JP4334968B2 - Deposition equipment - Google Patents

Deposition equipment Download PDF

Info

Publication number
JP4334968B2
JP4334968B2 JP2003343544A JP2003343544A JP4334968B2 JP 4334968 B2 JP4334968 B2 JP 4334968B2 JP 2003343544 A JP2003343544 A JP 2003343544A JP 2003343544 A JP2003343544 A JP 2003343544A JP 4334968 B2 JP4334968 B2 JP 4334968B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
raw material
gas
material supply
forming apparatus
film forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003343544A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005109348A (en
Inventor
賢治 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2003343544A priority Critical patent/JP4334968B2/en
Publication of JP2005109348A publication Critical patent/JP2005109348A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4334968B2 publication Critical patent/JP4334968B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は成膜装置に係り、特に、液体原料を噴霧して均一に気化するための構成に関するものである。 The present invention relates to a film forming apparatus, and more particularly, to a structure for uniformly vaporized by spraying liquid material.

一般に、半導体ウエハなどの基板の表面に絶縁薄膜を形成する成膜装置として、ガス反応によって成膜を行う化学気相成長装置（ＣＶＤ装置）が用いられている。このようなＣＶＤ装置においてＰＺＴ等の多元系金属酸化物薄膜を成膜する場合には、原料となる有機金属化合物は常温常圧で固体である場合が多いため、その固体原料をガス化して成膜処理チャンバに供給する必要がある。この場合には、通常、固体原料を適当な溶媒に溶解させて（溶液原料と呼ばれる）液体とし、それを気化器において気化して成膜処理チャンバに供給する。このような原料供給方式は溶液気化法と呼ばれ、バブリング法や固体昇華法に代わる有望なガス化法の一つとして近年盛んに研究開発がなされている（例えば、特許文献１参照）。   In general, a chemical vapor deposition apparatus (CVD apparatus) that forms a film by a gas reaction is used as a film forming apparatus that forms an insulating thin film on the surface of a substrate such as a semiconductor wafer. When a multi-component metal oxide thin film such as PZT is formed in such a CVD apparatus, the organometallic compound as a raw material is often a solid at room temperature and normal pressure. There is a need to supply the membrane processing chamber. In this case, normally, the solid raw material is dissolved in an appropriate solvent to form a liquid (referred to as a solution raw material), which is vaporized in a vaporizer and supplied to the film forming chamber. Such a raw material supply method is called a solution vaporization method and has been actively researched and developed in recent years as one of promising gasification methods to replace the bubbling method and the solid sublimation method (for example, see Patent Document 1).

上記の溶液気化法を用いて例えば３元系の金属酸化物薄膜を成膜する場合について説明する。ここでは、図８に示す成膜装置１００を用いる。この成膜装置１００には、原料供給系１０１Ａと、気化器１１０と、成膜装置本体１２０とが設けられている。原料供給系１０１Ａにおいて、３系統に分けられた原料容器、例えば鉛系原料の溶液を貯蔵した原料容器１０１ａ、ジルコニウム系原料の溶液を貯蔵した原料容器１０１ｂ及びチタン系原料の溶液を貯蔵した原料容器１０１ｃのそれぞれに蓄積された原料溶液は、圧送ガス管１０２を介して加圧ガスＡが供給されることにより原料供給ライン１０３ａ、１０３ｂ及び１０３ｃに押し出され、流量制御器１０５ａ、１０５ｂ及び１０５ｃを通して原料搬送ライン１０７に押し出される。この原料搬送ライン１０７には不活性ガス（例えばＨｅ，Ａｒ）などのキャリアガスＢが供給されていて、原料供給ライン１０３ａ〜１０３ｃがそれぞれ原料搬送ライン１０７に接続されてなるマニホールド構造により、原料搬送ライン１０７内で溶液原料とキャリアガスが混合され、気液混合状態で気化器１１０へと送られる。なお、例えば酢酸ブチルやオクタンやＴＨＦ（テトラヒドロフラン）などの溶剤を収容した溶剤容器１０１ｄも設けられている。この溶剤容器１０１ｄに収容された溶剤も、加圧ガスＡにより溶媒供給ライン１０４に押し出され、流量制御器１０６を介して原料搬送ライン１０７に供給されるように構成されている。   For example, a case where a ternary metal oxide thin film is formed using the above solution vaporization method will be described. Here, a film forming apparatus 100 shown in FIG. 8 is used. The film forming apparatus 100 includes a raw material supply system 101A, a vaporizer 110, and a film forming apparatus main body 120. In the raw material supply system 101A, raw material containers divided into three systems, for example, a raw material container 101a storing a lead-based raw material solution, a raw material container 101b storing a zirconium-based raw material solution, and a raw material container storing a titanium-based raw material solution The raw material solution accumulated in each of the 101c is pushed out to the raw material supply lines 103a, 103b and 103c by the supply of the pressurized gas A through the pressurized gas pipe 102, and the raw material solution is passed through the flow rate controllers 105a, 105b and 105c. Extruded to the conveying line 107. A carrier gas B such as an inert gas (for example, He, Ar) is supplied to the raw material transfer line 107, and the raw material transfer line 107a to 103c is connected to the raw material transfer line 107 by a manifold structure. The solution raw material and the carrier gas are mixed in the line 107 and sent to the vaporizer 110 in a gas-liquid mixed state. A solvent container 101d that contains a solvent such as butyl acetate, octane, or THF (tetrahydrofuran) is also provided. The solvent stored in the solvent container 101 d is also pushed out to the solvent supply line 104 by the pressurized gas A and supplied to the raw material transfer line 107 via the flow rate controller 106.

気化器１１０にはノズル１１１が設けられ、このノズル１１１に上記原料搬送ライン１０７が接続されている。また、ノズル１１１には、ガス供給配管１０８によって噴霧ガスＣが流量制御器１０９を通して供給される。このノズル１１１には二重管構造を有するノズル口が設けられ、例えば、外管内に供給される噴霧ガスＣによって内管に供給された溶液原料及びキャリアガスが気化室１１２内へ噴霧される。ここで、使用される溶媒の気化温度と原料そのものの気化温度は通常異なるので、気化温度の低い溶媒が先に気化しないようにノズル部分は室温程度まで冷却される。   The vaporizer 110 is provided with a nozzle 111, and the raw material transfer line 107 is connected to the nozzle 111. Further, the spray gas C is supplied to the nozzle 111 through the flow rate controller 109 through the gas supply pipe 108. The nozzle 111 is provided with a nozzle port having a double tube structure, and for example, the solution raw material and the carrier gas supplied to the inner tube are sprayed into the vaporizing chamber 112 by the spray gas C supplied to the outer tube. Here, since the vaporization temperature of the solvent used and the vaporization temperature of the raw material itself are usually different, the nozzle portion is cooled to about room temperature so that the solvent having a low vaporization temperature does not vaporize first.

気化室１１２の内面は原料を気化させるための気化面１１２ａであり、例えば２００℃前後に加熱されている。ノズル１１１から噴出した霧状の溶液原料は気化面１１２ａにぶつかって瞬時に気化し、気化室１１２内において原料ガスとなる。この原料ガスは、ガス導出口１１３から導出され、ガス輸送管１１６を通して成膜装置本体１２０の成膜チャンバ１２１に供給される。成膜チャンバ１２１内には、上記ガス輸送管１１６が接続されたシャワーヘッド１２２や基板Ｗを載置するためのサセプタ１２３などが配置されている。また、シャワーヘッド１２２には反応ガス供給管１１７を介してＯ２などの酸化性ガスも供給される。成膜チャンバ１２１内では、上記原料ガスと酸化性ガスの反応によって基板Ｗ上に薄膜が形成される。以下の特許文献２乃至４には、原料供給管と噴霧ガス供給管とが同軸に構成された噴霧ノズルを有する気化器が記載されている。
特開平７−９４４２６号公報 特開平１０−２５１８５３号公報 特開２０００−２７３６３９号公報 特開２００２−１０５６４６号公報 The inner surface of the vaporization chamber 112 is a vaporization surface 112a for vaporizing the raw material, and is heated to about 200 ° C., for example. The mist-like solution raw material ejected from the nozzle 111 collides with the vaporization surface 112 a and is instantly vaporized to become a raw material gas in the vaporization chamber 112. This source gas is led out from the gas outlet 113 and supplied to the film forming chamber 121 of the film forming apparatus main body 120 through the gas transport pipe 116. In the film forming chamber 121, a shower head 122 to which the gas transport pipe 116 is connected, a susceptor 123 for placing the substrate W, and the like are arranged. The shower head 122 is also supplied with an oxidizing gas such as O 2 through the reaction gas supply pipe 117. In the film forming chamber 121, a thin film is formed on the substrate W by the reaction between the source gas and the oxidizing gas. The following Patent Documents 2 to 4 describe a vaporizer having a spray nozzle in which a raw material supply pipe and a spray gas supply pipe are configured coaxially.
JP-A-7-94426 Japanese Patent Laid-Open No. 10-251853 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-273739 JP 2002-105646 A

しかしながら、上記従来の成膜装置においては、上記気化器１１０のノズル１１１から溶液原料を噴霧する場合に、溶液原料の噴霧状態が変動することによって気化室１１２内の原料ガスの気化状態が変動し、成膜チャンバ１２１への原料ガスの供給状態が不安定になるという問題点がある。また、気化室１１２内やその下流側の配管において溶液原料が固化してなるパーティクルが生成され、このパーティクルが成膜チャンバ１２１内に導入されて成膜再現性や膜質の低下をもたらすという問題点もある。   However, in the conventional film forming apparatus, when the solution raw material is sprayed from the nozzle 111 of the vaporizer 110, the vaporization state of the raw material gas in the vaporization chamber 112 varies due to the variation of the spray state of the solution raw material. There is a problem that the supply state of the source gas to the film forming chamber 121 becomes unstable. Further, there is a problem in that particles formed by solidification of the solution raw material are generated in the vaporization chamber 112 or in the piping on the downstream side thereof, and the particles are introduced into the film formation chamber 121 to cause film formation reproducibility and film quality deterioration. There is also.

より詳細に述べると、上記ノズル１１１から気化室１１２の内部に噴霧された霧状の溶液原料（ミスト）のうち、大部分は高温の気化面１１２ａにぶつかった瞬間に気化するが、一部のミストは気化しきれずに気化室１１２の内部やその下流の配管内などにおいて溶媒が抜けて球状パーティクルとなる。実際に気化器内部に残留したパーティクルを走査型電子顕微鏡で観察したところ、球状パーティクルの大きさはまちまちで直径０．１〜１．８μｍまで広く分布していた。ここで、気化室１１２内に噴霧されたミストから単に溶媒が揮発して球状パーティクルが生成されたと仮定すると、噴霧されたミストの大きさも一様ではなく、直径２０〜３７０μｍの範囲で広く分布しているものと推定される。   More specifically, most of the mist-like solution raw material (mist) sprayed from the nozzle 111 into the vaporizing chamber 112 is vaporized at the moment it hits the high-temperature vaporizing surface 112a. The mist cannot be completely vaporized, and the solvent is removed in the vaporization chamber 112 or in the piping downstream thereof to form spherical particles. When the particles actually remaining inside the vaporizer were observed with a scanning electron microscope, the size of the spherical particles varied and was widely distributed to a diameter of 0.1 to 1.8 μm. Here, assuming that the solvent is simply volatilized from the mist sprayed in the vaporization chamber 112 and spherical particles are generated, the size of the sprayed mist is not uniform and is widely distributed in the range of 20 to 370 μm in diameter. It is estimated that

また、気化器１１０の蓋を透明窓に交換してノズル１１１の噴霧状態を目視で観察したところ、ノズル１１１の噴霧状態が一定ではなく、時間的に噴霧状態が変動する不安定な状況が確認された。例えば、時折、目視される程度の大きなミストがノズル１１１から噴出したり滴下したりする場合があった。さらに、気化室１１２の内圧をモニタしたところ、若干の圧力のふらつきが観測された。   In addition, when the lid of the vaporizer 110 was replaced with a transparent window and the spray state of the nozzle 111 was visually observed, it was confirmed that the spray state of the nozzle 111 was not constant and the spray state fluctuated with time. It was done. For example, sometimes a large mist that can be visually observed may be ejected or dripped from the nozzle 111. Further, when the internal pressure of the vaporization chamber 112 was monitored, a slight pressure fluctuation was observed.

上記の観察結果から、現状の気化器１１０における霧化状態は安定しておらず、これが成膜再現性の低下やパーティクル生成による膜質低下の原因になっているものと考えられる。   From the above observation results, it is considered that the current atomization state in the vaporizer 110 is not stable, which causes a decrease in film reproducibility and a decrease in film quality due to particle generation.

そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、気化器における液体原料の噴霧状態を安定化させることにより、原料ガスの供給状態を安定化させるとともに、パーティクルの生成を抑制することのできる成膜装置の構成を提供することにある。 Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and the problem is to stabilize the supply state of the raw material gas and to suppress the generation of particles by stabilizing the spray state of the liquid raw material in the vaporizer. and to provide a structure of a can Ru film forming apparatus of that.

本発明の成膜装置は、液体原料を噴霧する噴霧手段と、噴霧された前記液体原料を気化するための気化面を備えた気化室と、該気化室にて生成された原料ガスを導出するガス導出口とを有し、前記噴霧手段には、前記液体原料を供給する原料供給路と、該原料供給路によって供給される前記液体原料を噴霧する噴霧ガスを供給するガス供給路とを備え、前記原料供給路の原料噴出口と前記ガス供給路のガス噴出口とが隣接配置されてなる気化器と、前記液体原料を供給する原料供給系と、前記気化器から導出される前記原料ガスを用いて成膜を行う成膜室と、を有する成膜装置において、前記気化器は、前記原料噴出口と前記ガス噴出口とを相互に位置決め保持するための位置決め保持手段を有し、前記原料供給系は、前記液体原料をキャリアガスによって搬送する原料搬送ラインと、複数の前記液体原料をそれぞれ前記原料搬送ラインに供給する複数の原料供給ラインとを有し、前記原料供給ラインの流通断面積よりも前記原料搬送ラインの流通断面積が大きく構成されていることを特徴とする。 The film forming apparatus of the present invention derives a raw material gas generated in the vaporizing chamber having a spraying means for spraying the liquid raw material, a vaporizing surface for vaporizing the sprayed liquid raw material, and the vaporizing chamber. The spray means includes a raw material supply path for supplying the liquid raw material, and a gas supply path for supplying a spray gas for spraying the liquid raw material supplied by the raw material supply path. A vaporizer in which a raw material outlet of the raw material supply path and a gas outlet of the gas supply path are disposed adjacent to each other , a raw material supply system for supplying the liquid raw material, and the raw material gas derived from the vaporizer in the deposition apparatus having a deposition chamber for forming a film by using the vaporizer, have a positioning and holding means for positioning and holding the said source material jet and the gas ejection port to each other, the The raw material supply system carries the liquid raw material. A raw material transport line for transporting by gas; and a plurality of raw material supply lines for supplying a plurality of the liquid raw materials to the raw material transport line, respectively. It is characterized by having a large area .

この発明によれば、原料噴出口の位置をガス噴出口に対して位置決め保持する位置決め保持手段を設けたことによって、噴霧手段（ノズル）における原料噴出口とガス噴出口との相対的移動若しくは振動が抑制されるため、噴霧手段の噴霧状態を安定化させることができる。上記従来例で説明したように、液体原料がキャリアガスとともに気液混合状態で搬送されてくる場合に、液体原料の搬送量が時間と共に変動したり脈動を生じたりするときがあり、このときには原料噴出口とガス噴出口との相対的移動若しくは振動が顕著になるため、特に効果的である。噴霧状態の安定化は、噴霧量の時間的変動の抑制や噴霧されるミスト径の均一化につながるため、原料ガスの供給状態の安定化やパーティクルの低減に効果がある。   According to this invention, by providing the positioning holding means for positioning and holding the position of the raw material outlet with respect to the gas outlet, the relative movement or vibration between the raw material outlet and the gas outlet in the spray means (nozzle) is provided. Therefore, the spraying state of the spraying means can be stabilized. As described in the above conventional example, when the liquid raw material is transported in a gas-liquid mixed state together with the carrier gas, the transport amount of the liquid raw material may fluctuate with time or cause pulsation. This is particularly effective because relative movement or vibration between the jet outlet and the gas jet becomes remarkable. Stabilization of the spray state leads to suppression of temporal fluctuation of the spray amount and uniformization of the mist diameter to be sprayed, and is effective in stabilizing the supply state of the raw material gas and reducing particles.

ここで、液体原料には、上述の溶液原料に限らず、原料そのものが液体であるもの、液体である原料にさらに溶媒を添加したもの、液体中に固形物が分散されたものが含まれる。   Here, the liquid raw material is not limited to the above-described solution raw material, but includes a raw material itself that is liquid, a liquid material that is further added with a solvent, and a solid material that is dispersed in the liquid.

本発明においては、前記原料供給ラインの流通断面積よりも前記原料搬送ラインの流通断面積が大きく構成されていることによって、原料搬送ラインの流通断面積を大きくしたことによりキャリアガスの流速が低下するため、原料供給ラインと原料搬送ラインとの接続部分におけるベンチュリー効果の発生を低減できることから、液体原料の供給状態を安定させることができるので、成膜再現性の向上やパーティクル抑制による膜質の向上を図ることができる。 In the present invention, by cross-sectional flow area of the material transfer line is configured larger than the cross-sectional flow area of the material supply line, lowering the flow rate of the carrier gas by having an increased cross-sectional flow area of the raw material conveying line Therefore, it is possible to reduce the occurrence of the Venturi effect at the connection part between the raw material supply line and the raw material transfer line, so that the supply state of the liquid raw material can be stabilized. Can be achieved.

本発明において、前記複数の原料供給ラインが全て合流した後に前記原料搬送ラインに接続されていることが好ましい。これによれば、複数の原料供給ラインの合流によって複数の液体原料が混合された後に原料搬送ラインに導入されてキャリアガスによって搬送されていくため、原料の混合比率が時間的に変動しにくくなり、より均一で安定した混合比で気化器へと供給できるため、原料ガスの組成比を安定させることができる。   In the present invention, it is preferable that the plurality of raw material supply lines are connected to the raw material transport line after all have joined together. According to this, since a plurality of liquid raw materials are mixed by the merging of the plurality of raw material supply lines and then introduced into the raw material transfer line and transferred by the carrier gas, the mixing ratio of the raw materials hardly changes over time. Since the vaporizer can be supplied with a more uniform and stable mixing ratio, the composition ratio of the source gas can be stabilized.

本発明において、前記複数の原料供給ラインが共に搬送方向の略一箇所において前記原料搬送ラインに接続されていることが好ましい。これによれば、複数の原料供給ラインの原料搬送ラインに対する接続位置が搬送方向の略一箇所に集中していることにより、原料の混合比率が時間的に変動しにくくなり、より均一で安定した混合比で気化器へと供給できるため、原料ガスの組成比を安定させることができる。   In the present invention, it is preferable that the plurality of raw material supply lines are connected to the raw material transfer line at substantially one place in the transfer direction. According to this, the connection positions of the plurality of raw material supply lines with respect to the raw material transfer line are concentrated in substantially one place in the transfer direction, so that the mixing ratio of the raw materials is less likely to change with time, and is more uniform and stable. Since it can supply to a vaporizer with a mixing ratio, the composition ratio of source gas can be stabilized.

本発明において、前記複数の原料供給ラインが前記原料搬送ラインにおける垂直方向に伸びる部分に接続されていることが好ましい。これによれば、原料供給ラインから原料搬送ラインへの液体原料の供給状態が重力にほとんど左右されなくなり円滑に行われるので、液体原料の混合比の安定性を高めることができるとともに、液体原料の搬送量の時間的変動も抑制できる。   In the present invention, it is preferable that the plurality of raw material supply lines are connected to a portion extending in a vertical direction in the raw material transport line. According to this, since the supply state of the liquid raw material from the raw material supply line to the raw material transfer line is smoothly performed almost without being influenced by gravity, the stability of the mixing ratio of the liquid raw material can be improved, and Temporal fluctuations in the transport amount can be suppressed.

本発明において、前記複数の原料供給ラインは、前記原料搬送ラインの途中に接続された開閉弁に共に接続されていることが好ましい。これによれば、ベンチュリー効果による液体原料の吸い出しがなくなるため、搬送量の脈動などを防止することができ、複数の液体原料を安定的に供給することができることから、成膜安定性の向上やパーティクル抑制による膜質向上を図ることができる。また、複数の液体原料を開閉弁内に導入しているため、マニホールド構造をコンパクトに構成でき、これによって原料置換時間の短縮を図ることができるため、成膜時間を短縮し、スループットを向上させることができる。   In the present invention, the plurality of raw material supply lines are preferably connected together with an on-off valve connected in the middle of the raw material transfer line. According to this, since the liquid material is not sucked out due to the Venturi effect, it is possible to prevent the pulsation of the transport amount and to supply a plurality of liquid materials stably. The film quality can be improved by suppressing particles. In addition, since a plurality of liquid raw materials are introduced into the on-off valve, the manifold structure can be made compact, thereby shortening the raw material replacement time, thereby shortening the film formation time and improving the throughput. be able to.

本発明において、前記複数の原料供給ラインは、それぞれにキャリアガスが導入された後に前記原料搬送ラインに接続されていることが好ましい。これによれば、各原料供給ラインに供給されるキャリアガスによって原料供給を迅速に行うことが可能になるので、マニホールド構造の原料置換時間が短縮され、その結果、成膜時間が短縮されるため、スループットを向上させることができる。また、原料搬送ラインへ合流する前の原料供給ライン中において液体原料が気液混合状態となって供給されていくため、より安定した状態で原料搬送ラインへ送り出すことが可能になり、その結果、混合比や搬送量のさらなる安定化を図ることができる。   In the present invention, it is preferable that the plurality of raw material supply lines are connected to the raw material transport line after carrier gas is introduced into each of the plurality of raw material supply lines. According to this, since the raw material can be supplied quickly by the carrier gas supplied to each raw material supply line, the material replacement time of the manifold structure is shortened, and as a result, the film formation time is shortened. , Throughput can be improved. In addition, since the liquid raw material is supplied in a gas-liquid mixed state in the raw material supply line before joining the raw material conveyance line, it can be sent out to the raw material conveyance line in a more stable state. Further stabilization of the mixing ratio and the conveyance amount can be achieved.

ここで、前記複数の原料供給ラインは、後述するように、キャリアガスが供給される原料供給先ラインに接続され、この原料供給先ラインが原料搬送ラインに接続される構成であってもよく、また、前記複数の原料供給ラインのそれぞれの途中にキャリアガスを供給するガス供給ラインが接続され、その接続位置の下流側において前記原料供給ラインが前記原料搬送ラインに接続される構成であってもよい。   Here, as described later, the plurality of raw material supply lines may be connected to a raw material supply destination line to which a carrier gas is supplied, and the raw material supply destination line may be connected to the raw material transport line. Further, a gas supply line for supplying a carrier gas is connected in the middle of each of the plurality of raw material supply lines, and the raw material supply line is connected to the raw material transport line on the downstream side of the connection position. Good.

本発明において、前記原料噴出口は前記ガス噴出口と同軸に構成されていることが好ましい。原料噴出口とガス噴出口とが同軸に構成されていることにより、原料噴出口とガス噴出口の一方が他方を取り巻くように構成されるため、噴霧効率を高めることができる。また、この場合には、原料噴出口とガス噴出口のうち内側に配置される一方を支持することが難しいため、当該一方の移動や振動が発生しやすくなるとともに、その一方の移動によって他方の開口面積が変化するため、噴霧状態への影響がきわめて大きくなる。したがって、一方と他方とを位置決め保持手段によって位置決め保持することにより、上記のような状況を解消することができるため、きわめて効果的に噴霧状態を安定化させることができる。   In this invention, it is preferable that the said raw material jet outlet is comprised coaxially with the said gas jet nozzle. Since the raw material jet port and the gas jet port are configured coaxially, one of the raw material jet port and the gas jet port is configured to surround the other, so that the spray efficiency can be increased. Further, in this case, since it is difficult to support one of the raw material outlet and the gas outlet arranged inside, the movement and vibration of the one are likely to occur, and the movement of the one causes the other of the other. Since the opening area changes, the influence on the spray state becomes extremely large. Therefore, since the above situation can be eliminated by positioning and holding one and the other by the positioning holding means, the spray state can be stabilized extremely effectively.

本発明において、前記位置決め保持手段は、前記原料噴出口と前記ガス墳出口の間に部分的に介挿配置された位置決め部で構成されていることが好ましい。この位置決め部を原料噴出口とガス噴出口との間に介挿配置することによってきわめて簡易な構成で原料噴出口とガス噴出口とを位置決め保持できる。ここで、上記位置決め部としては、原料噴出口とガス噴出口の双方に対して別体の部材でも構成できるが、原料噴出口とガス噴出口のうちの内側に配置される方の外面上に一体に設けた外突起（凸条を含む。）、或いは、外側に配置される方の内面上に一体に設けた内突起（凸条を含む。）によって構成することが好ましい。また、外突起と内突起の双方を設けて互いに突き合わせるようにしてもよい。さらに、複数の位置決め部（外突起又は内突起）を設けることが望ましい。   In this invention, it is preferable that the said positioning holding | maintenance means is comprised by the positioning part partially inserted and arrange | positioned between the said raw material outlet and the said gas soot outlet. By positioning the positioning portion between the raw material jet port and the gas jet port, the raw material jet port and the gas jet port can be positioned and held with a very simple configuration. Here, the positioning portion can be configured as a separate member with respect to both the raw material jet port and the gas jet port, but on the outer surface arranged on the inner side of the raw material jet port and the gas jet port. It is preferable that the outer protrusions (including the protrusions) provided integrally or the inner protrusions (including the protrusions) provided integrally on the inner surface of the outer side are preferably formed. In addition, both the outer protrusion and the inner protrusion may be provided so as to face each other. Furthermore, it is desirable to provide a plurality of positioning portions (outer protrusions or inner protrusions).

本発明において、複数の前記位置決め部が前記原料噴出口及び前記ガス噴出口の軸線周りに分散配置されていることが好ましい。これによって、原料噴出口とガス噴出口とを円周方向の複数の方向において位置決め保持できるため、噴霧状態をさらに安定させることができる。   In the present invention, it is preferable that the plurality of positioning portions are dispersedly arranged around the axis of the raw material outlet and the gas outlet. Thereby, since the raw material outlet and the gas outlet can be positioned and held in a plurality of circumferential directions, the spray state can be further stabilized.

本発明において、前記原料噴出口の開口面の側方に前記ガス噴出口が配置され、前記ガス噴出口の噴出方向が前記開口面と略平行であることが好ましい。これによれば、ガス噴出口が原料噴出口の開口面の側方に配置され、しかも、その噴出方向が開口面と略平行であることにより、ガス噴出口から噴出した噴霧ガスによって原料噴出口から吐出される液体原料を確実に吹き飛ばすことができるため、液体原料の量にほとんど影響を受けずに、液ダレなどを起こすこともなく確実に噴霧を行うことができ、噴霧状態も安定する。   In the present invention, it is preferable that the gas jet port is disposed on the side of the opening surface of the raw material jet port, and the jet direction of the gas jet port is substantially parallel to the opening surface. According to this, the gas jet port is disposed on the side of the opening surface of the raw material jet port, and the jet direction is substantially parallel to the opening surface, so that the raw material jet port is sprayed from the gas jet port. Since the liquid raw material discharged from the liquid can be reliably blown off, the liquid raw material is hardly affected by the amount of the liquid raw material and can be reliably sprayed without causing dripping or the like, and the spray state is also stabilized.

本発明において、前記原料供給管の先端部と前記ガス供給管の先端部とが前記位置決め保持手段を構成する支持部材によって支持固定されていることが好ましい。原料供給管とガス供給管とが別々に構成されているので、これらの先端部を位置決め保持手段となる支持部材によって支持固定するだけで、確実に前記原料噴出口と前記ガス噴出口とを相互に位置決め固定できる。   In this invention, it is preferable that the front-end | tip part of the said raw material supply pipe | tube and the front-end | tip part of the said gas supply pipe are supported and fixed by the support member which comprises the said positioning holding means. Since the raw material supply pipe and the gas supply pipe are configured separately, the raw material outlet and the gas outlet can be reliably connected to each other only by supporting and fixing these tip portions with a support member serving as a positioning and holding means. Can be positioned and fixed.

本発明において、前記位置決め保持手段は、前記原料供給管の先端部と前記ガス供給管の先端部とを一体に接続する接続部分により構成されていることが好ましい。これによれば、原料供給管の先端部とガス供給管の先端部とが一体に接続され、両者の接続部分により位置決め保持手段が構成されることによって、一体の管構造に原料噴出口とガス噴出口とが構成されることになるので、両者間の位置ずれや振動を確実に防止できる。   In the present invention, it is preferable that the positioning and holding means is constituted by a connection portion that integrally connects the distal end portion of the raw material supply pipe and the distal end portion of the gas supply pipe. According to this, the distal end portion of the raw material supply pipe and the distal end portion of the gas supply pipe are integrally connected, and the positioning holding means is constituted by the connection portion between them, so that the raw material outlet and the gas are formed in the integral pipe structure. Since the jet outlet is configured, it is possible to reliably prevent positional deviation and vibration between the two.

本発明において、前記ガス噴出口の周囲に複数の前記原料噴出口が配置されていることが好ましい。これによれば、複数の原料噴出口から吐出された液体原料に対してガス噴出口から噴霧ガスが吹き付けられるため、より効率的に噴霧を行うことができる。   In the present invention, it is preferable that a plurality of the raw material jets are arranged around the gas jets. According to this, since spray gas is sprayed from a gas jet nozzle with respect to the liquid raw material discharged from the several raw material jet nozzle, it can spray more efficiently.

また、本発明の成膜装置は、前記液体原料を供給する原料供給系と、上記のいずれかの気化器と、該気化器から導出される前記原料ガスを用いて成膜を行う成膜室とを有し、前記原料噴出口の開口面の側方に前記ガス噴出口が配置され、前記ガス噴出口の噴出方向が前記開口面と略平行であり、前記ガス噴出口の周囲に複数の前記原料噴出口が配置されていることを特徴とする。 Further, the film forming apparatus of the present invention includes a raw material supply system that supplies the liquid raw material, any one of the above vaporizers, and a film forming chamber that performs film formation using the raw material gas derived from the vaporizer. possess the door, said gas ports are disposed on the side of the opening surface of the source material jet, the jet direction of the gas ejection port is substantially parallel to the opening surface, a plurality around the gas orifice The raw material outlet is arranged.

本発明によれば、噴霧ノズルにおける原料噴出口とガス噴出口との相対的移動や振動を低減することができることにより、噴霧状態を安定させることができ、これによって原料ガスの安定供給及びパーティクルの低減という優れた効果を奏し得る。   According to the present invention, the relative movement and vibration of the raw material outlet and the gas outlet in the spray nozzle can be reduced, so that the spray state can be stabilized, thereby stably supplying the raw material gas and the particles. An excellent effect of reduction can be obtained.

また、原料供給系の構成を改善することによって、原料搬送ラインにおける液体原料の搬送量や混合比を安定させることができるため、気化器における噴霧状態を安定させることができ、これによって原料ガスの安定供給及びパーティクルの低減という優れた効果を奏し得る。   In addition, by improving the configuration of the raw material supply system, it is possible to stabilize the transport amount and mixing ratio of the liquid raw material in the raw material transport line, so that it is possible to stabilize the spray state in the vaporizer, and thereby Excellent effects of stable supply and particle reduction can be obtained.

次に、図面を参照して本発明に係る成膜装置の実施形態を説明する。以下に示す成膜装置の実施形態は、基本的には、図８に示す原料供給系１０１Ａ、気化器１１０及び成膜装置本体１２０を備えた成膜装置１００にて説明したものと同じ概略構造を有するものであり、これらの概略構造についての説明は省略する。 Next, with reference to the accompanying drawings illustrating an embodiment of the engagement Ru film formation apparatus in the present invention. Embodiments shown to film formation apparatus hereinafter, basically the same outline as that described in the film forming apparatus 100 having a raw material supply system 101A, vaporizer 110 and the deposition apparatus body 120 shown in FIG. 8 Since it has a structure, description of these schematic structures is omitted.

最初に、図９を参照して、本発明に係る成膜装置の実施形態に含まれる気化器に用いる噴霧ノズル１１１の全体構成について説明する。図９は、噴霧ノズル１１１の全体構造を模式的に示す概略構成断面図である。噴霧ノズル１１１には、上記原料搬送ライン１０７に接続される原料供給路１１１ａと、上記ガス供給配管１０８に接続されるガス供給路１１１ｂとを有する。原料供給路１１１ａの先端には、上記気化室１１２の内部に臨む位置に開口する原料噴出口１１１Ａが設けられている。ガス供給路１１１ｂは拡散室１１１ｃに連通し、この拡散室１１１ｃにはガス供給路１１１ｄが連通している。このガス供給路１１１ｄは、原料供給路１１１ａを包囲するように同軸に伸び、その先端に、上記原料噴出口１１１Ａの周囲に開口する環状のガス噴出口１１１Ｄを備えている。 Initially, with reference to FIG. 9, the whole structure of the spray nozzle 111 used for the vaporizer contained in embodiment of the film-forming apparatus which concerns on this invention is demonstrated. FIG. 9 is a schematic sectional view schematically showing the entire structure of the spray nozzle 111. The spray nozzle 111 has a raw material supply path 111 a connected to the raw material transfer line 107 and a gas supply path 111 b connected to the gas supply pipe 108. At the tip of the raw material supply path 111a, a raw material jet port 111A that opens to a position facing the inside of the vaporization chamber 112 is provided. The gas supply path 111b communicates with the diffusion chamber 111c, and the gas supply path 111d communicates with the diffusion chamber 111c. The gas supply path 111d extends coaxially so as to surround the raw material supply path 111a, and has an annular gas jet 111D that opens around the raw material jet 111A at the tip thereof.

上記噴霧ノズル１１１では、原料供給路１１１ａの周りに同軸にガス供給路１１１ｄが構成され、いわゆる２重管構造を備えた噴霧手段を構成している。原料供給路１１１ａの原料噴出口１１１Ａから噴出する液体原料及びキャリアガスは、ガス供給路１１１ｄのガス噴出口１１１Ｄから噴出する噴霧ガスによって霧状に噴霧される。   In the spray nozzle 111, a gas supply path 111d is formed coaxially around the raw material supply path 111a, and constitutes a spray means having a so-called double pipe structure. The liquid raw material and the carrier gas ejected from the raw material outlet 111A of the raw material supply path 111a are sprayed in the form of a mist by the spray gas ejected from the gas outlet 111D of the gas supply path 111d.

噴霧ノズル１１１では、冷媒供給管１１１ｅにより導入される冷媒（水やクーラントなど）が内部に構成された冷媒通路１１１ｆを流れて冷媒排出管１１１ｇから排出されるように構成されている。そして、この構造によって原料供給路１１１ａを室温程度に冷却できるように構成されている。これは、原料供給路１１１ａを通過する液体原料の溶媒を、加熱されることにより揮発することのないようにするためである。   The spray nozzle 111 is configured such that the refrigerant (water, coolant, etc.) introduced by the refrigerant supply pipe 111e flows through the refrigerant passage 111f formed therein and is discharged from the refrigerant discharge pipe 111g. And this structure is comprised so that the raw material supply path 111a can be cooled to about room temperature. This is to prevent the liquid raw material solvent passing through the raw material supply path 111a from being volatilized by being heated.

通常、図８に示す原料供給系１０１Ａにおいて原料搬送ライン１０７内を気液混合状態で搬送される液体原料は、複数の原料供給ライン１０３ａ〜１０３ｃと原料搬送ライン１０７との接続部分において生ずるベンチュリー効果によって搬送量や混合比の時間的変動が生じやすく、これが噴霧ノズル１１１の噴霧状態の脈動やミスト径のばらつきの原因になっているものと考えられる。   Normally, the liquid raw material conveyed in the raw material conveyance line 107 in a gas-liquid mixed state in the raw material supply system 101A shown in FIG. As a result, the transport amount and the mixing ratio are likely to vary with time, which is considered to cause the pulsation of the spray state of the spray nozzle 111 and the variation of the mist diameter.

また、噴霧ノズル１１１においては、原料供給路１１１ａの先端部が細く形成されているとともに周囲の部材によって何ら支持されていない状態となっているため、原料供給路１１１ａにおける原料噴出口１１１Ａが設けられた先端部近傍が、原料や噴霧ガスの圧力によりぶれる（振動する）ことによって、本来の位置（例えば中心位置）から移動してずれる場合がある。このような原料供給路１１１ａの先端部のぶれは、上記の原料搬送ライン１０７の搬送量の時間的変動（脈動）によっても発生しやすくなる。この原料噴出口のぶれによって、原料供給路１１１ａの原料噴出口１１１Ａから噴出した液体原料に対するガス噴出口１１１Ｄから噴出した噴霧ガス（不活性ガス）の作用が不均一となり、これによって、噴霧状態が時間的に変動し、噴霧されるミストの径もばらつくため、気化器１１０における原料ガスの供給状態も不安定になるとともに、パーティクルの発生も増大する。   Moreover, in the spray nozzle 111, since the front-end | tip part of the raw material supply path 111a is formed thinly and it is in the state which is not supported at all by the surrounding member, 111A of raw material jet outlets in the raw material supply path 111a are provided. In some cases, the vicinity of the tip portion may be displaced (vibrated) due to the pressure of the raw material or the spray gas to move away from the original position (for example, the center position). Such blurring of the tip of the raw material supply path 111a is likely to occur due to temporal fluctuations (pulsations) in the transport amount of the raw material transport line 107. Due to the shake of the raw material jet port, the action of the spray gas (inert gas) ejected from the gas jet port 111D on the liquid raw material ejected from the raw material jet port 111A of the raw material supply path 111a becomes non-uniform. Since it varies with time and the diameter of the sprayed mist varies, the supply state of the raw material gas in the vaporizer 110 becomes unstable and the generation of particles increases.

本発明は、上記のような状況において、まず、噴霧ノズル１１１を改良することによって上記の問題点を解決する。このような実施形態の詳細について以下に説明する。   In the above situation, the present invention first solves the above problems by improving the spray nozzle 111. Details of such an embodiment will be described below.

［第１実施形態］
まず、図１を参照して本発明に係る第１実施形態の構成について説明する。ここで、図１に図示する部分以外の部分は基本的に図８及び図９に示す概略構成と同様であるので、それらの説明は省略する。 [First Embodiment]
First, the configuration of the first embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Here, parts other than the part shown in FIG. 1 are basically the same as the schematic configuration shown in FIGS.

この実施形態の噴霧ノズル２１１の先端部には、原料供給路２１１ａを構成する内側管２１１ｘと、ガス供給路２１１ｄを内側管２１１ｘとの間に構成する外側管２１１ｙとが設けられている。原料供給路２１１ａの先端部には原料噴出口２１１Ａが開口し、その周囲には、ガス供給路２１１ｄの先端部において環状に開口するガス噴出口２１１Ｄが構成されている。外側管２１１ｙは支持部材２１１Ｐなどによって支持固定されている。   At the tip of the spray nozzle 211 of this embodiment, an inner tube 211x that constitutes the raw material supply path 211a and an outer tube 211y that constitutes the gas supply path 211d between the inner pipe 211x are provided. A raw material outlet 211A is opened at the front end of the raw material supply path 211a, and a gas outlet 211D is formed around the front end of the gas supply path 211d. The outer tube 211y is supported and fixed by a support member 211P and the like.

本実施形態においては、内側管２１１ｘの先端部と外側管２１１ｙの先端部との間に複数の位置決め部２１１ｚが介挿配置されている。これらの位置決め部２１１ｚは、内側管２１１ｘの略先端部の外面上に形成された外突起である。また、複数（図示例では４つ）の位置決め部２１１ｚは、内側管２１１ｘ及び外側管２１１ｙの軸線周りにほぼ均等に（すなわち等角度間隔となるように）分散配置されている。これらの位置決め部２１１ｚによって、内側管２１１ｘは外側管２１１ｙによって複数の方向から支持されるため、原料噴出口２１１Ａが移動してガス噴出口２１１Ｄの中心位置からずれたり、内側管２１１ｘが振動したりするといったことを防止できる。   In the present embodiment, a plurality of positioning portions 211z are interposed between the distal end portion of the inner tube 211x and the distal end portion of the outer tube 211y. These positioning portions 211z are outer protrusions formed on the outer surface of the substantially distal end portion of the inner tube 211x. Further, a plurality (four in the illustrated example) of the positioning portions 211z are distributed almost uniformly (that is, at equal angular intervals) around the axis of the inner tube 211x and the outer tube 211y. Since the inner tube 211x is supported by the outer tube 211y from a plurality of directions by these positioning portions 211z, the raw material jet port 211A moves and shifts from the center position of the gas jet port 211D, or the inner tube 211x vibrates. Can be prevented.

なお、本実施形態では、内側管２１１ｘの外面に位置決め部２１１ｚを突起状に設けているが、逆に、外側管２１１ｙの内面に内側に突出する内突起を設け、これを位置決め部としてもよい。外側管２１１ｙから位置決め部２１１ｚを介して内側管２１１ｘに熱が伝わることによって原料供給路２１１ａの温度が上昇し、原料供給管２１１ａを通過する液体原料の溶媒が優先的に揮発することが無いように、外側管２１１ｙに接触する位置決め部２１１ｚの先端部を点接触や線接触とすることが望ましい。また、同様の理由から、位置決め部２１１ｚの数を必要最小限（例えば３つ）とすることが望ましい。さらに、同様の理由から、位置決め部２１１ｚの材質を熱伝導率の低い素材で形成することが望ましい。   In the present embodiment, the positioning portion 211z is provided in a protruding shape on the outer surface of the inner tube 211x. Conversely, an inner protrusion that protrudes inward may be provided on the inner surface of the outer tube 211y, and this may be used as the positioning portion. . Heat is transferred from the outer pipe 211y to the inner pipe 211x through the positioning portion 211z, so that the temperature of the raw material supply path 211a is increased, and the liquid raw material solvent passing through the raw material supply pipe 211a is not preferentially volatilized. Moreover, it is desirable that the tip of the positioning portion 211z that contacts the outer tube 211y be a point contact or a line contact. For the same reason, it is desirable that the number of positioning portions 211z be the minimum necessary (for example, three). Furthermore, for the same reason, it is desirable to form the positioning portion 211z with a material having low thermal conductivity.

図１（ｃ）は、異なる位置決め部２１１ｚ１を示す断面図である。この位置決め部２１１ｚ１は、先端が点状もしくは線状に構成されていて、外側管の内面に対して点接触若しくは線接触するように構成されている。これによって外側管と内側管との間の熱伝導性を低下させることができる。また、図示のように安定に位置決めできる最小限の数である３つの位置決め部２１１ｚ１が設けられている。また、図１（ｄ）に示すように、位置決め部２１１ｚ２を内側管２１１ｘ２の先端には設けず、当該先端から間隔を設けて位置決め部２１１ｚ２を設けることが好ましい。これによって、位置決め部２１１ｚ２の存在による噴霧状態への影響を低減できる。さらに、図１（ｅ）に示すように、位置決め部２１１ｚ３の先端を基部（根元）よりも軸線方向の長さが小さくなるように構成することが好ましい。これによって、外側管と位置決め部２１１ｚ３との接触面積をさらに低減できるため、外側管と内側管２１１ｘ３の間の熱伝導性をより低下させることができる。なお、上記の例は、いずれも内側管に位置決め部を設け若しくは固定したものであるが、逆に、外側管に位置決め部を設け若しくは固定してもよい。   FIG. 1C is a cross-sectional view showing different positioning portions 211z1. The positioning portion 211z1 has a point-like or line-shaped tip, and is configured to make point contact or line contact with the inner surface of the outer tube. Thereby, the thermal conductivity between the outer tube and the inner tube can be reduced. Further, as shown in the figure, three positioning portions 211z1 which are the minimum number that can be stably positioned are provided. In addition, as shown in FIG. 1D, it is preferable not to provide the positioning portion 211z2 at the tip of the inner tube 211x2, but to provide the positioning portion 211z2 with a space from the tip. Thereby, the influence on the spraying state due to the presence of the positioning portion 211z2 can be reduced. Further, as shown in FIG. 1 (e), it is preferable that the tip of the positioning portion 211z3 is configured to have a smaller length in the axial direction than the base (base). As a result, the contact area between the outer tube and the positioning portion 211z3 can be further reduced, so that the thermal conductivity between the outer tube and the inner tube 211x3 can be further reduced. In each of the above examples, the positioning portion is provided or fixed to the inner tube, but conversely, the positioning portion may be provided or fixed to the outer tube.

［第２実施形態］
次に、図２を参照して本発明に係る第２実施形態の構成について説明する。ここで、図２に図示する部分以外の部分は基本的に図８及び図９に示す概略構成と同様であるので、それらの説明は省略する。 [Second Embodiment]
Next, the configuration of the second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Here, parts other than the part illustrated in FIG. 2 are basically the same as the schematic configuration shown in FIGS.

この実施形態の噴霧ノズル３１１の先端部には、原料供給路３１１ａを構成する内側管３１１ｘと、ガス供給路３１１ｄの先端に配置されたオリフィス板３１１ｙとが設けられている。内側管３１１ｘの先端には原料噴出口３１１Ａが開口している。また、オリフィス板３１１ｙは内側管３１１ｘの先端部を収容する、内側管３１１ｘと同軸の孔部を有し、この孔部によってガス噴出口３１１Ｄが構成される。   The tip of the spray nozzle 311 of this embodiment is provided with an inner tube 311x constituting the raw material supply path 311a and an orifice plate 311y disposed at the tip of the gas supply path 311d. A raw material outlet 311A is opened at the tip of the inner tube 311x. In addition, the orifice plate 311y has a hole portion coaxial with the inner tube 311x that accommodates the distal end portion of the inner tube 311x, and the gas jet port 311D is configured by this hole portion.

この実施形態では、内側管３１１ｘの先端部外面に形成された複数の突起によって位置決め部３１１ｚが構成されている。複数（図示例では３つ）の位置決め部３１１ｚは、上記第１実施形態と同様に内側管３１１ｘの軸線周りにほぼ均等に（等角度間隔となるように）分散配置されている。この位置決め部３１１ｚは、例えば、内側管３１１ｘの先端部外面に切り込みを入れることによって突起状に構成することができる。これらの位置決め部３１１ｚによって、内側管３１１ｘはオリフィス板３１１ｙによって複数の方向から支持されるため、原料噴出口３１１Ａが移動してガス噴出口３１１Ｄの中心位置からずれたり、内側管３１１ｘが振動したりするといったことを防止できる。   In this embodiment, the positioning portion 311z is constituted by a plurality of protrusions formed on the outer surface of the distal end portion of the inner tube 311x. A plurality (three in the illustrated example) of positioning portions 311z are distributed and arranged substantially evenly (at equal angular intervals) around the axis of the inner tube 311x, as in the first embodiment. The positioning portion 311z can be formed in a protruding shape by, for example, making a cut in the outer surface of the distal end portion of the inner tube 311x. Since the inner tube 311x is supported by the orifice plate 311y by these positioning portions 311z from a plurality of directions, the raw material outlet 311A moves and shifts from the center position of the gas outlet 311D, or the inner tube 311x vibrates. Can be prevented.

［第３実施形態］
次に、図３を参照して本発明に係る第３実施形態の構成について説明する。ここで、図３に図示する部分以外の部分は基本的に図８及び図９に示す概略構成と同様であるので、それらの説明は省略する。 [Third Embodiment]
Next, the configuration of the third embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Here, parts other than the parts shown in FIG. 3 are basically the same as the schematic configuration shown in FIGS.

この実施形態の噴霧ノズル４１１の先端部には、原料供給路４１１ａを構成する内側管４１１ｘと、ガス供給路４１１ｄの先端に配置されたオリフィス板４１１ｙとが設けられている。内側管４１１ｘの先端には原料噴出口４１１Ａが開口している。また、オリフィス板４１１ｙは内側管４１１ｘの先端部を収容する、内側管４１１ｘと同軸の孔部を有し、この孔部によってガス噴出口４１１Ｄが構成される。   The tip of the spray nozzle 411 of this embodiment is provided with an inner tube 411x constituting the raw material supply path 411a and an orifice plate 411y disposed at the tip of the gas supply path 411d. A raw material outlet 411A is opened at the tip of the inner tube 411x. The orifice plate 411y has a hole portion coaxial with the inner tube 411x that accommodates the distal end portion of the inner tube 411x, and the gas jet port 411D is configured by this hole portion.

この実施形態では、オリフィス板４１１ｙの孔部内面に形成された複数の突起によって位置決め部４１１ｚが構成されている。複数（図示例では４つ、３つでもよい。）の位置決め部４１１ｚは、上記第１実施形態と同様に内側管４１１ｘの軸線周りにほぼ均等に分散配置されている。これらの位置決め部４１１ｚによって、内側管４１１ｘはオリフィス板４１１ｙによって複数の方向から支持されるため、原料噴出口４１１Ａが移動してガス噴出口４１１Ｄの中心位置からずれたり、内側管４１１ｘが振動したりするといったことを防止できる。   In this embodiment, the positioning portion 411z is constituted by a plurality of protrusions formed on the inner surface of the hole portion of the orifice plate 411y. A plurality (four or three in the illustrated example) of positioning portions 411z are distributed substantially evenly around the axis of the inner tube 411x as in the first embodiment. Since the inner tube 411x is supported by the orifice plate 411y by these positioning portions 411z from a plurality of directions, the raw material jet port 411A moves and deviates from the center position of the gas jet port 411D, or the inner tube 411x vibrates. Can be prevented.

なお、位置決め部は、オリフィス板の孔部に挿入されたワイヤ状の部材によって構成されていてもよい。この場合においても、複数の位置決め部は、上記第１実施形態と同様に内側管の軸線周りにほぼ均等に分散配置されていることが好ましい。   In addition, the positioning part may be comprised by the wire-shaped member inserted in the hole of the orifice plate. Also in this case, it is preferable that the plurality of positioning portions are distributed substantially evenly around the axis of the inner tube as in the first embodiment.

［第４実施形態］
次に、図４を参照して本発明に係る第４実施形態について説明する。ここで、図４に図示する部分以外の部分は基本的に図８及び図９に示す概略構成と同様であるので、それらの説明は省略する。 [Fourth Embodiment]
Next, a fourth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Here, parts other than the part shown in FIG. 4 are basically the same as the schematic configuration shown in FIGS.

この実施形態の噴霧ノズル６１１は、上記原料供給路６１１ａを構成する原料供給管６１１ｘと、上記ガス供給路６１１ｄを構成するガス供給管６１１ｙとを有し、原料供給管６１１ｘとガス供給管６１１ｄとが上記のように同軸状に形成されておらず、別々に形成されている。原料供給管６１１ｘ及びガス供給管６１１ｙは支持部材６１１Ｐによってそれぞれ支持固定されている。この実施形態では、原料供給管６１１ｘ及びガス供給管６１１ｙの先端部が共に支持部材６１１Ｐに対して気化室１１２の内部に僅かに突出するように設けられている。   The spray nozzle 611 of this embodiment has a raw material supply pipe 611x constituting the raw material supply path 611a and a gas supply pipe 611y constituting the gas supply path 611d, and the raw material supply pipe 611x and the gas supply pipe 611d Are not formed coaxially as described above, but are formed separately. The raw material supply pipe 611x and the gas supply pipe 611y are supported and fixed by the support members 611P, respectively. In this embodiment, the tip ends of the raw material supply pipe 611x and the gas supply pipe 611y are both provided so as to slightly protrude into the vaporization chamber 112 with respect to the support member 611P.

原料供給管６１１ｘの先端には原料噴出口６１１Ａが開口し、ガス噴出口６１１ｙの先端にはガス噴出口６１１Ｄが開口している。原料供給管６１１ｘの端面は管の軸線に対して傾斜した平面となっている。そして、ガス噴出口６１１Ｄは原料供給管６１１ｘの端面の側方に配置されている。また、この原料供給管６１１ｘの端面にほぼ平行な方向にガス供給管６１１ｙの軸線が設定されている。ここで、原料供給管６１１ｘの端面は、原料噴出口６１１Ａの開口面と一致するものである。   A raw material outlet 611A opens at the tip of the raw material supply pipe 611x, and a gas outlet 611D opens at the tip of the gas outlet 611y. The end surface of the raw material supply pipe 611x is a plane inclined with respect to the axis of the pipe. And gas jet outlet 611D is arrange | positioned at the side of the end surface of the raw material supply pipe | tube 611x. The axis of the gas supply pipe 611y is set in a direction substantially parallel to the end face of the raw material supply pipe 611x. Here, the end surface of the raw material supply pipe 611x coincides with the opening surface of the raw material outlet 611A.

この実施形態では、ガス噴出口６１１Ｄから噴霧ガスが原料供給管６１１ｘの端面上に当該端面に沿った方向に吹き付けるため、原料噴出口６１１Ａから噴出する液体原料が確実に噴霧される。したがって、上記第１乃至第４実施形態のように原料供給路とガス供給路を同軸に配置する必要がなく、別々に構成された原料供給管６１１ｘとガス供給管６１１ｙとによって噴霧手段を構成できる。   In this embodiment, since the atomizing gas is sprayed from the gas ejection port 611D onto the end surface of the material supply pipe 611x in the direction along the end surface, the liquid material ejected from the material ejection port 611A is reliably sprayed. Therefore, it is not necessary to arrange the raw material supply path and the gas supply path coaxially as in the first to fourth embodiments, and the spraying means can be configured by the separately configured raw material supply pipe 611x and the gas supply pipe 611y. .

原料供給管６１１ｘの先端部とガス供給管６１１ｙの先端部は共に支持部材６１１Ｐによって支持固定されているため、原料噴出口６１１Ａとガス噴出口６１１Ｄとが相対的に移動したり、振動したりすることを防止できる。   Since both the front end portion of the raw material supply pipe 611x and the front end portion of the gas supply pipe 611y are supported and fixed by the support member 611P, the raw material jet outlet 611A and the gas jet outlet 611D move relatively or vibrate. Can be prevented.

なお、上記の原料供給管６１１ｘは、内部を通過する液体原料の溶媒の揮発を防止するために、支持部材に対して断熱材や断熱空間（例えば真空排気した空間）などを介して固定されていてもよい。   The raw material supply pipe 611x is fixed to the support member via a heat insulating material or a heat insulating space (for example, a vacuum exhausted space) in order to prevent volatilization of the solvent of the liquid raw material passing through the inside. May be.

［第５実施形態］
次に、図５を参照して本発明に係る第５実施形態について説明する。ここで、図５に図示する部分以外の部分は基本的に図８及び図９に示す概略構成と同様であるので、それらの説明は省略する。 [Fifth Embodiment]
Next, a fifth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Here, parts other than the part shown in FIG. 5 are basically the same as the schematic configuration shown in FIGS.

この実施形態の噴霧ノズル７１１は、原料供給路７１１ａを構成する原料供給管７１１ｘと、ガス供給路７１１ｄを構成するガス供給管７１１ｙとを有し、原料供給管７１１ｘとガス供給管７１１ｙとが別々に構成され、原料供給管７１１ｘの先端部とガス供給管７１１ｙとが支持部材７１１Ｐによって支持固定されている点で上記第４実施形態と同様に構成されたものである。ただし、この実施形態では、原料供給管７１１ｘは断熱材７１１ｗを介して支持部材７１１Ｐによって支持固定されている。   The spray nozzle 711 of this embodiment has a raw material supply pipe 711x constituting a raw material supply path 711a and a gas supply pipe 711y constituting a gas supply path 711d, and the raw material supply pipe 711x and the gas supply pipe 711y are separately provided. And is configured in the same manner as in the fourth embodiment in that the tip of the raw material supply pipe 711x and the gas supply pipe 711y are supported and fixed by a support member 711P. However, in this embodiment, the raw material supply pipe 711x is supported and fixed by the support member 711P via the heat insulating material 711w.

原料供給管７１１ｘは、支持部材７１１Ｐよりも先端側において例えば約３０〜９０度の角度で屈折し、その先端に原料噴出口７１１Ａが開口している。また、ガス供給管７１１ｙは、原料供給管７１１ｘの端面の側方に配置され、そのガス噴出口７１１Ｄの噴出方向は、原料供給管７１１ｘの端面にほぼ平行に設定されている。ここで、原料供給管７１１ｘの端面は、原料噴出口７１１Ａの開口面に一致するものである。   The raw material supply pipe 711x is refracted at an angle of, for example, about 30 to 90 degrees on the tip side with respect to the support member 711P, and a raw material jet port 711A is opened at the tip. The gas supply pipe 711y is disposed on the side of the end face of the raw material supply pipe 711x, and the ejection direction of the gas outlet 711D is set substantially parallel to the end face of the raw material supply pipe 711x. Here, the end surface of the raw material supply pipe 711x coincides with the opening surface of the raw material outlet 711A.

この実施形態では、ガス噴出口７１１Ｄから噴霧ガスが原料供給管７１１ｘの端面上に当該端面に沿った方向に吹き付けるため、原料噴出口７１１Ａから噴出する液体原料が確実に噴霧される。したがって、上記第１乃至第４実施形態のように原料供給路とガス供給路を同軸に配置する必要がなく、別々に構成された原料供給管７１１ｘとガス供給管７１１ｙとによって噴霧手段を構成できる。   In this embodiment, since the spray gas is sprayed from the gas ejection port 711D onto the end surface of the material supply pipe 711x in the direction along the end surface, the liquid material ejected from the material ejection port 711A is reliably sprayed. Therefore, it is not necessary to arrange the raw material supply path and the gas supply path coaxially as in the first to fourth embodiments, and the spraying means can be configured by the separately configured raw material supply pipe 711x and gas supply pipe 711y. .

原料供給管７１１ｘの先端部とガス供給管７１１ｙの先端部は共に支持部材７１１Ｐによって支持固定されているため、原料噴出口７１１Ａとガス噴出口７１１Ｄとが相対的に移動したり、振動したりすることを防止できる。   Since both the tip of the raw material supply pipe 711x and the tip of the gas supply pipe 711y are supported and fixed by the support member 711P, the raw material jet outlet 711A and the gas jet outlet 711D move relatively or vibrate. Can be prevented.

［第６実施形態］
次に、図６を参照して本発明に係る第６実施形態について説明する。ここで、図６に図示する部分以外の部分は基本的に図８及び図９に示す概略構成と同様であるので、それらの説明は省略する。 [Sixth Embodiment]
Next, a sixth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Here, parts other than the part shown in FIG. 6 are basically the same as the schematic configuration shown in FIGS.

この実施形態の噴霧ノズル８１１は、原料供給路８１１ａをそれぞれ構成する複数の原料供給管８１１ｘと、ガス供給路８１１ｄを構成するガス供給管８１１ｙとを有する。また、複数の原料供給管８１１ｘ及びガス供給管８１１ｙは支持部材８１１Ｐによって支持固定されている。ただし、複数の原料供給管８１１ｘは断熱材８１１ｗを介して支持部材８１１Ｐにより支持されている。   The spray nozzle 811 of this embodiment includes a plurality of raw material supply pipes 811x that respectively constitute the raw material supply paths 811a, and a gas supply pipe 811y that constitutes a gas supply path 811d. The plurality of raw material supply pipes 811x and the gas supply pipe 811y are supported and fixed by a support member 811P. However, the plurality of raw material supply pipes 811x are supported by the support member 811P via the heat insulating material 811w.

本実施形態では、複数の原料供給管８１１ｘがガス供給管８１１ｙを取り巻くように配置され、原料供給管８１１ｘの先端部は内側に例えば約３０〜９０度の角度で屈折している。原料供給管８１１ｘの先端には、ガス供給管８１１ｙの先端に開口するガス噴出口８１１Ｄに対して周囲から臨むように配置された原料噴出口８１１Ａが開口している。そして、ガス噴出口８１１Ｄは、原料供給管８１１ｘの端面（原料噴出口８１１Ａの開口面）の側方に配置され、しかも、その噴出方向が原料供給管８１１ｘの端面とほぼ平行に設定されている。なお、複数（図示例では４つ）の原料供給管８１１ｘは、中央に配置されたガス供給管８１１ｙの周囲に均等（等角度間隔）に分散配置されている。   In the present embodiment, a plurality of raw material supply pipes 811x are arranged so as to surround the gas supply pipe 811y, and the tip of the raw material supply pipe 811x is refracted at an angle of, for example, about 30 to 90 degrees. At the tip of the raw material supply pipe 811x, a raw material jet 811A arranged so as to face the gas jet outlet 811D opened at the tip of the gas supply pipe 811y is opened. The gas ejection port 811D is disposed on the side of the end surface of the raw material supply pipe 811x (the opening surface of the raw material ejection port 811A), and the ejection direction is set substantially parallel to the end surface of the raw material supply tube 811x. . Note that a plurality (four in the illustrated example) of raw material supply pipes 811x are distributed evenly (at equal angular intervals) around the gas supply pipe 811y arranged in the center.

この実施形態では、ガス噴出口８１１Ｄから噴霧ガスが原料供給管８１１ｘの端面上に当該端面に沿った方向に吹き付けるため、原料噴出口８１１Ａから噴出する液体原料が確実に噴霧される。したがって、上記第１乃至第４実施形態のように原料供給路とガス供給路を同軸に配置する必要がなく、別々に構成された原料供給管８１１ｘとガス供給管８１１ｙとによって噴霧手段を構成できる。   In this embodiment, since the spray gas is sprayed from the gas ejection port 811D onto the end surface of the material supply pipe 811x in the direction along the end surface, the liquid material ejected from the material ejection port 811A is reliably sprayed. Therefore, it is not necessary to arrange the raw material supply path and the gas supply path coaxially as in the first to fourth embodiments, and the spraying means can be configured by the separately configured raw material supply pipe 811x and the gas supply pipe 811y. .

原料供給管８１１ｘの先端部とガス供給管８１１ｙの先端部は共に支持部材８１１Ｐによって支持固定されているため、原料噴出口８１１Ａとガス噴出口８１１Ｄとが相対的に移動したり、振動したりすることを防止できる。   Since the tip of the raw material supply pipe 811x and the tip of the gas supply pipe 811y are both supported and fixed by the support member 811P, the raw material jet 811A and the gas jet 811D move relatively or vibrate. Can be prevented.

この実施形態において、ガス噴出口８１１Ｄの周囲に複数の原料噴出口８１１Ａが配置されているため、複数の原料噴出口８１１Ａからそれぞれ噴出する液体原料を中心にあるガス噴出口８１１Ｄから噴出される噴霧ガスによって吹き飛ばすことができる。したがって、噴霧方向に対して液体原料の供給方向や噴霧ガスの吹き付け方向を対称的に構成することができるため、効率的かつ安定した噴霧状態を得ることができる。   In this embodiment, since the plurality of raw material jets 811A are arranged around the gas jet 811D, the sprays ejected from the gas jets 811D around the liquid raw materials respectively ejected from the plural raw material jets 811A. Can be blown away by gas. Therefore, the liquid raw material supply direction and the spray gas spraying direction can be configured symmetrically with respect to the spray direction, so that an efficient and stable spray state can be obtained.

ここで、一つの原料タンクに対して一つの原料噴出口８１１Ａが対応していることが望ましい。例えば、ＰＴＯ核付けを行った後にＰＺＴ成膜を行う場合、核付け時はＰｂ原料とＴｉ原料のみを流し、次の本成膜時にはＰｂ原料とＺｒ原料とＴｉ原料を流す必要があるが、一つの原料に対して一つの原料噴出口８１１Ａが対応していることにより、使用原料の切替を迅速に行うことができるからである。また、各原料の流量が相互にほぼ等しいことが望ましい。これは、複数の原料噴出口８１１Ａから噴出する原料の流量がほぼ等しいことにより、噴霧方向に対して液体原料の噴霧が対称に行われるため、さらに安定した噴霧状態を得ることができるからである。   Here, it is desirable that one raw material outlet 811A corresponds to one raw material tank. For example, when performing PZT film formation after PTO nucleation, it is necessary to flow only the Pb raw material and the Ti raw material at the time of nucleation, and to flow the Pb raw material, the Zr raw material, and the Ti raw material during the next main film formation, This is because the use of one raw material outlet 811A corresponds to one raw material, so that the used raw material can be quickly switched. Further, it is desirable that the flow rates of the respective raw materials are substantially equal to each other. This is because the liquid raw material is sprayed symmetrically with respect to the spraying direction when the flow rates of the raw materials ejected from the plurality of raw material ejection ports 811A are substantially equal, so that a more stable spray state can be obtained. .

［第７実施形態］
次に、図７を参照して本発明に係る第７実施形態について説明する。ここで、図７に図示する部分以外の部分は基本的に図８及び図９に示す概略構成と同様であるので、それらの説明は省略する。 [Seventh Embodiment]
Next, a seventh embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Here, parts other than the part shown in FIG. 7 are basically the same as the schematic configuration shown in FIGS.

この実施形態の噴霧ノズル９１１は、原料供給路９１１ａをそれぞれ構成する複数の原料供給管９１１ｘと、ガス供給路９１１ｄを構成するガス供給管９１１ｙとを有する。また、複数の原料供給管９１１ｘ及びガス供給管９１１ｙは断熱材９１１ｗを介して支持部材９１１Ｐによって支持固定されている。   The spray nozzle 911 of this embodiment includes a plurality of raw material supply pipes 911x that respectively constitute the raw material supply paths 911a, and a gas supply pipe 911y that constitutes a gas supply path 911d. The plurality of raw material supply pipes 911x and the gas supply pipe 911y are supported and fixed by a support member 911P through a heat insulating material 911w.

本実施形態では、複数の原料供給管９１１ｘがガス供給管９１１ｙを取り巻くように配置され、原料供給管９１１ｘの先端部は内側に例えば約３０〜９０度の角度で屈折している。そして、原料供給管９１１ｘの先端は、ガス供給管９１１ｙの管壁に接続され、一体化されている。ここで、原料供給管９１１ｘの原料噴出口９１１Ａは、ガス供給管９１１ｙの管壁に開口し、また、ガス供給管９１１ｙのガス噴出口９１１Ｄは、原料供給口９１１Ａに臨む管内部分に相当する。この実施形態でも、ガス噴出口９１１Ｄは、原料供給管９１１ｘの端面（原料噴出口９１１Ａの開口面）の側方に配置され、しかも、その噴出方向が原料供給管９１１ｘの端面とほぼ平行に設定されている。原料噴出口９１１Ａ及びガス噴出口９１１Ｄの先には、延長配管部９１１ｔが形成され、その先端に噴霧口９１１ｓが開口している。なお、複数（図示例では４つ）の原料供給管９１１ｘは、中央に配置されたガス供給管９１１ｙの周囲に均等（等角度間隔）に分散配置されている。   In the present embodiment, a plurality of raw material supply pipes 911x are arranged so as to surround the gas supply pipe 911y, and the distal end portion of the raw material supply pipes 911x is refracted at an angle of, for example, about 30 to 90 degrees. The tip of the raw material supply pipe 911x is connected to and integrated with the pipe wall of the gas supply pipe 911y. Here, the raw material outlet 911x of the raw material supply pipe 911x opens to the tube wall of the gas supply pipe 911y, and the gas outlet 911D of the gas supply pipe 911y corresponds to an in-pipe portion facing the raw material supply port 911A. Also in this embodiment, the gas ejection port 911D is arranged on the side of the end surface of the raw material supply pipe 911x (the opening surface of the raw material ejection port 911A), and the ejection direction is set substantially parallel to the end surface of the raw material supply pipe 911x. Has been. An extension pipe portion 911t is formed at the tip of the raw material jet port 911A and the gas jet port 911D, and a spray port 911s is opened at the tip thereof. Note that a plurality (four in the illustrated example) of raw material supply pipes 911x are distributed evenly (at equal angular intervals) around the gas supply pipe 911y disposed in the center.

この実施形態では、ガス噴出口９１１Ｄから噴霧ガスが原料噴出口９１１Ａの端面上に当該端面に沿った方向に吹き付けるため、原料噴出口９１１Ａから噴出する液体原料が確実に噴霧される。したがって、上記第１乃至第４実施形態のように原料供給路とガス供給路を同軸に配置する必要がなく、別々に構成された原料供給管９１１ｘとガス供給管９１１ｙとによって噴霧手段を構成できる。   In this embodiment, since the atomizing gas is sprayed from the gas ejection port 911D onto the end surface of the material ejection port 911A in the direction along the end surface, the liquid material ejected from the material ejection port 911A is reliably sprayed. Therefore, it is not necessary to arrange the raw material supply path and the gas supply path coaxially as in the first to fourth embodiments, and the spraying means can be configured by the separately configured raw material supply pipe 911x and the gas supply pipe 911y. .

原料供給管９１１ｘの先端部とガス供給管９１１ｙは一体に接続されているため、原料噴出口９１１Ａとガス噴出口９１１Ｄとが相対的に移動したり、振動したりすることをより確実に防止できる。   Since the tip of the raw material supply pipe 911x and the gas supply pipe 911y are integrally connected, it is possible to more reliably prevent the raw material jet outlet 911A and the gas jet outlet 911D from moving or vibrating relatively. .

ここで、一つの原料タンクに対して一つの原料供給管９１１ｘが対応していることが望ましい。例えば、ＰＴＯ核付けを行った後にＰＺＴ成膜を行う場合、核付け時はＰｂ原料とＴｉ原料のみを流し、次の本成膜時にはＰｂ原料とＺｒ原料とＴｉ原料を流す必要があるが、一つの原料に対して一つの原料供給管９１１ｘが対応していることにより、使用原料の切替を迅速に行うことができるからである。また、各原料の流量が相互にほぼ等しいことが望ましい。これは、複数の原料供給管９１１ｘから噴出する原料の流量がほぼ等しいことにより、噴霧方向に対して液体原料の噴霧が対称に行われるため、さらに安定した噴霧状態を得ることができるからである。   Here, it is desirable that one raw material supply pipe 911x corresponds to one raw material tank. For example, when performing PZT film formation after PTO nucleation, it is necessary to flow only the Pb raw material and the Ti raw material at the time of nucleation, and to flow the Pb raw material, the Zr raw material, and the Ti raw material during the next main film formation, This is because the use of one raw material supply pipe 911x corresponds to one raw material, so that the used raw material can be quickly switched. Further, it is desirable that the flow rates of the respective raw materials are substantially equal to each other. This is because, since the flow rates of the raw materials ejected from the plurality of raw material supply pipes 911x are substantially equal, the liquid raw material is sprayed symmetrically with respect to the spraying direction, so that a more stable spray state can be obtained. .

［第８実施形態］
次に、図１０を参照して、本発明に係る第８実施形態について説明する。これ以降の各実施形態は、図８に示す成膜装置の原料供給系１０１Ａを改善することによって本発明の目的に寄与するものであり、原料供給系以外の構成については図８に示すものと同様であることを前提として説明する。したがって、対応する部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。以下の各実施形態は、上記第１実施形態乃至第７実施形態に示す噴霧ノズル２１１〜９１１を用いる場合に特に顕著な効果を示すものであり、これによって本願発明に対応する構成となるものである。なお、これらの構成は、本願の実施形態以外の気化器にも適用可能である。 [Eighth Embodiment]
Next, an eighth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. Each subsequent embodiment contributes to the object of the present invention by improving the raw material supply system 101A of the film forming apparatus shown in FIG. 8, and the configuration other than the raw material supply system is as shown in FIG. Description will be made on the assumption that the same applies. Accordingly, corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. Each of the following embodiments exhibits a particularly remarkable effect when the spray nozzles 211 to 911 shown in the first to seventh embodiments are used, and thereby has a configuration corresponding to the present invention. is there. In addition, these structures are applicable also to vaporizers other than embodiment of this application.

この第８実施形態では、原料供給ライン１０３ａ、１０３ｂ及び１０３ｃと、溶媒供給ライン１０４とがそれぞれ流量制御器１０５ａ，１０５ｂ，１０５ｃ，１０６を介した後に合流して混合配管１０３ｘとなり、この混合配管１０３ｘが合流点Ｑにおいて原料搬送ライン１０７に接続されている。したがって、複数の液体原料が相互に混合されてから一括して合流点Ｑにおいて原料搬送ライン１０７へ供給されるため、原料の混合比の時間的変動が低減され、安定した混合比を有する液体原料を原料搬送ライン１０７にて搬送し、供給することができる。   In the eighth embodiment, the raw material supply lines 103a, 103b, and 103c and the solvent supply line 104 are merged after passing through the flow rate controllers 105a, 105b, 105c, and 106, respectively, and become the mixing pipe 103x. Is connected to the raw material transfer line 107 at the junction Q. Accordingly, since a plurality of liquid raw materials are mixed together and supplied to the raw material transport line 107 at the confluence point Q, the liquid raw material having a stable mixing ratio is reduced because the temporal fluctuation of the raw material mixing ratio is reduced. Can be conveyed and supplied by the raw material conveyance line 107.

より詳細に述べると、図８に示すように複数の液体原料が別々の原料供給ラインを介してそれぞれ原料搬送ラインに供給される場合には、個々の合流点における原料の供給態様（ベンチュリー効果などに起因する原料搬送ラインへの吸い込み態様など）が時間的に変動すると、流量制御器にて各液体原料の流量を制御しても、実際に原料搬送ラインへ導入される各液体原料の量は時間的に変動する。したがって、原料搬送ラインにて混合され搬送されていく原料の量及び混合比も時間的に変動する。ところが、本実施形態の場合には、予め混合配管１０３ｘ内で混合された液体原料が一つの合流点Ｑにおいて原料搬送ライン１０７に導入されるので、合流点Ｑにおける液体原料の導入態様がどうであろうとも混合比の時間的変動にはほとんど影響を与えないため、安定した混合比を得ることができる。したがって、気化器１１０において生成される原料ガスの混合比を安定させることができるため、成膜再現性の向上を図ることができる。   More specifically, as shown in FIG. 8, when a plurality of liquid raw materials are respectively supplied to the raw material transport lines via separate raw material supply lines, the raw material supply mode (Venturi effect, etc.) at each confluence If the flow rate of each liquid material is controlled by the flow controller, the amount of each liquid material actually introduced into the material transport line is It varies with time. Therefore, the amount and mixing ratio of the raw materials mixed and transported in the raw material transport line also vary with time. However, in the case of this embodiment, since the liquid raw material previously mixed in the mixing pipe 103x is introduced into the raw material transfer line 107 at one confluence Q, how is the liquid raw material introduced at the confluence Q? Regardless, it hardly affects the temporal variation of the mixing ratio, so that a stable mixing ratio can be obtained. Therefore, since the mixing ratio of the raw material gases generated in the vaporizer 110 can be stabilized, the film formation reproducibility can be improved.

本実施形態では、混合配管１０３ｘの流通断面積よりも原料搬送ライン１０７の流通断面積を大きく構成することが好ましい。これによって、原料搬送ライン中のキャリアガスの流速が低下するため、合流点Ｑにおけるベンチュリー効果を抑制することができ、これによって原料搬送ライン１０７の搬送量の時間的変動（脈動）を低減することができ、その結果、噴霧ノズルにおける噴霧状態を安定させることができる。したがって、成膜再現性の向上やパーティクル抑制による膜質の向上を図ることができる。   In the present embodiment, it is preferable to configure the flow cross-sectional area of the raw material transfer line 107 to be larger than the flow cross-sectional area of the mixing pipe 103x. As a result, the flow velocity of the carrier gas in the raw material transfer line is lowered, so that the venturi effect at the junction Q can be suppressed, thereby reducing the temporal fluctuation (pulsation) of the transfer amount of the raw material transfer line 107. As a result, the spray state in the spray nozzle can be stabilized. Therefore, it is possible to improve film reproducibility and film quality by suppressing particles.

［第９実施形態］
次に、図１１を参照して、本発明に係る第９実施形態について説明する。この実施形態では、原料搬送ライン１０７の一部に垂直方向に伸びるように構成された垂直部１０７ｐが設けられている。この垂直部１０７ｐには、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ及び１０３ｃ並びに溶媒供給ライン１０４がそれぞれ流量制御器１０５ａ，１０５ｂ，１０５ｃ，１０６を介して合流点Ｑにおいて接続されている。 [Ninth Embodiment]
Next, a ninth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, a vertical portion 107 p configured to extend in the vertical direction is provided in a part of the raw material transfer line 107. Raw material supply lines 103a, 103b, and 103c and a solvent supply line 104 are connected to the vertical portion 107p at a junction point Q through flow rate controllers 105a, 105b, 105c, and 106, respectively.

合流部Ｑにおいて原料搬送ライン１０７は垂直方向に伸びるため、液体原料の搬送が重力に逆らわずに行われるとともに、原料搬送ライン１０７の配管内でその軸線周りの液体原料の偏りが少なくなるため、搬送量の時間的変動も低減される。ここで、上記垂直部１０７ｐはその垂直姿勢を保ったまま気化器１１０の噴霧ノズルに接続されることが、液体原料の滞留や搬送量の変動を低減する上で望ましい。   Since the raw material transport line 107 extends in the vertical direction at the junction Q, the liquid raw material is transported against gravity, and the bias of the liquid raw material around its axis is reduced in the piping of the raw material transport line 107. The temporal variation of the transport amount is also reduced. Here, it is desirable that the vertical portion 107p is connected to the spray nozzle of the vaporizer 110 while maintaining the vertical posture in order to reduce the stagnation of the liquid raw material and the fluctuation of the transport amount.

各原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃは、原料搬送ライン１０７の搬送方向の略同一位置である合流点Ｑで接続されているため、複数の液体原料が原料搬送ライン１０７の同一位置に導入されることになる。したがって、上記合流点Ｑのマニホールド構造の内容積を小さくすることができるため、当該構造の原料置換時間が短縮され、成膜時間も短縮されるため、スループットを向上させることができる。   Since the raw material supply lines 103a, 103b, and 103c are connected at a junction Q that is substantially the same position in the conveying direction of the raw material conveying line 107, a plurality of liquid raw materials are introduced into the same position of the raw material conveying line 107. It will be. Therefore, since the internal volume of the manifold structure at the junction point Q can be reduced, the material replacement time of the structure is shortened and the film formation time is also shortened, so that the throughput can be improved.

この実施形態では、合流点Ｑにおいて複数の原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ及び溶媒供給ライン１０４が共に原料搬送ライン１０７の軸線周りにほぼ均等に（等角度間隔となるように）分散配置されている。これによって、より安定した導入状態を得ることができ、液体原料の搬送量や混合比の変動を抑制できる。   In this embodiment, the plurality of raw material supply lines 103 a, 103 b, 103 c and the solvent supply line 104 are all distributed almost uniformly around the axis of the raw material transfer line 107 (so as to be equiangularly spaced) at the junction Q. Yes. As a result, a more stable introduction state can be obtained, and fluctuations in the transport amount and mixing ratio of the liquid raw material can be suppressed.

本実施形態では、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃの流通断面積よりも原料搬送ライン１０７の流通断面積を大きく構成することが好ましい。これによって、合流点Ｑにおけるベンチュリー効果を抑制することができるため、原料搬送ライン１０７の搬送量の時間的変動（脈動）を低減することができ、その結果、噴霧ノズルにおける噴霧状態を安定させることができる。したがって、成膜再現性の向上やパーティクル抑制による膜質の向上を図ることができる。   In the present embodiment, it is preferable to configure the flow cross-sectional area of the raw material transfer line 107 to be larger than the flow cross-sectional areas of the raw material supply lines 103a, 103b, and 103c. As a result, the venturi effect at the confluence point Q can be suppressed, so that temporal fluctuations (pulsations) in the conveyance amount of the raw material conveyance line 107 can be reduced, and as a result, the spray state in the spray nozzle can be stabilized. Can do. Therefore, it is possible to improve film reproducibility and film quality by suppressing particles.

図１２には、上記第９実施形態の変形例を示す。ここで、図示以外の部分は図１１と同様である。この変形例では、第９実施形態と同様に、原料搬送ライン１０７の一部に垂直方向に伸びるように構成された垂直部１０７ｐが設けられ、この垂直部１０７ｐには、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ及び１０３ｃ並びに溶媒供給ライン１０４がそれぞれ流量制御器１０５ａ，１０５ｂ，１０５ｃ，１０６を介して接続されている。この場合でも、垂直部１０７ｐがそのまま気化器１１０に接続されていることが望ましい。   FIG. 12 shows a modification of the ninth embodiment. Here, the parts other than the illustration are the same as those in FIG. In this modified example, as in the ninth embodiment, a vertical portion 107p configured to extend in the vertical direction is provided in a part of the raw material transfer line 107, and the raw material supply lines 103a and 103b are provided in the vertical portion 107p. And 103c and the solvent supply line 104 are connected to each other through flow controllers 105a, 105b, 105c, and 106, respectively. Even in this case, it is desirable that the vertical portion 107p is connected to the vaporizer 110 as it is.

本変形例では、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ及び溶媒供給ライン１０４のそれぞれが原料搬送ライン１０７の搬送方向の異なる位置に設定された合流点Ｑ１〜Ｑ４にて接続されている。したがって、配管接続構造を簡易に構成することができる。   In this modification, each of the raw material supply lines 103a, 103b, 103c and the solvent supply line 104 is connected at junctions Q1 to Q4 set at different positions in the conveyance direction of the raw material conveyance line 107. Therefore, the pipe connection structure can be easily configured.

本変形例でも、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃの流通断面積よりも原料搬送ライン１０７の流通断面積を大きく構成することが好ましい。これによって、各合流点Ｑ１〜Ｑ４におけるベンチュリー効果を抑制することができるため、原料搬送ライン１０７の搬送量の時間的変動（脈動）を低減することができ、その結果、噴霧ノズルにおける噴霧状態を安定させることができる。したがって、成膜再現性の向上やパーティクル抑制による膜質の向上を図ることができる。   Also in this modification, it is preferable to configure the flow cross-sectional area of the raw material transfer line 107 to be larger than the flow cross-sectional areas of the raw material supply lines 103a, 103b, and 103c. Thereby, since the venturi effect at each of the junctions Q1 to Q4 can be suppressed, the temporal fluctuation (pulsation) of the conveyance amount of the raw material conveyance line 107 can be reduced, and as a result, the spray state in the spray nozzle can be reduced. It can be stabilized. Therefore, it is possible to improve film reproducibility and film quality by suppressing particles.

図１３には、上記第９実施形態の別の変形例を示す。ここで、図示以外の部分は図１１と同様である。この変形例では、第９実施形態と同様に、原料搬送ライン１０７の一部に垂直方向に伸びるように構成された垂直部１０７ｐ，１０７ｑが設けられている。これらの垂直部１０７ｐと１０７ｑの間には、開閉弁（シャットオフバルブ）１７０が接続されている。この開閉弁１７０には、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ及び１０３ｃ並びに溶媒供給ライン１０４がそれぞれ流量制御器１０５ａ，１０５ｂ，１０５ｃ，１０６を介して全て接続されている。ここで、垂直部１０７ｑがそのまま気化器１１０に接続されていることが望ましいことは上記と同様である。   FIG. 13 shows another modification of the ninth embodiment. Here, the parts other than the illustration are the same as those in FIG. In this modified example, as in the ninth embodiment, vertical portions 107p and 107q configured to extend in the vertical direction are provided in a part of the raw material transfer line 107. An open / close valve (shutoff valve) 170 is connected between the vertical portions 107p and 107q. All of the raw material supply lines 103a, 103b and 103c and the solvent supply line 104 are connected to the on-off valve 170 via flow rate controllers 105a, 105b, 105c and 106, respectively. Here, as described above, it is desirable that the vertical portion 107q is connected to the vaporizer 110 as it is.

図１４は、原料搬送ライン１０７の途中に接続された開閉弁１７０の内部構造を示す部分断面図である。開閉弁１７０は、ソレノイドやモータなどで構成される駆動部１７１と、ハウジング１７２とを有し、ハウジング１７２の内部には、駆動部１７１によって駆動され移動可能に構成された弁体１７３と、この弁体１７３が移動して当接することによって原料搬送ライン１０７を遮断するための弁座１７４とが設けられている。ハウジング１７２の入力側には、原料搬送ライン１０７の垂直部１０７ｐが接続され、この垂直部１０７ｐに対して弁座１７４の反対側にある出力側には垂直部１０７ｑが接続されている。また、ハウジング１７２の入力側には、上記原料供給ライン１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ及び溶媒供給ライン１０４が接続されている。これらの各ラインの接続部位は、ハウジング１７２の入力側において弁座１７４の周囲に分散配置されている。   FIG. 14 is a partial cross-sectional view showing the internal structure of the on-off valve 170 connected in the middle of the raw material transfer line 107. The on-off valve 170 includes a drive unit 171 configured by a solenoid, a motor, and the like, and a housing 172. Inside the housing 172, a valve body 173 configured to be movable by being driven by the drive unit 171 is provided. A valve seat 174 is provided for blocking the raw material transfer line 107 when the valve body 173 moves and contacts. A vertical portion 107p of the raw material transfer line 107 is connected to the input side of the housing 172, and a vertical portion 107q is connected to the output side opposite to the valve seat 174 with respect to the vertical portion 107p. Further, the raw material supply lines 103a, 103b, 103c and the solvent supply line 104 are connected to the input side of the housing 172. The connection portions of these lines are distributed around the valve seat 174 on the input side of the housing 172.

この実施形態においては、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ及び１０３ｃ並びに溶媒供給ライン１０４は、原料搬送ライン１０７の途中に設けられた一つの開閉弁１７０に全て接続されていることにより、上記従来のマニホールド構造におけるベンチュリー効果が発生しないため、気化器１１０における噴霧状態を安定させることができる。   In this embodiment, the raw material supply lines 103a, 103b and 103c and the solvent supply line 104 are all connected to one on-off valve 170 provided in the middle of the raw material transfer line 107, so that the conventional manifold structure described above is used. Since the venturi effect is not generated, the spray state in the vaporizer 110 can be stabilized.

また、開閉弁１７０に全ての原料供給ラインが接続されていることにより、マニホールド構造をコンパクトに構成できるとともにその内容積を低減することができるため、原料置換時間が短縮され、その結果、成膜時間も短縮されてスループットを向上させることができる。   In addition, since all the raw material supply lines are connected to the on-off valve 170, the manifold structure can be made compact and its internal volume can be reduced, so that the time for replacing the raw material is shortened. The time can be shortened and the throughput can be improved.

本実施形態では、垂直部１０７ｐ、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃのいずれの流通断面積よりも垂直部１０７ｑの流通断面積を大きくすることが好ましい。これによって、垂直部１０７ｑ以降の下流側における液体原料の搬送状態を安定化させることができる。   In the present embodiment, it is preferable to make the flow cross-sectional area of the vertical portion 107q larger than any flow cross-sectional area of the vertical portion 107p and the raw material supply lines 103a, 103b, and 103c. Thereby, the conveyance state of the liquid raw material in the downstream side after the vertical part 107q can be stabilized.

［第１０実施形態］
次に、図１５を参照して、本発明に係る第１０実施形態について説明する。この実施形態では、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ及び溶媒供給ライン１０４にそれぞれキャリアガスが供給され、その後、原料搬送ライン１０７に接続されている。より具体的には、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃは、流量制御器１０５ａ，１０５ｂ，１０５ｃを介して原料供給先ライン１０３ｘａ，１０３ｘｂ，１０３ｘｃに接続され、この原料供給先ラインには、流量制御器１０５ｘａ，１０５ｘｂ，１０５ｘｃを介して不活性ガスなどのキャリアガスが供給されている。原料供給先ライン１０３ｘａ，１０３ｘｂ，１０３ｘｃは、原料搬送ライン１０７に対して合流点Ｑ１，Ｑ２，Ｑ３においてそれぞれ接続されている。ただし、上記各実施形態と同様に、一つの合流点において全ての原料供給先ラインが接続されるように構成してもよい。また、溶媒供給ライン１０４もまた同様に溶媒供給先ライン１０４ｘに接続され、この溶媒供給先ライン１０４ｘには流量制御器１０６ｘを介してキャリアガスが供給され、溶媒供給先ライン１０４ｘは原料搬送ライン１０７に合流点Ｑ４において接続されている。 [Tenth embodiment]
Next, a tenth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, a carrier gas is supplied to each of the raw material supply lines 103 a, 103 b, 103 c and the solvent supply line 104, and then connected to the raw material transfer line 107. More specifically, the raw material supply lines 103a, 103b, and 103c are connected to the raw material supply destination lines 103xa, 103xb, and 103xc via the flow rate controllers 105a, 105b, and 105c. A carrier gas such as an inert gas is supplied through the vessels 105xa, 105xb, and 105xc. The raw material supply destination lines 103xa, 103xb, and 103xc are connected to the raw material transport line 107 at the junctions Q1, Q2, and Q3, respectively. However, similarly to the above embodiments, all the raw material supply destination lines may be connected at one confluence. Similarly, the solvent supply line 104 is also connected to the solvent supply destination line 104x, and carrier gas is supplied to the solvent supply destination line 104x via the flow rate controller 106x. The solvent supply destination line 104x is the raw material transfer line 107x. Are connected at the junction Q4.

この実施形態では、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃにより供給される液体原料が原料供給先ライン１０３ｘａ，１０３ｘｂ，１０３ｘｃに導入されてキャリアガスによって搬送され、その後、原料搬送ライン１０７に導入される。したがって、原料供給先ラインにおいて液体原料を搬送するキャリアガスによって原料置換が迅速に行われるようになるので、成膜時間も短縮され、スループットを向上させることができる。   In this embodiment, the liquid raw material supplied by the raw material supply lines 103a, 103b, and 103c is introduced into the raw material supply destination lines 103xa, 103xb, and 103xc, conveyed by the carrier gas, and then introduced into the raw material conveyance line 107. Accordingly, since the replacement of the raw material is quickly performed by the carrier gas for transporting the liquid raw material in the raw material supply destination line, the film formation time can be shortened and the throughput can be improved.

また、それぞれの液体原料は、原料供給先ライン１０３ｘａ，１０３ｘｂ，１０３ｘｃにおいてキャリアガスによって搬送されることによって原料搬送ライン１０７に導入されるため、各合流点Ｑ１〜Ｑ３における供給圧力を増大させることができるため、ベンチュリー効果による影響が低減され、原料搬送ラインにおける搬送量の時間的変動や混合比の時間的変動を低減し、安定した原料供給状態を得ることができる。   Moreover, since each liquid raw material is introduce | transduced into the raw material conveyance line 107 by being conveyed by carrier gas in raw material supply destination line 103xa, 103xb, 103xc, the supply pressure in each confluence | merging point Q1-Q3 can be increased. Therefore, the influence due to the venturi effect is reduced, the temporal variation of the conveyance amount and the temporal variation of the mixing ratio in the raw material conveyance line can be reduced, and a stable raw material supply state can be obtained.

本実施形態では、原料供給ライン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃの流通断面積よりも原料供給先ライン１０３ｘａ，１０３ｘｂ，１０３ｘｃの流通断面積を大きくすることが好ましい。また、原料供給先ラインの流通断面積よりも原料搬送ライン１０７の流通断面積を大きく構成することが好ましい。これによって、各合流点におけるベンチュリー効果を抑制することができるため、原料搬送ライン１０７の搬送量の時間的変動（脈動）を低減することができ、その結果、噴霧ノズルにおける噴霧状態を安定させることができる。したがって、成膜再現性の向上やパーティクル抑制による膜質の向上を図ることができる。   In the present embodiment, it is preferable to make the flow cross-sectional areas of the raw material supply destination lines 103xa, 103xb, and 103xc larger than the flow cross-sectional areas of the raw material supply lines 103a, 103b, and 103c. In addition, it is preferable that the distribution cross-sectional area of the raw material conveyance line 107 is larger than the distribution cross-sectional area of the raw material supply destination line. As a result, the venturi effect at each junction can be suppressed, so that the temporal fluctuation (pulsation) of the transport amount of the raw material transport line 107 can be reduced, and as a result, the spray state in the spray nozzle can be stabilized. Can do. Therefore, it is possible to improve film reproducibility and film quality by suppressing particles.

尚、本発明の成膜装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態では、ＰＺＴ成膜のための原料を気化する場合を前提として説明したが、本発明はこれに限定されず、他の膜種のための原料を気化する場合にも適用することが可能である。他の膜種としては、例えば、Ｓｒ原料とＢｉ原料とＴａ原料とを気化させてＳＢＴ金属酸化物の薄膜等を形成する場合や、Ｂｉ原料とＬａ原料とＴｉ原料とを気化させてＢＬＴ金属酸化物の薄膜等を形成する場合や、Ｂａ原料とＳｒ原料とＴｉ原料とを気化させてＢＳＴ金属酸化物の薄膜等を形成する場合や、Ｓｒ原料とＴｉ原料とを気化させてＳＴＯ金属酸化物の薄膜等を形成する場合などが挙げられる。 It should be noted that the film forming apparatus of the present invention is not limited to the illustrated examples described above, and it is needless to say that various changes can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in each of the above embodiments, the description has been made on the assumption that the raw material for PZT film formation is vaporized. However, the present invention is not limited to this, and is applicable to the case of vaporizing the raw material for other film types. Is possible. As other film types, for example, when a thin film of SBT metal oxide is formed by vaporizing Sr raw material, Bi raw material, and Ta raw material, or BLT metal is vaporized by Bi raw material, La raw material, and Ti raw material. When forming a thin film of oxide, etc., when vaporizing Ba raw material, Sr raw material and Ti raw material to form a thin film of BST metal oxide, etc., or vaporizing Sr raw material and Ti raw material, STO metal oxidation For example, when a thin film of an object is formed.

第１実施形態の噴霧ノズルの噴霧口近傍を示す拡大縦断面図（ａ）及び拡大横断面図（ｂ）並びに異なる態様の内側管の構造を示す断面図（ｃ）、側面図（ｄ）及び側面図（ｅ）。An enlarged longitudinal sectional view (a) and an enlarged transverse sectional view (b) showing the vicinity of the spray nozzle of the spray nozzle of the first embodiment, a sectional view (c), a side view (d) and Side view (e). 第２実施形態の噴霧ノズルの噴霧口近傍を示す拡大縦断面図（ａ）及び拡大横断面図（ｂ）。The expansion longitudinal cross-sectional view (a) and enlarged cross-sectional view (b) which show the spray nozzle vicinity of the spray nozzle of 2nd Embodiment. 第３実施形態の噴霧ノズルの噴霧口近傍を示す拡大縦断面図（ａ）及び拡大横断面図（ｂ）。The expansion longitudinal cross-sectional view (a) and enlarged cross-sectional view (b) which show the spray nozzle vicinity of the spray nozzle of 3rd Embodiment. 第４実施形態の噴霧ノズルの噴霧口近傍を示す拡大縦断面図（ａ）及び拡大底面図（ｂ）。The expansion longitudinal cross-sectional view (a) and enlarged bottom view (b) which show the spraying nozzle vicinity of the spraying nozzle of 4th Embodiment. 第５実施形態の噴霧ノズルの噴霧口近傍を示す拡大縦断面図（ａ）及び拡大側面図（ｂ）。The expansion longitudinal cross-sectional view (a) and enlarged side view (b) which show the spray nozzle vicinity of the spray nozzle of 5th Embodiment. 第６実施形態の噴霧ノズルの噴霧口近傍を示す拡大縦断面図（ａ）及び拡大底面図（ｂ）。The expansion longitudinal cross-sectional view (a) and enlarged bottom view (b) which show the spray nozzle vicinity of the spray nozzle of 6th Embodiment. 第７実施形態の噴霧ノズルの噴霧口近傍を示す拡大縦断面図（ａ）及び拡大底面図（ｂ）。The expansion longitudinal cross-sectional view (a) and enlarged bottom view (b) which show the spray nozzle vicinity of the spray nozzle of 7th Embodiment. 従来の成膜装置の全体構成を模式的に示す概略構成図。The schematic block diagram which shows typically the whole structure of the conventional film-forming apparatus. 従来の噴霧ノズルの概略構成を模式的に示す概略構成断面図。The schematic structure sectional drawing which shows typically the schematic structure of the conventional spray nozzle. 第８実施形態の原料供給系の構成を模式的に示す概略構成図。The schematic block diagram which shows typically the structure of the raw material supply system of 8th Embodiment. 第９実施形態の原料供給系の構成を模式的に示す概略構成図。The schematic block diagram which shows typically the structure of the raw material supply system of 9th Embodiment. 第９実施形態の変形例の原料供給系の構成を模式的に示す概略構成図。The schematic block diagram which shows typically the structure of the raw material supply system of the modification of 9th Embodiment. 第９実施形態の別の変形例の原料供給系の構成を模式的に示す概略構成図。The schematic block diagram which shows typically the structure of the raw material supply system of another modification of 9th Embodiment. 図１３に記載の変形例の開閉弁の構成を示す概略部分断面図（ａ）及び内部平面図（ｂ）。FIG. 14 is a schematic partial cross-sectional view (a) and an internal plan view (b) showing a configuration of an on-off valve of a modified example shown in FIG. 13. 第１０実施形態の原料供給系の構成を模式的に示す概略構成図。The schematic block diagram which shows typically the structure of the raw material supply system of 10th Embodiment.

１００…成膜装置、１０１Ａ…原料供給系、１１０，１１１０，２１１０…気化器、１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ…原料供給ライン、１０３ｘａ，１０３ｘｂ，１０３ｘｃ…原料供給先ライン、１０７…原料搬送ライン、１７０…開閉弁、１１１，２１１，３１１，４１１，５１１，６１１，７１１，８１１，９１１…噴霧ノズル、２１１ｘ、３１１ｘ、４１１ｘ、５１１ｘ、６１１ｘ，７１１ｘ，８１１ｘ，９１１ｘ…内側管、２１１ｙ…外側管、３１１ｙ、４１１ｙ、５１１ｙ…オリフィス板、２１１ｚ、３１１ｚ、４１１ｚ、５１１ｚ…位置決め部、２１１ｐ，６１１Ｐ，７１１Ｐ，８１１Ｐ，９１１Ｐ…支持部材、２１１ａ，３１１ａ、４１１ａ、５１１ａ、６１１ａ，７１１ａ，８１１ａ，９１１ａ…原料供給路、２１１Ａ，３１１Ａ，４１１Ａ，５１１Ａ，６１１Ａ，７１１Ａ，８１１Ａ，９１１Ａ…原料噴出口、２１１ｄ，３１１ｄ、４１１ｄ、５１１ｄ、６１１ｄ，７１１ｄ，８１１ｄ，９１１ｄ…ガス供給路、２１１Ｄ，３１１Ｄ，４１１Ｄ，５１１Ｄ，６１１Ｄ，７１１Ｄ，８１１Ｄ，９１１Ｄ…ガス噴出口 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Film-forming apparatus, 101A ... Raw material supply system, 110, 1110, 2110 ... Vaporizer, 103a, 103b, 103c ... Raw material supply line, 103xa, 103xb, 103xc ... Raw material supply destination line, 107 ... Raw material conveyance line, 170 ... On-off valve, 111, 211, 311, 411, 511, 611, 711, 811, 911 ... spray nozzle, 211x, 311x, 411x, 511x, 611x, 711x, 811x, 911x ... inner tube, 211y ... outer tube, 311y, 411y, 511y ... orifice plate, 211z, 311z, 411z, 511z ... positioning part, 211p, 611P, 711P, 811P, 911P ... support member, 211a, 311a, 411a, 511a, 611a, 711a, 811a, 911a ... raw material supply path , 211A, 3 1A, 411A, 511A, 611A, 711A, 811A, 911A ... Raw material outlet, 211d, 311d, 411d, 511d, 611d, 711d, 811d, 911d ... Gas supply path, 211D, 311D, 411D, 511D, 611D, 711D, 811D, 911D ... Gas outlet

Claims (16)

液体原料を噴霧する噴霧手段と、噴霧された前記液体原料を気化するための気化面を備えた気化室と、該気化室にて生成された原料ガスを導出するガス導出口とを有し、前記噴霧手段には、前記液体原料を供給する原料供給路と、該原料供給路によって供給される前記液体原料を噴霧する噴霧ガスを供給するガス供給路とを備え、前記原料供給路の原料噴出口と前記ガス供給路のガス噴出口とが隣接配置されてなる気化器と、
前記液体原料を供給する原料供給系と、
前記気化器から導出される前記原料ガスを用いて成膜を行う成膜室と、
を有する成膜装置において、
前記気化器は、前記原料噴出口と前記ガス噴出口とを相互に位置決め保持するための位置決め保持手段を有し、
前記原料供給系は、前記液体原料をキャリアガスによって搬送する原料搬送ラインと、複数の前記液体原料をそれぞれ前記原料搬送ラインに供給する複数の原料供給ラインとを有し、
前記原料供給ラインの流通断面積よりも前記原料搬送ラインの流通断面積が大きく構成されていることを特徴とする成膜装置。 A spraying means for spraying the liquid raw material, a vaporization chamber having a vaporization surface for vaporizing the sprayed liquid raw material, and a gas outlet for deriving the raw material gas generated in the vaporization chamber, The spraying means includes a raw material supply path for supplying the liquid raw material, and a gas supply path for supplying a spray gas for spraying the liquid raw material supplied by the raw material supply path. A vaporizer in which an outlet and a gas outlet of the gas supply path are disposed adjacent to each other ;
A raw material supply system for supplying the liquid raw material;
A film forming chamber for forming a film using the source gas derived from the vaporizer;
In a film forming apparatus having
The vaporizer have a positioning and holding means for positioning and holding the said source material jet and the gas ejection port to each other,
The raw material supply system has a raw material transport line for transporting the liquid raw material with a carrier gas, and a plurality of raw material supply lines for supplying a plurality of the liquid raw materials to the raw material transport line,
A film forming apparatus, wherein a flow cross-sectional area of the raw material transport line is larger than a flow cross-sectional area of the raw material supply line . 前記複数の原料供給ラインが全て合流した後に前記原料搬送ラインに接続されていることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。 The deposition apparatus according to claim 1, wherein the plurality of material supply line is connected to the material conveying line after merging all. 前記複数の原料供給ラインが共に搬送方向の略一箇所において前記原料搬送ラインに接続されていることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 1 , wherein the plurality of raw material supply lines are connected to the raw material transfer line at substantially one place in the transfer direction. 前記複数の原料供給ラインが前記原料搬送ラインにおける垂直方向に伸びる部分に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 1 , wherein the plurality of raw material supply lines are connected to a portion extending in a vertical direction in the raw material transfer line. 前記複数の原料供給ラインは、前記原料搬送ラインの途中に接続された開閉弁に共に接続されていることを特徴とする請求項１、３又は４に記載の成膜装置。 Wherein the plurality of material supply lines, film-forming apparatus according to claim 1, 3 or 4, characterized in that it is both connected to the opening and closing valve connected to the middle of the material transport line. 前記複数の原料供給ラインは、それぞれにキャリアガスが導入された後に前記原料搬送ラインに接続されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の成膜装置。 Wherein the plurality of material supply lines, film-forming apparatus according to any one of claims 1 to 5, characterized in that it is connected to the material conveying line after the carrier gas is introduced into each. 前記原料噴出口は前記ガス噴出口と同軸に構成されていることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 1, wherein the raw material outlet is configured coaxially with the gas outlet. 前記位置決め保持手段は、前記原料噴出口と前記ガス墳出口の間に部分的に介挿配置された位置決め部で構成されていることを特徴とする請求項７に記載の成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 7 , wherein the positioning and holding unit includes a positioning portion that is partially interposed between the raw material outlet and the gas soot outlet. 複数の前記位置決め部が前記原料噴出口及び前記ガス噴出口の軸線周りに分散配置されていることを特徴とする請求項８に記載の成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 8 , wherein the plurality of positioning portions are distributed around the axis of the raw material outlet and the gas outlet. 前記原料噴出口の開口面の側方に前記ガス噴出口が配置され、前記ガス噴出口の噴出方向が前記開口面と略平行であることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 1, wherein the gas jet port is disposed on a side of an opening surface of the raw material jet port, and a jet direction of the gas jet port is substantially parallel to the opening surface. 前記原料供給路を構成する原料供給管の先端部と前記ガス供給路を構成するガス供給管の先端部とが前記位置決め保持手段を構成する支持部材によって支持固定されていることを特徴とする請求項１０に記載の成膜装置。 The distal end portion of the raw material supply pipe constituting the raw material supply path and the distal end portion of the gas supply pipe constituting the gas supply path are supported and fixed by a support member constituting the positioning holding means. Item 11. The film forming apparatus according to Item 10 . 前記位置決め保持手段は、前記原料供給路を構成する原料供給管の先端部と前記ガス供給路を構成するガス供給管の先端部とを一体に接続する接続部分により構成されていることを特徴とする請求項１０に記載の成膜装置。 The positioning and holding means is constituted by a connecting portion that integrally connects a distal end portion of a raw material supply pipe constituting the raw material supply passage and a distal end portion of a gas supply pipe constituting the gas supply passage. The film forming apparatus according to claim 10 . 前記ガス噴出口の周囲に複数の前記原料噴出口が配置されていることを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか一項に記載の成膜装置。 The film forming apparatus according to claim 10 , wherein a plurality of the raw material outlets are arranged around the gas outlet. 液体原料を噴霧する噴霧手段と、噴霧された前記液体原料を気化するための気化面を備えた気化室と、該気化室にて生成された原料ガスを導出するガス導出口とを有し、前記噴霧手段には、前記液体原料を供給する原料供給路と、該原料供給路によって供給される前記液体原料を噴霧する噴霧ガスを供給するガス供給路とを備え、前記原料供給路の原料噴出口と前記ガス供給路のガス噴出口とが隣接配置されてなる気化器と、
前記液体原料を供給する原料供給系と、
前記気化器から導出される前記原料ガスを用いて成膜を行う成膜室と、
を有する成膜装置において、
前記気化器は、前記原料噴出口と前記ガス噴出口とを相互に位置決め保持するための位置決め保持手段を有し、
前記原料噴出口の開口面の側方に前記ガス噴出口が配置され、前記ガス噴出口の噴出方向が前記開口面と略平行であり、
前記ガス噴出口の周囲に複数の前記原料噴出口が配置されていることを特徴とする成膜装置。 A spraying means for spraying the liquid raw material, a vaporization chamber having a vaporization surface for vaporizing the sprayed liquid raw material, and a gas outlet for deriving the raw material gas generated in the vaporization chamber, The spraying means includes a raw material supply path for supplying the liquid raw material, and a gas supply path for supplying a spray gas for spraying the liquid raw material supplied by the raw material supply path. A vaporizer in which an outlet and a gas outlet of the gas supply path are disposed adjacent to each other ;
A raw material supply system for supplying the liquid raw material;
A film forming chamber for forming a film using the source gas derived from the vaporizer;
In a film forming apparatus having
The vaporizer have a positioning and holding means for positioning and holding the said source material jet and the gas ejection port to each other,
The gas outlet is disposed on the side of the opening surface of the raw material outlet, and the ejection direction of the gas outlet is substantially parallel to the opening surface,
A film forming apparatus , wherein a plurality of the raw material outlets are arranged around the gas outlet . 前記原料供給路を構成する原料供給管の先端部と前記ガス供給路を構成するガス供給管の先端部とが前記位置決め保持手段を構成する支持部材によって支持固定されていることを特徴とする請求項１４に記載の成膜装置。 The distal end portion of the raw material supply pipe constituting the raw material supply path and the distal end portion of the gas supply pipe constituting the gas supply path are supported and fixed by a support member constituting the positioning holding means. Item 15. The film forming apparatus according to Item 14 . 前記位置決め保持手段は、前記原料供給路を構成する原料供給管の先端部と前記ガス供給路を構成するガス供給管の先端部とを一体に接続する接続部分により構成されていることを特徴とする請求項１４に記載の成膜装置。 The positioning and holding means is constituted by a connecting portion that integrally connects a distal end portion of a raw material supply pipe constituting the raw material supply passage and a distal end portion of a gas supply pipe constituting the gas supply passage. The film forming apparatus according to claim 14 .
JP2003343544A 2003-10-01 2003-10-01 Deposition equipment Expired - Fee Related JP4334968B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003343544A JP4334968B2 (en) 2003-10-01 2003-10-01 Deposition equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003343544A JP4334968B2 (en) 2003-10-01 2003-10-01 Deposition equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005109348A JP2005109348A (en) 2005-04-21
JP4334968B2 true JP4334968B2 (en) 2009-09-30

Family

ID=34537479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003343544A Expired - Fee Related JP4334968B2 (en) 2003-10-01 2003-10-01 Deposition equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4334968B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5427344B2 (en) 2007-05-23 2014-02-26 株式会社渡辺商行 Vaporization apparatus and film forming apparatus equipped with vaporization apparatus
EP2682980B1 (en) * 2011-02-28 2019-07-31 Kabushiki Kaisha Watanabe Shoko Vaporizer, center rod used therein, and method for vaporizing material carried by carrier gas
JP5615412B2 (en) * 2013-07-24 2014-10-29 株式会社渡辺商行 Vaporization apparatus and film forming apparatus equipped with vaporization apparatus
JP5845325B2 (en) * 2014-09-09 2016-01-20 株式会社渡辺商行 Vaporization apparatus and film forming apparatus equipped with vaporization apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005109348A (en) 2005-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5732025B2 (en) Material vapor deposition method and apparatus in substrate processing system
JP4553245B2 (en) Vaporizer, film forming apparatus and film forming method
KR101237138B1 (en) Vaporizer, material gas supply system including vaporizer and film forming apparatus using such system
JP4696561B2 (en) Vaporizer and processing device
US7246796B2 (en) Carburetor, various types of devices using the carburetor, and method of vaporization
JP5059371B2 (en) Vaporizer and deposition system
US20050223987A1 (en) Film forming apparatus
WO2010038515A1 (en) Vaporizer and deposition system using the same
JP2004273766A (en) Vaporizing device and film forming device using it, and method for vaporising and film forming
WO2011097238A2 (en) Fine droplet atomizer for liquid precursor vaporization
JP4334968B2 (en) Deposition equipment
JP4391413B2 (en) Vaporizer, disperser, film forming apparatus, and vaporization method
WO2012132878A1 (en) Vaporizer, gas supply device and film formation apparatus
JP2009246173A (en) Vaporizer and film forming device using the same
US20060270222A1 (en) Method of Depositing CVD Thin Film
JP2004265938A (en) Vaporizer, method of vaporizing raw solution, and method of washing vaporizer
JP5029966B2 (en) Deposition equipment
JP2005051006A (en) Vaporizer
JP2010003975A (en) Film forming apparatus, and method of manufacturing semiconductor element
JP2004270005A (en) Thin film formation apparatus
TW202243353A (en) Gas treatment apparatus
JP2006135053A (en) Evaporizer and depositing device
JP2024001454A (en) vaporizer
CN111485285A (en) Film forming apparatus and method for manufacturing semiconductor device
KR20070010830A (en) Apparatus for supplying a gas and equipment for forming a layer having the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060928

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090120

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090323

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090623

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090624

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150703

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees