着層と、セパレータと、をこの順に積層してなること、
又は前記第１基体の導電層積層側の面とは反対表面側に、さらに少なくとも粘着層と、第２基体と、ハードコート層と、をこの順に積層してなること、
を特徴とする、透明導電積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 1,
On the surface side opposite to the surface on the conductive layer lamination side of the first base, further laminating at least an adhesive layer and a carrier film in this order;
Or at least a pressure-sensitive adhesive layer and a separator are laminated in this order on the surface opposite to the surface on the conductive layer lamination side of the first substrate,
Or at least a pressure-sensitive adhesive layer, a second substrate, and a hard coat layer are laminated in this order on the surface opposite to the surface of the first substrate on the conductive layer lamination side,
A transparent conductive laminate characterized by the above. 第１基体の表面に、少なくとも有機物質による有機誘電体層と、無機物質による無機誘電体層と、導電層と、をこの順に積層してなり、かつ前記第１基体の反対側面にハードコート層を積層してなる積層体の、前記導電層の一部をエッチングしてなる透明導電積層体であって、
前記第１基材がポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、又はノルボネン系フィルムの何れかであり、
前記無機物質による無機誘電体層が、酸化珪素による層であり、
前記有機誘電体層の光線屈折率ｎが１．４以上１．６以下であり、
前記導電層が、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、アルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）又はガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）の何れか若しくは複数であり、
前記有機誘電体層の厚みが３ｎｍ以上７８ｎｍ以下であり、
前記無機誘電体層の厚みが２ｎｍ以上７７ｎｍ以下であり、
前記有機誘電体層と前記無機誘電体層の厚みの合計が５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、
前記エッチングを施して前記導電層を除去した箇所である除去部と、前記エッチングを施した後も前記導電層が残留している箇所である残留部と、それぞれの箇所における透過色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた下記式による値ΔＥが２以下であり、
前記除去部と前記残留部と、それぞれの箇所における反射光の反射色目差が、Ｌ*値、ａ*値、ｂ*値を用いた下記式による値ΔＥが５以下であり、
前記除去部におけるｂ*値と、前記残留部におけるｂ*値とが、共に２以下であること、
を特徴とする、透明導電積層体。

（式）
但し
ΔＬ＝（除去部におけるＬ*値）−（残留部におけるＬ*値）
Δａ＝（除去部におけるａ*値）−（残留部におけるａ*値）
Δｂ＝（除去部におけるｂ*値）−（残留部におけるｂ*値）
である。 On the surface of the first substrate, at least an organic dielectric layer made of an organic material, an inorganic dielectric layer made of an inorganic material, and a conductive layer are laminated in this order, and a hard coat layer is formed on the opposite side surface of the first substrate. A transparent conductive laminate formed by etching a part of the conductive layer,
The first substrate is a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, or a norbornene-based film;
The inorganic dielectric layer made of the inorganic material is a layer made of silicon oxide;
The light refractive index n of the organic dielectric layer is 1.4 or more and 1.6 or less,
The conductive layer is one or more of indium tin oxide (ITO), aluminum oxide, indium zinc oxide (IZO), aluminum-added zinc oxide (AZO), or gallium-added zinc oxide (GZO);
The organic dielectric layer has a thickness of 3 nm to 78 nm,
The inorganic dielectric layer has a thickness of 2 nm to 77 nm,
The total thickness of the organic dielectric layer and the inorganic dielectric layer is 5 nm or more and 80 nm or less,
The removed portion, which is a portion where the conductive layer is removed by performing the etching, the residual portion where the conductive layer remains even after the etching is performed, and the transmission color difference in each portion is L The value ΔE according to the following formula using the * value, a * value, and b * value is 2 or less,
Reflection color difference of reflected light at each of the removed portion and the remaining portion is L * value, a * value, a value ΔE according to the following formula using b * value is 5 or less,
The b * value in the removal part and the b * value in the residual part are both 2 or less,
A transparent conductive laminate characterized by the above.

(formula)
However, ΔL = (L * value in the removed portion) − (L * value in the remaining portion)
Δa = (a * value in the removed portion) − (a * value in the remaining portion)
Δb = (b * value in the removed portion) − (b * value in the remaining portion)
It is. 請求項３に記載の透明導電積層体であって、
前記第１基体のハードコート層を積層した側の表面に、さらに少なくとも粘着層と、キャリアフィルムと、をこの順に積層してなること、
又は前記第１基体のハードコート層を積層した側の表面に、さらに少なくとも粘着層と、セパレータと、をこの順に積層してなること、
又は前記第１基体のハードコート層を積層した側の表面に、さらに少なくとも粘着層と、第２基体と、ハードコート層と、をこの順に積層してなること、
を特徴とする、透明導電積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 3,
On the surface of the first substrate on which the hard coat layer is laminated, at least an adhesive layer and a carrier film are laminated in this order;
Or, on the surface of the first base on which the hard coat layer is laminated, at least an adhesive layer and a separator are laminated in this order,
Or, on the surface of the first base on which the hard coat layer is laminated, at least an adhesive layer, a second base, and a hard coat layer are laminated in this order.
A transparent conductive laminate characterized by the above. 請求項１ないし請求項４の何れか１項に記載の透明導電積層体であって、
前記透明導電積層体の導電層積層側面とは反対側の表面側に、円の半径が８ｍｍの円柱を沿わせた時の、前記透明導電積層体における導電層の延長率が２％以内であること、
を特徴とする、透明導電積層体。 The transparent conductive laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein
The extension rate of the conductive layer in the transparent conductive laminate is within 2% when a cylinder having a radius of 8 mm is placed on the surface side opposite to the conductive layer laminate side surface of the transparent conductive laminate. thing,
A transparent conductive laminate characterized by the above. 請求項１ないし請求項５の何れか１項に記載の透明導電積層体を用いてなること、
を特徴とする、タッチパネル。
Using the transparent conductive laminate according to any one of claims 1 to 5,
A touch panel characterized by