JP4339410B2 - 材料に対し光により開始される化学的架橋を行う装置 - Google Patents
材料に対し光により開始される化学的架橋を行う装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4339410B2 JP4339410B2 JP53625698A JP53625698A JP4339410B2 JP 4339410 B2 JP4339410 B2 JP 4339410B2 JP 53625698 A JP53625698 A JP 53625698A JP 53625698 A JP53625698 A JP 53625698A JP 4339410 B2 JP4339410 B2 JP 4339410B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- mask
- mold
- beam path
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0888—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using transparant moulds
- B29C35/0894—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using transparant moulds provided with masks or diaphragms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
材料の化学的架橋において、材料の分子構造は、分子鎖の結合によって変えられる。材料は、加工の間に、肉眼で見える変化をする場合があり、例えばある凝集状態から別の凝集状態へ、例えば液体状態から固体状態へ変化する場合がある。架橋は、例えば、本明細書において、一般的に光と呼ばれる電磁波の照射により引き起こすことができる。この過程を誘発するために、フォトンは一定の最小エネルギーを有さなければならず、その結果、典型的には紫外線(UV)波長領域の光が用いられる。
このような液体材料を光学的に透明な成形用ツールに入れれば、材料に架橋を引き起こす化学プロセスを露光により誘発できる。すると、材料は固体になり、成形用ツールの形状を保持する。このような方法で成形された材料を成形用ツールから取り出し、所望の形状の固体成形品が得られる。
成形用型が、その中で複数の成形品を生産するように用いられる場合、その複数の成形品が成形用型中で互いに結合されているのが好都合である。架橋される液体材料は、成形用型の一方の側から投入され、分散し、成形用型全体を満たすことができる。しかしながら、架橋の後にそれぞれの成形品を互いに分離する際に問題が起こる。境界は、しばしばそのあとで、加工、例えば磨かれることが必要である。同じ問題は、架橋される材料が投入される部分に、成形品自体の痕跡を残すので、成形品が一つのみの場合でも起こる。
本発明の根底にある課題は、架橋を誘発する光が成形品(類)の外形を形成するように、冒頭で言及したタイプの装置中にビーム経路を形成することである。
本発明の根底にある課題は、特に、装置の光軸に平行である成形品表面が、架橋を誘発する光のビーム経路により決定されるように、冒頭で言及したタイプの装置中にビーム経路を形成することである。
本発明によれば、この課題は、成形用型中において架橋される領域が、光源と成形用型の間にある光線境界画定要素により少なくとも部分的に決定されることで解決される。結果として、架橋されるべき領域を、実際に制御することができる。
そのような光線境界画定要素は、例えば、光源と成形用型の間に配置された透明表面部分及び不透明表面部分を有するマスクであり得、マスクは成形用型に入れられた材料上に投影光学系により投影される。
特定の所望のパターンは、マスクにより画定される。そのパターンは、成形品の形状を、装置の光軸に関して放射方向に決定する。成形用型の放射方向の寸法が大きいときであっても、パターンの外側の材料は架橋されず、かつ成形品を取り出した後に、成形品からすすぎ落とすことができる。
好ましくは、光源は、架橋されるべき所望量の材料を通るエネルギーの流れを、可能な限り均一に供給し、かつ合計エネルギー又は強度を、化学反応が可能な限り短時間で完了するように十分高くして、製造工程において良好かつ経済的に実行可能な収率を可能にするべきである。
光源は、光学的にほぼ点の形態であり得、集光光学系は、マスクへの十分に均一な照射が得られるように、光源とマスクの間に配置され得る。この手段は、公知であり、ここでは、詳細には論じない。
装置は、テレセントリックビーム経路によりマスクの投影が材料上に達成されるように構成され得る。テレセントリックビーム経路は、対象物側又は画像側のいずれかにある。対象物側テレセントリックビーム経路は、光学システムの入射瞳が無限遠に配置されるビーム経路、すなわち出射瞳が画像焦点と一致するビーム経路として定義される。画像側テレセントリックビーム経路は、光学システムの出射瞳が無限遠に配置されるビーム経路、すなわち入射瞳が対象物焦点と一致するビーム経路として定義される。テレセントリックビーム経路が画像側に存在する場合、画像の寸法は画像の位置に依存しない。このことは、形成される成形品には、システムの光軸の方向にある程度の厚みがあるため、本発明においては非常に好都合である。光軸に平行に広がる成形品の側面の表面は、結果として、架橋の間、いかなる屈曲も受けない。異なる距離及び材料厚さによる焦点ずれは、最小化される。
光源は、UVパルス光源(フラッシュランプ)であってもよい。光源として典型的に用いられるcw(cw=持続波)高性能ハロゲンランプは、相当なスペースをとり、電気出力が数kwの範囲であり、そして高価であるが、これは、損傷の割合が高く、複雑な電気的制御を必要とし、UV収量が低い。パルス光源は、極めて低い平均電気出力と共に、非常に高いUV成分を有している。これは、UV成分がアークのプラズマ温度の関数であり、全電気出力がランプの材料により制限される(平均熱負荷限界)という事実によるものである。パルスランプにおいては、白熱プラズマのはかなり熱く、すなわち、それぞれの光パルス毎に極めて高い出力がある。そのようなランプにおいては、それぞれのパルスによる出力の制限要因はランプの熱衝撃抵抗のみである。他方、平均電気出力は、低い(例えば、数ワット)。そのようなランプは、また、より安価でもある。典型的には、パルスランプは、cw作動ランプの200〜300倍のUV成分を達成する。
パルスランプの更なる利点は、低い電気出力のために、それらの構成容積がより小さいことである。その結果、それらは容易に光学システムに組み込むことができ、光学システムと近接した集合として配置することができる。
パルスモード操作では、また、単にプロジェクタ当りのパルスを数えるだけで、複数のパルスそれぞれの照射量を正確に制御できる。
再帰反射板は、光源から見て成形用型の後ろに配置され得る。活性容量が照射された後、ビーム経路の中に再帰反射板を組み込むことにより、光は所望量で再び投影される。1回のビームの通過では、典型的には少量の割合のみが吸収(つまり、所望の化学反応を誘発する)されるので、配置全体を通しての効率の程度は、ほぼ2倍になる。更に、プロジェクタランプへの逆投影は、プラズマ放出温度を大きく増大させ、それは、放出スペクトルのUV成分を所望するように増大させる。
適切なエネルギー範囲を選択するためには、光学フィルタをマスク中に組み込んでもよく、あるいはコリメーター、投影光学系若しくは成形ツールが、適宜、選択的に透明であってもよい。
本発明の結果として、とりわけ露光が、比較的大きな表面領域で均一になり、そして更に表面領域全体のうちで固定された部分でそれぞれに変えることができ、それは特に多重加工の場合(いわば、複数の成形品が成形用型の中で互いに隣り合って配置されているとき)及び小さな成形品が製造されるときに重要である。
本発明の実施態様は、以下の添付図面を参照して詳細に例示されている。
図1は、本発明の実施態様の図解的表現である。
図2は、画像側テレセントリックビーム経路を調製するための光学エレメントの配置の図解的表現である。
図1において、プロジェクタは参照番号10により示されている。プロジェクタ10は、フラッシュランプ12の形の光源を含む。フラッシュランプ12は、パルスカウンタを含む電気制御手段16にリード線14により連結されている。プロジェクタ10において、フラッシュランプのビーム経路中に、連続してコリメータ光学系18、透明形態でのマスク20、絞り22及び投影光学系24が配置されている。絞り22は、投影光学系24の焦点平面に配置されている。
プロジェクタ10は、それが成形用ツール26を露光するように配置されている。成形用ツールには、露光され、架橋される材料28が入れられる。
再帰反射板30は、プロジェクタ10から見ると、成形用ツール26の後ろに配置されている。
装置の光軸は、参照番号32で示されている。複数のプロジェクタが用いられるとき、そのような光軸32は、それぞれのプロジェクタに関連付けられる。その結果、光軸32への関連付けは、個別のプロジェクタごとに行われる。
絞り22は、プロジェクタ10において、入射瞳を定義するように配置されている。絞り22は、投影光学系のための開口絞りを形成する。画像側テレセントリックビーム経路が、結果とし作成され、比較的厚い材料28、いわば光軸32に広い範囲で平行である材料を、底において変形無しで露光することができることを意味する。更に、プロジェクタ10と成形用ツール26との間の距離に関して、操作のためのかなり大きな余裕を、架橋の結果にマイナスの効果を奏しないで生むことが可能である。
パルス・カウンタを有する制御部16の結果として、架橋される材料28を通るエネルギーの流れを制御する簡単な方法が可能である。
より明瞭にするために、図1において、一機のプロジェクタ10のみが示されている。しかしながら、本発明は、一機のプロジェクタ10の使用に限定されないことを、明確に言及される。むしろ、複数のプロジェクタを使用することが、好都合である。例えば、4×5の成形品の配置が透明な成形用ツールの中で形状が定義された状態で露光されるならば、パルス光源及び約40Wの平均電気出力を有する、例えば20個の同一に構成されたプロジェクタを用いることができる。製造される成形品が同一であり、そして、例えば、それぞれが光軸に対して放射状に15mmの直径を有する場合がある。装置がそのように操作されるので、強度は数秒の期間にわたり平均10mW/cm2に達する。用いられるマスク20は、成形用ツールへ投影される金属マスクであってよい。露光強度の評価により、以下の値を提供する。
この実験に要した全電気出力は、それぞれ10Wで別個の20個のランプから、最大200Wである。公知の影−投影技術(shadow-throwing technology)及びcwランプでの要求を満たすため、2.5kW以上の電気出力を有するランプを用いることが必要である。
画像側テレセントリックビーム経路は、図2を参照して記載されている。図2の対応する部分は、図1と同じ参照番号で提供されている。
光軸32に連続して、光源12、コリメータ光学系18、マスク20、開口絞り22及び投影光学系24が配置されている。開口絞り22は、投影光学系24の目的の焦点平面に配置されている。画像側テレセントリックビーム経路が、結果として、形成される。二つのビームは、参照番号36及び38により示されている。投影光学系24は、マスク20を画像平面40へ投影している。マスク20の鮮明な画像は、その画像平面40で得られる。テレセントリックビーム経路のために、画像平面40の前及び後の両方で、マスクの画像、それは鮮明ではないが、画像平面40における画像寸法から、異ならないか、又はわずかに異なるマスク20の画像が得られる。
コリメータ光学系18は、光源12を、開口絞り22の平面に投影する。それは、小さな円34により示されている。いわゆる連結された、または混ぜ合わされたビーム経路はこの方法で得られ、マスク20の良好な照明をもたらす。
Claims (4)
- 光学的に透明で、少なくともその一部が成形品を形成するために架橋される材料が入れられている成形用型と、
材料が架橋を誘発する光を発し、光学的に点の形態である光源と、
前記光源と前記材料の間に配置され、透明及び不透明表面部分を有するマスクと、
光源とマスクとの間に配置されたコリメータ光学系と、
前記マスクが投影される前記材料の表面上の領域を画定するように、前記マスクを前記材料の表面上に投影する投影光学系と、を含み、
前記コリメータ光学系と前記投影光学系は、材料を取り囲むように画像側テレセントリックビーム経路を形成し、装置の光軸に関して放射方向の成形品の形が、前記材料の表面上の領域によって画定される、材料に対して光により開始される化学的架橋を行う装置。 - 再帰反射板が、光源から見て、成形用型の背後に配置されている、請求項1記載の装置。
- 光源が、パルス化されたUV光源である、請求項1記載の装置。
- 再帰反射板が、光源から見て、成形用型の背後に配置されている、請求項3記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19706846A DE19706846A1 (de) | 1997-02-21 | 1997-02-21 | Vorrichtung zur lichtinitiierten chemischen Vernetzung von Material |
DE19706846.4 | 1997-02-21 | ||
PCT/EP1998/000962 WO1998036889A1 (en) | 1997-02-21 | 1998-02-19 | Apparatus for the photo-initiated chemical cross-linking of material |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001511727A JP2001511727A (ja) | 2001-08-14 |
JP2001511727A5 JP2001511727A5 (ja) | 2005-10-06 |
JP4339410B2 true JP4339410B2 (ja) | 2009-10-07 |
Family
ID=7821012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP53625698A Expired - Fee Related JP4339410B2 (ja) | 1997-02-21 | 1998-02-19 | 材料に対し光により開始される化学的架橋を行う装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6448563B1 (ja) |
EP (1) | EP0961676B1 (ja) |
JP (1) | JP4339410B2 (ja) |
AU (1) | AU6622598A (ja) |
DE (2) | DE19706846A1 (ja) |
WO (1) | WO1998036889A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6737661B2 (en) * | 2000-08-17 | 2004-05-18 | Novartis Ag | Pre-treatment of molds |
DE10318252A1 (de) * | 2003-04-23 | 2004-11-25 | Zahoransky Formenbau Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Formkörpern |
US8766212B2 (en) * | 2006-07-19 | 2014-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Correction of spatial instability of an EUV source by laser beam steering |
WO2012088473A1 (en) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | The Board Of Regents Of The University Of Texas System | Alphavirus compositions and methods of use |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2524862A (en) * | 1946-07-16 | 1950-10-10 | Ici Ltd | Method and apparatus for producing cast synthetic resin structures by photopolymerization of monomeric material |
GB1511901A (en) * | 1974-05-06 | 1978-05-24 | Bausch & Lomb | Forming lenses and lens blanks |
US4960674A (en) * | 1984-12-17 | 1990-10-02 | Johnson Service Company | Method of fabricating fluidic plates and devices by irradiation of photopolymers |
EP0226123A3 (en) * | 1985-12-03 | 1988-08-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing transparent plastic article |
US5364256A (en) * | 1986-01-28 | 1994-11-15 | Ophthalmic Research Group International, Inc. | Apparatus for the production of plastic lenses |
JPS6334108A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-13 | Hitachi Ltd | 光デイスク用基板の製造方法および装置 |
DE3636755A1 (de) * | 1986-10-29 | 1988-05-05 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von hohlkoerpern |
US4919850A (en) * | 1988-05-06 | 1990-04-24 | Blum Ronald D | Method for curing plastic lenses |
GB8916133D0 (en) * | 1989-07-14 | 1989-08-31 | Raychem Ltd | Laser machining |
IE65863B1 (en) * | 1990-03-13 | 1995-11-29 | Werner Blau | Laser curing of contact lens |
JPH04161305A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-04 | Canon Inc | レンズの製造方法及び製造装置 |
SG49612A1 (en) * | 1993-07-19 | 2003-03-18 | Novartis Ag | A process and device for the manufacture of moulding and mouldings manufactured in accordance with that process |
US6022498A (en) * | 1996-04-19 | 2000-02-08 | Q2100, Inc. | Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
-
1997
- 1997-02-21 DE DE19706846A patent/DE19706846A1/de not_active Ceased
-
1998
- 1998-02-19 JP JP53625698A patent/JP4339410B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-02-19 WO PCT/EP1998/000962 patent/WO1998036889A1/en active IP Right Grant
- 1998-02-19 US US09/367,274 patent/US6448563B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-19 DE DE69802167T patent/DE69802167T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-19 EP EP98908102A patent/EP0961676B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-19 AU AU66225/98A patent/AU6622598A/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69802167T2 (de) | 2002-03-14 |
DE69802167D1 (de) | 2001-11-29 |
EP0961676A1 (en) | 1999-12-08 |
JP2001511727A (ja) | 2001-08-14 |
WO1998036889A1 (en) | 1998-08-27 |
EP0961676B1 (en) | 2001-10-24 |
DE19706846A1 (de) | 1998-09-03 |
AU6622598A (en) | 1998-09-09 |
US6448563B1 (en) | 2002-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI230847B (en) | Contamination barrier with expandable lamellas | |
EP1650786B1 (en) | Light source unit, illumination optical apparatus and exposure apparatus | |
CN105122140B (zh) | 辐射收集器、辐射源以及光刻设备 | |
US8330938B2 (en) | Solid-state array for lithography illumination | |
WO2005082097A2 (en) | Combined ablation and exposure system and method | |
JPH08141001A (ja) | 光照射器 | |
JP4339410B2 (ja) | 材料に対し光により開始される化学的架橋を行う装置 | |
JPH08281810A (ja) | 光造形装置 | |
TWI241465B (en) | Lithographic projection apparatus with multiple suppression meshes | |
JP2000299197A (ja) | X線発生装置 | |
JP2007531918A (ja) | 高出力レーザー・ビーム用の開口絞りアセンブリ | |
US4625120A (en) | Deep ultraviolet (DUV) flood exposure system | |
US7079224B2 (en) | Arrangement for debris reduction in a radiation source based on a plasma | |
CN106575085B (zh) | 光刻设备和制造器件的方法 | |
JP2011514510A (ja) | パルス源の多重化方法 | |
JP3132086B2 (ja) | 光学素子の形状制御方法および露光装置 | |
JP2543418B2 (ja) | 光ビ―ム加熱機 | |
CA2616240A1 (en) | Light exposure control device and apparatus | |
JP6809928B2 (ja) | 光照射装置 | |
JPS62143426A (ja) | 光照射装置 | |
JP6768505B2 (ja) | Uv放射源のための熱−光分離 | |
US20020114896A1 (en) | System and method for curing reactive material | |
JP3531245B2 (ja) | 照明装置及び露光装置 | |
US20060104062A1 (en) | Apparatus for the transport of light emitted by a short-arc lamp | |
JP2002359058A (ja) | ランプ加熱装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050204 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071002 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20071226 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080208 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080201 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080310 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080801 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080908 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080827 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081006 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081001 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081209 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090309 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090630 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090702 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120710 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120710 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130710 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |